JPS606294B2 - ガラス体の製造方法 - Google Patents
ガラス体の製造方法Info
- Publication number
- JPS606294B2 JPS606294B2 JP14308177A JP14308177A JPS606294B2 JP S606294 B2 JPS606294 B2 JP S606294B2 JP 14308177 A JP14308177 A JP 14308177A JP 14308177 A JP14308177 A JP 14308177A JP S606294 B2 JPS606294 B2 JP S606294B2
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- JP
- Japan
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- glass body
- oxide
- glass
- pores
- outside
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Landscapes
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、「光伝送用ガラス体の製造方法」の改良関す
るものであって、中心部に於いて高い屈折率を有するよ
うにしたガラス。
るものであって、中心部に於いて高い屈折率を有するよ
うにしたガラス。
ファイバーを得る為のガラス体の製造方法に関するもの
である。ガラス中のドーパント濃度と屈折率は一般的に
線型乃至はそれに近い関係を有する。例えばＣｓ２０−
Ｓｉ０２※ガラスに於けるＣｓ２０の濃度と屈折率との
関係は第１図に示す如きものである。この点から、中心
部に於いて高い屈折率を有するガラス体を作るには、中
心部に於いて屈折率を高めるドーパントを多くするか〜
又は中心部に於いて屈折率を低めるドーパントを少くす
れば良い。このような物を〜ガラス微粉末体を用いて製
造する方法には次のようなものがある。■ ガラス微粉
末体の予備焼結を行い、比較的均一な紬孔をもつ多孔質
ガラス体を作り、それに屈折率を変化せしめるドーパン
トをある濃度分布をつけてドープせしめうる方法「 こ
れに於いてはＬ 例えばＣｓＮ０３水溶液のスタッフィ
ング、ＣｓＮ０３アンスタッフイング析出、乾燥、コラ
ップスという複雑な工程を経て製造する。
である。ガラス中のドーパント濃度と屈折率は一般的に
線型乃至はそれに近い関係を有する。例えばＣｓ２０−
Ｓｉ０２※ガラスに於けるＣｓ２０の濃度と屈折率との
関係は第１図に示す如きものである。この点から、中心
部に於いて高い屈折率を有するガラス体を作るには、中
心部に於いて屈折率を高めるドーパントを多くするか〜
又は中心部に於いて屈折率を低めるドーパントを少くす
れば良い。このような物を〜ガラス微粉末体を用いて製
造する方法には次のようなものがある。■ ガラス微粉
末体の予備焼結を行い、比較的均一な紬孔をもつ多孔質
ガラス体を作り、それに屈折率を変化せしめるドーパン
トをある濃度分布をつけてドープせしめうる方法「 こ
れに於いてはＬ 例えばＣｓＮ０３水溶液のスタッフィ
ング、ＣｓＮ０３アンスタッフイング析出、乾燥、コラ
ップスという複雑な工程を経て製造する。
■ 前述の多孔質ガラス体を真空中でのスタッフィング
→溶媒蒸発→酸化物又は化合物の析出、→コラップスの
工程を施す。この工程に於いて、溶媒が外側から蒸発す
る時に内側に向って溶質を追い込むようにしてゆく方法
。
→溶媒蒸発→酸化物又は化合物の析出、→コラップスの
工程を施す。この工程に於いて、溶媒が外側から蒸発す
る時に内側に向って溶質を追い込むようにしてゆく方法
。
■ 本発明の方法 ガラス微粉末の組成或は予備焼結条
件を適当にとることにより、細孔の大きさを制御した子
億焼給体を作って、アン・スタッフィングの工程無くし
て「ある濃度分布をもつようにドーパントをドープせし
める製造し易い方法を提供するものである。
件を適当にとることにより、細孔の大きさを制御した子
億焼給体を作って、アン・スタッフィングの工程無くし
て「ある濃度分布をもつようにドーパントをドープせし
める製造し易い方法を提供するものである。
あるドーパントとしての酸化物或は分解又は反応して酸
化物となる化合物を適当な溶媒に溶かした溶液の中に多
孔質ガラス体を浸潰し、級孔内にスタッフィングした後
、溶媒を除去すれば、ドーバントとしての酸化物又は化
合物が紬孔内表面に析出する。
化物となる化合物を適当な溶媒に溶かした溶液の中に多
孔質ガラス体を浸潰し、級孔内にスタッフィングした後
、溶媒を除去すれば、ドーバントとしての酸化物又は化
合物が紬孔内表面に析出する。
それを高温にて紬孔をつぶすようにすれば「 コラツプ
ス後のガラス中の酸化物ドーパント濃度は「気孔率溶液
中の酸化物又は化合物の濃度に対応した値となる。例え
ば、適当な温度、濃度のＣｓＮ０３水溶液中にガラス微
粉末の蟻結体を浸潰し「その後溶媒を乾そう除去すれば
「ＣｓＮ０３が紬孔内表面に析出し「乾そう高温加熱に
ともない「次ｓＮ０３一Ｃｓ２０十Ｎａ２０５としてＣ
ｓ２０が縦孔内表面に析出し、コラップスされた後ＬＣ
ｓ２０がドープしたガラス体が出来る。
ス後のガラス中の酸化物ドーパント濃度は「気孔率溶液
中の酸化物又は化合物の濃度に対応した値となる。例え
ば、適当な温度、濃度のＣｓＮ０３水溶液中にガラス微
粉末の蟻結体を浸潰し「その後溶媒を乾そう除去すれば
「ＣｓＮ０３が紬孔内表面に析出し「乾そう高温加熱に
ともない「次ｓＮ０３一Ｃｓ２０十Ｎａ２０５としてＣ
ｓ２０が縦孔内表面に析出し、コラップスされた後ＬＣ
ｓ２０がドープしたガラス体が出来る。
その時のこれらの諸パラメーターの関係式は次のように
なる。コラツプス・ガラス中の Ｋｃｓ２ｏ ｘＣＣＳＮ。
なる。コラツプス・ガラス中の Ｋｃｓ２ｏ ｘＣＣＳＮ。
３×ｐＣＳＮ。
３×ＱｄｖＭ％ＣＳ２０ニＫＣＳＮ。
３ ＸＣＣＳＮ。
３ＸＰＣＳＮ。
３×ＱｄＶ＋ｐＳｋｄ帆（１−ＱＭＶＸＩＯ。
ＣＣＳＮ。３ＸＰＣＳＮ。
３ ×１００……■・ＣＣＳＮ。
３ＸＰＣＳＮ。
３十１‐４４６×（亨−１）十ｐ胸肌但し、ここでＣｓ
２０の分子量 ２８１．８２ ．ＫＳさる８３＝２ＸＣｓＮ○３の分子量 ２ｘｌ９４
．９２１１．４４６ ・ＣｃｓＮｏ３；スタッフィング溶液におけるＣｓＮ０
３の重量比・ｐｃＳＮｏ３；スタッフイング溶液の比重
−の ；気孔率Ｌ ；収縮の大きさ ・ｐＳｋｅ，ｔ。
２０の分子量 ２８１．８２ ．ＫＳさる８３＝２ＸＣｓＮ○３の分子量 ２ｘｌ９４
．９２１１．４４６ ・ＣｃｓＮｏ３；スタッフィング溶液におけるＣｓＮ０
３の重量比・ｐｃＳＮｏ３；スタッフイング溶液の比重
−の ；気孔率Ｌ ；収縮の大きさ ・ｐＳｋｅ，ｔ。
ｎ；予備焼結体のガラスの比重ｑｄｖ ；微少体積第
２図に示すようなＣｓＮ０３の水溶液の比重のデータを
用いて、９０００ ５肌ｔ％のＣｓＮ０３水溶液中にＳ
ｉ０２のガラスの多孔質ガラスを浸潰し、乾そうして溶
媒としての水を除去したのち、高温加熱してコラツプス
してＣｓ２０をドープしたＳｉ０２ガラスを作った時の
気孔率とＣｓ２０濃度は第３図に示すようになる。
２図に示すようなＣｓＮ０３の水溶液の比重のデータを
用いて、９０００ ５肌ｔ％のＣｓＮ０３水溶液中にＳ
ｉ０２のガラスの多孔質ガラスを浸潰し、乾そうして溶
媒としての水を除去したのち、高温加熱してコラツプス
してＣｓ２０をドープしたＳｉ０２ガラスを作った時の
気孔率とＣｓ２０濃度は第３図に示すようになる。
これから一定のＣｓＮ０３濃度の溶媒に浸簿しても多孔
率ガラス体の気孔率が変化していれば、ドーパント濃度
を変化せしめたガラス体が出来ることが分る。
率ガラス体の気孔率が変化していれば、ドーパント濃度
を変化せしめたガラス体が出来ることが分る。
次にこのような気孔率が変化している多孔質ガラス体の
製造方法の一例について述べる。
製造方法の一例について述べる。
ガラス微粉末体が燐結して透明ガラス化する温度時間以
下の条件で予備競結するとき気孔率Ｑとガラス微粉末体
の粘性り（温度及び組成によって決る）との間には、次
の関係がある。
下の条件で予備競結するとき気孔率Ｑとガラス微粉末体
の粘性り（温度及び組成によって決る）との間には、次
の関係がある。
Ｑ＝（峯）（，−予ｔ）３
４ａ力
ここで、、
Ｌ。
；始めの粉末体の長さＬ的；焼縞後のガラスの長さ
ａ ；粒子半径
ｙ ；表面張力
ｔ ；予備嘘結時間
即ち、りを大きくすれば「Ｑは小さく、りを小さくすれ
ばＱを大きくすることが出来る。
ばＱを大きくすることが出来る。
■ 組成−粘性の関係を利用する方法
屈折率に与える影響は小さく、かつ粘性を低くする効果
の大きい酸化物例えば、ＡＩ２０３ト＆０３やＰ２０５
をドープしたＳｉ０２ガラスは、ド−フ。
の大きい酸化物例えば、ＡＩ２０３ト＆０３やＰ２０５
をドープしたＳｉ０２ガラスは、ド−フ。
量に応じて粘性が変化するので、本発明には最適のガラ
ス組成である。その製法の一例を第４図にて説明する。
ス組成である。その製法の一例を第４図にて説明する。
回転マンドレル４１の外側に軸万向に相対的に往復移動
させながら火炎加水分解又はプラズマトーチ４２のプラ
ズマ炎により酸化し、ガラス微粉末４３を作製し積層し
てゆく。ガラス微粉末４４はまず、原料ガスとしてのＳ
ＩＣ１４ｅｔｃＳｉの化合物からＳｉ０２粉末体４４Ｃ
ｏを作り、次に原料ガスとしてのＳＩＣ１４等Ｓｉの化
合物及びＢＢて３ｅｔｃＢの化合物からＢ夕３Ｓｉ０２
の粉末体４４ＣＩを作る。これを予備焼結して紬孔の大
きさを調節する。ここでは、Ｂ２０３一Ｓｉ０２ガラス
の粘性はＳｉ０２の粘性より小さいので、密になる。次
にこれを、例えば高温のＣｓＮ０３水溶液に浸潰した後
、乾燥し水分を蒸発させて除去する。これを真空中で加
熱し、途中で０２やＣＩ２やＦ２を入れて脱ＯＨを充分
行った後、不活性又は真空又は低圧力の酸素雰囲気中で
加熱し、細孔をコラツプスして透明ガラス体とする。
させながら火炎加水分解又はプラズマトーチ４２のプラ
ズマ炎により酸化し、ガラス微粉末４３を作製し積層し
てゆく。ガラス微粉末４４はまず、原料ガスとしてのＳ
ＩＣ１４ｅｔｃＳｉの化合物からＳｉ０２粉末体４４Ｃ
ｏを作り、次に原料ガスとしてのＳＩＣ１４等Ｓｉの化
合物及びＢＢて３ｅｔｃＢの化合物からＢ夕３Ｓｉ０２
の粉末体４４ＣＩを作る。これを予備焼結して紬孔の大
きさを調節する。ここでは、Ｂ２０３一Ｓｉ０２ガラス
の粘性はＳｉ０２の粘性より小さいので、密になる。次
にこれを、例えば高温のＣｓＮ０３水溶液に浸潰した後
、乾燥し水分を蒸発させて除去する。これを真空中で加
熱し、途中で０２やＣＩ２やＦ２を入れて脱ＯＨを充分
行った後、不活性又は真空又は低圧力の酸素雰囲気中で
加熱し、細孔をコラツプスして透明ガラス体とする。
ここでの加熱方法は、軸方向の一端より暁結してゆくＺ
ｏｎｅ−ｓｉｎｔｅｎｊ増や中心軸より発熱させて焼結
してゆく方法がある。
ｏｎｅ−ｓｉｎｔｅｎｊ増や中心軸より発熱させて焼結
してゆく方法がある。
このようにして作った透明ガラスの管は、内面をＨＦ等
で洗浄した後、必要に応じてガラスせんばんにかけ鞍水
素炎で加熱しながら孔をつぶして棒にしてゆくことも出
来る。
で洗浄した後、必要に応じてガラスせんばんにかけ鞍水
素炎で加熱しながら孔をつぶして棒にしてゆくことも出
来る。
このようにして作った管や様を溶融紡糸すれば、光伝送
用ファイバーを作ることが出来る。
用ファイバーを作ることが出来る。
なお、ここで気孔率を調整する為のＢ２０３のドープ量
はコラツプスした後の透明ガラス体に於ける膨張係数の
点から制約を受ける。一方ト予備焼結後の細孔はそこの
ガラスのりが小さいと大きいが、細孔の大きなところに
はＣｓ２０が多く析出されることになり、コラップス時
にそこの粘性は下がるので全体にバランスがとれて透明
ガラス化を受ける。
はコラツプスした後の透明ガラス体に於ける膨張係数の
点から制約を受ける。一方ト予備焼結後の細孔はそこの
ガラスのりが小さいと大きいが、細孔の大きなところに
はＣｓ２０が多く析出されることになり、コラップス時
にそこの粘性は下がるので全体にバランスがとれて透明
ガラス化を受ける。
これは膨張係数のバランスについても云えるので本発明
の方法に於いては好ましい傾向である。
の方法に於いては好ましい傾向である。
半径方向に第４図のようにステップ的に＆０３をドープ
したもののみでなく「徐々に馬０３のドープ量を大きく
してゆくことも出来る。この時には屈折率分布はグレー
デッド型になる。ここの出発部材としての回転マンドレ
ルを用いずに「ガラス微粉末の発生源を少なくとも２個
以上設置して、軸万向に成長させて、かつ半径方向にＢ
２０３のド−プ量を大きくするようにする場合にも前述
のことは適用出来る。
したもののみでなく「徐々に馬０３のドープ量を大きく
してゆくことも出来る。この時には屈折率分布はグレー
デッド型になる。ここの出発部材としての回転マンドレ
ルを用いずに「ガラス微粉末の発生源を少なくとも２個
以上設置して、軸万向に成長させて、かつ半径方向にＢ
２０３のド−プ量を大きくするようにする場合にも前述
のことは適用出来る。
しかも出発部材を除去する工程を省略することが出来る
。■ 予備焼結時の温度−粘性の関係を利用する方法ガ
ラス微粉末体を半径方向で温度勾配あるところで、一定
時間於いて予備嘘絹を行えば、半径方向に気孔率の異る
多孔質ガラス体を作ることが出来る。
。■ 予備焼結時の温度−粘性の関係を利用する方法ガ
ラス微粉末体を半径方向で温度勾配あるところで、一定
時間於いて予備嘘絹を行えば、半径方向に気孔率の異る
多孔質ガラス体を作ることが出来る。
その製法の一例を第５図ａに示す。
第４図ａに示すような、出発部材としての回転マンドレ
ルの外側に、藤方向に相対的に往復移動させながら、火
炎加水分解又はプラズマ炎酸化によるＳｉ０２のガラス
微粉末を積層させてゆく。
ルの外側に、藤方向に相対的に往復移動させながら、火
炎加水分解又はプラズマ炎酸化によるＳｉ０２のガラス
微粉末を積層させてゆく。
この後世発部材を引き抜いて出来る多孔質ガラスの円筒
の内部をＴＩＣになるように冷却し、外部をＴ２℃にな
るように加熱する。この時多孔質ガラス内部には第５図
ｂに示すように内側にて大きな細孔が外側に密な細孔が
連続的に出釆る。次にこれを例えば高温のＣｓＮ０３水
溶液に浸潰した後、乾そうし水分を蒸発させて除去する
。
の内部をＴＩＣになるように冷却し、外部をＴ２℃にな
るように加熱する。この時多孔質ガラス内部には第５図
ｂに示すように内側にて大きな細孔が外側に密な細孔が
連続的に出釆る。次にこれを例えば高温のＣｓＮ０３水
溶液に浸潰した後、乾そうし水分を蒸発させて除去する
。
これを真空中で加熱し途中で０２やＣ’２やＦ２を入れ
て脱ＯＨを充分行った後「真空又は低圧力の酸素雰囲気
中で加熱し紐孔をコラップスして透明ガラス体とする。
て脱ＯＨを充分行った後「真空又は低圧力の酸素雰囲気
中で加熱し紐孔をコラップスして透明ガラス体とする。
これまでは、内側に於いて気孔率が大きく外側に於いて
気孔率が小さい多孔質体内に屈折率を高めるドーパント
を入れることについて説明して来た。逆に内側に於いて
気孔率が小さく外側に於いて気孔率が大きい多孔質体内
に８０３やＦ又はＦ化合物をドーブしても「光伝送用ガ
ラス体を作ることが出来る。この多孔質体を作る為の条
件は、前述とは逆の条件になるようにすればよいｏ次に
本発明の一実施例について説明する。
気孔率が小さい多孔質体内に屈折率を高めるドーパント
を入れることについて説明して来た。逆に内側に於いて
気孔率が小さく外側に於いて気孔率が大きい多孔質体内
に８０３やＦ又はＦ化合物をドーブしても「光伝送用ガ
ラス体を作ることが出来る。この多孔質体を作る為の条
件は、前述とは逆の条件になるようにすればよいｏ次に
本発明の一実施例について説明する。
第４図に示す方法で、Ｓｉ０２粉末を１０側厚さＬ７％
Ｂ２０３−Ｓｉ０２を１仇駁厚さ５側めのカーボン綾上
に積層した。
Ｂ２０３−Ｓｉ０２を１仇駁厚さ５側めのカーボン綾上
に積層した。
これを１０５０００で２餌時間加熱したところ、それぞ
れ７肋、３側の厚さに収縮した。この後カーボン榛を引
き抜いた。これを９ｙｏ、５仇Ｘ％ＣｓＮ０３水溶液中
に１加持間浸潰した後も取り出して真空中で乾燥し、引
き続き真空中にて７００ｏｏまで１５ｏＣ仇ｒで昇温さ
せ、この後４斑ｒ０２気流中に保持し「 この後ｙ１ぴ
気圧０２「 １′５気圧Ｈｅ中で１５ｑＣ′ｈｒで昇溢
きせも１１００℃に３０分保持した後昇温した。こうし
て出来たガラス管の内外面をフッ酸で洗浄した後、ガラ
ス施盤にかけ孔をつぶした。この結果コアとクラッドを
有する約１２側めの丸棒が得られた。この表面を光学的
研ました後日Ｆで洗浄し、１１４５側めの榛としてこれ
を溶融紙糸してファイバーを作ったところも光が充分コ
アにトラツブされており、＾＝０．８３舷凧で１７巡ノ
と低損失のものであった。本発明の方法によれば〜 ■ 半径方向の紬孔分布を調整することにより「屈折率
を上下するドーパントを任意の分布で分布させることが
出来も半径方向に所望の屈折率分布を有するガラス体を
作ることが出来る。
れ７肋、３側の厚さに収縮した。この後カーボン榛を引
き抜いた。これを９ｙｏ、５仇Ｘ％ＣｓＮ０３水溶液中
に１加持間浸潰した後も取り出して真空中で乾燥し、引
き続き真空中にて７００ｏｏまで１５ｏＣ仇ｒで昇温さ
せ、この後４斑ｒ０２気流中に保持し「 この後ｙ１ぴ
気圧０２「 １′５気圧Ｈｅ中で１５ｑＣ′ｈｒで昇溢
きせも１１００℃に３０分保持した後昇温した。こうし
て出来たガラス管の内外面をフッ酸で洗浄した後、ガラ
ス施盤にかけ孔をつぶした。この結果コアとクラッドを
有する約１２側めの丸棒が得られた。この表面を光学的
研ました後日Ｆで洗浄し、１１４５側めの榛としてこれ
を溶融紙糸してファイバーを作ったところも光が充分コ
アにトラツブされており、＾＝０．８３舷凧で１７巡ノ
と低損失のものであった。本発明の方法によれば〜 ■ 半径方向の紬孔分布を調整することにより「屈折率
を上下するドーパントを任意の分布で分布させることが
出来も半径方向に所望の屈折率分布を有するガラス体を
作ることが出来る。
■ ■に於いてドーパントとしてアルカリ金属酸化物を
用いれば、その拡散速度が大きい為に、半径方向に於い
て連続した分布になり、信号歪の小さいファイバーを作
ることが出来る。■ 出発原料としてＳＩＣ１４等の化
合物、ＮＣｉ３等の化合物しＰＯＣ１３等の化合物を用
いれば、比較的安い多孔質ガラス体が出来る。
用いれば、その拡散速度が大きい為に、半径方向に於い
て連続した分布になり、信号歪の小さいファイバーを作
ることが出来る。■ 出発原料としてＳＩＣ１４等の化
合物、ＮＣｉ３等の化合物しＰＯＣ１３等の化合物を用
いれば、比較的安い多孔質ガラス体が出来る。
この多孔質ガラス体の中に入れる酸化物又はその本の化
合物の歩留は極めて良くすることが出来るので、全体と
して安いガラス体を作ることが出釆る。■ 出発原料と
しては蒸留精製し易いＳＩＣ１４「ＭＣＩ３、ＰＯＣ１
３、ＢＢも等を用い「 かつ酸化物又は分解又は反応し
て酸化物となる化合物として高純度化し易い化合物を用
いることが出来るので「伝送損失の小さいガラス体を作
ることが出来る。
合物の歩留は極めて良くすることが出来るので、全体と
して安いガラス体を作ることが出釆る。■ 出発原料と
しては蒸留精製し易いＳＩＣ１４「ＭＣＩ３、ＰＯＣ１
３、ＢＢも等を用い「 かつ酸化物又は分解又は反応し
て酸化物となる化合物として高純度化し易い化合物を用
いることが出来るので「伝送損失の小さいガラス体を作
ることが出来る。
第１図は「Ｃｓ２０−Ｓｉ０２ガラスの屈折率の図。
第２図はトＣｓＮ０３水溶液の比重の図。第３図は「気
孔率に対応するコラップス後のガラス中のＣｓ２Ｑ濃度
の図。第４図ａは「多孔質ガラス体を作る為のガラス微
粉末体を形成しているところの図。第４図ｂは「紬孔を
封じた後の透明ガラス管をガラスせん尊まんで孔をつぶ
しているところの図。第５図ａはト円筒状多孔質ガラス
体の予備焼綾の図。第６図Ｍま〜第５図ａによって予備
焼結した多孔質ガラス体の気孔率を模式的に示す為の図
である。第４図ａで「 母川ま回転マンドレル（鞠方向
の往復移動もする）も亀２５ま、石英バーナー（火炎加
水分解用）、４３は「発生したガラス微粉末「 ４４Ｃ
ｏはちＳｉ０２の積層ガラス微粉末体も ４亀ＣＩは、
Ｂ２０３−Ｓｉ０２の積層ガラス微粉末体も第４図ｂで
「 亀５は「酸水素バーナー、４６Ｃｏは、Ｃｓ２０の
多いＣｓ２０一Ｓｉ０２ガラスト傘６ＣＩは、Ｃｓ２０
の少し、Ｃｓ２０−弦０３一Ｓｉ０２ガラス「第５図ａ
で「 ５竃は鏡層したガラス微粉末体、Ｔ，は〜冷却し
ている孔内の温度「Ｔ２は「外部より加熱している温度
を示す。オー図 汁２図 汁３図 力４図 オ５図
孔率に対応するコラップス後のガラス中のＣｓ２Ｑ濃度
の図。第４図ａは「多孔質ガラス体を作る為のガラス微
粉末体を形成しているところの図。第４図ｂは「紬孔を
封じた後の透明ガラス管をガラスせん尊まんで孔をつぶ
しているところの図。第５図ａはト円筒状多孔質ガラス
体の予備焼綾の図。第６図Ｍま〜第５図ａによって予備
焼結した多孔質ガラス体の気孔率を模式的に示す為の図
である。第４図ａで「 母川ま回転マンドレル（鞠方向
の往復移動もする）も亀２５ま、石英バーナー（火炎加
水分解用）、４３は「発生したガラス微粉末「 ４４Ｃ
ｏはちＳｉ０２の積層ガラス微粉末体も ４亀ＣＩは、
Ｂ２０３−Ｓｉ０２の積層ガラス微粉末体も第４図ｂで
「 亀５は「酸水素バーナー、４６Ｃｏは、Ｃｓ２０の
多いＣｓ２０一Ｓｉ０２ガラスト傘６ＣＩは、Ｃｓ２０
の少し、Ｃｓ２０−弦０３一Ｓｉ０２ガラス「第５図ａ
で「 ５竃は鏡層したガラス微粉末体、Ｔ，は〜冷却し
ている孔内の温度「Ｔ２は「外部より加熱している温度
を示す。オー図 汁２図 汁３図 力４図 オ５図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 円柱状又は円筒状の溶融シリカ微粉末体又はドーパ
ントを含む溶融シリカ微粉末体を予備焼結し、その中の
連結した細孔内に酸化物或は分解又は反応して酸化物と
なる化合物を析出せしめ、しかる後高温の所定の雰囲気
に加熱して細孔をつぶしてゆくガラス体の製造方法に於
いて、予備焼結の段階で半径方向に於いて細孔の大きさ
を調整して、酸化物或は分解又は反応して酸化物となる
化合物の溶液に浸漬し、しかる後真空乾燥して溶媒を除
去し、真空あるいは無水の酸素雰囲気下で加熱して細孔
をつぶして、半径方向に於いて所定のＣｓ＿２Ｏの濃度
分布を持つような円状或は、円筒状透明ガラス体を製造
する、又は中央孔をつぶして棒状にすることを特徴とす
るガラス体の製造方法。 ２ 中心孔内を低温に外側を高温に温度分布を持たせる
ことにより、外側の方向に向つて焼結の度合を大きくし
細孔を小さくするように調整し、屈折率を高くする酸化
物或は分解又は反応して酸化物となる化合物を析出せし
めることを特徴とする第１項記載のガラス体の製造方法
。 ３ 中心孔内を高温に外側を低温に温度分布を持たせる
ことにより、外側の方向に向つて焼結の度合を小さくし
細孔を大きくするように調整し、屈折率を低くするＢ＿
２Ｏ＿３又はＦ化物を析出せしめることを特徴とする第
１項記載のガラス体の製造方法。 ４ 外側に向つて屈折率を変化させる作用の小さなドー
パントの濃度を多くした溶融シリカの微粉末からなる予
備焼結円筒体を作ることにより、外側の方向に向つて焼
結の度合を大きくし細孔を小さくするように調整し、屈
折率を高くする酸化物或は分解又は反応して酸化物とな
る化合物を析出せしめることを特徴とする第１項記載の
ガラス体の製造方法。 ５ ドーパントがＢ＿２Ｏ＿３Ａｌ＿２Ｏ＿３又はＰ＿
２Ｏ＿５であることを特徴とする第４項記載のガラス体
の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14308177A JPS606294B2 (ja) | 1977-11-28 | 1977-11-28 | ガラス体の製造方法 |
| GB7830495A GB2002342B (en) | 1977-07-27 | 1978-07-20 | Process for producing a glass member |
| US05/926,774 US4225330A (en) | 1977-07-27 | 1978-07-21 | Process for producing glass member |
| FR7822281A FR2398701A1 (fr) | 1977-07-27 | 1978-07-27 | Procede perfectionne pour la preparation d'une piece en verre |
| DE2833051A DE2833051C2 (de) | 1977-07-27 | 1978-07-27 | Verfahren zum Herstellen von Vorformlingen für optische Glasfasern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14308177A JPS606294B2 (ja) | 1977-11-28 | 1977-11-28 | ガラス体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5474818A JPS5474818A (en) | 1979-06-15 |
| JPS606294B2 true JPS606294B2 (ja) | 1985-02-16 |
Family
ID=15330461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14308177A Expired JPS606294B2 (ja) | 1977-07-27 | 1977-11-28 | ガラス体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS606294B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0547469B2 (ja) * | 1985-01-23 | 1993-07-16 | Hitachi Ltd |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59152238A (ja) * | 1983-02-18 | 1984-08-30 | Hoya Corp | 屈折率勾配を有するガラス体の製造法 |
| JPS59152237A (ja) * | 1983-02-18 | 1984-08-30 | Hoya Corp | ガラス体の製造法 |
| JPH0651576B2 (ja) * | 1985-01-25 | 1994-07-06 | 住友電気工業株式会社 | 屈折率分布を有するガラスの製造方法 |
| DE3773306D1 (de) * | 1986-02-28 | 1991-10-31 | Nippon Oxygen Co Ltd | Verfahren zur herstellung von glas. |
| EP0258455B1 (en) * | 1986-02-28 | 1991-08-07 | Japan Oxygen Co. Ltd. | Process for manufacturing glass |
| JPS62212234A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-18 | Nippon Sanso Kk | ガラスの製造法 |
-
1977
- 1977-11-28 JP JP14308177A patent/JPS606294B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0547469B2 (ja) * | 1985-01-23 | 1993-07-16 | Hitachi Ltd |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5474818A (en) | 1979-06-15 |
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