JPS6060990A - 遠赤外線放射発熱体 - Google Patents

遠赤外線放射発熱体

Info

Publication number
JPS6060990A
JPS6060990A JP58170226A JP17022683A JPS6060990A JP S6060990 A JPS6060990 A JP S6060990A JP 58170226 A JP58170226 A JP 58170226A JP 17022683 A JP17022683 A JP 17022683A JP S6060990 A JPS6060990 A JP S6060990A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heating element
far
infrared
ceramic
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58170226A
Other languages
English (en)
Inventor
均 吉田
馨 葛岡
山口 俊三
憲 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
NipponDenso Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NipponDenso Co Ltd filed Critical NipponDenso Co Ltd
Priority to JP58170226A priority Critical patent/JPS6060990A/ja
Publication of JPS6060990A publication Critical patent/JPS6060990A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Resistance Heating (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、暖房用あるいは乾燥用の熱源として用いる遠
赤外線放射発熱体に凹するものである。
〔従来技術〕
従来公知のこの種発熱体としては特公昭55−3359
5号公報に記載されたものがある。
これは、金属シース型発熱体の表面に、遠赤外線の放射
率の良好な物質、例えばT i 02、ZrO2、Aj
2203などのセラミックを付着さ(た構造となってい
る。
しかしながら、この従来例では、上記発熱体と上記セラ
ミックとの熱膨張率の差が大きく、従って加熱、冷却の
繰り返しによって、発熱体表面のセラミンク層が剥S「
するという問題がある。
〔発明の目的〕
本発明は上記のセラミック層の剥離を防いで耐久性の良
い遠赤外線放射発熱体を得ることを目的とするものであ
る。
〔発明の構成〕
木兄明番1′、上記従来例の金属シース型発熱体に代え
て導電性セラミックを主成分とするセラミック発熱体を
用い、かつ該発熱体の表面に設けた遠赤外線放射型セラ
ミックの厚みを10μm〜1鮪としたものである。
本発明において、セラミック発熱体に用いる導電性セラ
ミックはT iC−、T iN % S t C% M
 。
Si2、L a Cr 204などがあり、これら導電
性セラミックに耐熱性、耐熱衝撃性を向上させるため、
あるいは比抵抗を調整するためAl2O2等の絶縁セラ
ミックを混合してもよい。
一方、上記遠赤外線放射層セラミックは、Al2O2、
TiO2、Zr、02.3i02など、あるいはコージ
ェライトのような複合酸化物、もしくはこれらの混合物
がある。
本falJ11の一例としてセラミック発熱体をTiC
A l 203で構成した場合、その熱膨張係数は8x
lO−6cm−’であり、遠赤外線放射型セラミックを
TiO2で構成した場合のその熱膨張係数は7xlO−
6(Jll ’であって、両者の熱膨張係数は極めて近
似している。
従って、この遠赤外線放射型セラミックがセラミック発
熱体より剥離することはほとんどない。
従来のごとき構造のものにおいて、金属シース型発熱体
の金属シースを商品名インコネル600にした場合、そ
の熱膨張係数は17X10 ’cm−1であり、この表
面に遠赤外線放射型セラミックとしてTiC2(熱膨張
係数7X10−6cm ’)を溶射すれば、両者の熱膨
張係数の差は非常に大きく、TiO2の剥離は明白であ
る。
本発明において、遠赤外線放射型セラミックで構成した
層厚は前記したごと<10μm −1mmであるが、1
0μmを下回ると該層による遠称り目ffi放射特性が
十分発揮されず、遠赤外線の放射量が小さい。一方、1
鰭を上回ると該層そのものの結合力が弱くなり、発熱体
より剥はする恐れが大きい。
[発明の効果〕 以上のように、本発明は遠赤外線放射層と発熱体との固
着力を高め、冷熱サイクルの繰り返しによる遠赤外線放
射層のff、+1離を@避することができる。
〔実施例〕
以下本発明を具体的実施例により、詳細に説明する。ま
ず、構造を説明すると、第1図において、1は例えばT
iC28wt%とAl2O272wt%とから成る複合
導電性セラミック発熱体であり、パイプ形状を有してい
る。2は複合導電セラミック発熱体lの外表面に例えば
25μmの厚さに形成された例えばT i O3より成
る遠赤外線放射層である。このTiO2は4μm以上の
遠赤外線の放射率が高く、遠赤外線放射型セラミックと
して知られている。なお、T i O2はプラズマ溶射
により形成した。また、発熱体10両端部には金属電極
3が接合されている。4は電極3の固定用スリーブであ
る。
ここで両電極3に電圧を印加して通電発熱さ・Uること
により、表面に形成された放射Wi2の特性に合わせて
遠赤外線が放射されて暖房や乾燥に有効な省エネ発熱体
となる。第2図は本発明品を500℃に発熱させ、その
赤外線の放射率を測定したものであり、波長4μm以上
の放射率が非席に大きい遠赤外線放射発熱体となってい
る。
ここで本発明の発熱体を用いて急熱、急冷試験を行った
。前述の第1図に示す発熱体を700℃、3分間に加熱
し、その4!i3分間強制空冷(室温;約25℃)を行
うサイクル試験で、′I’ i 02よりなる放射層2
の剥離をみた。つまり、前述の発熱体lに63gのT 
i 02よりなる放射層2を付着さセ、前記加熱冷却サ
イクルでのPi離量を;−リ定したところ、500サイ
クルの試験後でも剥離指は皆無であった。その結果をf
f13図に示す。第3図において、Moは放射層初期付
着mを示し、M番ノ放射層の残存量を示す。
比較のために従来品の例としてイン5コネル600より
なる金属バイブの内部にMgO粉末を介して埋設したニ
クロム線を発熱体とし、該パイプ表面に下地層としてN
1−Aβ (厚さ30μm)を、またその上にTiO2
(厚さ40μm)の溶射皮膜をつけた遠赤外綿ヒータに
ついてもその赤外線放射率と加熱冷却テストを行った。
試験条件は本発明品と同一条件である。放射率は第2図
の本発明品と同一の有効な還赤外線放射特性をもった発
熱体であったが、剥離については第3図に示すように1
0サイクルの時点で剥離が認められ、500サイクルで
は50%も剥離が生じた。
これは放射層であるTiO2の熱膨張係数が〜7X10
−6cm ’に対してTiC−Aj2203発熱体が〜
8X10−6c+n ’、インコネル600の金属が1
7X10−6cm−’と非常に差があるために従来品で
は加熱冷却で剥離が生じたのである。更にTiC−Aj
!203発熱体を基体としてその表面に遠赤外線放射型
セラミックであるNi0.A4203、ZrO2、コー
ジェライトを溶射により付着させたところ、良好な放射
層が得られた。これらの熱膨張係数は表1に示ず如く、
T i C−Aβ203の発熱体に近いと共に発熱体及
び付着層共にセラミックのためになじみよく、従ってよ
く付着する。
表1 これら遠赤外線放射型のセラミックスあるいはそれらの
混合物は他のセラミック発熱体についてもなじみよ(付
着する。例えばMoSi2発熱体(熱膨張係数8X10
−6鄭−1)やSiC発熱体(熱膨張係数5!2X10
 ’cm ’)やランタンクロマイト発熱体く熱膨張係
数7.4XlO−6cm’)についても検討した結果、
剥離は生じなかった。
なお、遠赤外線放射層の付着方法として、前記実施例で
は溶射法を用いたが、これら放射層材料を含む溶液に発
熱体を浸漬して表面に付着させる浸漬法を用いることも
有効である。−例として、粒径2μmのT i O2粉
末にジブチルツクレートとポリビニルフタレートとを加
え、エタノールを溶媒にしてTiO2のスラリー(粘度
500cpS)をつくり、Tic−Aj!203発熱体
を浸漬して表面に皮膜をつくり、乾燥した後800℃焼
成したところ、厚さ28μmの強固に付着した放射層を
形成させることができた、また、耐剥離についても良好
であった。
【図面の簡単な説明】
ff11図は本発明の一実施例を示す断面図、第2図お
よび第3図は本発明の作用説明に供する特性図である。 l・・・発熱体、2・・・放熱層。 代理人弁理士 岡 部 隆

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (11導電性セラミツクを主成分とするセラミック発熱
    体の表面に、10μm以上で1鶴以下の厚さを有する遠
    赤外線放射型セラミックから成る遠赤外線放射層を形成
    したことを特徴とする遠赤外線放射発熱体。 (2)前記遠赤外線放射型セラミックは、TiO2、N
    1o1Aβ203、ZrO2、コージェライトの中から
    選ばれた少なくとも1種を含むことを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の遠赤外線放射発熱体。 (3)前記放射層を溶射により形成させたことを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の遠赤外線放射発熱体。 (4)前記放射層を浸漬法により形成させたことを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の遠赤外線放射発熱体
    。 (5)前記セラミック発熱体は、T i C−A j!
     203、TiC,TiN、T゛1C−TiN−A7!
    203、SiC,MoSi2、LaCr2O4から選ば
    れた1種により構成されていることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項〜第4項いずれか記載の遠赤外線放射発
    熱体。
JP58170226A 1983-09-15 1983-09-15 遠赤外線放射発熱体 Pending JPS6060990A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58170226A JPS6060990A (ja) 1983-09-15 1983-09-15 遠赤外線放射発熱体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58170226A JPS6060990A (ja) 1983-09-15 1983-09-15 遠赤外線放射発熱体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6060990A true JPS6060990A (ja) 1985-04-08

Family

ID=15901002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58170226A Pending JPS6060990A (ja) 1983-09-15 1983-09-15 遠赤外線放射発熱体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6060990A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6168380A (ja) * 1984-09-06 1986-04-08 イビデン株式会社 セラミツクス赤外線放射体とその製造方法
JPS62198075A (ja) * 1986-02-25 1987-09-01 東芝セラミツクス株式会社 炭化珪素発熱体
JPS63285891A (ja) * 1987-05-19 1988-11-22 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 炭化珪素発熱体
JPH01227376A (ja) * 1988-03-07 1989-09-11 Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd 遠赤外線ヒータ
JPH01226765A (ja) * 1988-03-07 1989-09-11 Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd 遠赤外線放射部材
JP2011127809A (ja) * 2009-12-16 2011-06-30 Rinnai Corp 遠赤外線放射セラミックバーナプレート

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6168380A (ja) * 1984-09-06 1986-04-08 イビデン株式会社 セラミツクス赤外線放射体とその製造方法
JPH0229638B2 (ja) * 1984-09-06 1990-07-02 Ibiden Co Ltd
JPS62198075A (ja) * 1986-02-25 1987-09-01 東芝セラミツクス株式会社 炭化珪素発熱体
JPS63285891A (ja) * 1987-05-19 1988-11-22 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 炭化珪素発熱体
JPH01227376A (ja) * 1988-03-07 1989-09-11 Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd 遠赤外線ヒータ
JPH01226765A (ja) * 1988-03-07 1989-09-11 Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd 遠赤外線放射部材
JP2011127809A (ja) * 2009-12-16 2011-06-30 Rinnai Corp 遠赤外線放射セラミックバーナプレート

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6060990A (ja) 遠赤外線放射発熱体
JPS61138486A (ja) 板状セラミツクスヒ−タ
JPH01117287A (ja) 遠赤外線放射発熱体およびその製造方法
JP2819646B2 (ja) 遠赤外線ハロゲンヒータ
JPS5934233B2 (ja) 遠赤外線放射装置
KR102253120B1 (ko) 면상발열체
JP3090962B2 (ja) 金属基板及びその製造方法
JP3108590U (ja) 電熱膜加熱装置
JPS6052552B2 (ja) 遠赤外線放射素子の製造法
JPS62291881A (ja) 赤外線放射体
JPS6337587A (ja) セラミツクヒ−タ
JPS6054750B2 (ja) 遠赤外線ヒ−タの製造法
JPH0151463B2 (ja)
JPS59226492A (ja) 赤外線放射体の製造方法
JPS607095A (ja) 遠赤外線ヒ−タ
JPS62113377A (ja) 遠赤外線ヒ−タ
JPS63105487A (ja) セラミツク遠赤外線放射体及びその製造法
JPS5979988A (ja) 面状発熱体
JPS60142240A (ja) ガス検出素子
JPS63301482A (ja) セラミックヒ−タ−の製造方法
JPH088141B2 (ja) 面ヒ−タ
JPS648911B2 (ja)
JPS5848407A (ja) 正特性磁器半導体の製造方法
JPH0330815B2 (ja)
JPH01292784A (ja) 面状発熱体