JPS6058239B2

JPS6058239B2 - 新規セフアロスポリン誘導体

Info

Publication number: JPS6058239B2
Application number: JP53088994A
Authority: JP
Inventors: 彰男甲田; 一郎伊坂; 幸康村上
Original assignee: Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
Current assignee: Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1978-07-20
Filing date: 1978-07-20
Publication date: 1985-12-19
Also published as: ES482550A1; IT7968397A0; FR2431499A1; GB2025971A; DE2927683A1; GB2025971B; US4311842A; JPS5515454A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は下記一般式で示される新規なセフアカスポリン
誘導体およびその塩に関する。

Ｒ、Ｓ／ＮＮＨイ１０’ Ｒ、ＣＯＣＯＯＨ（Ｉ）Ｒ２＋Ｒ。

〔式中、Ｒ、は水素原子またはアミノ基、Ｒ２、Ｒ３お
よびＲ４は同一または異なつて、水素原子、水酸基、オ
キソ基、メルカプト基、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基または低級アルキルチオ基、Ｒ５は水素原子または
低級アルコキシ基、Ｒｅはアセトキシ基または−Ｓ−Ｒ
７（ここにＲ、はハロゲン原子、メルカプト基、アミノ
基、カルボキシル基、低級アルキル基、低級アルコキシ
基またはハロゲノ低級アルキル基で置換されていてもよ
い５〜６員複素環基を意味する。

）で示される基、Ａ・は窒素原子、酸素原子および／ま
たはイオウ原子を１〜２個含む単環または二環の複素環
を意味する。〕ここに低級アルキル基とは、たとえばメ
チル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘキ・
シル基等であり、低級アルコキシ基とは、たとえばメト
キシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、
ヘキシルオキシ基等である。

また低級アルキルチオ基とは、たとえばメチルチオ基、
エチルチオ基、イソプロピルチオ基、ヘキシルチオ基等
であり、ハロゲノ低級アルキル基とは、たとえばブロモ
メチル基、ブロモプロピル基、クロロメチル基、クロロ
プロピル基等である。またＡの意味する窒素原子、酸素
原子および／またはイオウ原子を１〜２個含む単環また
は二環の複素環とは、たとえばピリジン、ピリミジン、
ピラン、チオピラン等の６員複素環またはキノリン、イ
ソキノリン、ナフチリジン等の６員環が２個縮合した複
素環である。Ｒ７の意味する５〜６員複素環とは、たと
えばチアゾール、イソチアゾール、チアジアゾール、オ
キサジアゾール、トリアゾール、テトラゾール、ピリミ
ジン、ピリダジン、ピラジン等である。つぎに化合物（
１）の塩としては、薬理上許容される非毒性の塩であつ
て、たとえばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金
属塩、アンモニウム塩またはシクロヘキシルアミン塩、
ジシクロヘキシルアミン塩、トリメチルアミン塩、トリ
エチ，ルアミン塩、エタノールアミン塩、オルニチン塩
、リジン塩等の有機塩基との塩基が挙げられる。

化合物（１）およびその塩はいずれも新規な化合物で、
グラム陽性およびグラム陰性両菌、こと２に後者に対し
てすくれた抗菌力を有し医薬として有用てある。

本発明のセフアロスポリン誘導体としてはたとえば次の
ものが挙げられる。

ＤＬ−７−〔２−（４−ヒドロキシー６−メチ３ルニコ
チンアミド）−２−（チアゾ−ルー４−イル）アセトア
ミド〕セフアロスポラン酸、ＤＬ−７−〔２−（４−オ
キソー４Ｈ−チオピランー３−カルボキサミド）−２−
（チアゾ−ルー４−イル）アセトアミド〕−３−（１−
メチ３ルテトラゾールー５−イル）チオメチルーΔ３ー
セフエムー４−カルボン酸、ＤＬ−７−〔２−（２−ア
ミノチアゾールー４ーイル）−２−（４−ヒドロキシー
６−メチルニコチンアミド）アセトアミド〕−３−（１
−４メチルテトラゾールー５−イル）チオメチルーΔ３
−セフエムー４−カルボン酸、ＤＬ−７−〔２−（２−
アミノチアゾールー４ーイル）−２−（４−オキソー？
−チオピランー３−カルボキサミド）アセトアミド〕セ
フアロスポラン酸、ＤＬ−７−〔２−（４−ヒドロキシ
ー６−メチルニコチンアミド）−２−（チアゾ−ルー４
ーイル）アセトアミド〕−３−（１−メチルテトラゾー
ルー５−イル）チオメチルーΔ３−セフエムー４−カル
ボン酸、ＤＬ−７−〔２−（４−ヒドロキシー６−メチ
ルニコチンアミド）−２−（２−アミノチアゾールー４
−イル）アセトアミド）セフアロスポラン酸、ＤＬ−７
−〔２−（４−オキソー４Ｈ−チオピランー３−カルボ
キサミド）−２−（チアゾ−ルー４−イル）アセトアミ
ド〕セフアロスポラン酸、ＤＬ−７−〔２−（２−アミ
ノチアゾールー４一イル）−２−（４−オキソー４Ｈ−
チオピランー３−カルボキサミド）アセトアミド〕−３
−（１−メチルテトラゾールー５−イル）チオメチルー
Δ３−セフエムー４−カルボン酸、Ｄ−７−〔２−（４
−ヒドロキシー６−メチルニコチンアミド）−２−（チ
アゾ−ルー４−イル）アセトアミド〕セフアロスポラン
酸、Ｄ−７−〔２−（２−アミノチアゾールー４ーイル
）−２−（４−ヒドロキシー６−メチルニコチンアミド
）アセトアミド〕−３−（１−メチルテトラゾールー５
−イル）チオメチルーΔ３−セフエムー４−カルボン酸
、７β−〔２−（２−アミノチアゾールー４−イル）−
２−（４−ヒドロキシー６−メチルニコチンアミド）ア
セトアミド〕−７α−メトキシー３−（１−メチルテト
ラゾールー５−イル）チオメチルーΔ３−セフエムー４
−カルボン酸、７β−〔２−（２−アミノチアゾールー
４−イル）−２−（４−オキソー４Ｈ−チオピランー３
−カルボキサミド）アセトアミド〕−７α−メトキシー
３−（１−メチルテトラゾールー５−イル）チオメチル
ーΔ３−セフエムー４−カルボン酸、７−〔２−（４−
ヒドロキシー６−メトキシニコチンアミド）−２−（チ
アゾ−ルー４−イル）アセトアミド〕セフアロスポラン
酸、７−〔２−（６−メチルチオニコチンアミド）−２
−（チアゾ−ルー４−イル）アセトアミド〕セフアロス
ポラン酸、７β−〔２−（４−ヒドロキシー６−メチル
ニコチンアミド）−２−（チアゾ−ルー４−イル）アセ
トアミド〕−７α−メトキシセフアロスポラン酸、７−
〔２−（イソキノリンー３−カルボキサミド）−２−（
チアゾ−ルー４−イル）アセトアミド〕セフアロスポラ
ン酸、７−〔２−（４−ヒドロキシー６−メトキシニコ
チンアミド）−２−（チアゾ−ルー４−イル）アセトア
ミド〕−３−（１−メチルテトラゾールー５−イル）チ
オメチルーΔ３−セフエムー４−カルボン酸、７β−〔
２−（４−ヒドロキシー６−メチルニコチンアミド）−
２−（チアゾ−ルー４−イル）アセトアミド〕−７α−
メトキシー３−（１−メチルテトラゾールー５−イル）
チオメチルーΔ３−セフエムー４−カルボン酸、７−〔
２−（イソキノリンー３−カルボキサミド）−２−（チ
アゾ−ルー４−イル）アセトアミド〕−３−（１−メチ
ルテトラゾールー５−イル）チオメチルーΔ３−セフエ
ムー４−カルボン酸。

化合物（１）の製造は、一般式（式中、Ｒ１、Ｒ５およびＲ６は前と同じ意味を有する
。

）で示される化合物と一般式（式中、Ａ．Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は前記と同じ意味を
有する。

）で示される化合物またはその反応性誘導体とを反応さ
せることによつて行なわれる。

この反応は化合物（■）と等モルもしくは過剰モルの化
合物（■）とを溶媒中冷却下ないし室温で好ましくは塩
基の存在下で行なうのがよい。

溶媒は反応に関与しない有機溶媒であればよく、メタノ
ール、エタノール、アセトン、クロロホルム、塩化メチ
レン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、アセトニト
リル、酢酸エチル、ギ酸エチル、ジメチルホルムアミド
等、またはそれらの混合溶媒が挙げられる。また塩基と
しては有機塩基、炭酸アルカリ、または炭酸水素アルカ
リ等が挙げられるが、トリエチルアミン、ピリジン、ジ
メチルアニリン等の第３級アミンが好適である。化合物
（１）の単離、精製は常法に従つて行えばよい。化合物
（■）の反応性誘導体として好適なものは、酸ハライド
、混合酸無水物、活性エステル、活性アミド、酸無水物
、酸アジド等である。化合物（■）を遊離の状態で作用
させるときは、Ｎ−Ｎ″ージシクロヘキシルカルボジイ
ミド、Ｎ●Ｎ−ジエチルカルボジイミド等の縮合剤を使
用するのがよい。また化合物（１）は一般式（式中、Ｒ５およびＲ６は前記と同じ意味を有する。

）で示される化合物と一般式（式中、ＡｌＲｌ、Ｒ２、
Ｒ３およびＲ４は前記と同じ意味を有する。

）で示される化合物またはその反応性誘導体とを反応さ
せることによつても製造することができる。

この反応における反応条件等はほとんど前記化合物（■
）と化合物（■）との反応におけるのと同一である。さ
らに化合物（１）のうちＲ６がアセトキシ基であるもの
は、一般式ＨＳ−Ｒ７（・）（式中、Ｒ７は前記と同じ意味を有する。

）で示されるチオール化合物またはそのアルカリ金属塩
と反応させることにより、同じく化合物（１）に含まれ
る一般式（式中、Ａ．．Ｒｌ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５
およびＲ７は前記と同じ意味を有する。

）で示される化合物に変換することができる。

この反応は室温ないし加温下で、通常溶媒中で行なわれ
る。溶媒としてはアセトン、ジメチルホルムアミド、メ
タノール、エタノール等の反応に関与しない有機溶媒、
水またはリン酸緩衝液もしくはそれらの混合溶媒が挙げ
られる。本反応は中性付近で行うとよい。

化合物（■）を遊離の状態で用いる場合は水酸化アルカ
リ、炭酸アルカリ、炭酸水素アルカ！八トリアルキルア
ミン、ピリジン、ジメチルアニリン等の塩基の存在下で
行なうのが好適である。反応終了後に生成物を単離する
には、反応液を酸性となすことにより、沈殿する生成物
を採取するか溶媒抽出による方法が用いられる。こうし
て得られた化合物（１）は通常用いられる方法で薬理上
許容される非毒性の塩に導くことができる。たとえば２
−エチルヘキサン酸アルカリのｎ−ブタノール溶液を加
え、次に溶解性の異なるエーテル、酢酸エチル等の有機
溶媒を加えることにより化合物（１）のアルカリ金属塩
を、ジシクロヘキシルアミン、トリエチルアミン、シク
ロヘキシルアミン、トリメチルアミン等の有機塩基を等
量ないし少過剰加えＬ反応させることにより化合物（１
）の有機塩基との塩を、またアンモニア水を加えること
により化合物（１）のアンモニウム塩を得る。化合物（
１）およびその塩は、抗菌剤として経口的あるいは非経
口的に投与される。

投与量は、患者の症状、体重などに応じて異なるが、成
人で１日２５０〜３０００ｍ９で、３〜４回に分けて行
なわれる。投与に適した剤形は、注射剤、錠剤、カプセ
ル剤、シロツプ剤等であるが、これらの剤形の調製は、
製剤上用いられる賦形剤、保存剤、安定剤などを添加し
、通常の方法によつて行なわれる。

本発明化合物は文献未載の新規化合物でその抗菌作用（
最少有効阻止濃度）を構造類似の公知物ＤＬ−７−〔２
−アミノー２−（２−アミノチアゾールー４−イル）ア
セトアミド〕−３−（１−メチルテトラゾールー５−イ
ル）チオメチルーΔ３−セフエムー４−カルボン酸と比
較して以下に表示する。

実施例１７−〔２−アミノー２−（チアゾ−ルー４−イール）ア
セトアミド〕セフアロスポラン酸１．０３ｆをメタノー
ル１５ＴＩＬ１に懸濁し、−５℃に冷却後トリエチルア
ミン０．７ｍ１１次いで塩化メチレン１５ｍ１を加える
。

この溶液に４−ヒドロキシー６−メチルニコチン酸コハ
ク酸イミドエステル●ピリジン付加．物８５０ｍ９を加
え、−５゜Ｃ〜５℃で４時間かきまぜる。反応液の溶媒
を減圧留去し、残留物に水１０ｍ１１次いで酢酸エチル
１０ｍ１を加え、６規定塩酸でＰＨ２に調整する。生じ
た結晶状粉末を沖取し、水洗後酢酸エチルで洗い、五酸
化リン上減圧乾燥してＤＬ−７−〔２−（４−ヒドロキ
シー６−メチルニコチンアミド）−２−（チアゾ−ルー
４−イル）アセトアミド〕セフアロスポラン酸８５０７
７１９を得る。ｅ磁気共鳴スペクトル（ＤＭＳＯ−Ｄ６
）δ（Ｐｐｍ）：２．０１（３Ｈ．．ｓ１３位のメチル
）赤外スペクトル（ν瓢：ニＣｍ−１）３３５へ２９５
０、１７７０、１７３５ｓ１６６０１１５２へ原料の製
造２−Ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノー２−（チア
ゾ−ルー４−イル）酢酸５．１６ｙをＮ−Ｎ−ジメチル
ホルムアミド３０ｍ１と塩化メチレン４０ｍ１の混液に
溶かし、７−アミノセフアロスポラン酸ベンズヒドリル
エステル８．０ダ、次いでＮ●Ｎ５ージシクロヘキシル
カルボジイミド３．７６ｙを加え、室温で２時間かきま
ぜる。

反応液の塩化メチレンを減圧留去し、残留物に水３００
ｍ１および酢酸エチル３００ｍ１を加える。有機層を分
取し、５％炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水で洗い
、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。

溶媒を減圧留去後、残留物をアニソール６ｍ１およびト
リフルオロ酢酸５０ｍ１で室温で１時間処理し、エーテ
ル２５０ｍ１中に加えると目的物のトリフルオロ酢酸塩
７．９５９を得る。これをメタノール４０７ｒＬＬに溶
かし、溶液をトリエチルアミンでＰＨ５に調整した後、
イソプロピルアルコール４０ｍ１を加える。生じた粉末
を枦取し、イソプロピルアルコールで洗い、五酸化リン
上真空乾燥して２−アミノー２−（チアゾ−ルー４−イ
ル）アセトアミドセフアロスポラン酸５．０ｙを得る。
実施例２２−アミノー２−（２−アミノチアゾールー４ーイル）
アセトアミドセフアロスポラン酸１．０７ｑと４−ヒド
ロキシー６−メチルニコチン酸コハク酸イミドエステル
・ピリジン付加物８５０ｍ９を実施例１と同様の操作を
してＤＬ−７−〔２−（４−ニヒドロキシー６−メチル
ニコチンアミド）−２一（２−アミノチアゾールー４−
イル）アセトアミド〕セフアロスポラン酸８５０ｍ９を
得る。

実施例３７−〔２−アミノー２−（２−アミノチアゾー
ルー４−イル）アセトアミド〕セフアロスポラン酸１．
０７ｙをメタノール１５ｍ１と塩化メチレン１５ｍ１の
混液に懸濁し、トリエチルアミン０．９ｍ１を加えてか
きまぜる。

この溶液に−１５℃で４−オキソー４Ｈ−チオピランー
３−カルボニルクロリド４６０ｍ９を加え同温度で３時
間かきまぜる。溶媒を減圧留去し、残留物に冷水６０ｍ
１１次いで酢酸エチル５０ｍ１を加え、６規定塩酸でＰ
Ｈ３．５に調整する。生じた結晶性粉末を戸取し、水洗
してＤＬ−７−〔２−（２−アミノチアゾールー４−イ
ル）−２−（４−オキソー４Ｈ−チオピランー３−カル
ボキサミド）アセトアミド〕セフアロスポラン酸８００
ｍ９を得る。実施例４７−〔２−アミノー２−（チアゾ−ルー４−イル）アセ
トアミド〕セフアロスポラン酸１．０３ｙと４−オキソ
ー４Ｈ−チオピランー３−カルボニルクロリド４５０ｍ
９を実施例３と同様の操作をしてＤＬ一７−〔２−（４
−オキソー４Ｈ−チオピランー３−カルボキサミド）−
２−（チアゾ−ルー４ーイル）アセトアミド〕セフアロ
スポラン酸７００ｍ９を得る。

実施例５７−〔２−アミノー２−（チアゾ−ルー４−イル）アセ
トアミド〕−３−（１−メチルテトラゾールー５−イル
）チオメチルーΔ３−セフエムー４−カルボン酸１．１
４ｙをメタノール１５ｍ１と塩化メチレン１５ｍＬの混
液に懸濁し、トリエチルアミン０．７Ｔｎｔを加えてか
きまぜる。

この溶液に０℃で４−オキソチオピランー３−カルボン
酸コハク酸イミドエステル６５０ｍｇを加え同温度で４
時間かきまぜる。反応液を実施例１と同様の後処理をし
てＤＬ−７−〔２−（４−オキソー刑−チオピランー３
−カルボキサミド）−２−（チアゾ−ルー４−イル）ア
セトアミド〕−３−（１−メチルテトラゾーゾルー５−
イル）チオメチルーΔ３−セフエムー４−カルボン酸１
．１４ｆを得る。核磁気共鳴スペクトル（ＤＭＳＯ−Ｄ
６）原料の製造実施例１の原料の製造と同様の操作で２−Ｔｅｒｔーブ
トキシカルボニルアミノー２−（チアゾ−ルー４−イル
）酢酸２．６８ダと７−アミノー３−（１一メチルテト
ラゾールー５−イル）チオメチルーΔ３−セフエムー４
−カルボン酸ベンズヒドリルエステル４９４Ｖを用い、
Ｎ−Ｎ″ージシクロヘキシルカルボジイミドで縮合し、
トリフルオロ酢酸およびアニソール５ｍ１を用いて保護
基を同時に開裂し、アミンで中和して７−〔２−アミノ
ー２一（チアゾ−ルー４−イル）アセトアミド〕−３一
（１−メチルテトラゾールー５−イル）チオメチルーΔ
３−セフエムー４−カルボン酸２．７ｙを得る。

実施例６７−〔２−アミノー２−（２−アミノチアゾールー４−
イル）アセトアミド〕−３−（１−メチルテトラゾール
ー５−イル）チオメチルーΔ３ーセフエムー４−カルボ
ン酸１．１８ｙと４−オキソー止−チオピランー３−カ
ルボン酸コハク酸イミドエステル６５０ｍ９を実施例５
と同様の操作をしてＤＬ−７−〔２−（２−アミノチア
ゾールー４ーイル）−２−（４−オキソー倶−チオピラ
ンー３−カルボキサミド）アセトアミド〕−３−（１ー
メチルテトラゾールー５−イル）チオメチルーΔ３−セ
フエムー４−カルボン酸１．１０ｙを得る。

実施例７７−〔２−アミノー２−（２−アミノチアゾー
ルー４−イル）アセトアミド〕−３−（１−メチルテト
ラゾールー５−イル）チオメチルーΔ３−セフエムー４
−カルボン酸１．１８ｙをメタノール１５ｍ１と塩化メ
チレン１５ｍ１の混液に懸濁し、トリエチルアミン０．
７ｍ１を加えてかきまぜる。

この溶液に０℃で４−ヒドロキシー６−メチルニコチン
酸コハク酸イミドエステル・ピリジン付加物８５０ｍ９
を加え同温度で５時間かきまぜる。反応液を実施例１と
同様の後処理をしてＤＬ−７−〔２−（２−アミノチア
ゾールー４−イル）−２−（４−ヒドロキシー６−メチ
ルニコチンアミド）アセトアミド〕−３−（１−メチル
テトラゾールー５−イル）チオメチルーΔ３−セフエム
ー４−カルボン酸１．０５ｙを得る。ＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−Ｄ６）δ（Ｐｐｍ）原料の製造２−（Ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミド）−２一（
２−アミノチアゾールー４−イル）酢酸２．８７ｑをＮ
−Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍ１と塩化メチレン１
００ｍ１の混液に溶かし、７−アミノー３−（１−メチ
ルテトラゾールー５−イル）チオメチルーΔ３−セフエ
ムー４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル４．９４ｙ
１次いでＮ−Ｎ″ージシクロヘキシルカルボジイミド２
．０６ｙを加え室温で６時間かきまぜる。

生成するＮ−Ｎージシクロヘキシル尿素をｐ去後、反応
液の塩化メチレンを減圧留去し、残留物に水２００ｍｔ
および酢酸エチル１５０ｍ１を加える。有機層を分取し
、水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧
留去し、残留物をトリフルオロ酢酸５０ｍ１およびアニ
ソール５ｍ１で処理し、次いでトリエチルアミンで中和
すると７−〔２−アミノー２−（２−アミノチアゾール
ー４−イル）アセトアミド〕−３−（１−メチルテトラ
ゾールー５−イル）チオメチルーΔ３−セフエムー４−
カルボン酸３．０８ｙを得る。実施例８７−〔２−（４−ヒドロキシー６−メチルニコチンアミ
ド）−２−（チアゾ−ルー４−イル）〕アセトアミドセ
フアロスポラン酸１．１ｙと炭酸水素ナトリウム３．４
ｙを水３０ｍ１に溶かす。

この溶液に５−メルカプトー１−メチルテトラゾール２
３２ｍ９を加え、６０℃で８時間かきまぜる。冷却後６
規定塩酸て溶液をＰＨ２に調整し、生じた結晶性粉末を
戸取し、水洗してＤＬ−７−〔２−（４−ヒドロキシー
６−メチルニコチンアミド）−２−（チアゾ−ルー４−
イル）アセトアミド〕−３−（１−メチルテトラゾール
ー５−イル）チオメチルーΔ３−セフエムー４−カルボ
ン酸１．１１ｙを得る。実施例９７β−ＤＬ−〔２−ア
ミノー２−（２−アミノチアゾールー４−イル）アセト
アミド〕−７α−．メトキシー３−（１−メチルテトラ
ゾールー５ーイル）チオメチルーΔ３−セフエムー４−
カルボン酸２５７ｍ９をメタノール５ｍ１と塩化メチレ
ン５ｍ１の混液に懸濁し、トリエチルアミン０．１４ｍ
１を加える。

０℃で４−ヒドロキシー６−メチルニコチン．酸コハク
酸イミドエステル・ピリジン付加物１７０ｍ９を加え同
温度で５時間かきまぜる。

反応液を実施例１と同様の後処理をして７β−ＤＬ−〔
２一（２−アミノチアゾールー４−イル）−２−（４−
ヒドロキシー６−メチルニコチンアミド）アセートアミ
ド〕−７α−メトキシー３−（１−メチルテトラゾール
ー５−イル）チオメチルーΔ３−セフエムー４−カルボ
ン酸１０５ｍ９を得る。ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−Ｄ６）δ（
Ｐｐｍ）原料の製造７β−〔２−メトキシイミノー２−（２−アミノチアゾ
ールー４−イル）アセトアミド〕−７α−メトキシー３
−（１−メチルテトラゾールー５−イル）チオメチルー
Δ３−セフエムー４−カルボン酸（アンチ異性体）１．
８ｆを８０％ギ酸１８ｍｔに溶かし、水冷下で亜鉛末２
．７ｑを加える。

２紛間反応させた後、不溶物をｐ去し、室温以下で淵液
の溶媒を留去する。

残留物に水を加え、炭酸水素ナトリウムで中和して７β
−ＤＬ−〔２−アミノー２−（２−アミノチアゾールー
４−イル）アセトアミド〕−７ａ−メトキシー３−（１
−メチルテトラゾールー５−イル）チオメチルーΔ３−
セフエムー４−カルボン酸を得る。ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−
Ｄ６）δ（Ｐｐｍ）
八ＰｉＴ５（外スペクトル（ν？シＧ−１）１７６０
、１６００〜１６８０辷施例１０７β−ＤＬ−〔２−ア
ミノー２−（２−アミノチアゾールー４−イル）アセト
アミド〕−７α−メトキシー３−（１−メチルテトラゾ
ールー５−イル）チオメチルーΔ３−セフエムー４−カ
ルボン酸と４−オキソー倶一チオピランー３−カルボン
酸コハク酸イミドエステルを実施例９と同様の操作をし
て７β−ＤＬ−〔２−（２−アミノチアゾールー４−イ
ル）−２−（４−オキソー刑一チオピランー３−カルボ
キサミド）アセトアミド〕−７α−メトキシー３−（１
−メチルテトラ′−ルー５−イル）チオメチルーΔ３−
セフエムー４−カルボン酸を得る。

Claims

【特許請求の範囲】１一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１は水素原子またはアミノ基、Ｒ＿２、Ｒ
＿３およびＲ＿４は同一または異なつて、水素原子、水
酸基、オキソ基、メルカプト基、低級アルキル基、低級
アルコキシ基または低級アルキルチオ基、Ｒ＿５は水素
原子または低級アルコキシ基、Ｒ＿６はアセトキシ基ま
たは−Ｓ−Ｒ＿７（ここにＲ＿７はハロゲン原子、メル
カプト基、アミノ基、カルボキシル基、低級アルキル基
、低級アルコキシ基またはハロゲノ低級アルキル基で置
換されていてもよい５〜６員複素環基を意味する。）で示される基、Ａは窒素原子、酸素原子および／また
はイオウ原子を１〜２個含む単環または二環の複素環を
意味する。〕で示されるセフアロスポリン誘導体および
その塩。