JP4628127B2 - 試料表面の測定方法及び分析方法並びに電子ビーム装置 - Google Patents
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- 試料表面に電子ビームを照射し、これに応じて試料表面から発生する特性X線を分光し、分光後の当該特性X線の強度を測定する電子ビーム装置を用いた試料表面の測定方法であり、Z方向に沿って所定間隔に設定された各Z方向位置において試料をX−Y平面に沿って移動させるとともに試料表面に電子ビームを照射し、このときの特性X線の分光測定条件を固定して特性X線の強度を測定し、これにより試料の各Z方向位置におけるX−Y平面での特性X線強度のマップデータを取得し、当該マップデータに基づいて試料表面の形状を求める試料表面の測定方法であって、
試料のZ方向位置がN箇所設定され、n番目のZ方向位置のZ座標をZ n 、n番目のZ方向位置におけるX−Y平面での特性X線強度のマップデータをI n (X,Y)、試料表面の高さ情報をZ(X,Y)とすると、
- Z方向に沿う所定間隔は、分光条件を形成する分光結晶の半値幅と同等若しくはそれ以下に設定されていることを特徴とする請求項1記載の試料表面の測定方法。
- 分光後の特性X線の強度は、当該特性X線のX線検出器への入射位置の変化に対応して測定されることを特徴とする請求項1若しくは2記載の試料表面の測定方法。
- 請求項1乃至3何れか記載の試料表面の測定方法により求められた試料表面の形状情報に基づいて試料のZ方向での位置制御を行いながら試料表面の分析を行うことを特徴とする試料表面の分析方法。
- 試料表面に電子ビームを照射する手段と、電子ビームの照射に応じて試料表面から発生する特性X線を分光する手段と、分光後の当該特性X線の強度を測定する手段と、これら各手段を制御する制御手段とを備えた電子ビーム装置であり、制御手段による制御により、Z方向に沿って所定間隔に設定された各Z方向位置において試料をX−Y平面に沿って移動させるとともに試料表面に電子ビームを照射し、このときの特性X線の分光測定条件を固定して特性X線の強度を測定し、これにより試料の各Z方向位置におけるX−Y平面での特性X線強度のマップデータを取得し、当該マップデータに基づいて試料表面の形状を求める電子ビーム装置であって、
試料のZ方向位置がN箇所設定され、n番目のZ方向位置のZ座標をZn、n番目のZ方向位置におけるX−Y平面での特性X線強度のマップデータをIn(X,Y)、試料表面の高さ情報をZ(X,Y)とすると、制御手段は
- 試料表面に電子ビームを照射する手段と、電子ビームの照射に応じて試料表面から発生する特性X線を分光する手段と、分光後の当該特性X線の強度を測定する手段と、これら各手段を制御する制御手段とを備えた電子ビーム装置であり、制御手段による制御により、Z方向に沿って所定間隔に設定された各Z方向位置において試料をX−Y平面に沿って移動させるとともに試料表面に電子ビームを照射し、このときの特性X線の分光測定条件を固定して特性X線の強度を測定し、これにより試料の各Z方向位置におけるX−Y平面での特性X線強度のマップデータを取得し、当該マップデータに基づいて試料表面の形状を求め、求められた試料表面の形状情報に基づいて試料のZ方向での位置制御を行いながら試料表面の分析を行う電子ビーム装置であって、
試料のZ方向位置がN箇所設定され、n番目のZ方向位置のZ座標をZn、n番目のZ方向位置におけるX−Y平面での特性X線強度のマップデータをIn(X,Y)、試料表面の高さ情報をZ(X,Y)とすると、制御手段は
- Z方向に沿う所定間隔は、分光条件を形成する分光結晶の半値幅と同等若しくはそれ以下に設定されていることを特徴とする請求項5若しくは6記載の電子ビーム装置。
- 分光後の特性X線の強度は、当該特性X線のX線検出器への入射位置の変化に対応して測定されることを特徴とする請求項5乃至7何れか記載の電子ビーム装置。
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Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6064238A (ja) * | 1983-09-20 | 1985-04-12 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 電子線を用いたx線分析装置 |
JPS6383647A (ja) * | 1986-09-27 | 1988-04-14 | Shimadzu Corp | 試料の表面分析方法 |
JPH0293356A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-04 | Shimadzu Corp | ビーム型表面分析装置 |
JPH02158043A (ja) * | 1988-12-09 | 1990-06-18 | Jeol Ltd | 荷電粒子線装置における試料位置設定装置 |
JPH04118847A (ja) * | 1990-09-07 | 1992-04-20 | Shimadzu Corp | 電子線マイクロアナライザ用自動焦点検出装置 |
JPH0961383A (ja) * | 1995-08-24 | 1997-03-07 | Shimadzu Corp | X線分析装置 |
JPH0996615A (ja) * | 1995-07-21 | 1997-04-08 | Jeol Ltd | 電子プローブマイクロアナライザーによるx線分析方法及び電子プローブマイクロアナライザー |
JPH10221277A (ja) * | 1997-02-12 | 1998-08-21 | Jeol Ltd | 電子プローブマイクロアナライザ |
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6064238A (ja) * | 1983-09-20 | 1985-04-12 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 電子線を用いたx線分析装置 |
JPS6383647A (ja) * | 1986-09-27 | 1988-04-14 | Shimadzu Corp | 試料の表面分析方法 |
JPH0293356A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-04 | Shimadzu Corp | ビーム型表面分析装置 |
JPH02158043A (ja) * | 1988-12-09 | 1990-06-18 | Jeol Ltd | 荷電粒子線装置における試料位置設定装置 |
JPH04118847A (ja) * | 1990-09-07 | 1992-04-20 | Shimadzu Corp | 電子線マイクロアナライザ用自動焦点検出装置 |
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