JPS6060540A - スル−ホ−ル検査装置 - Google Patents
スル−ホ−ル検査装置Info
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- JPS6060540A JPS6060540A JP16824083A JP16824083A JPS6060540A JP S6060540 A JPS6060540 A JP S6060540A JP 16824083 A JP16824083 A JP 16824083A JP 16824083 A JP16824083 A JP 16824083A JP S6060540 A JPS6060540 A JP S6060540A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95692—Patterns showing hole parts, e.g. honeycomb filtering structures
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- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）発明の技術分野
本発明は、透光性基板に貫通穴を形成し、該貫通穴内壁
面に不透光性導電層を配設して形成されたスルーホール
を有する電気部材１例えばプリント板の前記導電層に生
ずる切欠き部、ビンボール等の欠陥を検査するためのス
ルーホール検査装置に関する。
面に不透光性導電層を配設して形成されたスルーホール
を有する電気部材１例えばプリント板の前記導電層に生
ずる切欠き部、ビンボール等の欠陥を検査するためのス
ルーホール検査装置に関する。
（ロ）技術の背景
電子計算機等各種の電子装置には両面プリント板や、多
層プリント板が多用されている。これらのプリント板に
は、その基板に形成されている表裏プリント配線間や、
各層プリント配線間を電気的に接続するために、多数の
スルーホールが形成されている。このスルーホールは電
気的あるいは化学的メッキ法に依り、メッキが施されて
形成される。このスルーホールのメッキ層（不透光性導
電層）は、常に良好な状態に形成されるとは限らず、切
欠き部、ピンホール等の欠陥が生する場合がある。
層プリント板が多用されている。これらのプリント板に
は、その基板に形成されている表裏プリント配線間や、
各層プリント配線間を電気的に接続するために、多数の
スルーホールが形成されている。このスルーホールは電
気的あるいは化学的メッキ法に依り、メッキが施されて
形成される。このスルーホールのメッキ層（不透光性導
電層）は、常に良好な状態に形成されるとは限らず、切
欠き部、ピンホール等の欠陥が生する場合がある。
このような欠陥は、電気的接続目的全阻害し。
プリント板の機能を低下させ、かつ信頼性全低下させる
。従って、このような欠陥の有無を予め検査する必要が
ある。従来より、この種の検査装置として種々のものが
提案されているが、それらはなお、それぞれ問題点を有
しその解決が要望されている。
。従って、このような欠陥の有無を予め検査する必要が
ある。従来より、この種の検査装置として種々のものが
提案されているが、それらはなお、それぞれ問題点を有
しその解決が要望されている。
ｅ９ 従来技術と問題点
従来のこの種のスルーホール検査装置の一例として、ス
ルーホールの裏面側開口部に遮光マスクを配置し、この
マスクのさらに裏面側に照射用光源全配置し、一方スル
ーホールの表面側の開口に対向して結像レンズ系と撮像
素子とからなる撮像装置１例えばＴＶカメラ全配置し、
この１゛■カメラに電気的接続された検査回路金偏えた
ものがある。この場合は、スルーホール内部に裏面側開
口から侵入したマスクの漏光と、スルーホール内壁のメ
ッキ層に生じた欠陥部から侵入した欠陥漏光とがＴＶ左
カメラよって結像されると共に光電変換された画像信号
として検査回路に入力される。
ルーホールの裏面側開口部に遮光マスクを配置し、この
マスクのさらに裏面側に照射用光源全配置し、一方スル
ーホールの表面側の開口に対向して結像レンズ系と撮像
素子とからなる撮像装置１例えばＴＶカメラ全配置し、
この１゛■カメラに電気的接続された検査回路金偏えた
ものがある。この場合は、スルーホール内部に裏面側開
口から侵入したマスクの漏光と、スルーホール内壁のメ
ッキ層に生じた欠陥部から侵入した欠陥漏光とがＴＶ左
カメラよって結像されると共に光電変換された画像信号
として検査回路に入力される。
そして、この検査回路によって、スルーホール内部の明
暗度に起因する画像信号の電圧レベルの大小が検知され
、予め設定した電圧レベルを境にして欠陥の有無が判別
される。しかしながら、この従来例の場合は、前述のマ
スク漏光と欠陥漏光とを含んだ画像信号の電圧レベルを
単一のスライスレベルで二値化することによって判別し
ているため、欠陥部が非常に小さくて欠陥漏光が少い場
合はＳ／Ｎが小くなり、正確な識別が非常に困難である
という問題がある。
暗度に起因する画像信号の電圧レベルの大小が検知され
、予め設定した電圧レベルを境にして欠陥の有無が判別
される。しかしながら、この従来例の場合は、前述のマ
スク漏光と欠陥漏光とを含んだ画像信号の電圧レベルを
単一のスライスレベルで二値化することによって判別し
ているため、欠陥部が非常に小さくて欠陥漏光が少い場
合はＳ／Ｎが小くなり、正確な識別が非常に困難である
という問題がある。
に）発明の目的
本発明の目的は、上記従来技術の問題点に鑑み、欠陥部
が非常に小さな場合でも、欠陥スルーホールと正常スル
ーホールと會確夷に識別するこ七が可能なスルーホール
検査装置を提供することにある。
が非常に小さな場合でも、欠陥スルーホールと正常スル
ーホールと會確夷に識別するこ七が可能なスルーホール
検査装置を提供することにある。
（ホ）発明の構成
そして、上記目的を達成するために１本発明に依れば、
透光性基板に、不透光性導電層が内壁面に配設形成され
て成るスルーホール全形成した電気部材の前記スルーホ
ールの裏面側開口部に遮光マスクを配置し、該マスクの
さらに裏面側にＩ！（１射用光源全配置し、一方前記ス
ルーホールの表面側開口に対向して結像レンズ系と撮像
素子とから成る撮像装置を配置し、前記スルーホール内
部に裏面開口から侵入したマスク漏光と前記導電層に生
じた欠陥部から侵入した欠陥漏光とが前記撮像装置によ
って結像されかり光電変換された画像信号が入力される
検査回路を設けて、該検査回路によって、前記スルーホ
ール内部の明暗度に起因する前記画像信号の電気的レベ
ルに基づき前記導電層の欠陥を検出するようにしたスル
ーホール検査装置において、前記検査回路の構成を、前
記画像信号のうちマスク漏光のみに起因する画像信号を
二値化する第１の二値化回路と、前記マスク漏光及び欠
陥漏光双方に起因する画像信号を二値化する第２の二値
化回路と、前記第１の二値化回路からの信号が入力され
、かつ前記スルーホールの裏面側聞ロバターン全記憶さ
せた第１の記憶回路からの信号が入力されこれら双方の
信号に基づき前記裏面側開口の位置偏差を検出する相関
回路と。
透光性基板に、不透光性導電層が内壁面に配設形成され
て成るスルーホール全形成した電気部材の前記スルーホ
ールの裏面側開口部に遮光マスクを配置し、該マスクの
さらに裏面側にＩ！（１射用光源全配置し、一方前記ス
ルーホールの表面側開口に対向して結像レンズ系と撮像
素子とから成る撮像装置を配置し、前記スルーホール内
部に裏面開口から侵入したマスク漏光と前記導電層に生
じた欠陥部から侵入した欠陥漏光とが前記撮像装置によ
って結像されかり光電変換された画像信号が入力される
検査回路を設けて、該検査回路によって、前記スルーホ
ール内部の明暗度に起因する前記画像信号の電気的レベ
ルに基づき前記導電層の欠陥を検出するようにしたスル
ーホール検査装置において、前記検査回路の構成を、前
記画像信号のうちマスク漏光のみに起因する画像信号を
二値化する第１の二値化回路と、前記マスク漏光及び欠
陥漏光双方に起因する画像信号を二値化する第２の二値
化回路と、前記第１の二値化回路からの信号が入力され
、かつ前記スルーホールの裏面側聞ロバターン全記憶さ
せた第１の記憶回路からの信号が入力されこれら双方の
信号に基づき前記裏面側開口の位置偏差を検出する相関
回路と。
該相関回路からの位置偏差信号が入力され、かつ前記裏
面側聞ロバターン及び表面側聞ロバターン双方を同軸状
に配置したマスクパターン金子め記憶させた第２の記憶
回路からのマスクパターン信号が入力され、前記位置偏
差信号に基づきマスクパターンを偏差位置に整合せしめ
るシフト回路と。
面側聞ロバターン及び表面側聞ロバターン双方を同軸状
に配置したマスクパターン金子め記憶させた第２の記憶
回路からのマスクパターン信号が入力され、前記位置偏
差信号に基づきマスクパターンを偏差位置に整合せしめ
るシフト回路と。
該シフト回路からのマスクパターン信号と前記第２の二
値化回路からの画像信号とが入力され該画像信号に基づ
くパターンに前記マスクパターンを重ねて合致させて前
記裏面側開口部と表面側開口外側部との双方全電気的に
遮光して欠陥漏光に起因する信号のみを検出するように
した欠陥探索回路とを具備するものとし、さらに前記結
像レンズ系を前記スルーホールの表面側から裏面側まで
鮮明な画像が得られるような焦点深度全有するレンズ系
としたことを特徴とするスルーホール検査装（へ）発明
の実施例 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。
値化回路からの画像信号とが入力され該画像信号に基づ
くパターンに前記マスクパターンを重ねて合致させて前
記裏面側開口部と表面側開口外側部との双方全電気的に
遮光して欠陥漏光に起因する信号のみを検出するように
した欠陥探索回路とを具備するものとし、さらに前記結
像レンズ系を前記スルーホールの表面側から裏面側まで
鮮明な画像が得られるような焦点深度全有するレンズ系
としたことを特徴とするスルーホール検査装（へ）発明
の実施例 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。
第１図から第６図は本発明の詳細な説明するための図で
ある。
ある。
第１図は本発明のスルーホール検査装置の概略図である
。同図において、符号１ｏは透光性基板１１にスルーホ
ール１２が形成されているプリント板（電気部材）を示
す。基板１１はボ＋７ ミイド。
。同図において、符号１ｏは透光性基板１１にスルーホ
ール１２が形成されているプリント板（電気部材）を示
す。基板１１はボ＋７ ミイド。
エポキシ等の絶縁材から形成される。スルーボール１２
は基板１１に貫通穴全形成し、該貫通穴内壁面に不透光
性導電層１３が配設されて形成される。導電層１３は、
銅等の導体材料が電気的又は化学的メッキ法によりメッ
キされ、メッキ層として形成される。１４はスルーホー
ル１２の裏面側開口１２ａに近接して配置された遮光マ
スクであり。
は基板１１に貫通穴全形成し、該貫通穴内壁面に不透光
性導電層１３が配設されて形成される。導電層１３は、
銅等の導体材料が電気的又は化学的メッキ法によりメッ
キされ、メッキ層として形成される。１４はスルーホー
ル１２の裏面側開口１２ａに近接して配置された遮光マ
スクであり。
後述する照射光１５ａが開口１２ａがらスル−ボール１
２内部に直接入射するの全遮光する役割を果す。そして
、遮光マスク１４は、プリント板１゜が所定方向１例え
ば矢印Ｂ方向に移動されるため。
２内部に直接入射するの全遮光する役割を果す。そして
、遮光マスク１４は、プリント板１゜が所定方向１例え
ば矢印Ｂ方向に移動されるため。
プリント板ｉｏから予め定められた距離１例えば０、１
ｍｍ程度の距離だけ離隔して配置されている。
ｍｍ程度の距離だけ離隔して配置されている。
尚１本明細書においては、第１図に向かって下側をプリ
ント板１０（及びスルーホール１２）の裏面側、そして
上側全表面側と呼ぶことにする。遮光マスク１４の裏面
側に照射光源１５が配置され。
ント板１０（及びスルーホール１２）の裏面側、そして
上側全表面側と呼ぶことにする。遮光マスク１４の裏面
側に照射光源１５が配置され。
１５ａはその照射光葡示す。さて、スルーホール１２の
表面側に対向して撮像装置１６が配設されている。撮像
装置１６は結像レンズ系１７と撮像素子１８とから構成
されたもので、例えばＴＶカメラ等である。結像レンズ
系１７はスルーホールの表面側聞口１２ｃかｂｉ面側開
口１２ａまでスルーホール１２内部全体にわたり鮮明な
画像が得られるような深い焦点深度を有するレンズ系と
して形成されている。２０は検査回路を示し．撮像装置
（以下，ＴＶカメラと呼ぶ）１６と電気的に接続されて
いる。
表面側に対向して撮像装置１６が配設されている。撮像
装置１６は結像レンズ系１７と撮像素子１８とから構成
されたもので、例えばＴＶカメラ等である。結像レンズ
系１７はスルーホールの表面側聞口１２ｃかｂｉ面側開
口１２ａまでスルーホール１２内部全体にわたり鮮明な
画像が得られるような深い焦点深度を有するレンズ系と
して形成されている。２０は検査回路を示し．撮像装置
（以下，ＴＶカメラと呼ぶ）１６と電気的に接続されて
いる。
この構成により、光源１５からの照射光１５ａは，遮光
マスク１４に含む領域へ照射され，一部が遮光マスク１
４によって遮光され，他の一部が遮光マスク１４とプリ
ン土板１０の間？多重反射してスルーホール１２の裏面
側聞口１２ａからスルーホール１２内部に漏れ込むマス
ク漏光Ｐ１となり，さらに他の一部が基板１１内部に入
射して散乱し，スルーホール１２の欠陥部（導電層１３
の欠陥部）１２ｂからスルーホール１２内部に漏れ込む
欠陥漏光Ｐ２となりかつ基板１１を透過して表面から上
方に出射する透過光Ｐ３ となり、それぞれ矢印方向に
進行する。このようなマスク漏光Ｐ１と欠陥漏光Ｐ２の
存在するスルーホール１２の内部すべて（裏面から表面
寸で）を結イＳξレンズ系１７によυ撮像素子１８上に
結像する。Ｃの時の結像は第２図に示す如くになる。第
２図において． １２’ａ， １２’ｂ， １２’ｃは
それぞれ第１図の１２ａ，１２ｂ．１２ｃに相当する部
分である。
マスク１４に含む領域へ照射され，一部が遮光マスク１
４によって遮光され，他の一部が遮光マスク１４とプリ
ン土板１０の間？多重反射してスルーホール１２の裏面
側聞口１２ａからスルーホール１２内部に漏れ込むマス
ク漏光Ｐ１となり，さらに他の一部が基板１１内部に入
射して散乱し，スルーホール１２の欠陥部（導電層１３
の欠陥部）１２ｂからスルーホール１２内部に漏れ込む
欠陥漏光Ｐ２となりかつ基板１１を透過して表面から上
方に出射する透過光Ｐ３ となり、それぞれ矢印方向に
進行する。このようなマスク漏光Ｐ１と欠陥漏光Ｐ２の
存在するスルーホール１２の内部すべて（裏面から表面
寸で）を結イＳξレンズ系１７によυ撮像素子１８上に
結像する。Ｃの時の結像は第２図に示す如くになる。第
２図において． １２’ａ， １２’ｂ， １２’ｃは
それぞれ第１図の１２ａ，１２ｂ．１２ｃに相当する部
分である。
尚．第２図の場合，スルーホール１２の欠陥部１２ｂは
導電層１３の上下中間部が内周に沿って環状（リング状
）の切欠き部として生じているものと仮定している。ｌ
２’ ａ部はスルーホール１２の裏面側開口１２ａと
同じく円形に結像されてマスク漏光ＰＩＫより明るく映
り、その外周内部が裏面側聞口１２ａの内周内部に相当
している。尚、この１２’ａ部の明るさは後述する１２
’ｂ部の明るさよりも明るくなるようにマスク１４が配
置調整されている。１２’ ｂ部は前述したようにリン
グ状の欠陥部１２ｂから侵入した欠陥漏光Ｐ２によりリ
ング状に明るく結像される。１２１Ｃの外周内部は第１
図におけるスルーホール１２の表面側聞口１２ｃの内周
内部に相当している。従って、第２図における１２’ａ
の外周から１２１０の外周までの領域は、第１図のスル
ーホール１２の裏面側開口１２ａの内周から表面側開口
１２ｃの内周に到る導電層（メッキ層）１３の内壁面に
相当するものである。従って、第２図においてｎ１２’
ａと１２１ｂ部を除く部分は漏光がないため暗黒色状（
図中、クロスハツチングで示す）で結像される。
導電層１３の上下中間部が内周に沿って環状（リング状
）の切欠き部として生じているものと仮定している。ｌ
２’ ａ部はスルーホール１２の裏面側開口１２ａと
同じく円形に結像されてマスク漏光ＰＩＫより明るく映
り、その外周内部が裏面側聞口１２ａの内周内部に相当
している。尚、この１２’ａ部の明るさは後述する１２
’ｂ部の明るさよりも明るくなるようにマスク１４が配
置調整されている。１２’ ｂ部は前述したようにリン
グ状の欠陥部１２ｂから侵入した欠陥漏光Ｐ２によりリ
ング状に明るく結像される。１２１Ｃの外周内部は第１
図におけるスルーホール１２の表面側聞口１２ｃの内周
内部に相当している。従って、第２図における１２’ａ
の外周から１２１０の外周までの領域は、第１図のスル
ーホール１２の裏面側開口１２ａの内周から表面側開口
１２ｃの内周に到る導電層（メッキ層）１３の内壁面に
相当するものである。従って、第２図においてｎ１２’
ａと１２１ｂ部を除く部分は漏光がないため暗黒色状（
図中、クロスハツチングで示す）で結像される。
第３図は第２図に示す結像？撮像素子１８（第１図）に
よって光電変換した電気的画像信号８１０波形を示すも
ので、特に）（−Ｈ’線に沿った波形全示す。図示のよ
うに１２１ａ部の電圧レベルが高く。
よって光電変換した電気的画像信号８１０波形を示すも
ので、特に）（−Ｈ’線に沿った波形全示す。図示のよ
うに１２１ａ部の電圧レベルが高く。
これに次いで１２’ｂ部の電圧レベルが高＜、１２’ｃ
部の電圧レベルはほとんど零に近い値を示している。第
４図と５図は欠陥のない正常なスル−ホールの結像を前
出の第２図と第３図とそれぞれ対比して示す図である。
部の電圧レベルはほとんど零に近い値を示している。第
４図と５図は欠陥のない正常なスル−ホールの結像を前
出の第２図と第３図とそれぞれ対比して示す図である。
正常なスルーホールの場合はこの工うに１２１ａ部のみ
明るく映り、他の部分、すなわち導電層１３の裏面側か
ら表面側までの内壁部は暗黒色（図中、クロメノ・・ν
チングで示す）に映υ欠陥のないことを示している。′
さて、第１図において、ＴＶ右カメラ６からの電気的画
像信号８１は検査回路２０に入力され、こ＼で欠陥の有
無が判別され、欠陥が有ると判定された場合は欠陥信号
Ｍが出力される。
明るく映り、他の部分、すなわち導電層１３の裏面側か
ら表面側までの内壁部は暗黒色（図中、クロメノ・・ν
チングで示す）に映υ欠陥のないことを示している。′
さて、第１図において、ＴＶ右カメラ６からの電気的画
像信号８１は検査回路２０に入力され、こ＼で欠陥の有
無が判別され、欠陥が有ると判定された場合は欠陥信号
Ｍが出力される。
第６図は第１図の検査回路２０の詳細ブロック図である
。同図において１画像信号８１は高いスライスレベルＶ
ｘ（第３図の電圧レベルＶｔ ）の第１の二値化回路２
０−１により二値化され、二値化信号Ｓ２として相関回
路２０−３に入力される。すなわち、この二値化信号Ｓ
２は、マスク漏光のみに起因する画像信号としてスルー
ホール１２の裏面側開口１２ａの位置検知のために入力
される。相関回路２０−３には、さらに第１の記憶回路
２０−４に予め記憶させたスルーホール１２のａｍ 側
聞口１２ａのパターンに相当する基準量ロバターン２０
−４３の信号が他方から入力される。
。同図において１画像信号８１は高いスライスレベルＶ
ｘ（第３図の電圧レベルＶｔ ）の第１の二値化回路２
０−１により二値化され、二値化信号Ｓ２として相関回
路２０−３に入力される。すなわち、この二値化信号Ｓ
２は、マスク漏光のみに起因する画像信号としてスルー
ホール１２の裏面側開口１２ａの位置検知のために入力
される。相関回路２０−３には、さらに第１の記憶回路
２０−４に予め記憶させたスルーホール１２のａｍ 側
聞口１２ａのパターンに相当する基準量ロバターン２０
−４３の信号が他方から入力される。
スルーホール１２は、基板１１に穿設される貫通穴の加
工誤差等により、予め設定した基準中心に対して若干の
位置偏差をもって形成される場合がある。従って、この
ような場合、第１の二値化回路２０−１から入力された
二値化信号Ｓ２は相関回路２０−３において、該回路２
０−３に設定され／こ基準中心Ｏに対しＸ、Ｙ軸方向に
若干の位置側差金もって開口１２Ｈのパターンを形成す
ることになる。相関回路２０−３は、この位置偏差をも
つ開口１２ａのパターンに対して、他方から入力された
基準量ロバターン２Ｏ−４ａが一致するように重ね合せ
ることにより、開口１２ａのノくターンの位置偏差？検
出して、この位置偏差信号８ｓｋノット回路２０−５に
入力させる。シフト回路２０−５には、さらに、第２の
記憶回路２０−６に予め記憶させたマスクツくターン２
０−６８の信号が他方から入力される。マスクのノくタ
ーン２Ｏ−６ａは、第２図における１２“３部（裏面側
聞口１２ａのパターン）と、１２’Ｃ部の外側部とが同
軸状に配置され電気信号を通さない部分（図中、クロス
ハツチングで示す）として、かつドーナツ状の部分ｚｏ
−６ｂ （第１図における裏面側開口１２ａから表面側
聞口１２ｃに到る導電層１３の内壁部に相当する部分）
が電気信号を通す部分（図中、白ぬき部分として示す）
として形成されている。尚、このマスクパターン２Ｏ−
６ａの外形は方形状に形成され、スルーホール１２０表
面側聞口１２ａの内径に相当する１２’Ｃ部（円形）エ
リも太き目に形成されている。このことは、第１図に示
す基板１１からの透過光Ｐ３に起因する電気信号をも通
さないように考慮されたものである。このように。
工誤差等により、予め設定した基準中心に対して若干の
位置偏差をもって形成される場合がある。従って、この
ような場合、第１の二値化回路２０−１から入力された
二値化信号Ｓ２は相関回路２０−３において、該回路２
０−３に設定され／こ基準中心Ｏに対しＸ、Ｙ軸方向に
若干の位置側差金もって開口１２Ｈのパターンを形成す
ることになる。相関回路２０−３は、この位置偏差をも
つ開口１２ａのパターンに対して、他方から入力された
基準量ロバターン２Ｏ−４ａが一致するように重ね合せ
ることにより、開口１２ａのノくターンの位置偏差？検
出して、この位置偏差信号８ｓｋノット回路２０−５に
入力させる。シフト回路２０−５には、さらに、第２の
記憶回路２０−６に予め記憶させたマスクツくターン２
０−６８の信号が他方から入力される。マスクのノくタ
ーン２Ｏ−６ａは、第２図における１２“３部（裏面側
聞口１２ａのパターン）と、１２’Ｃ部の外側部とが同
軸状に配置され電気信号を通さない部分（図中、クロス
ハツチングで示す）として、かつドーナツ状の部分ｚｏ
−６ｂ （第１図における裏面側開口１２ａから表面側
聞口１２ｃに到る導電層１３の内壁部に相当する部分）
が電気信号を通す部分（図中、白ぬき部分として示す）
として形成されている。尚、このマスクパターン２Ｏ−
６ａの外形は方形状に形成され、スルーホール１２０表
面側聞口１２ａの内径に相当する１２’Ｃ部（円形）エ
リも太き目に形成されている。このことは、第１図に示
す基板１１からの透過光Ｐ３に起因する電気信号をも通
さないように考慮されたものである。このように。
このマスクパターン２０−６８は、第１図におけるマス
ク漏光Ｐｌと透過光Ｐ３とを電気的に遮光するように形
成されたものである。さて、シフト回路２０−５は入力
された位置偏差信号Ｓ３に基づきマスクバター７２０−
６ａｆ座標変換して偏差位置に整合させてから欠陥探索
回路２０−７ Ｋ送出する。
ク漏光Ｐｌと透過光Ｐ３とを電気的に遮光するように形
成されたものである。さて、シフト回路２０−５は入力
された位置偏差信号Ｓ３に基づきマスクバター７２０−
６ａｆ座標変換して偏差位置に整合させてから欠陥探索
回路２０−７ Ｋ送出する。
一方、画像信号８１は、第二〇二値化回路２０−２にエ
フ低いスライスレベルＶ２ （第３図の電圧レベルｖ２
）−で二値化され、二値化信号Ｓ４として欠陥探索回路
２０−７に入力される。この二ｆ直化信号Ｓ４は、第３
図から明らかなように、第１図のマスク漏光Ｐｉ及び欠
陥漏光Ｐ２さらには透過光Ｐ３に起因する画像信号を含
んでいるものである。
フ低いスライスレベルＶ２ （第３図の電圧レベルｖ２
）−で二値化され、二値化信号Ｓ４として欠陥探索回路
２０−７に入力される。この二ｆ直化信号Ｓ４は、第３
図から明らかなように、第１図のマスク漏光Ｐｉ及び欠
陥漏光Ｐ２さらには透過光Ｐ３に起因する画像信号を含
んでいるものである。
さて、欠陥探索回路２０−７は人力され九二値化信号Ｓ
４に基づ゛き形成されたパターンの変位に従って、該パ
ターン上にシフト回路２０−５から入力されたマスクパ
ターン２Ｏ−６ａｆ重ねて整合させ、欠陥の検出を行な
って欠陥信号Ｍｉ送出する。
４に基づ゛き形成されたパターンの変位に従って、該パ
ターン上にシフト回路２０−５から入力されたマスクパ
ターン２Ｏ−６ａｆ重ねて整合させ、欠陥の検出を行な
って欠陥信号Ｍｉ送出する。
すなわち、欠陥探索回路２０−７において、二値化信号
Ｓ４に基づくパターン、すなわち、スルーホール１２全
体のパターンに相当するパターンはマスクパターン２Ｏ
−６ａによって、裏面側開口１２ａ部分と１表面側聞口
１２ｃの外側部分との双方に相当する領域が電気的に遮
断され、かつ導電層１３の裏面側から表面側に到る内壁
面に相当する領域のみが電気的に導通するように形成さ
れることになる。この結果１本実施例に依れば、結像面
上においてマスク漏光と欠陥漏光と全空間的に分離し、
スルーホール１２の導電層１３の内壁部が結像された部
分のみを検査領域とすること全可能とし、従って、欠陥
光Ｐｉのみの有無を検出することが可能となり、正常ス
ルーポールと欠陥スルーホールの識別音きわめて明確化
することができ、非常に小さな欠陥でも容易に検出する
ことができる。
Ｓ４に基づくパターン、すなわち、スルーホール１２全
体のパターンに相当するパターンはマスクパターン２Ｏ
−６ａによって、裏面側開口１２ａ部分と１表面側聞口
１２ｃの外側部分との双方に相当する領域が電気的に遮
断され、かつ導電層１３の裏面側から表面側に到る内壁
面に相当する領域のみが電気的に導通するように形成さ
れることになる。この結果１本実施例に依れば、結像面
上においてマスク漏光と欠陥漏光と全空間的に分離し、
スルーホール１２の導電層１３の内壁部が結像された部
分のみを検査領域とすること全可能とし、従って、欠陥
光Ｐｉのみの有無を検出することが可能となり、正常ス
ルーポールと欠陥スルーホールの識別音きわめて明確化
することができ、非常に小さな欠陥でも容易に検出する
ことができる。
（ト）発明の効果
以上、詳細に説明したように１本発明のスルーホール検
査装置は、深い焦点深度の結像レンズ系を用いてスルー
ホール全体にわたり鮮明な結像金得て、結像面上におい
てマスク漏光と欠陥漏光とを空間的に分離し、マスク漏
光部とスルーホール表面側開口の外側部とを電気的に遮
光してスルーホール内壁部（導電層の内壁部）のみを検
査領域として検査することによシ、正常スルーホールと
欠陥スルーホールの識別をきわめて明確化することがで
き、非常に小さな欠陥をも容易に検出できるという効果
大なるものがある。
査装置は、深い焦点深度の結像レンズ系を用いてスルー
ホール全体にわたり鮮明な結像金得て、結像面上におい
てマスク漏光と欠陥漏光とを空間的に分離し、マスク漏
光部とスルーホール表面側開口の外側部とを電気的に遮
光してスルーホール内壁部（導電層の内壁部）のみを検
査領域として検査することによシ、正常スルーホールと
欠陥スルーホールの識別をきわめて明確化することがで
き、非常に小さな欠陥をも容易に検出できるという効果
大なるものがある。
第１図は本発明の一実施例のスルーホール検査装置の概
略図、第２図は第１図の撮像素子１８における結像図（
但し、導電層１３の上下中間部に内周に沿ったリング状
の欠陥部が存在している場合を示す）、第３図は第２図
の結像を撮像素子１８（第１図）によって光電変換した
電気的画像信号８１の波形を示すもので特に［−］−）
］’線に沿った波形図、第４図と第５図は欠陥のない正
常スルーホールの結像金第２図と第３図とにそれぞれ対
比して示す図、第６図は第１図の検査回路２０の詳細ブ
ロック図である。 １０・・・プリント板（電気部材）、１１・・・透光性
基板、１２・・・スルーホール、１２ａ・・・裏面側開
口。 １２ｂ・・・欠陥部、１２ｃ・・・表面側聞０．１３・
・・不透光性導電層（メッキ層）、１４・・・遮光マス
ク。 １５・・・照射光源、１５ａ・・・照射光、１Ｇ・・・
撮像装置（例えばＴＶカメラ）、１７・・・結像レンズ
系。 １８・・・撮像素子、２０・・・検査回路、２０−１・
・・第１の二値化回路、２０−２・・・第２の二値化回
路、２０−３・・・相関回路、２０−４・・・第１の記
憶回路。 ２０−５・・・シフト回路、２０−６・・・第２の記憶
回路％２Ｏ−６ａ・・・マスクパターン、２０−７・・
・欠陥探索回路、 ＰＩ・・・マスク漏光、 Ｐ２・・
・欠陥漏光。 Ｐ３・・・透過光、 Ｓｒ・・・電気的画像信号１Ｍ・
・−欠陥信号。 特許出願人 富士通株式会社 特許出願代理人 弁理士青水 朗 弁理士 西 舘 和 之 弁理士 内 １）幸 男 弁理士 山 口 昭 之 第１図 第２図
略図、第２図は第１図の撮像素子１８における結像図（
但し、導電層１３の上下中間部に内周に沿ったリング状
の欠陥部が存在している場合を示す）、第３図は第２図
の結像を撮像素子１８（第１図）によって光電変換した
電気的画像信号８１の波形を示すもので特に［−］−）
］’線に沿った波形図、第４図と第５図は欠陥のない正
常スルーホールの結像金第２図と第３図とにそれぞれ対
比して示す図、第６図は第１図の検査回路２０の詳細ブ
ロック図である。 １０・・・プリント板（電気部材）、１１・・・透光性
基板、１２・・・スルーホール、１２ａ・・・裏面側開
口。 １２ｂ・・・欠陥部、１２ｃ・・・表面側聞０．１３・
・・不透光性導電層（メッキ層）、１４・・・遮光マス
ク。 １５・・・照射光源、１５ａ・・・照射光、１Ｇ・・・
撮像装置（例えばＴＶカメラ）、１７・・・結像レンズ
系。 １８・・・撮像素子、２０・・・検査回路、２０−１・
・・第１の二値化回路、２０−２・・・第２の二値化回
路、２０−３・・・相関回路、２０−４・・・第１の記
憶回路。 ２０−５・・・シフト回路、２０−６・・・第２の記憶
回路％２Ｏ−６ａ・・・マスクパターン、２０−７・・
・欠陥探索回路、 ＰＩ・・・マスク漏光、 Ｐ２・・
・欠陥漏光。 Ｐ３・・・透過光、 Ｓｒ・・・電気的画像信号１Ｍ・
・−欠陥信号。 特許出願人 富士通株式会社 特許出願代理人 弁理士青水 朗 弁理士 西 舘 和 之 弁理士 内 １）幸 男 弁理士 山 口 昭 之 第１図 第２図
Claims (1)
- １、透光性基板に、不透光性導電層が内壁面に配設形成
されて成るスルーホールを形成した電気部材の前記スル
ーホールの裏面側開口部に遮光マスクを配置し、該マス
クのさらに裏面側に照射用光源を配置し、一方前記スル
ーホールの表面側開口に対向して結像レンズ系と撮像素
子とから成る撮像装置を配置し、前記スルーホール内部
に裏面開口から侵入したマスク漏光と前記導電層に生じ
た欠陥部から侵入した欠陥漏光とが前記撮像装置によっ
て結像されかつ光電変換された画像信号が入力される検
査回路を設けて、該検査回路によって、前記スルーホー
ル内部の明暗度に起因する前記画像（ｉ号の電気的レベ
ルに基づき前記導電層の欠陥全恢出するようにしたスル
ーホール検査装置において、前記検査回路の構成を、前
記画像信号のうちマスク漏光のみに起因する画像信号を
二値化する第１の二値化回路と、前記マスク漏光及び欠
陥漏光双方に起因する画像信号を二値化する第２の二値
化回路と、前記第１の二値化回路からの信号が入力され
、かつ前記スルーホールの裏面側開ロバターンを記憶さ
せた第１の記憶回路からの信号が入力されこれら双方の
信号に基づき前記裏面側開口の位置偏差全検出する相関
回路と、該相関回路からの位置偏差信号が入力され、か
つ前記裏面側開ロバターン及び表面側聞ロバターン双方
を同軸状に配置したマスクパターン會予め記憶させた第
２の記憶回路からのマスクパターン信号が入力され、前
記位置偏差信号に基づきマスクパターンを偏差位置に整
合せしめるシフト回路と、該シフト回路からのマスクパ
ターン信号と前記第２の二値化回路からの画像信号とが
入力され該画像信号に基づくパターンに前記マスクパタ
ーンｋｍねて合致させて前記裏面側開口部と表面側開口
外ｇｌｌ都との双方全電気的に遮光して欠陥漏光に起因
する信号のみ全検出するようにした欠陥探索回路と全具
備するものとし、さらに前記結像レンズ系全前記スルー
ホールの表面側から裏面側まで鮮明な画像が得られるよ
うな焦点深度を有するレンズ系としたことを特徴とする
スルーホール検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16824083A JPS6060540A (ja) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | スル−ホ−ル検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16824083A JPS6060540A (ja) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | スル−ホ−ル検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6060540A true JPS6060540A (ja) | 1985-04-08 |
Family
ID=15864357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16824083A Pending JPS6060540A (ja) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | スル−ホ−ル検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6060540A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02122246A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-09 | Fujitsu Ltd | プリント配線基板のスルーホール検査装置 |
| JPH08178858A (ja) * | 1994-12-26 | 1996-07-12 | Nec Corp | スルーホール検査装置 |
-
1983
- 1983-09-14 JP JP16824083A patent/JPS6060540A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02122246A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-09 | Fujitsu Ltd | プリント配線基板のスルーホール検査装置 |
| JPH08178858A (ja) * | 1994-12-26 | 1996-07-12 | Nec Corp | スルーホール検査装置 |
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