JPS6064238A - 電子線を用いたｘ線分析装置 - Google Patents
電子線を用いたｘ線分析装置Info
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- JPS6064238A JPS6064238A JP58173381A JP17338183A JPS6064238A JP S6064238 A JPS6064238 A JP S6064238A JP 58173381 A JP58173381 A JP 58173381A JP 17338183 A JP17338183 A JP 17338183A JP S6064238 A JPS6064238 A JP S6064238A
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子線を用いたＸ線分析装置に関し、更に特定
して述べると、電子線により試料面を走査し、該試料の
面分析を行なうように構成さＴしたＸ線分析装置に関す
る。
して述べると、電子線により試料面を走査し、該試料の
面分析を行なうように構成さＴしたＸ線分析装置に関す
る。
この種のＸ線分析装置においては、試料面上の分析点と
、分光結晶板と、比例計数管又は電離箱等のＸ線検出器
とが、ローランド円上にあることが必要であるが、試料
の分析面が平坦でない場合には、試料の全走査期間中に
亘って上記条件が必ずしも満足さｎず、分析結果に誤差
を生じるという不具合いが生じる。分析結果に影響を与
えないためには、試料面の平坦度が略±５μ脩以下であ
ることが必要であるが、このような平坦度を確保するこ
とは必ずしも容易ではない。
、分光結晶板と、比例計数管又は電離箱等のＸ線検出器
とが、ローランド円上にあることが必要であるが、試料
の分析面が平坦でない場合には、試料の全走査期間中に
亘って上記条件が必ずしも満足さｎず、分析結果に誤差
を生じるという不具合いが生じる。分析結果に影響を与
えないためには、試料面の平坦度が略±５μ脩以下であ
ることが必要であるが、このような平坦度を確保するこ
とは必ずしも容易ではない。
本発明の目的は、従って、試料の分析面に凹凸があって
も、試料の面分析を正確に行なえるようにしたＸ線分析
装置を提供することにある。
も、試料の面分析を正確に行なえるようにしたＸ線分析
装置を提供することにある。
本発明の構成は、試料面を所要の微小面毎に順次面分析
するようにしたＸ線分析装置において、各微小面につい
てのＸ線強度データに基づいてその微小面の垂直方向の
偏位の極性を検出する検出手段と、試料面の垂直方向の
位置調節を行彦う位置調節手段と、各微小面のＸ線強度
データが得らｎる毎に上記検出手段の検出結果に応答し
て試料の垂直方向の位置調節を行がうよう上記位置調節
手段を制御する制御手段とを備えた点に特徴を有する。
するようにしたＸ線分析装置において、各微小面につい
てのＸ線強度データに基づいてその微小面の垂直方向の
偏位の極性を検出する検出手段と、試料面の垂直方向の
位置調節を行彦う位置調節手段と、各微小面のＸ線強度
データが得らｎる毎に上記検出手段の検出結果に応答し
て試料の垂直方向の位置調節を行がうよう上記位置調節
手段を制御する制御手段とを備えた点に特徴を有する。
上記検出手段は、各微小面の走査結果得らｎるＸ線強度
曲線の両端の強度値の差に基づいて偏位の極性を検出す
るように構成さｎていてもよい。
曲線の両端の強度値の差に基づいて偏位の極性を検出す
るように構成さｎていてもよい。
このような構成によｎば、各微小面についての面分析を
行なう毎に、試料面の位置の高低を判別し、次の微小面
の面分析時に、その判別結果に従って試料面の高低の調
節を行なうので、試料面に凹凸があっても、試料の面分
析を正確に行なうことができる。
行なう毎に、試料面の位置の高低を判別し、次の微小面
の面分析時に、その判別結果に従って試料面の高低の調
節を行なうので、試料面に凹凸があっても、試料の面分
析を正確に行なうことができる。
以下、図示の実施例によシ本発明の詳細な説明する。
第１図には、本発明によるＸ線分析装置の一実施例が示
さｎている。Ｘ線分析装置１は、電子銃２から出力さｎ
る電子ビーム３により試料４の分析面４ｒＬＴｈ後述の
如く走査し、試料４から放射さｎる” ｎ ５ ’ａ：
ｓ分光結晶板６ｆ！：介してＸ線検出器７に入射する
ようになっている。Ｘ線検出器７は、例えば比例計数管
を用いて構成することができ、入射Ｘ線強度に応じてパ
ルス密度の変化するパルス列信号Ｘｏ ｕｔが出力さｎ
る。
さｎている。Ｘ線分析装置１は、電子銃２から出力さｎ
る電子ビーム３により試料４の分析面４ｒＬＴｈ後述の
如く走査し、試料４から放射さｎる” ｎ ５ ’ａ：
ｓ分光結晶板６ｆ！：介してＸ線検出器７に入射する
ようになっている。Ｘ線検出器７は、例えば比例計数管
を用いて構成することができ、入射Ｘ線強度に応じてパ
ルス密度の変化するパルス列信号Ｘｏ ｕｔが出力さｎ
る。
試料４は、試料テーブル８上に載置さｎておシ、試料テ
ーブル８は、Ｘ軸駆動モータ９に連結さｎているＸ軸駆
動用ねじ１０と螺合さｎると共に、Ｘ軸駆動モータ１１
に連結さｎているＸ軸駆動用ねじ１２と螺合さｎている
。試料用テーブル８は、Ｘ軸駆動用ねじ１０及びＹ軸、
駆動用ねじ１２の回転に応じて、Ｘ軸及びＹ軸に沿って
移動することができるように構成さしており、図示しな
い位置決め制御装置からの信号Ｓ Ｚ、 Ｓτに応答し
て各モータ９．１１が駆動さｎ１試料４をＸ−Ｙ平面内
の所望の位置に位置決めすることができる。
ーブル８は、Ｘ軸駆動モータ９に連結さｎているＸ軸駆
動用ねじ１０と螺合さｎると共に、Ｘ軸駆動モータ１１
に連結さｎているＸ軸駆動用ねじ１２と螺合さｎている
。試料用テーブル８は、Ｘ軸駆動用ねじ１０及びＹ軸、
駆動用ねじ１２の回転に応じて、Ｘ軸及びＹ軸に沿って
移動することができるように構成さしており、図示しな
い位置決め制御装置からの信号Ｓ Ｚ、 Ｓτに応答し
て各モータ９．１１が駆動さｎ１試料４をＸ−Ｙ平面内
の所望の位置に位置決めすることができる。
電子ビーム３によ勺、試料４の分析面４αの所定の微小
分析面を走査することができるように、電子ビーム３０
通路中に１走査コイル１３が設けらｎておシ、走査回路
１４からの鋸歯状走査電流ｉｆ。
分析面を走査することができるように、電子ビーム３０
通路中に１走査コイル１３が設けらｎておシ、走査回路
１４からの鋸歯状走査電流ｉｆ。
走査コイル１３に印加することにより電子ビーム３が、
分析面４ａ上の所望の微小分析面を走査するこの微小分
析面αｌｂｌ”Ｉ−−は、第２図に示さしるように区劃
さ１しておシ、１つの微小分析面は、５０〜１００ｐｊ
ｎ口となっておシ、所要の微小分析面が、分光結晶板６
、Ｘ線検出器７を通るローランド円上に配置さ壮るよう
、試料テーブル８が駆動さｎる。
分析面４ａ上の所望の微小分析面を走査するこの微小分
析面αｌｂｌ”Ｉ−−は、第２図に示さしるように区劃
さ１しておシ、１つの微小分析面は、５０〜１００ｐｊ
ｎ口となっておシ、所要の微小分析面が、分光結晶板６
、Ｘ線検出器７を通るローランド円上に配置さ壮るよう
、試料テーブル８が駆動さｎる。
試料４の分析面４ＣＬの凹凸にょシ、試料４の所要微小
分析面がＸ−Ｙ平面上の電子ビーム走査のための所要位
置に位置決めさｎた時に該微小分析面が所定のローラン
ド円上がらす１しるのを補正する目的で、試料用テーブ
ル８を２軸方向（垂直方向〕に位置調節するための垂直
位置調節機構１５が設けらｎている。この垂直位置調節
機構１５は、２軸駆動モータ１６及び該モータ１６に連
結さｎている２＠駆動用ねじ１７から成り、２帖駆動用
ねじ１７の回転に応じて、試料用テーブル８の２軸方向
の位置調節を行なうことができる。この垂直位置調節機
構１５を、Ｘ線検出器７からの出力データの分析結果に
従って作動せしめ、試料４の２軸方向の位置が常に最適
な位置となるように、ｚ軸方向の自動位置調節を行なう
目的で、パルス列信号ＸｏｕｔＫ応答して所要の微小分
析面の２軸方向の偏位の極性全検出する検出回路１８と
、検出回路１８からの検出信号Ｓ、に応答してｚ軸、駆
動モータ１６を上記偏位を修正するように駆動するため
の制御駆動信号Ｓｚ”ｅｚｓ駆動モータ１６に印加する
ための制御回路１９とが設けらｎている。
分析面がＸ−Ｙ平面上の電子ビーム走査のための所要位
置に位置決めさｎた時に該微小分析面が所定のローラン
ド円上がらす１しるのを補正する目的で、試料用テーブ
ル８を２軸方向（垂直方向〕に位置調節するための垂直
位置調節機構１５が設けらｎている。この垂直位置調節
機構１５は、２軸駆動モータ１６及び該モータ１６に連
結さｎている２＠駆動用ねじ１７から成り、２帖駆動用
ねじ１７の回転に応じて、試料用テーブル８の２軸方向
の位置調節を行なうことができる。この垂直位置調節機
構１５を、Ｘ線検出器７からの出力データの分析結果に
従って作動せしめ、試料４の２軸方向の位置が常に最適
な位置となるように、ｚ軸方向の自動位置調節を行なう
目的で、パルス列信号ＸｏｕｔＫ応答して所要の微小分
析面の２軸方向の偏位の極性全検出する検出回路１８と
、検出回路１８からの検出信号Ｓ、に応答してｚ軸、駆
動モータ１６を上記偏位を修正するように駆動するため
の制御駆動信号Ｓｚ”ｅｚｓ駆動モータ１６に印加する
ための制御回路１９とが設けらｎている。
検出回路１８では、微小分析面が所定の２軸方向位置に
あシ、微小分析面、分光結晶板６、Ｘ線検出器７が所定
のローランド円上にある場合には、微小分析面ｔ−Ｔ１
からＴ、まで走査した時のＸ線強度実の変化が、第３図
に点線で示さ扛る正規分布特性となり、Ｔ１＋Ｔ！にお
けるＸ線強度はほぼ等しくなるが、微小分析面の２軸方
向の位置がずｎると、例えば第３図に実線で示さｎるよ
うに、Ｔｉ 、Ｔ２におけるＸ９３強度が異なるという
事実に基づいて、微小分析面の２軸方向のすｎの極性を
検出する構成となっている。
あシ、微小分析面、分光結晶板６、Ｘ線検出器７が所定
のローランド円上にある場合には、微小分析面ｔ−Ｔ１
からＴ、まで走査した時のＸ線強度実の変化が、第３図
に点線で示さ扛る正規分布特性となり、Ｔ１＋Ｔ！にお
けるＸ線強度はほぼ等しくなるが、微小分析面の２軸方
向の位置がずｎると、例えば第３図に実線で示さｎるよ
うに、Ｔｉ 、Ｔ２におけるＸ９３強度が異なるという
事実に基づいて、微小分析面の２軸方向のすｎの極性を
検出する構成となっている。
第４図には、第１図に示した装置の２軸方向の位置制衡
系の回路図が示さＩしている。Ｘ線検出器７からのパル
ス列信号Ｘｏｕｔ （第５図（ｂ）参照〕は、了ンドゲ
ー） ２１ 、２２の各一方の入力端子に印加さネジ、
こ１しらのアンドゲート２１ 、２２の各他方の入力端
子には、ゲートパルス発生器器からのゲートパルスＧ□
ｒＧＲが夫々図示の如（印加さｎているゲートパルス
Ｇ１は、電子ビーム３による各微小分析面の走査のうち
、走査開始直後の期間△Ｔαだけアンドゲート２１を開
くためのものであシ、一方、ゲートパルスＧ、は、電子
ビーム３による各微小分析面の走査のうち、走査終了直
前の期間△Ｔｂだけアンドゲート２２を開くためのも、
のである（第５図＠） 、 （ｃ） 、 （ｄ）参照〕
。こｎらのゲートパルスＧ１ 、Ｇ、は走査回路１４が
らの走査電流ｉに基ライて、ゲートパルス発生益田によ
シ作う１シる。ここで、ΔＴαは△Ｔｂと等しくなるよ
うにゲートパルス発生益田が調節さｎており、こｎらの
ゲートパルスが高レベルとなった間だけ、信号Ｘｏｕｔ
を構成するパルスが第１カウンタ冴及び第２カウンタ５
に入力さｎ１各カウンタ２４．２５の計数結果は、第１
ラッチ回路２６及び第２ラッチ回路２７において夫々ラ
ッチさｎる。
系の回路図が示さＩしている。Ｘ線検出器７からのパル
ス列信号Ｘｏｕｔ （第５図（ｂ）参照〕は、了ンドゲ
ー） ２１ 、２２の各一方の入力端子に印加さネジ、
こ１しらのアンドゲート２１ 、２２の各他方の入力端
子には、ゲートパルス発生器器からのゲートパルスＧ□
ｒＧＲが夫々図示の如（印加さｎているゲートパルス
Ｇ１は、電子ビーム３による各微小分析面の走査のうち
、走査開始直後の期間△Ｔαだけアンドゲート２１を開
くためのものであシ、一方、ゲートパルスＧ、は、電子
ビーム３による各微小分析面の走査のうち、走査終了直
前の期間△Ｔｂだけアンドゲート２２を開くためのも、
のである（第５図＠） 、 （ｃ） 、 （ｄ）参照〕
。こｎらのゲートパルスＧ１ 、Ｇ、は走査回路１４が
らの走査電流ｉに基ライて、ゲートパルス発生益田によ
シ作う１シる。ここで、ΔＴαは△Ｔｂと等しくなるよ
うにゲートパルス発生益田が調節さｎており、こｎらの
ゲートパルスが高レベルとなった間だけ、信号Ｘｏｕｔ
を構成するパルスが第１カウンタ冴及び第２カウンタ５
に入力さｎ１各カウンタ２４．２５の計数結果は、第１
ラッチ回路２６及び第２ラッチ回路２７において夫々ラ
ッチさｎる。
符号羽で示さしるのは制御信号発生器であり、走査回路
１４から出力さ扛る走査電流ｉに応答して、第１及び第
２カウンタ２４ 、２５ ｆリセットするリセットパル
スＲＰと、第１及び第２ラッチ回路２６．２７ニラツチ
動作を行なわせるラッチパルスＬＰとを出力する。リセ
ットパルスＲＰ及びラッチパルスＬＰは、第５図（ｇ）
に示さ扛るように１ゲートパルスＧ１が立下ってからゲ
ートパルスＧ＊が立上るまでの期間に各々出力さｎ１且
っ、ラッチパルスＬ Ｐ 力出力さｎたのちにリセット
パルスＲＰが出力さｎるようになっている。従って、走
査電ｍ ｓ カ零レベルの期間においてカウンタ出力デ
ータのラッチ及びカウンタのリセットが行なわｎること
になる。
１４から出力さ扛る走査電流ｉに応答して、第１及び第
２カウンタ２４ 、２５ ｆリセットするリセットパル
スＲＰと、第１及び第２ラッチ回路２６．２７ニラツチ
動作を行なわせるラッチパルスＬＰとを出力する。リセ
ットパルスＲＰ及びラッチパルスＬＰは、第５図（ｇ）
に示さ扛るように１ゲートパルスＧ１が立下ってからゲ
ートパルスＧ＊が立上るまでの期間に各々出力さｎ１且
っ、ラッチパルスＬ Ｐ 力出力さｎたのちにリセット
パルスＲＰが出力さｎるようになっている。従って、走
査電ｍ ｓ カ零レベルの期間においてカウンタ出力デ
ータのラッチ及びカウンタのリセットが行なわｎること
になる。
第１及び第２ラッチ回路２６ 、２７のラッチデータＤ
１ｍｌは比較器２９によシ大小比較さ牡、ＤＩ＞ Ｄｘ
の場合には比較器２９の出力ライン２９αのレベルが「
Ｈ」レベルとなり、Ｄ、≦Ｄ２の場合には出力ライン２
９ａのレベルが「Ｌ」レベルト２ナル比較器２９の出力
ライン２９ ａは、制御回路１９の入力に接続さ扛てお
り、出力ライン２９αのレベルに応じて、モータ１６ヲ
正転又は逆転させる信号Ｓｚが出力さ扛る。
１ｍｌは比較器２９によシ大小比較さ牡、ＤＩ＞ Ｄｘ
の場合には比較器２９の出力ライン２９αのレベルが「
Ｈ」レベルとなり、Ｄ、≦Ｄ２の場合には出力ライン２
９ａのレベルが「Ｌ」レベルト２ナル比較器２９の出力
ライン２９ ａは、制御回路１９の入力に接続さ扛てお
り、出力ライン２９αのレベルに応じて、モータ１６ヲ
正転又は逆転させる信号Ｓｚが出力さ扛る。
次に、第４図に示した回路の動作を第５図を参照しなが
ら説明すると、走査電流ｉが零レベルにある場合にカウ
ンタ２４，２５は夫々リセットさｎ。
ら説明すると、走査電流ｉが零レベルにある場合にカウ
ンタ２４，２５は夫々リセットさｎ。
電子ビームの走査時において、微小分析面の両端部にお
ける走査時間ΔＴｃＬ、△Ｔｂ（＝△ＴｃＬ）において
、ゲートパルスＧ１５Ｇｌが「Ｈ」レベルとなシ、アン
ドゲート２１ 、２２が夫々間がｎると、この時間内に
生じたパルス数が各カウンタ２４゜５において計数さ扛
る。即ち、各カウンタ２４．２５においては、第２図に
示した走査位置Ｔ１＊Ｔ！におけるＸ線強度に応じたカ
ウント値が計数さｎている。走査電流ｉが再び零レベル
戻ると、エッチパルスＬＰが出力さてし、こｎらのカウ
ンタ２４゜５の計数内容が各ラッチ回路脚、２７にてラ
ッチさ３％ Ｌ、かる後に各カウンタＭ、２５がリセッ
トさｔしる。
ける走査時間ΔＴｃＬ、△Ｔｂ（＝△ＴｃＬ）において
、ゲートパルスＧ１５Ｇｌが「Ｈ」レベルとなシ、アン
ドゲート２１ 、２２が夫々間がｎると、この時間内に
生じたパルス数が各カウンタ２４゜５において計数さ扛
る。即ち、各カウンタ２４．２５においては、第２図に
示した走査位置Ｔ１＊Ｔ！におけるＸ線強度に応じたカ
ウント値が計数さｎている。走査電流ｉが再び零レベル
戻ると、エッチパルスＬＰが出力さてし、こｎらのカウ
ンタ２４゜５の計数内容が各ラッチ回路脚、２７にてラ
ッチさ３％ Ｌ、かる後に各カウンタＭ、２５がリセッ
トさｔしる。
第１及び第２ラツチ回路カ、２７においてラッチさ！し
たデータＤＩ＋Ｄ！は比較回路２９において大小比較さ
ｎ、こｎによシ、当該微小分析面の２軸方向のすｎの極
性が判別さｎる。制御回路】９においては、このずｎが
解消さＩＬる方向にモータ１Ｇが所定角度だけ回転する
よう、モータ１６の制御が行なわｎる。
たデータＤＩ＋Ｄ！は比較回路２９において大小比較さ
ｎ、こｎによシ、当該微小分析面の２軸方向のすｎの極
性が判別さｎる。制御回路】９においては、このずｎが
解消さＩＬる方向にモータ１Ｇが所定角度だけ回転する
よう、モータ１６の制御が行なわｎる。
上述の２軸方向の位置制御は、電子ビームによる１回の
走査毎に実行さｎ、こｎにょシ、試料４の分析面に凹凸
があったとしても、所望の微小分折面を常に所定のロー
ランド円上に位置せしめることができ、黄変の高い面分
析を行なうことができる。
走査毎に実行さｎ、こｎにょシ、試料４の分析面に凹凸
があったとしても、所望の微小分折面を常に所定のロー
ランド円上に位置せしめることができ、黄変の高い面分
析を行なうことができる。
本発明によｎば、上述の如く、各微小面についての面分
析を行なう毎に、試料面の位置の高低を判別し、次の微
小面の面分析時に、その判別結果に従って試料面の高低
の調節を行なうので、試料面に凹凸があっても、試ｆ）
の面分析全全体に亘って正確に行なうことができる。
析を行なう毎に、試料面の位置の高低を判別し、次の微
小面の面分析時に、その判別結果に従って試料面の高低
の調節を行なうので、試料面に凹凸があっても、試ｆ）
の面分析全全体に亘って正確に行なうことができる。
第１図は本発明によるＸ線分析装置の一実施例を示す概
略構成図、第２図は試料の分析面の分析区劃を示す平面
図、第３図は試料の微小分析面の走査位置とＸ線強度と
の間の関係を示す特性図、第４図は第３図の制御系統の
回路図、第５図＠）乃至第５図（イ）は第４図の回路の
各部の波形図である１、。Ｘ線分析装置 ３．。電子ビ
ーム４０．試料 ４α００分析面 ５１．Ｘ線６１０分
光結晶板 ７０．Ｘ線検出器 １３１．走査コイル １
４１．走査回路 １５０．垂直位置■周節機ｉ＋１ｌｊ
１６０．ｚ軸駆動モー タ１７ 、 、 Ｚ ＭＪＩＫ
７８ｔ＋用ねじ １８．。検出回路 １９゜、宙制御回
路 Ｘｏｕｔ。 、パルス列信号 Ｓｇ、。制御駆動信号 工・・Ｘ線強
度 ｉ。、走査電流。 以上 出願人 株式会社第二着工合 代理人 弁理士最上 務 第１図 第２ドｌ ｒＬ’３’ ３ Ｆ・’ｔ Ｌ 続 補 正 １（：（方式） Ｊ事件の表示 昭和５８年 特許願 第１７３３８１、発明の名（６、 電子線を用いたＸ線分析装置 ３ 補止をするｈ １１ｔＭＡ （２３２，セイ一一電子工業株式会社代表
取締役 服部一部 ４代理人 明細書の図面の簡単な説明の１１＃１ １−ニ 、。 Ｚ 補正の１り谷 明細書第１１頁における第１５行、第１６イテにおける
「第５図ａ乃至ｄｓＬ図ｆは第４図の回路の各部の波形
図である。」を「第５図は第４図の回路の各部の波形図
である。」に訂正します。 以上
略構成図、第２図は試料の分析面の分析区劃を示す平面
図、第３図は試料の微小分析面の走査位置とＸ線強度と
の間の関係を示す特性図、第４図は第３図の制御系統の
回路図、第５図＠）乃至第５図（イ）は第４図の回路の
各部の波形図である１、。Ｘ線分析装置 ３．。電子ビ
ーム４０．試料 ４α００分析面 ５１．Ｘ線６１０分
光結晶板 ７０．Ｘ線検出器 １３１．走査コイル １
４１．走査回路 １５０．垂直位置■周節機ｉ＋１ｌｊ
１６０．ｚ軸駆動モー タ１７ 、 、 Ｚ ＭＪＩＫ
７８ｔ＋用ねじ １８．。検出回路 １９゜、宙制御回
路 Ｘｏｕｔ。 、パルス列信号 Ｓｇ、。制御駆動信号 工・・Ｘ線強
度 ｉ。、走査電流。 以上 出願人 株式会社第二着工合 代理人 弁理士最上 務 第１図 第２ドｌ ｒＬ’３’ ３ Ｆ・’ｔ Ｌ 続 補 正 １（：（方式） Ｊ事件の表示 昭和５８年 特許願 第１７３３８１、発明の名（６、 電子線を用いたＸ線分析装置 ３ 補止をするｈ １１ｔＭＡ （２３２，セイ一一電子工業株式会社代表
取締役 服部一部 ４代理人 明細書の図面の簡単な説明の１１＃１ １−ニ 、。 Ｚ 補正の１り谷 明細書第１１頁における第１５行、第１６イテにおける
「第５図ａ乃至ｄｓＬ図ｆは第４図の回路の各部の波形
図である。」を「第５図は第４図の回路の各部の波形図
である。」に訂正します。 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、多数の微小面に区劃さ１した試料面の各微小面を順
次電子ビームにより走査して試料から放出さｎるＸ線に
より試料の面分析を府外うようにしたＸ線分析装置にお
いて、各微小面についてのＸ線強度データに基づいてそ
の微小面の垂直方向の偏位の極性を検出する検出手段と
、試料面の垂直方向の位置調節を行なう位置調節手段と
、各微小面のＸ線強度データが得らｎる毎に前記検出手
段の検出結果に応答して前記試料の垂直方向の位置調節
を行なうよ５に前記位置調節手段を制御する制御手段と
を備えｆｃことを特徴とする電子線を用いたＸ線分析装
置。 ２、前記検出手段が、前記各微小面の走査結果得らｎる
Ｘ線強度曲線の両端のＸ線強度値の差に基づいてｍＩ記
試料面の垂直方向の偏位の極性全検出するように構成さ
している特許請求の範囲第１項記載の電子線を用いたＸ
線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58173381A JPS6064238A (ja) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | 電子線を用いたｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58173381A JPS6064238A (ja) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | 電子線を用いたｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6064238A true JPS6064238A (ja) | 1985-04-12 |
Family
ID=15959338
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58173381A Pending JPS6064238A (ja) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | 電子線を用いたｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6064238A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62144052A (ja) * | 1985-12-19 | 1987-06-27 | Kawasaki Steel Corp | 表面処理金属板の表面処理層の膜厚と成分元素の二次元分布測定装置とその装置による測定方法 |
| JPH01144553A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-06 | Shimadzu Corp | 電子線マイクロアナライザ |
| JP2006221918A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Jeol Ltd | 試料鏡面の測定方法及び分析装置並びに電子ビーム装置 |
-
1983
- 1983-09-20 JP JP58173381A patent/JPS6064238A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62144052A (ja) * | 1985-12-19 | 1987-06-27 | Kawasaki Steel Corp | 表面処理金属板の表面処理層の膜厚と成分元素の二次元分布測定装置とその装置による測定方法 |
| JPH01144553A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-06 | Shimadzu Corp | 電子線マイクロアナライザ |
| JP2006221918A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Jeol Ltd | 試料鏡面の測定方法及び分析装置並びに電子ビーム装置 |
| JP4628127B2 (ja) * | 2005-02-09 | 2011-02-09 | 日本電子株式会社 | 試料表面の測定方法及び分析方法並びに電子ビーム装置 |
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