JPS63185985A - セフアロスポリン化合物、その製法および該化合物を含有する抗菌剤 - Google Patents
セフアロスポリン化合物、その製法および該化合物を含有する抗菌剤Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/36—Methylene radicals, substituted by sulfur atoms
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、セファロスポリン、詳言すればカテコール又
は相応する基を有するかかる化合物に関する。更に、本
発明は、前記化合物の製法、該化合物を製造するための
先駆物質、前記化合物を治療剤に使用する用途および該
化合物を含有する製薬学的組成物に関する。本発明によ
る化合物は抗菌物質でありかつ例えばヒトを含む捕乳動
物の細菌感染を治療する場合に常法により抗菌剤によっ
て治療される任意の疾病の治療に使用することができる
。また、本発明による化合物は、常法で工業的に使用す
ることができるような治療以外の用途を有し、例えば本
発明による化合物は、消毒剤および食品防腐剤として使
用することができる。しかし、本発明による化合物は、
望ましい作用範囲および殺菌作用時間を示すので第1に
治療のために重要である。
は相応する基を有するかかる化合物に関する。更に、本
発明は、前記化合物の製法、該化合物を製造するための
先駆物質、前記化合物を治療剤に使用する用途および該
化合物を含有する製薬学的組成物に関する。本発明によ
る化合物は抗菌物質でありかつ例えばヒトを含む捕乳動
物の細菌感染を治療する場合に常法により抗菌剤によっ
て治療される任意の疾病の治療に使用することができる
。また、本発明による化合物は、常法で工業的に使用す
ることができるような治療以外の用途を有し、例えば本
発明による化合物は、消毒剤および食品防腐剤として使
用することができる。しかし、本発明による化合物は、
望ましい作用範囲および殺菌作用時間を示すので第1に
治療のために重要である。
従来の技術
新規のセファロスポリンを研究することは、過去25年
間に亙って数千の特許明細書および学術論文が刊行され
たりで激烈なものであった。市販されているセファロス
ポリンに関する特殊な問題点は、プソイドモナス(Ps
eudomonas)に対する効果が不十分であること
にある。
間に亙って数千の特許明細書および学術論文が刊行され
たりで激烈なものであった。市販されているセファロス
ポリンに関する特殊な問題点は、プソイドモナス(Ps
eudomonas)に対する効果が不十分であること
にある。
米国特許第4278793号明細書は、式:し式中、Y
は求核性化合物の基、有利には硫黄、窒素または酸素求
核性化合物の基であってよいコで示される3位の置換基
を有するセファロスポリンを開示した。英国特許第14
96757号明細書は、式: [式中、Yは求核性化合物の基であってよい]で示され
る3位の置換基を有するセファロスポリンを開示した。
は求核性化合物の基、有利には硫黄、窒素または酸素求
核性化合物の基であってよいコで示される3位の置換基
を有するセファロスポリンを開示した。英国特許第14
96757号明細書は、式: [式中、Yは求核性化合物の基であってよい]で示され
る3位の置換基を有するセファロスポリンを開示した。
この明細書には、窒素、炭素、酸素および硫黄求核性化
合物が記載されている。Yの多数の可能な基も挙げられ
ている。これらの特許明細書は、セファロスポリンの3
位に対してメチレン基を介して結合された求核性原子団
を有するセファロスポリンを開示した多くの明細書の典
型的なものである。
合物が記載されている。Yの多数の可能な基も挙げられ
ている。これらの特許明細書は、セファロスポリンの3
位に対してメチレン基を介して結合された求核性原子団
を有するセファロスポリンを開示した多くの明細書の典
型的なものである。
発明の構成
しかしながら、長時間に亙って熱心にνサーチしたにも
拘わらず、本発明による化合物の教示もしくは示唆は存
在しなかった。本発明は、新規の3位の置換基を有する
セファロスポリン誘導体を提供し、該誘導体は特にプソ
イドモナス菌株に対して良好な抗菌作用を有する。これ
らはヒドロキシ基を有しかつ互いに対してオルト位に当
該置換基を有することを特徴とする環系を含有する。こ
れらの従来開示されなかった環系は、プソイドモナスの
菌株に対して特に良好な作用を向上させる。
拘わらず、本発明による化合物の教示もしくは示唆は存
在しなかった。本発明は、新規の3位の置換基を有する
セファロスポリン誘導体を提供し、該誘導体は特にプソ
イドモナス菌株に対して良好な抗菌作用を有する。これ
らはヒドロキシ基を有しかつ互いに対してオルト位に当
該置換基を有することを特徴とする環系を含有する。こ
れらの従来開示されなかった環系は、プソイドモナスの
菌株に対して特に良好な作用を向上させる。
従って、本発明は、式(I)ニ
−CH2−8−Q (Y)n−P
[式中、
Qは酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選択される
1〜4個の複素原子養育する5または6員の複素環(該
ベンゼン環はベンゼン環またはもう1つの複素環に縮合
されていてよい)を表し、該Qは可能であれば、正の電
荷を有することができかつ利用可能な炭素原子または窒
素原子でカルボキシ基、スルホ基、c、−c4−アルコ
キシカルボニル基またはc 1− c 4−アルキル基
(該アルキル基はそれ自体カルボキシ基またはスルホ基
または01〜C4−アルコキシカルボニル基によって置
換されていてもよい)によって置換されていてもよい、 Pは i)ベンゼン環(該ベンゼン環はもう1つのベンゼン環
(従って、ナフチル基を形成する)または窒素原子、酸
素原子および硫黄原子から選択される1、2または3個
の複素原子を含有する5または6員の複素環式芳香族基
に縮合されていてもよい)、該ベンゼン環(またはナフ
チルの場合には、いずれかのベンゼン環)は互いに対し
てオルト位にあるR1およびR2によって置換されてお
り、前記R1はヒドロキシ基またはその生体内で加水分
解可能なエステルを表しかっR2はヒドロキシ基、その
生体内で加水分解可能なエステル基、カルボキシ基、ス
ルホ基、ヒドロキシメチル基、メタンスルホアミド基ま
たは尿素基を表す、 電i ) 式 (■ ) : で示される基または iii )式(■): [式中、Mは酸素原子または基NR3を表し、該R3は
水素原子または01〜C4−アルキル基を表す〕で示さ
れる基を表し、 環P(または環Pがベンゼン環でありかつ別のベンゼン
環に縮合されている場合には、いずれかのベンゼン環)
は、更にC1〜C4−アルキル基、ハロゲン原子、ヒド
ロキシ基、ヒドロキシ01〜C4−アルキル基、シアノ
基、トリフルオロメチル基、ニトロ基、アミノ基、C1
〜c4−アルキルアミノ基、ジー01〜C4−アルキル
アミノ基、アミノ01〜C4−アルキル基、01〜C4
−アルキルアミノ01〜C4−アルキル基、ジーC,〜
C4−アルキルアミノC1〜c4−アルキル基、C!〜
C4−アルカノイル基、01〜C4−アルコキシ基、c
、−C4−アルキルチオ基、C菫〜C4−アルカノイル
オキシ イル基、C I ”” C 4−アルキルカルバモイル
基、ジーCm−C4−アルキルカルバモイル基、カルボ
キシ基、カルボキシ01〜C4−アルキル基、スルホ基
、スルホc 1− c 4−アルキル基、C1〜C4−
アルカンスルホンアミド基、01〜c4−アルコキシカ
ルボニル基、01〜c4−アルカノイルアミノ基、ニト
ロソ基、チオウレイド基、アミジノ基、アンモニウム基
、モノ−、ジーまたはトリーCl〜c4ーアルキルアン
モニウムピリジニウム基、または1.2または3個の0
1’−C4−アルキル基または01〜c4−アルコキシ
基によって置換されていてもよい、酸素原子、窒素原子
および硫黄原子から選択される、1〜4個の複素原子を
有する5員の複素環を表し、n=1または2であり、そ
の際n=1の場合には、YはQとPの間の共有結合、ま
たはカルボキシ基またはスルホ基によって置換されてい
てもよい(1〜4C)アルキレン基を表すがまたはYは
基ニ ー(CH2 )m−Y’− 表し、該式中m=1または2でありがっYoは一O.C
O−または一NH.CO− を表し;かっn−0である場合には、QおよびPの両者
は利用可能な炭素−炭素または炭素−窒素結合に縮合さ
れている単環式環を表す]で示される3位の置換基を有
するセファロスポリン化合物を提供する。
1〜4個の複素原子養育する5または6員の複素環(該
ベンゼン環はベンゼン環またはもう1つの複素環に縮合
されていてよい)を表し、該Qは可能であれば、正の電
荷を有することができかつ利用可能な炭素原子または窒
素原子でカルボキシ基、スルホ基、c、−c4−アルコ
キシカルボニル基またはc 1− c 4−アルキル基
(該アルキル基はそれ自体カルボキシ基またはスルホ基
または01〜C4−アルコキシカルボニル基によって置
換されていてもよい)によって置換されていてもよい、 Pは i)ベンゼン環(該ベンゼン環はもう1つのベンゼン環
(従って、ナフチル基を形成する)または窒素原子、酸
素原子および硫黄原子から選択される1、2または3個
の複素原子を含有する5または6員の複素環式芳香族基
に縮合されていてもよい)、該ベンゼン環(またはナフ
チルの場合には、いずれかのベンゼン環)は互いに対し
てオルト位にあるR1およびR2によって置換されてお
り、前記R1はヒドロキシ基またはその生体内で加水分
解可能なエステルを表しかっR2はヒドロキシ基、その
生体内で加水分解可能なエステル基、カルボキシ基、ス
ルホ基、ヒドロキシメチル基、メタンスルホアミド基ま
たは尿素基を表す、 電i ) 式 (■ ) : で示される基または iii )式(■): [式中、Mは酸素原子または基NR3を表し、該R3は
水素原子または01〜C4−アルキル基を表す〕で示さ
れる基を表し、 環P(または環Pがベンゼン環でありかつ別のベンゼン
環に縮合されている場合には、いずれかのベンゼン環)
は、更にC1〜C4−アルキル基、ハロゲン原子、ヒド
ロキシ基、ヒドロキシ01〜C4−アルキル基、シアノ
基、トリフルオロメチル基、ニトロ基、アミノ基、C1
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アミノ基、アミノ01〜C4−アルキル基、01〜C4
−アルキルアミノ01〜C4−アルキル基、ジーC,〜
C4−アルキルアミノC1〜c4−アルキル基、C!〜
C4−アルカノイル基、01〜C4−アルコキシ基、c
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ルボニル基、01〜c4−アルカノイルアミノ基、ニト
ロソ基、チオウレイド基、アミジノ基、アンモニウム基
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モニウムピリジニウム基、または1.2または3個の0
1’−C4−アルキル基または01〜c4−アルコキシ
基によって置換されていてもよい、酸素原子、窒素原子
および硫黄原子から選択される、1〜4個の複素原子を
有する5員の複素環を表し、n=1または2であり、そ
の際n=1の場合には、YはQとPの間の共有結合、ま
たはカルボキシ基またはスルホ基によって置換されてい
てもよい(1〜4C)アルキレン基を表すがまたはYは
基ニ ー(CH2 )m−Y’− 表し、該式中m=1または2でありがっYoは一O.C
O−または一NH.CO− を表し;かっn−0である場合には、QおよびPの両者
は利用可能な炭素−炭素または炭素−窒素結合に縮合さ
れている単環式環を表す]で示される3位の置換基を有
するセファロスポリン化合物を提供する。
特殊な!実施態様では、−(Y)n−は場合によりカル
ボキシ基によって置換されたcl−C4−アルキレンで
ある。もうIっの特殊な実施態様では、−(Y)n−は
また、環QとPが縮合して2環式系を形成するものであ
る。有利なl実態様では、Yは共有結合またはメチレン
またはエチレン結合である。
ボキシ基によって置換されたcl−C4−アルキレンで
ある。もうIっの特殊な実施態様では、−(Y)n−は
また、環QとPが縮合して2環式系を形成するものであ
る。有利なl実態様では、Yは共有結合またはメチレン
またはエチレン結合である。
■実施態様においては、環Pは以下に定義するようなR
1およびR2によって置換されたベンゼン環である。R
1はヒドロキシ基またはその生体内で加水分解可能なエ
ステルである。生体内で加水分解可能なエステルは、ヒ
トまたは動物の体内で加水分解して出発ヒドロキシ基を
形成するような、製薬学的に許容されるエステルである
。このようなエステルは、試験化合物を試験動物に投与
する、例えば静脈内投与し、かつ引き続き試験動物の体
液を試験することによって同定することができる。適当
な、生体内で加水分解可能なエステルは、01〜C6−
アルカノイルオキシ基、例えばアセトキシ、プロピオニ
ルオキシ、ピバロイルオキシ、C1〜c4−アルコキシ
カルバモイルオキシ基、例えばエトキシカルバモイルオ
キシ、フェニルアセトキシおよびフタリジルを包含する
。
1およびR2によって置換されたベンゼン環である。R
1はヒドロキシ基またはその生体内で加水分解可能なエ
ステルである。生体内で加水分解可能なエステルは、ヒ
トまたは動物の体内で加水分解して出発ヒドロキシ基を
形成するような、製薬学的に許容されるエステルである
。このようなエステルは、試験化合物を試験動物に投与
する、例えば静脈内投与し、かつ引き続き試験動物の体
液を試験することによって同定することができる。適当
な、生体内で加水分解可能なエステルは、01〜C6−
アルカノイルオキシ基、例えばアセトキシ、プロピオニ
ルオキシ、ピバロイルオキシ、C1〜c4−アルコキシ
カルバモイルオキシ基、例えばエトキシカルバモイルオ
キシ、フェニルアセトキシおよびフタリジルを包含する
。
好ましくはR1とR2の両者は同じものでありかつ両者
ともヒドロキシ基であるかまたは両者とも加水分解可能
なエステルであり、例えばこれらは両者ともアセトキシ
または両者ともピバロイルオキシ基である。
ともヒドロキシ基であるかまたは両者とも加水分解可能
なエステルであり、例えばこれらは両者ともアセトキシ
または両者ともピバロイルオキシ基である。
有利な実施態様では、Pは場合により別のベンゼン環に
縮合してナフチル基を形成することができる。前記のよ
うに、いずれかのベンゼン環はR1およびR2およびそ
の他の任意の置換基によって置換されていてもよい。特
殊な任意の置換基は、cl−C4−アルキル基例えばメ
チル、エチルまたはイソプロピル、ハロゲン原子例えば
クロロ、ブロモまたはフルオロ、ヒドロキシ、ヒドロキ
シc1−c4−アルキル基例えばヒドロキシメチル、ア
ミノ、イミノ、ニトロ、cl−C4−アルコキシ基例え
ばメトキシまたはエトキシ、カルボキシ01〜C4−ア
ルキル基例えばカルボキシメチル、C1−04−アルカ
ノイルアミノ基例えばアセトアミド、トリフルオロメチ
ル、カルボキシ基、カルバモイル基、シアノ基、スルホ
基、c、−C4−アルカンスルホンアミド例えばメタン
スルホンアミド、ci−04−アルカノイル基例えばア
セチル、cl〜c4−アルカノイルオキシ基例えばアセ
トキシまたはプロピオンオキシ、およびC!〜c4−ア
ルコキシカルボニル基例えばメトキシカルボニルである
。これらのうちでも、有利な置換基は、スルホ基、カル
ボキシメチル基、メチル基、エチル基、メトキシ基、ブ
ロモ、クロロ、フルオロおよびニトロ基である。
縮合してナフチル基を形成することができる。前記のよ
うに、いずれかのベンゼン環はR1およびR2およびそ
の他の任意の置換基によって置換されていてもよい。特
殊な任意の置換基は、cl−C4−アルキル基例えばメ
チル、エチルまたはイソプロピル、ハロゲン原子例えば
クロロ、ブロモまたはフルオロ、ヒドロキシ、ヒドロキ
シc1−c4−アルキル基例えばヒドロキシメチル、ア
ミノ、イミノ、ニトロ、cl−C4−アルコキシ基例え
ばメトキシまたはエトキシ、カルボキシ01〜C4−ア
ルキル基例えばカルボキシメチル、C1−04−アルカ
ノイルアミノ基例えばアセトアミド、トリフルオロメチ
ル、カルボキシ基、カルバモイル基、シアノ基、スルホ
基、c、−C4−アルカンスルホンアミド例えばメタン
スルホンアミド、ci−04−アルカノイル基例えばア
セチル、cl〜c4−アルカノイルオキシ基例えばアセ
トキシまたはプロピオンオキシ、およびC!〜c4−ア
ルコキシカルボニル基例えばメトキシカルボニルである
。これらのうちでも、有利な置換基は、スルホ基、カル
ボキシメチル基、メチル基、エチル基、メトキシ基、ブ
ロモ、クロロ、フルオロおよびニトロ基である。
当業者にとっては、Pがベンゼン環である場合には3個
までの任意の置換基が可能であり、ナフチル環が形成さ
れていれば、より多くの置換基が可能でありかつ2また
は3個の置換基が式(n)および式(I[)の環との結
合が可能である。一般に、2個までの置換基が有利であ
り、該基は同じかまたは異なっていてもよい。
までの任意の置換基が可能であり、ナフチル環が形成さ
れていれば、より多くの置換基が可能でありかつ2また
は3個の置換基が式(n)および式(I[)の環との結
合が可能である。一般に、2個までの置換基が有利であ
り、該基は同じかまたは異なっていてもよい。
Qが5員環を表す場合の特別のものは、ピラゾール、イ
ミダゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾ
ール、トリアゾールおよびテトラゾールである。−面で
は、Qはイミダゾール、ピラゾール、イソチアゾール、
トリアゾールまたはテトラゾールである。他面では、Q
はチアジアゾール、チアゾールであり、その際Yは場合
によりカルボキシまたはスルホ基によって置換されたC
m−C4−アルキレン基であるか、またはYは前記に定
義したような基ニー (CH2)Ill−Y ’ − を表す。
ミダゾール、チアゾール、イソチアゾール、チアジアゾ
ール、トリアゾールおよびテトラゾールである。−面で
は、Qはイミダゾール、ピラゾール、イソチアゾール、
トリアゾールまたはテトラゾールである。他面では、Q
はチアジアゾール、チアゾールであり、その際Yは場合
によりカルボキシまたはスルホ基によって置換されたC
m−C4−アルキレン基であるか、またはYは前記に定
義したような基ニー (CH2)Ill−Y ’ − を表す。
もう1つの実施態様では、Qは6員環例えば!−”
II :j ’/ −ビ II ゲ XJ
ソー )−’ II さ Sノ ・i
h ) rg )”yジンであり、この際n=
1およびYはQの炭素原子または窒素原子に結合され七
いてもよく、またはn−0および環QおよびPは縮合さ
れている。Y 11 Q炭素原子に結合されているか、
またはQとPが縮合されている場合には、Qは無電荷で
あってよく、またはQの窒素原子が例えば01〜C4−
アルキル基例えばメチル基によって置換されている場合
には、正の電荷を有していてもよい。Yがそのような基
Qの窒素原子に結合されている場合には、Qは正の電荷
を有することができる。
II :j ’/ −ビ II ゲ XJ
ソー )−’ II さ Sノ ・i
h ) rg )”yジンであり、この際n=
1およびYはQの炭素原子または窒素原子に結合され七
いてもよく、またはn−0および環QおよびPは縮合さ
れている。Y 11 Q炭素原子に結合されているか、
またはQとPが縮合されている場合には、Qは無電荷で
あってよく、またはQの窒素原子が例えば01〜C4−
アルキル基例えばメチル基によって置換されている場合
には、正の電荷を有していてもよい。Yがそのような基
Qの窒素原子に結合されている場合には、Qは正の電荷
を有することができる。
−9−Q−の表す特別のものは、以下に式■〜X■に記
載の構造式を有する環である:前記のように、本発明は
新規の3位の置換基を有するセファロスポリンに関する
。本発明に包含されるセファロスポリンの特別のものは
、式(XI[[) : [式中、Q、Y、Pおよびnは前記に定義したものを表
し、 Xは硫黄原子、酸素原子、メチレン基またはスルフィニ
ル基を表し、 R4は水素原子、メトキシ基またはホルムアミド基を表
し、 R5はそれぞれ5位で弗素原子、塩素原子または臭素原
子によって置換されてもよい2−アミノチアゾール−4
−イル基または2−アミノオキサゾール−4−イル基で
あり、またはR5は5−アミソイソイチアゾール−3−
イル基、5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3
−イル基、3−アミノピラゾール−5−イル基、3−ア
ミノピラゾール−4−イル基、2−アミノピリミジン−
5−イル基、2−アミノピリド−6−イル基、4−アミ
ノピリミジン−2−イル基、2−アミノ−1,3,4−
チアゾール−5−イル基または5−アミノ−1−メチル
−1,2,4−チアゾール−3−イル基であり、R6は
式:=N、O,R7(二重結合の回りにシン配置を有す
る)を表し、該式中R7は水素原子、(1〜6G)アル
キル基、(3〜8C)シクロアルキル基、(1〜3C)
アルキル(3〜6G)シクロアルキル基、(3〜6C)
シクロアルキル(1〜3C)アルキル基、カルボキシ基
によって置換されていてもよい(3〜6C)アルケニル
基、(5〜8G)シクロアルケニル基、(3〜6C)ア
ルキニル基、(2〜5C)アルキルカルバモイル基、フ
ェニルカルバモイル基、ベンンジルカルバモイル基、(
1〜4C)アルキルカルバモイル(1〜4G)アルキル
基、ジ(1〜4G)アルキルカルバモイル(1〜4C)
アルキル基、(1〜4G)ハロアルキルカルバモイル(
1〜4G)アルキル基、(1〜3C)ハロアルキル基、
(2〜6G)ヒドロキシアルキル基、(1〜4C)アル
コキシ(2〜4G)アルキル基、(1〜4G)アルキル
チオ(2〜4C)アルキル基、(1〜4G)アルカンス
ルフィニル(1〜4C)アルキル基、(1〜4C)アル
カンスルホニル(l〜4G)711.411.! /
Q、Qr)?:/?+LA+LJiC(1〜4C)アル
キルアミノ(l〜6G)アルキル基、(2〜8C)ジア
ルキルアミノ(2〜6C)アルキル基、(1〜5C)シ
アノアルキル基、3−アミノ−3−カルボキシプロピル
基、2−(アミジノチオ)エチル基、2−(N−アミノ
アミジノチオ)エチル基、テトラヒドロピラン−2−イ
ル基、チェクン−3−イル基、2−オキソピロジニル基
、また4よ2−オキソテトラヒドロフラニル基であり
R7は式(XIV):[式中、qは1または2でありか
つR8およびR9は相互に無関係に水素原子または01
〜C4−アルキル基を表す]を有し、またはR7は式(
): %式%) [式中、rは0〜3であり、RIGは水素原子、(1〜
3C)アルキル基またはメチルチオ基を表し、R11は
水素原子、(1〜3G)アルキル基、(3〜7G)シク
ロアルキル基、シアノ基、カルボキシ基、(2〜5G)
カルボキシアルキル基またはメタンスルホニルアミノ基
を表し、またはRIGおよびallは結合してそれらが
結合された炭素原子と一緒に(3〜7C)炭素環を形成
し、かつ R12はヒドロキシ基、アミノ基、(1〜4
C)アルコキシ基、(1〜4C)アルキルアミノ基また
は式:NHOR13を表し、該式中R13は水素原子ま
たは(1〜4C)アルキル基を表すコを有し、 またはR6は式:=CH,R”を有することができ、該
式中R14は水素原子、ハロゲン原子、(l〜ec)ア
ルキル基、(3〜7G)シクロアルキル基、(2〜6C
)アルケニル基、(3〜7C)シクロアルケニル基、フ
ェニル基またはベンジル基を表す]で示される、特許請
求の範囲第1項から第5項までのいずれか1項に記載の
化合物またはその塩またはエステルである。
載の構造式を有する環である:前記のように、本発明は
新規の3位の置換基を有するセファロスポリンに関する
。本発明に包含されるセファロスポリンの特別のものは
、式(XI[[) : [式中、Q、Y、Pおよびnは前記に定義したものを表
し、 Xは硫黄原子、酸素原子、メチレン基またはスルフィニ
ル基を表し、 R4は水素原子、メトキシ基またはホルムアミド基を表
し、 R5はそれぞれ5位で弗素原子、塩素原子または臭素原
子によって置換されてもよい2−アミノチアゾール−4
−イル基または2−アミノオキサゾール−4−イル基で
あり、またはR5は5−アミソイソイチアゾール−3−
イル基、5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3
−イル基、3−アミノピラゾール−5−イル基、3−ア
ミノピラゾール−4−イル基、2−アミノピリミジン−
5−イル基、2−アミノピリド−6−イル基、4−アミ
ノピリミジン−2−イル基、2−アミノ−1,3,4−
チアゾール−5−イル基または5−アミノ−1−メチル
−1,2,4−チアゾール−3−イル基であり、R6は
式:=N、O,R7(二重結合の回りにシン配置を有す
る)を表し、該式中R7は水素原子、(1〜6G)アル
キル基、(3〜8C)シクロアルキル基、(1〜3C)
アルキル(3〜6G)シクロアルキル基、(3〜6C)
シクロアルキル(1〜3C)アルキル基、カルボキシ基
によって置換されていてもよい(3〜6C)アルケニル
基、(5〜8G)シクロアルケニル基、(3〜6C)ア
ルキニル基、(2〜5C)アルキルカルバモイル基、フ
ェニルカルバモイル基、ベンンジルカルバモイル基、(
1〜4C)アルキルカルバモイル(1〜4G)アルキル
基、ジ(1〜4G)アルキルカルバモイル(1〜4C)
アルキル基、(1〜4G)ハロアルキルカルバモイル(
1〜4G)アルキル基、(1〜3C)ハロアルキル基、
(2〜6G)ヒドロキシアルキル基、(1〜4C)アル
コキシ(2〜4G)アルキル基、(1〜4G)アルキル
チオ(2〜4C)アルキル基、(1〜4G)アルカンス
ルフィニル(1〜4C)アルキル基、(1〜4C)アル
カンスルホニル(l〜4G)711.411.! /
Q、Qr)?:/?+LA+LJiC(1〜4C)アル
キルアミノ(l〜6G)アルキル基、(2〜8C)ジア
ルキルアミノ(2〜6C)アルキル基、(1〜5C)シ
アノアルキル基、3−アミノ−3−カルボキシプロピル
基、2−(アミジノチオ)エチル基、2−(N−アミノ
アミジノチオ)エチル基、テトラヒドロピラン−2−イ
ル基、チェクン−3−イル基、2−オキソピロジニル基
、また4よ2−オキソテトラヒドロフラニル基であり
R7は式(XIV):[式中、qは1または2でありか
つR8およびR9は相互に無関係に水素原子または01
〜C4−アルキル基を表す]を有し、またはR7は式(
): %式%) [式中、rは0〜3であり、RIGは水素原子、(1〜
3C)アルキル基またはメチルチオ基を表し、R11は
水素原子、(1〜3G)アルキル基、(3〜7G)シク
ロアルキル基、シアノ基、カルボキシ基、(2〜5G)
カルボキシアルキル基またはメタンスルホニルアミノ基
を表し、またはRIGおよびallは結合してそれらが
結合された炭素原子と一緒に(3〜7C)炭素環を形成
し、かつ R12はヒドロキシ基、アミノ基、(1〜4
C)アルコキシ基、(1〜4C)アルキルアミノ基また
は式:NHOR13を表し、該式中R13は水素原子ま
たは(1〜4C)アルキル基を表すコを有し、 またはR6は式:=CH,R”を有することができ、該
式中R14は水素原子、ハロゲン原子、(l〜ec)ア
ルキル基、(3〜7G)シクロアルキル基、(2〜6C
)アルケニル基、(3〜7C)シクロアルケニル基、フ
ェニル基またはベンジル基を表す]で示される、特許請
求の範囲第1項から第5項までのいずれか1項に記載の
化合物またはその塩またはエステルである。
R7が表す特別のものは、水素原子、メチル、エチル、
イソプロピル、t−ブチル、シクロプロピル、シクロブ
チル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロ
プロピル、メチルシクロブチル、メチルシクロペンチル
、メチルシクロヘキシル、シクロプロピルメチル、ツク
ロブチルメチル、シクロベンチルメチル、アリル、シク
ロペンテニル、シクロへキセニル、プロパルギル、メ、
チルカルバモイル、エチルカルバモイル、フェニルカル
バモイル、ベンジルカルバモイル、2−クロロエチル、
2−フルオロエチル、2−ブロモエチル、2−ヒドロキ
シエチル、3−ヒドロキシプロピル、2−メトキシエチ
ル、2−エトキシエチル、2−メチルチオ−エチル、2
−メタンスルフィニルエチル、2−メタンスルホニル−
エチル、2−アミノエチル、3−アミノプロピル、2−
メチルアミノ−エチル、2−ジメチルアミノエチル、シ
アノメチル、2−シアノエチル、アジドメチル、2−ア
ジドエチル、ウレイドメチル、3−アミノ−3−カルボ
キシプロピル、2−(アミジノ)エチル、2−(N−ア
ミノアミジノ)−エチル、テトラヒドロピラン−2−イ
ル、チェタン−3−イル、2−オキソピロジニルおよび
2−才キソテトラヒド口フラン−3−イル、 またはR7は、qが1または2である式X■で示される
基を表し、R7が表す特別のものはR8及びR9が水素
原子またはメチル基を表す式XVIの基である、 またはR7は、式X■で示される基を表し、R7が表す
特別のものは、r=0及びRIQが水素原子、メチル基
またはメチルチオ基、R11が水素原子、メチル基、シ
クロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、シアノ基、カルボキシ基、カルボキ
シメチル基、2−カルボキシエチル基またはメタンスル
ホニルアミノ基を表すか、またはRIOお° よびR1
1が結合して、それらに結合された炭素ン環、シクロペ
ンタン環、シクロヘキサン環またはシクロへブタン環を
形成しかつR12がヒドロキシ基、アミノ基、メトキシ
基、エトキシ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基を表
す、式XVで示される基、または式:NHOR13(該
式中、RI3は水素原子、メチル基またはエチル基を表
す)で示される基である。
イソプロピル、t−ブチル、シクロプロピル、シクロブ
チル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロ
プロピル、メチルシクロブチル、メチルシクロペンチル
、メチルシクロヘキシル、シクロプロピルメチル、ツク
ロブチルメチル、シクロベンチルメチル、アリル、シク
ロペンテニル、シクロへキセニル、プロパルギル、メ、
チルカルバモイル、エチルカルバモイル、フェニルカル
バモイル、ベンジルカルバモイル、2−クロロエチル、
2−フルオロエチル、2−ブロモエチル、2−ヒドロキ
シエチル、3−ヒドロキシプロピル、2−メトキシエチ
ル、2−エトキシエチル、2−メチルチオ−エチル、2
−メタンスルフィニルエチル、2−メタンスルホニル−
エチル、2−アミノエチル、3−アミノプロピル、2−
メチルアミノ−エチル、2−ジメチルアミノエチル、シ
アノメチル、2−シアノエチル、アジドメチル、2−ア
ジドエチル、ウレイドメチル、3−アミノ−3−カルボ
キシプロピル、2−(アミジノ)エチル、2−(N−ア
ミノアミジノ)−エチル、テトラヒドロピラン−2−イ
ル、チェタン−3−イル、2−オキソピロジニルおよび
2−才キソテトラヒド口フラン−3−イル、 またはR7は、qが1または2である式X■で示される
基を表し、R7が表す特別のものはR8及びR9が水素
原子またはメチル基を表す式XVIの基である、 またはR7は、式X■で示される基を表し、R7が表す
特別のものは、r=0及びRIQが水素原子、メチル基
またはメチルチオ基、R11が水素原子、メチル基、シ
クロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、シアノ基、カルボキシ基、カルボキ
シメチル基、2−カルボキシエチル基またはメタンスル
ホニルアミノ基を表すか、またはRIOお° よびR1
1が結合して、それらに結合された炭素ン環、シクロペ
ンタン環、シクロヘキサン環またはシクロへブタン環を
形成しかつR12がヒドロキシ基、アミノ基、メトキシ
基、エトキシ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基を表
す、式XVで示される基、または式:NHOR13(該
式中、RI3は水素原子、メチル基またはエチル基を表
す)で示される基である。
有利なR7は、01〜CB−アルキル基例えばメチルま
たはエチル、1−カルボキシシクロブチル、l−カルボ
キシシクロペンチル、または2−カルボキシプロピ−2
−イルである。特にR7は2−カルボキシプロピ−2−
イルである。
たはエチル、1−カルボキシシクロブチル、l−カルボ
キシシクロペンチル、または2−カルボキシプロピ−2
−イルである。特にR7は2−カルボキシプロピ−2−
イルである。
R14の特別のものは、水素原子、メチル、エチルまた
は塩素原子である。
は塩素原子である。
本明細書で採用するセファロスポリン誘導体は、“セフ
ェム”命名法およびJ、A、C,S、1962、84.
3400に提案された番号付けに基づき一般的に命名し
た。
ェム”命名法およびJ、A、C,S、1962、84.
3400に提案された番号付けに基づき一般的に命名し
た。
勿論、本発明は前記化合物の総ての異性体および互変異
性体を包含するものと見なされるべきである。例えば式
([[)の環はピラノンまたはヒドロキシピリジンの形
であってよい。
性体を包含するものと見なされるべきである。例えば式
([[)の環はピラノンまたはヒドロキシピリジンの形
であってよい。
既述の通り、本発明による化合物は、第1に治療で使用
することを目的とする。従って、有利な実施態様におい
ては、本発明は式■の3位の置換基を有するセファロス
ポリン化合物またはその製薬学的に許容される塩または
エステルを提供する。適当な塩は、酸付加塩例えば塩酸
塩、臭酸塩、クエン酸塩、マレイン酸塩および燐酸およ
び硫酸と形成される塩を包含する。もう1つの実施態様
によれば、適当な塩は塩基性塩例えばアルカリ金属塩、
例えばナトリウムまたはカリウムの塩、またはアルカリ
土類金属塩、例えばカルシウムまたはマグネシウムの塩
、有機アミン塩例えばトリエチルアミン、モルホリン、
N−メチルピペリジン、N−エチルピペリジン、プロカ
イン、ジベンジルアミンまたはN、N−ジベンジルエチ
ルアミンの塩が適当である。
することを目的とする。従って、有利な実施態様におい
ては、本発明は式■の3位の置換基を有するセファロス
ポリン化合物またはその製薬学的に許容される塩または
エステルを提供する。適当な塩は、酸付加塩例えば塩酸
塩、臭酸塩、クエン酸塩、マレイン酸塩および燐酸およ
び硫酸と形成される塩を包含する。もう1つの実施態様
によれば、適当な塩は塩基性塩例えばアルカリ金属塩、
例えばナトリウムまたはカリウムの塩、またはアルカリ
土類金属塩、例えばカルシウムまたはマグネシウムの塩
、有機アミン塩例えばトリエチルアミン、モルホリン、
N−メチルピペリジン、N−エチルピペリジン、プロカ
イン、ジベンジルアミンまたはN、N−ジベンジルエチ
ルアミンの塩が適当である。
本発明による化合物またはその製薬学的に許容される塩
またはエステルをヒトを含む動物を治療するために、特
に感染の治療において使用するためには、一般に標準的
製薬学的実地に基づき製薬学的組成物に製剤される。
またはエステルをヒトを含む動物を治療するために、特
に感染の治療において使用するためには、一般に標準的
製薬学的実地に基づき製薬学的組成物に製剤される。
従って、もう1つの見地において、本発明は、式Iの3
位の置換基を有するセファロスポリン化合物またはその
製薬学的に許容される塩またはエステルと、製薬学的に
許容可能な賦形剤とから成る製薬学的組成物を提供する
。
位の置換基を有するセファロスポリン化合物またはその
製薬学的に許容される塩またはエステルと、製薬学的に
許容可能な賦形剤とから成る製薬学的組成物を提供する
。
本発明の製薬学的組成物は、治療することが望まれる疾
病状態のために標準的方法、例えば経口、直腸または非
経口投与形式によって投与することができる。これらの
目的のためには、当業者にとって周知の方法に基づき例
えば錠剤、カプセル、水性もしくは油性溶液または懸濁
液、エマルジョン、分散可能な粉末、坐薬及゛び無菌注
射可能な水性もしくは油性溶液または懸濁液の形に製剤
することができる。
病状態のために標準的方法、例えば経口、直腸または非
経口投与形式によって投与することができる。これらの
目的のためには、当業者にとって周知の方法に基づき例
えば錠剤、カプセル、水性もしくは油性溶液または懸濁
液、エマルジョン、分散可能な粉末、坐薬及゛び無菌注
射可能な水性もしくは油性溶液または懸濁液の形に製剤
することができる。
本発明による製薬学的組成物はまた、本発明による製薬
学的に許容されるセファロスポリン誘導体の他に、別の
臨床的に有効な抗生物質(例えば(別のベーターラクタ
ムまたはアミノグリコシド)、ベーターラクタマーゼの
抑制剤(例えばクラプラン酸)、胃管遮断剤(例えばプ
ロベニサイド)および代謝酵素の抑制剤(例えばペプチ
ダーゼの抑制剤、例えばZ−2−アシルアミノ−3−置
換プロペノエート)から選択される1種以上の公知の薬
剤を含有することができ、または−緒に投与することが
できる。
学的に許容されるセファロスポリン誘導体の他に、別の
臨床的に有効な抗生物質(例えば(別のベーターラクタ
ムまたはアミノグリコシド)、ベーターラクタマーゼの
抑制剤(例えばクラプラン酸)、胃管遮断剤(例えばプ
ロベニサイド)および代謝酵素の抑制剤(例えばペプチ
ダーゼの抑制剤、例えばZ−2−アシルアミノ−3−置
換プロペノエート)から選択される1種以上の公知の薬
剤を含有することができ、または−緒に投与することが
できる。
本発明の有利な製薬学的組成物は、静脈内、皮下もしく
は部内注射のために好適なもの、例えばセファロスポリ
ン誘導体1〜50重量%を含有する無菌注射可能なもの
、または単位投与形で経口投与可能なもの、例えばセフ
ァロスポリン誘導体100u〜1gを含有するものであ
る。
は部内注射のために好適なもの、例えばセファロスポリ
ン誘導体1〜50重量%を含有する無菌注射可能なもの
、または単位投与形で経口投与可能なもの、例えばセフ
ァロスポリン誘導体100u〜1gを含有するものであ
る。
本発明の製薬学的組成物は、一般的に細菌によって誘発
された感染を治療するために、例えばセファロチン、セ
フオキシチン、セフニラジン、セフタジジムおよびその
他の臨床的に使用されるセファロスポリン誘導体のため
に適用されると同じ方法でヒトに投与すべきである、そ
の際当然公知の臨床的に使用されるセファロスポリンに
比較して本発明によるセファロスポリン誘導体に効果に
関して投与水準を膳酌すべきである。従って、該セファ
ロスポリン誘導体を患者に1日当り0.05〜30g、
有利にはo、l−t’byの静脈内、皮下、または筋内
用蛍を投与する、その際該組成物は1日当り1〜4回、
有利には1日当り!または2回で投与すべきである。静
脈内、皮下および筋向用量は、大型注射によって投与す
ることができる。選択的に静脈内用量は、長時間に亙つ
′て連続的注入によって投与することもできる。選択的
に、患者−人当りに、1日腸管外用量にほぼ等しい1日
経口用量を投与する。従って有利な1日経口用量はセフ
ァロスポリン誘導体0.5〜109であり、該組成物を
1日当り1〜4回で投与する。
された感染を治療するために、例えばセファロチン、セ
フオキシチン、セフニラジン、セフタジジムおよびその
他の臨床的に使用されるセファロスポリン誘導体のため
に適用されると同じ方法でヒトに投与すべきである、そ
の際当然公知の臨床的に使用されるセファロスポリンに
比較して本発明によるセファロスポリン誘導体に効果に
関して投与水準を膳酌すべきである。従って、該セファ
ロスポリン誘導体を患者に1日当り0.05〜30g、
有利にはo、l−t’byの静脈内、皮下、または筋内
用蛍を投与する、その際該組成物は1日当り1〜4回、
有利には1日当り!または2回で投与すべきである。静
脈内、皮下および筋向用量は、大型注射によって投与す
ることができる。選択的に静脈内用量は、長時間に亙つ
′て連続的注入によって投与することもできる。選択的
に、患者−人当りに、1日腸管外用量にほぼ等しい1日
経口用量を投与する。従って有利な1日経口用量はセフ
ァロスポリン誘導体0.5〜109であり、該組成物を
1日当り1〜4回で投与する。
本発明のもう1つの対象によれば、式Iの3位の置換基
を有するセファロスポリン化合物を製造するための方法
が提供され、該方法は、a)式: [式中、Lは離脱基を表す]で示される3位の置換基を
有するセファロスポリン化合物を式:%式%) [式中、Y、Q、Pおよびnは前記のものを表す]で示
される基を有する化合物と反応させる、または b)式: %式% で示される3位の置換基を有するセファロスポリン化合
物を式: %式%) [式中、Y、Q、Pおよびnは前記のものを表す]で示
される基を有する化合物と反応させる、または C)式: %式% 示される3位の置換基を有するセファロスポリン化合物
を式; [式中、QおよびPは前記のものを表し、JとKは、反
応してQとPとの間に−(Y)n−を形成するような基
を表し、Yおよびnは前記のものを表す]で示される化
合物と反応させる、または d)前記式(XVI)の化合物を製造するために、
□式(X■): [式中R4、X、Y、Q、Pおよびnは前記のものを表
す]で示される化合物を式(X■):R5−C−C0O
H Re (XVI+) [式中、R5,R8は前記のものを表すコで示される化
合物又はその反応性誘導体と反応させる、または e)R’が=NORフである前記式(XII[)の化合
物を製造するために、式(X■):[式中、R4、R5
、X、Y、Q、P及びnは前記のものを表すコで示され
る化合物を式:%式% [式中、R7は前記のものを表すコで示される化合物と
反応さる、または f)Reが基=NOR7でありかっR7が水素原子以外
のものを表す、前記式(XIII)の化合物を製造する
ために、R6が基: −NOHを表す、前記に定義した
式(XnI)の化合物を式(XIX): lR15 [式中、Llは離脱基を表しかっRI5は水素原子以外
の前記の基R7を表すコで示される化合物と反応させ、
または g)式(Xlll)の化合物を製造するために、該化合
物の適当な先駆物質を環化することにより基R5を形成
させ、 かつ任意の官能性基を場合により保護し、かつその後に
必要に応じて、 i)任意の保護基を除去し、 11)生体内で加水分解可能なエステルを形成するため
に、相応するヒドロキシ基をエステル化し、 iii ) XがSである化合物を、Xがスルフィニル
基である化合物に転化し、またはその逆の転化を行い、 iv )、製薬学的に認容される塩を形成させることに
より製造することができる。
を有するセファロスポリン化合物を製造するための方法
が提供され、該方法は、a)式: [式中、Lは離脱基を表す]で示される3位の置換基を
有するセファロスポリン化合物を式:%式%) [式中、Y、Q、Pおよびnは前記のものを表す]で示
される基を有する化合物と反応させる、または b)式: %式% で示される3位の置換基を有するセファロスポリン化合
物を式: %式%) [式中、Y、Q、Pおよびnは前記のものを表す]で示
される基を有する化合物と反応させる、または C)式: %式% 示される3位の置換基を有するセファロスポリン化合物
を式; [式中、QおよびPは前記のものを表し、JとKは、反
応してQとPとの間に−(Y)n−を形成するような基
を表し、Yおよびnは前記のものを表す]で示される化
合物と反応させる、または d)前記式(XVI)の化合物を製造するために、
□式(X■): [式中R4、X、Y、Q、Pおよびnは前記のものを表
す]で示される化合物を式(X■):R5−C−C0O
H Re (XVI+) [式中、R5,R8は前記のものを表すコで示される化
合物又はその反応性誘導体と反応させる、または e)R’が=NORフである前記式(XII[)の化合
物を製造するために、式(X■):[式中、R4、R5
、X、Y、Q、P及びnは前記のものを表すコで示され
る化合物を式:%式% [式中、R7は前記のものを表すコで示される化合物と
反応さる、または f)Reが基=NOR7でありかっR7が水素原子以外
のものを表す、前記式(XIII)の化合物を製造する
ために、R6が基: −NOHを表す、前記に定義した
式(XnI)の化合物を式(XIX): lR15 [式中、Llは離脱基を表しかっRI5は水素原子以外
の前記の基R7を表すコで示される化合物と反応させ、
または g)式(Xlll)の化合物を製造するために、該化合
物の適当な先駆物質を環化することにより基R5を形成
させ、 かつ任意の官能性基を場合により保護し、かつその後に
必要に応じて、 i)任意の保護基を除去し、 11)生体内で加水分解可能なエステルを形成するため
に、相応するヒドロキシ基をエステル化し、 iii ) XがSである化合物を、Xがスルフィニル
基である化合物に転化し、またはその逆の転化を行い、 iv )、製薬学的に認容される塩を形成させることに
より製造することができる。
式ニーCH21,の3位の置換基を育するセフアロスポ
リン化合物と、式ニ ー5−Q−(Y)n−P を供給する化合物との反応においては、好ましくはLは
ハロゲン原子例えばヨード、ブロモまたはクロロのよう
な離脱基、またはC1〜c4−アルカノイルオキシ基例
えばアセトキシ基である。典型的には、−9−Q−(Y
)n−Pの供給源はメルカルプト誘導体: l−19−S−Q−(Y)n−P である。このような化合物は公知あるかまたは常法で当
業者にとって周知の公知方法に基づき製造される。特に
この場合、セファロスポリン誘導体の3位の離脱基を多
種多様な硫黄求核性基で置換する確立された技術を参照
すべきである。類似した方法で、式: −CH,、、s
Hの3位の置換基を有するセファロスポリン化合物を
式%式%) (式中、L′は離脱基を表す)で示される化合物と反応
させることができる。
リン化合物と、式ニ ー5−Q−(Y)n−P を供給する化合物との反応においては、好ましくはLは
ハロゲン原子例えばヨード、ブロモまたはクロロのよう
な離脱基、またはC1〜c4−アルカノイルオキシ基例
えばアセトキシ基である。典型的には、−9−Q−(Y
)n−Pの供給源はメルカルプト誘導体: l−19−S−Q−(Y)n−P である。このような化合物は公知あるかまたは常法で当
業者にとって周知の公知方法に基づき製造される。特に
この場合、セファロスポリン誘導体の3位の離脱基を多
種多様な硫黄求核性基で置換する確立された技術を参照
すべきである。類似した方法で、式: −CH,、、s
Hの3位の置換基を有するセファロスポリン化合物を
式%式%) (式中、L′は離脱基を表す)で示される化合物と反応
させることができる。
これらの反応のためのセファロスポリン出発物質は、当
業者にとって公知であるかまたはそれに類似した方法に
基づき製造することができる(ヨーロッパ特許公開第1
27992号明細書及びヨーロッパ特許公開第1649
44号明細書参照)。
業者にとって公知であるかまたはそれに類似した方法に
基づき製造することができる(ヨーロッパ特許公開第1
27992号明細書及びヨーロッパ特許公開第1649
44号明細書参照)。
式(XVf)と式(X■)の化合物間の反応は、セファ
ロスポリン技術において常用の条件下で、例えば標準的
アシル化条件下で、この際には例えば酸を酸臭素化物、
酸塩化物、無水物または活性化したエステルとして活性
化することにより実施するかまたは反応をジシクロへキ
シルカルボ−ジイミドのようなカップリング剤の存在下
に実施する。
ロスポリン技術において常用の条件下で、例えば標準的
アシル化条件下で、この際には例えば酸を酸臭素化物、
酸塩化物、無水物または活性化したエステルとして活性
化することにより実施するかまたは反応をジシクロへキ
シルカルボ−ジイミドのようなカップリング剤の存在下
に実施する。
式(X■)の化合物は、式(I)の化合物に関して記載
した方法に類似して製造することができ、その際、場合
により7位のアミノ基を保護する。
した方法に類似して製造することができ、その際、場合
により7位のアミノ基を保護する。
式(X■)の化合物とR70NH2との間の反応は、一
般的化学的および/またはセファロスポリン技術におい
て標準的な条件下で実施する。式(X■)の化合物は、
式(I)の化合物に関して記載した方法に類似して製造
することができる。
般的化学的および/またはセファロスポリン技術におい
て標準的な条件下で実施する。式(X■)の化合物は、
式(I)の化合物に関して記載した方法に類似して製造
することができる。
R6が基: =NOHである化合物と式(XIX)の化
合物との間の反応は、一般的化学的お上び/またはセフ
ァロスポリン技術において標準的な条件下で実施する。
合物との間の反応は、一般的化学的お上び/またはセフ
ァロスポリン技術において標準的な条件下で実施する。
基R5は、適当な先駆物質を環化することにより形成さ
せることができる。例えば式(XX)と(XXI) : および NH2CNH2 [式中、R4、R6,X、Y、Q、PおよびnはfIλ
Pに定mI、たt、のを寿りかっI72は離脱基を表す
]で示される化合物は、2−アミノチアゾール−4−イ
ル基を形成させるために反応させることができる。この
環化の間に、場合によリチオ尿素の窒素原子を保護する
ことができる式(XX)の化合物は、式■の化合物に関
して記載した方法に類似した方法に基づき製造すること
ができる。
せることができる。例えば式(XX)と(XXI) : および NH2CNH2 [式中、R4、R6,X、Y、Q、PおよびnはfIλ
Pに定mI、たt、のを寿りかっI72は離脱基を表す
]で示される化合物は、2−アミノチアゾール−4−イ
ル基を形成させるために反応させることができる。この
環化の間に、場合によリチオ尿素の窒素原子を保護する
ことができる式(XX)の化合物は、式■の化合物に関
して記載した方法に類似した方法に基づき製造すること
ができる。
式(X■)、(Xllおよびr(7ONH2の化合物は
一般的化学および/またはセファロスポリン技術から公
知であるかまたは公知方法に基づいて製造することがで
きる。
一般的化学および/またはセファロスポリン技術から公
知であるかまたは公知方法に基づいて製造することがで
きる。
式(XVI)、(X■)および(XX)の化合物は新規
物質であり、従って本発明の別の対象を構成する。
物質であり、従って本発明の別の対象を構成する。
本発明の方法においては、任意の官能性基を、所望に基
づき場合により保護することができる。このような保護
基は、一般的に当該の基を保護するために適当であると
して文献に記載されているかまたは当業者にとって公知
である基から任意に選択することができ、かつ常法によ
って導入することができる。
づき場合により保護することができる。このような保護
基は、一般的に当該の基を保護するために適当であると
して文献に記載されているかまたは当業者にとって公知
である基から任意に選択することができ、かつ常法によ
って導入することができる。
保護基は文献に記載されているかまたは当該に保護基を
除去するために適当であることが当業者に公知である常
法によって除去することができ、このような方法は分子
内の別の位置に存在する基を殆ど妨害せずに保護基を有
効に除去することができるように選択すべきである。
除去するために適当であることが当業者に公知である常
法によって除去することができ、このような方法は分子
内の別の位置に存在する基を殆ど妨害せずに保護基を有
効に除去することができるように選択すべきである。
保護基の特別の例を以下に便宜的に記載する、この場合
“低級”は有利には1〜4個の炭素原子を有するものを
表す。これらの例は排他的なものではない除理解される
べきでる。保護基を除去するための特殊な方法が記載し
てあっても、それは同様に排他的なものではない。特別
に記載されていない保護基および保護基を除去する方法
も、勿論本発明の範囲内に包含される。
“低級”は有利には1〜4個の炭素原子を有するものを
表す。これらの例は排他的なものではない除理解される
べきでる。保護基を除去するための特殊な方法が記載し
てあっても、それは同様に排他的なものではない。特別
に記載されていない保護基および保護基を除去する方法
も、勿論本発明の範囲内に包含される。
カルボキシル保護基は、エステル形成脂肪族または芳香
族または芳香脂肪族アルコールの残基またはエステル形
成フェノール、シラノールまたはスタンナノール(前記
アルコール、フェノール、シラノールまたは有利には1
〜20個の炭素原子を有するスタンナノール)の残基で
あってよい。
族または芳香脂肪族アルコールの残基またはエステル形
成フェノール、シラノールまたはスタンナノール(前記
アルコール、フェノール、シラノールまたは有利には1
〜20個の炭素原子を有するスタンナノール)の残基で
あってよい。
カルボキシル保護基の例は、直鎖状または枝分れ鎖状(
1−12G)アルキル基(例えばイソプロパツール、t
−ブチル)、ハロゲン原子置換低級アルキル基(例えば
2−ヨードエチル、2,2.2−)リクロロエチル)、
低級アルコキシ低級アルキル基(例えばメトキシメチル
、エトキシメチル、イソブトキシメチル)、低級脂肪族
アシルオキシ低級アルキル基(例えばアセトキシメチル
、プロピオニルオキシメチエル、ブチリルオキシメチル
、ピバロイルオキシメチル)、低級アルコキシカルボニ
ルオキシ低級アルキル基(I−メトキシ−カルボニルオ
キシエチル、l−エトキシカルボニルオキシエチル)、
アリール低級アルキル基(例えばp−メトキシベンジル
、0−ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、ベンズヒ
ドリルおよびフタリジル)、トリ(低級アルキル)シリ
ル基(例えばトリメチルシリルおよびt−ブチルジメチ
ルシリル)、トリ(低級アルキル)シリル低級アルキル
基(例えばトリメチルシリルエチル)および(2〜6C
)アルケニル基(例えばアリルおよびビニリエチル)を
包含する。
1−12G)アルキル基(例えばイソプロパツール、t
−ブチル)、ハロゲン原子置換低級アルキル基(例えば
2−ヨードエチル、2,2.2−)リクロロエチル)、
低級アルコキシ低級アルキル基(例えばメトキシメチル
、エトキシメチル、イソブトキシメチル)、低級脂肪族
アシルオキシ低級アルキル基(例えばアセトキシメチル
、プロピオニルオキシメチエル、ブチリルオキシメチル
、ピバロイルオキシメチル)、低級アルコキシカルボニ
ルオキシ低級アルキル基(I−メトキシ−カルボニルオ
キシエチル、l−エトキシカルボニルオキシエチル)、
アリール低級アルキル基(例えばp−メトキシベンジル
、0−ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、ベンズヒ
ドリルおよびフタリジル)、トリ(低級アルキル)シリ
ル基(例えばトリメチルシリルおよびt−ブチルジメチ
ルシリル)、トリ(低級アルキル)シリル低級アルキル
基(例えばトリメチルシリルエチル)および(2〜6C
)アルケニル基(例えばアリルおよびビニリエチル)を
包含する。
カルボキシル保護基を除去するために特に適当な方法は
、例えば酸、塩基、金属または酵素触媒加水分解を包含
する。
、例えば酸、塩基、金属または酵素触媒加水分解を包含
する。
ヒドロキシル保護基の例は、低級アルカノイル基(例え
ばアセチル)、低級アルコキシカルボニル基(例えばt
−ブトキシカルボニル)、ハロゲン原子置換低級アルコ
キシカルボニル基(例えば2−ヨードエトキシカルボニ
ル、2゜2.2〜トリクロロエトキシカルボニル)、ア
リール低級アルコキシカルボニル基(例えばベンゾイル
オキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル、0−ニトロベンジルオキシカルボニル、p−ニト
ロベンジルオキシカルボニル)、トリ低級アルキルシリ
ル(例えばk Il−壬ル’/ Il Il、−t−プ
羊lシ・ブメ手)しSノ11ル)およびアリール低級ア
ルキル基(例えばベンジル)基を包含する。付加的に、
例えばカテコール原子団内の、隣接した炭素原子上で置
換された2つのヒドロキシ基は、メチレンジオキシ原子
団のような環式アセタールの形で保護されていてもよい
。
ばアセチル)、低級アルコキシカルボニル基(例えばt
−ブトキシカルボニル)、ハロゲン原子置換低級アルコ
キシカルボニル基(例えば2−ヨードエトキシカルボニ
ル、2゜2.2〜トリクロロエトキシカルボニル)、ア
リール低級アルコキシカルボニル基(例えばベンゾイル
オキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル、0−ニトロベンジルオキシカルボニル、p−ニト
ロベンジルオキシカルボニル)、トリ低級アルキルシリ
ル(例えばk Il−壬ル’/ Il Il、−t−プ
羊lシ・ブメ手)しSノ11ル)およびアリール低級ア
ルキル基(例えばベンジル)基を包含する。付加的に、
例えばカテコール原子団内の、隣接した炭素原子上で置
換された2つのヒドロキシ基は、メチレンジオキシ原子
団のような環式アセタールの形で保護されていてもよい
。
アミノ保護基の例は、ホルミル基、アラルキル基(例え
ばベンジルおよび、置換されたベンジル、例えばp−メ
トキシベンジル、ニトロベンジルおよび2.4−ジメト
キシベンジル、およびトリフェニルメチル)、シーp−
アユシルメチルおよびフリルメチル基、アシル基(例え
ばアルコキシカルボニルおよびアラルコシカルボニル、
例えばL−ブトキシカルボニルおよびベンジルオキシカ
ルボニル)、トリアルキルシリル基(例えばトリメチル
シリルおよびt−ブチルジメチルシリル)、アルキリデ
ン基(例えばメチリデン)、ベンジリデン基および置換
されたベンジリデン基、およびフタルイミド基を包含す
る。
ばベンジルおよび、置換されたベンジル、例えばp−メ
トキシベンジル、ニトロベンジルおよび2.4−ジメト
キシベンジル、およびトリフェニルメチル)、シーp−
アユシルメチルおよびフリルメチル基、アシル基(例え
ばアルコキシカルボニルおよびアラルコシカルボニル、
例えばL−ブトキシカルボニルおよびベンジルオキシカ
ルボニル)、トリアルキルシリル基(例えばトリメチル
シリルおよびt−ブチルジメチルシリル)、アルキリデ
ン基(例えばメチリデン)、ベンジリデン基および置換
されたベンジリデン基、およびフタルイミド基を包含す
る。
生体内で加水分解可能なエステルを形成させるためのヒ
ドロキシ基(即ちR1およびR2)のエステル化は、常
法で実施することができる。セファロスポリンスルホキ
シドのセファロスポリンへの還元およびスルホキシドの
スルフィドへの酸化は、自体公知方法で実施することが
できる。
ドロキシ基(即ちR1およびR2)のエステル化は、常
法で実施することができる。セファロスポリンスルホキ
シドのセファロスポリンへの還元およびスルホキシドの
スルフィドへの酸化は、自体公知方法で実施することが
できる。
本発明を説明するために、以下に生物学的試験法、デー
タおよび実施例を記載する。
タおよび実施例を記載する。
抗菌作用
本発明による製薬学的に認容されるセファロスポリン化
合物は、標準的実験室用微生物、グラム陰性およびグラ
ム陽性菌の双方に対して試験管内で広い作用スペクトル
を有する抗菌剤であり、この場合これらの菌は、病原菌
に対する作用を予見するために使用される。特殊な化合
物の抗菌スペクトルおよび有用性は、標準試験系で測定
することができる。この化合物は、ピソイドモナスーア
エルギノサ(Pseudomonasaerugino
sa)に菌株に対して試験管内で特に高い活性を呈する
。
合物は、標準的実験室用微生物、グラム陰性およびグラ
ム陽性菌の双方に対して試験管内で広い作用スペクトル
を有する抗菌剤であり、この場合これらの菌は、病原菌
に対する作用を予見するために使用される。特殊な化合
物の抗菌スペクトルおよび有用性は、標準試験系で測定
することができる。この化合物は、ピソイドモナスーア
エルギノサ(Pseudomonasaerugino
sa)に菌株に対して試験管内で特に高い活性を呈する
。
また、本発明による化合物の抗菌作用は、常用のマウス
保護試験において生体内で証明することができる。
保護試験において生体内で証明することができる。
セファロスポリン誘導体は、一般に温血動物対して比較
的非毒性である、この一般論は本発明による化合物に関
しても当て嵌まる。本発明による化合物の代表的化合物
を細菌感染に対して保護するのに必要とされるよりも過
剰の用量でマウスに投与した、その際投与した化合物に
起因しうるような明白な毒性兆候または副作用は認めら
れなかった。
的非毒性である、この一般論は本発明による化合物に関
しても当て嵌まる。本発明による化合物の代表的化合物
を細菌感染に対して保護するのに必要とされるよりも過
剰の用量でマウスに投与した、その際投与した化合物に
起因しうるような明白な毒性兆候または副作用は認めら
れなかった。
以下の結果は、アイソセンシテスト(
lsoser+s 1test)寒天媒体を使用するこ
とにより、標準試験管内試験系で代表的化合物に対して
得られたものである。抗菌活性は!04CFU/スポッ
トの接種物サイズで寒天希釈技術によって確認された最
低抑制濃度(MIC)で示す。
とにより、標準試験管内試験系で代表的化合物に対して
得られたものである。抗菌活性は!04CFU/スポッ
トの接種物サイズで寒天希釈技術によって確認された最
低抑制濃度(MIC)で示す。
実施例番号
微 生 物 1 5
9PU21 (A8101028) 0.0
6 0.25 0.125Ent、クロアカニ P99 (A8401054) 0.125
G、la 1Seer、マルセセン
ス (A8421003) 0.03
0.015 0.25Pr、モルガニイ (A8433001) 0.03
0.125 0.5Kleb、アエロゲネス (A8391027) 0.015
0.008 0.125E、コリー DCO(A8341098) 0.008
0.008 0.03SL、アウレウ
ス 147N (A860LO52) 42
>128S、デュブリン (A8369001) 0.03
0,008 0.125Strep、ピロゲネス (A68101g)
0・030・5次の実施例では、次の略語を使用する
=7−ACA= 7−アミノセファロスポラン酸AcO
H−酢酸 BSA −ビストリメチルシリルアセトアミドDMF
−ジメチルホルムアミド DMSO−ジメチルスルホキシド EtOH=エタノール BPLC−高圧液体クロマトグラフィ MeOH=メタノール TEA−トリエチルアミン TFA−トリフルオロ酢酸。
9PU21 (A8101028) 0.0
6 0.25 0.125Ent、クロアカニ P99 (A8401054) 0.125
G、la 1Seer、マルセセン
ス (A8421003) 0.03
0.015 0.25Pr、モルガニイ (A8433001) 0.03
0.125 0.5Kleb、アエロゲネス (A8391027) 0.015
0.008 0.125E、コリー DCO(A8341098) 0.008
0.008 0.03SL、アウレウ
ス 147N (A860LO52) 42
>128S、デュブリン (A8369001) 0.03
0,008 0.125Strep、ピロゲネス (A68101g)
0・030・5次の実施例では、次の略語を使用する
=7−ACA= 7−アミノセファロスポラン酸AcO
H−酢酸 BSA −ビストリメチルシリルアセトアミドDMF
−ジメチルホルムアミド DMSO−ジメチルスルホキシド EtOH=エタノール BPLC−高圧液体クロマトグラフィ MeOH=メタノール TEA−トリエチルアミン TFA−トリフルオロ酢酸。
NMRスペクトルは、90MH!でとられかつテトラメ
チルシラン(デルタ−〇)に対する百分率でのデルタ値
によって記載される。使用された溶剤は、別記しない限
り、DNSo、16/CD3COOD/TFAであった
。N[データの記載において、S−一重項、d−二重項
、を−三重項、q−四重項、m−多重項、b「−広幅で
ある。
チルシラン(デルタ−〇)に対する百分率でのデルタ値
によって記載される。使用された溶剤は、別記しない限
り、DNSo、16/CD3COOD/TFAであった
。N[データの記載において、S−一重項、d−二重項
、を−三重項、q−四重項、m−多重項、b「−広幅で
ある。
実施例
7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
((Z)−1−カルボキシ−1−メチルエトキシイミノ
)アセトアミド]−3−[2−(3,4−ジヒドロキシ
フェニル) −1,3,4−fアジアゾール−5−イル
チオメチル ルボン酸 (a) メチル−3,4−ジヒドロキシベンゾエート
(6g)をヒドラジン水和物(3.4mA)と−緒に、
撹拌しながら110℃で15分間、加熱した。冷却する
際に形成された固形物をエタノールで擦し、結晶を濾過
することにより、3.4−ジヒドロキシ安息香酸のヒド
ラジド59(83%)を得た、NMR (DMSO46
+AcOD) : 6 、7 (d。
((Z)−1−カルボキシ−1−メチルエトキシイミノ
)アセトアミド]−3−[2−(3,4−ジヒドロキシ
フェニル) −1,3,4−fアジアゾール−5−イル
チオメチル ルボン酸 (a) メチル−3,4−ジヒドロキシベンゾエート
(6g)をヒドラジン水和物(3.4mA)と−緒に、
撹拌しながら110℃で15分間、加熱した。冷却する
際に形成された固形物をエタノールで擦し、結晶を濾過
することにより、3.4−ジヒドロキシ安息香酸のヒド
ラジド59(83%)を得た、NMR (DMSO46
+AcOD) : 6 、7 (d。
111) 、 7.2 (dd,11) ; 7.
3 (d,1B)。
3 (d,1B)。
(b) 無水エタノール中の蒸気(、a)からの生成
物(4.59)に、KO■(5.69)および二硫化炭
素(2.411111)を添加した。撹拌を20時間、
継続した。溶剤を蒸発させ、粗生成物(カリウム3,4
−ジヒドロキシ−ペンジイルジチオ力ルバゼート9g)
を、次の工程で使用した。
物(4.59)に、KO■(5.69)および二硫化炭
素(2.411111)を添加した。撹拌を20時間、
継続した。溶剤を蒸発させ、粗生成物(カリウム3,4
−ジヒドロキシ−ペンジイルジチオ力ルバゼート9g)
を、次の工程で使用した。
(c)上記(b)の生成物を小量ずつ、撹拌しながら、
5℃よりも低く冷却された濃n2so4 (40mll
)に、30分間にわたって添加した。粗生成物を、破砕
された氷上に注ぎ、沈澱物を濾過しかつ水で洗浄した。
5℃よりも低く冷却された濃n2so4 (40mll
)に、30分間にわたって添加した。粗生成物を、破砕
された氷上に注ぎ、沈澱物を濾過しかつ水で洗浄した。
次いでこの沈澱物をエーテルに溶解し、かつ水で洗浄し
て中性にした。エーテルを蒸発させ、固形物をジクロロ
メタンに溶解し、ジクロロメタンを蒸発させた後に不溶
性物質を濾別し、2−メルカプト−5−(3。
て中性にした。エーテルを蒸発させ、固形物をジクロロ
メタンに溶解し、ジクロロメタンを蒸発させた後に不溶
性物質を濾別し、2−メルカプト−5−(3。
4−ジヒドロキシフェニル)−1.3.4−チアジアゾ
ール(1.29)を得た、NMR ( DMSOdQ、
−AcOD%TFA) : 6.8 4 (d.L
H) ; 7 、0 4 (da、LH) ; 7
.1 5 (d,1■)。
ール(1.29)を得た、NMR ( DMSOdQ、
−AcOD%TFA) : 6.8 4 (d.L
H) ; 7 、0 4 (da、LH) ; 7
.1 5 (d,1■)。
(d ) 7 −[2 − (2−アミノチアゾール
−4−イル)−2−( (Z)−1−カルボキシ−1−
メチルエトキシイミノ)アセトアミド]−3−アセトキ
シメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸(527mg
)、上記(c)の生成物(270mg)および水5mI
l中のpH6 、5 〜7のヨウ化ナトリウム(1.5
g)を、65℃で5.5時間、加熱した。pHを、反応
の間にAcOHまたはN1■co3を添加することによ
り、7で維持し、引き続き IIPLcにかけた。反応
を完結した後に、溶剤を蒸発させ、粗生成物を、MeO
HバN■4)2CO3緩衝液30/70を用いて溶離す
る分別HPLCによって精製することにより表題化合物
(58mg)が得られた。NMR(DMSOda 、A
cOD 、 TFA) : 1 、5 6 (5.61
1) ;3、7 (m,21) ; 4.4 (m,2
H) ; 5.2 (d。
−4−イル)−2−( (Z)−1−カルボキシ−1−
メチルエトキシイミノ)アセトアミド]−3−アセトキ
シメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸(527mg
)、上記(c)の生成物(270mg)および水5mI
l中のpH6 、5 〜7のヨウ化ナトリウム(1.5
g)を、65℃で5.5時間、加熱した。pHを、反応
の間にAcOHまたはN1■co3を添加することによ
り、7で維持し、引き続き IIPLcにかけた。反応
を完結した後に、溶剤を蒸発させ、粗生成物を、MeO
HバN■4)2CO3緩衝液30/70を用いて溶離す
る分別HPLCによって精製することにより表題化合物
(58mg)が得られた。NMR(DMSOda 、A
cOD 、 TFA) : 1 、5 6 (5.61
1) ;3、7 (m,21) ; 4.4 (m,2
H) ; 5.2 (d。
IH) ;5.9 (d,111) ; 6.8
5 (d,11) i7、0 5 (s,IH)
; 7.1 (dd,IH) ; 7.3 5(d,
t■)。
5 (d,11) i7、0 5 (s,IH)
; 7.1 (dd,IH) ; 7.3 5(d,
t■)。
例2
7− [2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−( (Z)−エトキシイミノ)アセトアミド]−3−
[2−(3.4−ジヒドロキシフェニル)−1、3,4
−チアジアゾール−5−イルチオメチル、]]セフー3
ーエムー4ーカルボン 酸−アミノ−3−[2−(3.4−ヒドロキシフェニル
)−1.3.4−チアジアゾール−5−イルチオメチル
]セフー3ーエム−4−カルボン酸1尚蚤を、ビストリ
メチルシリルアセトアミド4当量を用いて、無水ジクロ
ロメタン中で室温で3時間、シリル化した。アルゴン下
にoocに冷却されたこの溶液に、ジクロロメタン中の
2−[(Z)−エトキシイミノ−2−(1−ジチルアミ
ノチアゾール−4ーイル)酢酸塩化物(相応する酸1当
量から製造)1当量、PC45 1当量およびTEA1
当量およびTEA 1当量を、0℃で2時間、添加し、
引き続き溶剤および全てのPOCl2を蒸発させ、ジク
ロロメタンに再溶解した。0℃で数分後に、溶剤を蒸発
させ、全ての保護基を、粗製反応混合物をTF^/水を
用いて室温で1時間処理することにより除去した。溶剤
を蒸発させ、粗生成物をMeOHに溶解し、かつエーテ
ル中に沈澱させた。さらに精製をMPLCにより実施す
ることにより表題化合物(7%)が得られた、NMR
( DMSO4a、AcOD, TFA) : 1 、
2 5 (t,31); 3 、7 (+m,2H)
; 4 、2および4.25(2d。
−( (Z)−エトキシイミノ)アセトアミド]−3−
[2−(3.4−ジヒドロキシフェニル)−1、3,4
−チアジアゾール−5−イルチオメチル、]]セフー3
ーエムー4ーカルボン 酸−アミノ−3−[2−(3.4−ヒドロキシフェニル
)−1.3.4−チアジアゾール−5−イルチオメチル
]セフー3ーエム−4−カルボン酸1尚蚤を、ビストリ
メチルシリルアセトアミド4当量を用いて、無水ジクロ
ロメタン中で室温で3時間、シリル化した。アルゴン下
にoocに冷却されたこの溶液に、ジクロロメタン中の
2−[(Z)−エトキシイミノ−2−(1−ジチルアミ
ノチアゾール−4ーイル)酢酸塩化物(相応する酸1当
量から製造)1当量、PC45 1当量およびTEA1
当量およびTEA 1当量を、0℃で2時間、添加し、
引き続き溶剤および全てのPOCl2を蒸発させ、ジク
ロロメタンに再溶解した。0℃で数分後に、溶剤を蒸発
させ、全ての保護基を、粗製反応混合物をTF^/水を
用いて室温で1時間処理することにより除去した。溶剤
を蒸発させ、粗生成物をMeOHに溶解し、かつエーテ
ル中に沈澱させた。さらに精製をMPLCにより実施す
ることにより表題化合物(7%)が得られた、NMR
( DMSO4a、AcOD, TFA) : 1 、
2 5 (t,31); 3 、7 (+m,2H)
; 4 、2および4.25(2d。
211) 、 4.4 (q.2H) 、 5.1 5
(+1,1■);5、7 5 (d,1B) ; 6
.8 5 (d,1■) : 7 (s。
(+1,1■);5、7 5 (d,1B) ; 6
.8 5 (d,1■) : 7 (s。
IH) ; 7.15 (d、1B) ;
7.3 (s、1fl) 。
7.3 (s、1fl) 。
例3
7−[1−(2−アミノチアゾール−4−イル)−1−
(Z)−プロペンカルボキシアミド]−3−[(2−(
3,4−ジヒドロキシフェニル) −1,3。
(Z)−プロペンカルボキシアミド]−3−[(2−(
3,4−ジヒドロキシフェニル) −1,3。
4−チアジアゾール−5−イルチオメチル]セフー3−
エム−4−カルボン酸 一50℃のDMC(3an)中の(Z)−1−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−プロペン−1−カルボン
酸(370μmg、2ミリモル)(欧州特許出願公開第
0107138号明細書に記載されたと同様に製造)8
よびN−エチル−ジイソプロピルアミン(380μm、
2.2ミリモル)の溶液に、塩化メチルスルホニル(C
HaSO2CI) (170μm、2ミリモル)を添
加した。混合物を、−50℃で1時間撹拌した。次いで
溶液を迅速に、7−アミノ−3−[(2−(3,4−ジ
ヒドロキシフェニル) −1,3,4−チアジアゾール
−5−イルチオメチル]セフー3−エム−4−カルボン
酸(300mg、2ミリモル)およびTEA (560
tt Q、 0MF2 mflおよび水0.5mQ中、
4ミリモル)の低温(0℃)溶液に添加した。撹拌を、
室温で30分間継続した。溶剤を蒸発させ、かつ生成物
を、MeOH/ (Nfl+)tcO3緩衝液30/7
0を用いて溶離する分別11PLcにより精製すること
により、表題化合物(50mg)が得られた、NMR(
300MB2) (DMSO4e、Ac0D、 TFA
) :1.8 (d、3H) 、 3.6 (a、21
1) 、 4〜4.5(m、2[[) ; 5.1 (
d、III) ; 5.7 (d、In);6−6.4
(m、111) 、6.8 (s、l11) 、6.
7〜7.3 (m、311)。
エム−4−カルボン酸 一50℃のDMC(3an)中の(Z)−1−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−プロペン−1−カルボン
酸(370μmg、2ミリモル)(欧州特許出願公開第
0107138号明細書に記載されたと同様に製造)8
よびN−エチル−ジイソプロピルアミン(380μm、
2.2ミリモル)の溶液に、塩化メチルスルホニル(C
HaSO2CI) (170μm、2ミリモル)を添
加した。混合物を、−50℃で1時間撹拌した。次いで
溶液を迅速に、7−アミノ−3−[(2−(3,4−ジ
ヒドロキシフェニル) −1,3,4−チアジアゾール
−5−イルチオメチル]セフー3−エム−4−カルボン
酸(300mg、2ミリモル)およびTEA (560
tt Q、 0MF2 mflおよび水0.5mQ中、
4ミリモル)の低温(0℃)溶液に添加した。撹拌を、
室温で30分間継続した。溶剤を蒸発させ、かつ生成物
を、MeOH/ (Nfl+)tcO3緩衝液30/7
0を用いて溶離する分別11PLcにより精製すること
により、表題化合物(50mg)が得られた、NMR(
300MB2) (DMSO4e、Ac0D、 TFA
) :1.8 (d、3H) 、 3.6 (a、21
1) 、 4〜4.5(m、2[[) ; 5.1 (
d、III) ; 5.7 (d、In);6−6.4
(m、111) 、6.8 (s、l11) 、6.
7〜7.3 (m、311)。
出発物質の製造
7−アミノ−3−[(2−(3,4−ジヒドロキシフェ
ニル) −1,3,4−チアジアゾール−5−イルチオ
メチル]セフー3−エム−4−カルボン酸(例2および
3のための出発物質)を次のように製造した: 水(10ml)およびDMF (3an)中の2−メル
カプト−5−(3,4−ジヒドロキシフェニル)−1,
3,4−チアジアゾール(6951119)の溶液に、
Na1lCOa(1,03y ) 、引き続き7−アミ
ノ−3−イオドメチルセフー3−エムー4−カルボン酸
(1,29)を添加した。撹拌を、室温で2時間継続し
た。混合物をpH3,5〜4まで酸性化し、表題化合物
(1,1g)が沈澱物として得られ、この沈澱物を濾別
し、かつ乾燥した。NMR(DMSOd8、 Ac0D
、 TFAd) 3 .7 5 (+++、2
H) ;4 .2〜4.6 (履、211) ;
5.1 (d、IH) ;5.2 (d。
ニル) −1,3,4−チアジアゾール−5−イルチオ
メチル]セフー3−エム−4−カルボン酸(例2および
3のための出発物質)を次のように製造した: 水(10ml)およびDMF (3an)中の2−メル
カプト−5−(3,4−ジヒドロキシフェニル)−1,
3,4−チアジアゾール(6951119)の溶液に、
Na1lCOa(1,03y ) 、引き続き7−アミ
ノ−3−イオドメチルセフー3−エムー4−カルボン酸
(1,29)を添加した。撹拌を、室温で2時間継続し
た。混合物をpH3,5〜4まで酸性化し、表題化合物
(1,1g)が沈澱物として得られ、この沈澱物を濾別
し、かつ乾燥した。NMR(DMSOd8、 Ac0D
、 TFAd) 3 .7 5 (+++、2
H) ;4 .2〜4.6 (履、211) ;
5.1 (d、IH) ;5.2 (d。
IH) ;6.85 (d、III) ;7.15 (
d、IH) ;7.3 (d、IH)。 1 例4 7−(1−(2−アミノチアゾール−4−イル)−i−
(z)−ブテンカルボキシアミド]−3−[(2−(3
,4−ジヒドロキシフェニル) −1,3,4−チアジ
アゾール−5−イルチオメチル〕セフー3−エム−4−
カルボン酸の(E)−および(Z)−異性体を形成する
ために、例3の方法を、(2)−1−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)ブテン−1−カルボ゛ン酸[(E)
異性体約25%および(Z)!性体約75%を内容とす
る欧州緋詐出願公開第0107138号明細書に記載さ
れたと同様に製造]から出発して、繰り返した。
d、IH) ;7.3 (d、IH)。 1 例4 7−(1−(2−アミノチアゾール−4−イル)−i−
(z)−ブテンカルボキシアミド]−3−[(2−(3
,4−ジヒドロキシフェニル) −1,3,4−チアジ
アゾール−5−イルチオメチル〕セフー3−エム−4−
カルボン酸の(E)−および(Z)−異性体を形成する
ために、例3の方法を、(2)−1−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)ブテン−1−カルボ゛ン酸[(E)
異性体約25%および(Z)!性体約75%を内容とす
る欧州緋詐出願公開第0107138号明細書に記載さ
れたと同様に製造]から出発して、繰り返した。
最終生成物の異性体を、MeOH40%が50%まで増
加するリン酸アンモニウム緩衝液/MeO■を用いる分
別HPLCを使用して分離することにより、0MSO4
6、ICED、 TFA中の次のNMRを有する(Z)
異性体(190mg;16%)および(E)異性体(2
7肩り;3%)が得、られな:(Z)−異性体(300
MHz): 1.05(L3■)i2.25(■、21+)、3.6
5(d、l1l) : 3.8 (d、1■) ; 4
.25 (d、IH); 4.55(d、IH); 5
.15(d、IH) ; 5.75(LIH) ;6.
25 (t、11) ; 6.55 (s、IH) ;
6.85 (d、III) i 7.15 (dd、
III) ;7.35 (d、111)。
加するリン酸アンモニウム緩衝液/MeO■を用いる分
別HPLCを使用して分離することにより、0MSO4
6、ICED、 TFA中の次のNMRを有する(Z)
異性体(190mg;16%)および(E)異性体(2
7肩り;3%)が得、られな:(Z)−異性体(300
MHz): 1.05(L3■)i2.25(■、21+)、3.6
5(d、l1l) : 3.8 (d、1■) ; 4
.25 (d、IH); 4.55(d、IH); 5
.15(d、IH) ; 5.75(LIH) ;6.
25 (t、11) ; 6.55 (s、IH) ;
6.85 (d、III) i 7.15 (dd、
III) ;7.35 (d、111)。
(E)−異性体(90M[Iり:
1.05 (t、3B) ; 2.2 (m、2H)
; 3.7(鳳、211) ; 4.2 4 (
d、IH) ; 4.5 2 (d、III)
; 5.1 (d、III) ; 5.7 (d、II
I) ; 6.7〜7.4 (鳳、5■)。
; 3.7(鳳、211) ; 4.2 4 (
d、IH) ; 4.5 2 (d、III)
; 5.1 (d、III) ; 5.7 (d、II
I) ; 6.7〜7.4 (鳳、5■)。
例5
7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
((Z)−メトキシイミノ)アセトアミド]−3−((
6,7−シヒドロキシキナゾリンー4−イル)チオメチ
ル]セフー3−エムー4−カルボン酸。
((Z)−メトキシイミノ)アセトアミド]−3−((
6,7−シヒドロキシキナゾリンー4−イル)チオメチ
ル]セフー3−エムー4−カルボン酸。
(a ) (I X59)[相応するオキソ化合物か
ら、アセトニトリル中のローソン試薬(Lavesso
n’ sreigent)を使用して製造]を、BSA
(17mff1)の添加物を有するジクロロメタン(
無水)(75mit)中に溶解した。溶液にBBr3
(13ml)を、0°Cで添加した。反応混合物を、室
温で一晩中、撹拌した。ジクロロメタンを蒸発させ、残
分をMeOHに溶解し、蒸発させ、かつHP20SSク
ロマトグラフィにより精製した。ジヒドロキシ生成物(
2,6g)を得た: NMIi (DMSO4a/ T
FA);7.13(s、1■); 7.92(s、1■
);8.”91(s、1■)。
ら、アセトニトリル中のローソン試薬(Lavesso
n’ sreigent)を使用して製造]を、BSA
(17mff1)の添加物を有するジクロロメタン(
無水)(75mit)中に溶解した。溶液にBBr3
(13ml)を、0°Cで添加した。反応混合物を、室
温で一晩中、撹拌した。ジクロロメタンを蒸発させ、残
分をMeOHに溶解し、蒸発させ、かつHP20SSク
ロマトグラフィにより精製した。ジヒドロキシ生成物(
2,6g)を得た: NMIi (DMSO4a/ T
FA);7.13(s、1■); 7.92(s、1■
);8.”91(s、1■)。
(b) アセトニトリル(10ml)中の7−アミノ
セファロスポラン酸(1,49)および三フフ化ホウ素
エトキシレート(4mA)を、(2Xl)を用いて室温
で2.5時間、処理した。アセトニトリルを蒸発させ、
粗製反応混合物を水に注入し、沈澱物を濾過しかつ乾燥
した。粗生成物(1,99)が得られ、これをIII’
!QSS II脂上でのクロマトグラフィにより精製し
、その際、AcQtl 1%を含有する水および比率の
変化するMeOHを用いて溶離した。こうして2つのセ
ファロスポリン誘導体を得た。MeH5%で溶離された
より高い極性め誘導体(3X28019)およびMeO
H10%(330mg)で溶離されたより少ない極性の
誘導体(33019)。
セファロスポラン酸(1,49)および三フフ化ホウ素
エトキシレート(4mA)を、(2Xl)を用いて室温
で2.5時間、処理した。アセトニトリルを蒸発させ、
粗製反応混合物を水に注入し、沈澱物を濾過しかつ乾燥
した。粗生成物(1,99)が得られ、これをIII’
!QSS II脂上でのクロマトグラフィにより精製し
、その際、AcQtl 1%を含有する水および比率の
変化するMeOHを用いて溶離した。こうして2つのセ
ファロスポリン誘導体を得た。MeH5%で溶離された
より高い極性め誘導体(3X28019)およびMeO
H10%(330mg)で溶離されたより少ない極性の
誘導体(33019)。
NMR(DMSOd6、TFA) (より高い極性の誘
導体):3.64(d、1ll)・; 3.88(d、
III) ; 4.32(d、1■); 4.96 (
d、I H) ; 5.2 (s、2 fl);7.3
7(S、111) ; 7.45(s、IH) ; 9
.11(s、1■)。
導体):3.64(d、1ll)・; 3.88(d、
III) ; 4.32(d、1■); 4.96 (
d、I H) ; 5.2 (s、2 fl);7.3
7(S、111) ; 7.45(s、IH) ; 9
.11(s、1■)。
(c) DMF(3mlり中のセファロスポリン(3
)(200mg)、メルカプトベンズチアゾリル2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイミ
ノアセテート(1741119)およびEt3N(35
μe)を、室温で2時間撹拌した。次いで、溶剤を蒸発
させ、生成物を1IP20ss樹脂上でのクロマトグラ
フィにより精製し、その際MeOH量が増加する炭酸ア
ンモニウム緩衝液/MeOIlをれた、NMR(DMS
O46、TFA、 Ac01l) : 3.55 (
d、IH) ; 3.85(d、III) ;
3.95(s、3H) ;4.2 5 (d、1
tl) ; 4.9 5(d、LH) ; 5
.1 5(Lllり ; 5.75 (d、11
り ; 6.95 (5,IH) ;7.35
(s、IH) ;7.45 (s、11)
;・ 9.0 5 (s、1■)。
)(200mg)、メルカプトベンズチアゾリル2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイミ
ノアセテート(1741119)およびEt3N(35
μe)を、室温で2時間撹拌した。次いで、溶剤を蒸発
させ、生成物を1IP20ss樹脂上でのクロマトグラ
フィにより精製し、その際MeOH量が増加する炭酸ア
ンモニウム緩衝液/MeOIlをれた、NMR(DMS
O46、TFA、 Ac01l) : 3.55 (
d、IH) ; 3.85(d、III) ;
3.95(s、3H) ;4.2 5 (d、1
tl) ; 4.9 5(d、LH) ; 5
.1 5(Lllり ; 5.75 (d、11
り ; 6.95 (5,IH) ;7.35
(s、IH) ;7.45 (s、11)
;・ 9.0 5 (s、1■)。
例6
7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(、(Z)−1−カルボキシ−1−メチルエトキシイミ
ノ)アセトアミド]−3−[6,7−シヒドロキシキナ
ゾリンー4−イルチオメチル]セフー3−エム−4−カ
ルボン酸。
(、(Z)−1−カルボキシ−1−メチルエトキシイミ
ノ)アセトアミド]−3−[6,7−シヒドロキシキナ
ゾリンー4−イルチオメチル]セフー3−エム−4−カ
ルボン酸。
(B)
(D)
(B)+ (D)
(a) チオエステル(A)を、ジクロロメタン(2
aN)中に室温で溶解し、かつトリメチルシリルイオジ
ド(250μi)を添加した。混合物をアルゴン下に室
温で4時間撹拌することにより、ジクロロメタン中のシ
リル化された化合物(B)の溶液を得た。
aN)中に室温で溶解し、かつトリメチルシリルイオジ
ド(250μi)を添加した。混合物をアルゴン下に室
温で4時間撹拌することにより、ジクロロメタン中のシ
リル化された化合物(B)の溶液を得た。
(b)ジクロロメタン(2ral)中のセファロスポリ
ン(c XI O6rag) (例5(b)におけると
同様に得た)を、ll5A(514μl)と−緒にアル
ゴン下に40℃で1時間、撹拌し、こうしてジクロロメ
タン中のシリル化セファロスポリン(D)の溶液を形成
した。
ン(c XI O6rag) (例5(b)におけると
同様に得た)を、ll5A(514μl)と−緒にアル
ゴン下に40℃で1時間、撹拌し、こうしてジクロロメ
タン中のシリル化セファロスポリン(D)の溶液を形成
した。
(c)’(b)で得られた(D)の溶液を、(a)で得
られた(B)の溶液に添加し、撹拌を室温で2時間、継
続した。次に、溶剤を蒸発させ、粗生成物を、溶離剤と
してMeOIIの比率が20%から35%に変化する炭
酸アンモニウム/MeOHを使用する IIPLCによ
って精製することにより、表題化合物(48a+g)が
得られた、NMR(DMSO46、Ac0D 、 TF
A) : 1.5 (s、6H) ;3.52 (d、
IH) ; 3.81j、11) ; 4.24(d、
1fl) ; 4.92 (d、IH) ; 5.16
(d、III); 5.84(d、IH) ; 7.
0 (s、III) ; 7.32(s、411) ;
7.4 (s、III) ; 9.04 (s、LH
)。
られた(B)の溶液に添加し、撹拌を室温で2時間、継
続した。次に、溶剤を蒸発させ、粗生成物を、溶離剤と
してMeOIIの比率が20%から35%に変化する炭
酸アンモニウム/MeOHを使用する IIPLCによ
って精製することにより、表題化合物(48a+g)が
得られた、NMR(DMSO46、Ac0D 、 TF
A) : 1.5 (s、6H) ;3.52 (d、
IH) ; 3.81j、11) ; 4.24(d、
1fl) ; 4.92 (d、IH) ; 5.16
(d、III); 5.84(d、IH) ; 7.
0 (s、III) ; 7.32(s、411) ;
7.4 (s、III) ; 9.04 (s、LH
)。
例7
7−(2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(CZ)−メトキシイミノ)アセトアミド1−3− [
(1−(2−(3,4−ジヒドロキシフェニル)エチル
)テトラゾール−5−イル)チオメチル−セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸。
(CZ)−メトキシイミノ)アセトアミド1−3− [
(1−(2−(3,4−ジヒドロキシフェニル)エチル
)テトラゾール−5−イル)チオメチル−セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸。
(a) ドーパミンヒドロクロリド(3,8g)を、
EtOH(40Il)に溶解し、Et3N (4,0、
a g)、引き続き C5g(1,529)を室温で添
加した。
EtOH(40Il)に溶解し、Et3N (4,0、
a g)、引き続き C5g(1,529)を室温で添
加した。
混合物を室温で2時間、全ての出発物質が消滅する(
TLCにより)まで撹拌することにより、(1)を形成
した。
TLCにより)まで撹拌することにより、(1)を形成
した。
(b) ヨウ化メチル(2,849)を、溶液中の(
a)の生成物に添加し、その際室温で2時間、撹拌した
。溶剤を蒸発させ、粗生成物を、ジクロロメタン/エー
テルを用いて溶離するシリカゲルクロマトグラフィによ
って精製することにより、チオエステル(2) (4,
39)を得た、NMR(DMSO4e) 2.5 (s
、3 If) ; 2.7 (t、2 H);3.5
〜3.9(■、2H)、6.3〜6.7(m、311)
; 8.56(s、I H) ; 8.68(s、2
H) ; 9.9(t、in)。
a)の生成物に添加し、その際室温で2時間、撹拌した
。溶剤を蒸発させ、粗生成物を、ジクロロメタン/エー
テルを用いて溶離するシリカゲルクロマトグラフィによ
って精製することにより、チオエステル(2) (4,
39)を得た、NMR(DMSO4e) 2.5 (s
、3 If) ; 2.7 (t、2 H);3.5
〜3.9(■、2H)、6.3〜6.7(m、311)
; 8.56(s、I H) ; 8.68(s、2
H) ; 9.9(t、in)。
(c)チオエステル(2)(49)を、水(20mA)
およびEtOII(20all)に溶解した。溶液にN
lN5(1、69)を添加し、次いでこの溶液を1時間
45分間、還流させた。溶剤を蒸発させ、粗生成物を、
CIIzClg −Meoll(100+50−50)
を用いて溶離するシリカゲルクロマトグラフィにより精
製することにより、化合物(3)(1,49g)を得た
、NMR(DNS046) : 2.9 (t、2
M);4.3 (t、2 It) ; 6.3〜6.7
(m、3H)。
およびEtOII(20all)に溶解した。溶液にN
lN5(1、69)を添加し、次いでこの溶液を1時間
45分間、還流させた。溶剤を蒸発させ、粗生成物を、
CIIzClg −Meoll(100+50−50)
を用いて溶離するシリカゲルクロマトグラフィにより精
製することにより、化合物(3)(1,49g)を得た
、NMR(DNS046) : 2.9 (t、2
M);4.3 (t、2 It) ; 6.3〜6.7
(m、3H)。
(d) 化合物(3) (238mg)を、BF3/
Et20(1,3mg)を有する CHaCN (3
mA)中で 7−ACA(272111g)と40℃で
30分間、縮合させた。溶剤を蒸発させ、混合物を、M
eOII/1120を用いて溶離する 11HO5Sク
ロマトグラフイにより精製し、その際、MeOHの勾配
液を使用した。セファロスポリン(4)を得た、NMR
(DMSO4e、ACOD 、 TFA) 2.94
(t、2H) : 3.7 (s。
Et20(1,3mg)を有する CHaCN (3
mA)中で 7−ACA(272111g)と40℃で
30分間、縮合させた。溶剤を蒸発させ、混合物を、M
eOII/1120を用いて溶離する 11HO5Sク
ロマトグラフイにより精製し、その際、MeOHの勾配
液を使用した。セファロスポリン(4)を得た、NMR
(DMSO4e、ACOD 、 TFA) 2.94
(t、2H) : 3.7 (s。
211)、4.1〜4.5 (a、411) ; 5
.1 (s、2H);6.2〜6.7 (m、311)
。
.1 (s、2H);6.2〜6.7 (m、311)
。
Ce)セファロスポリン(4) (12019)を、D
MF (3+*1)に溶解し、Et3N (26mg)
、引き続きチオエステル(5) (9119)を添加し
た。混合物を、室温で2.5時間、撹拌した。溶剤を蒸
発させ、粗生成物を、MeOHの勾配を用い■20/M
eO■で溶離する ■Pressクロマトグラフィを使
用して精製することにより、表題化合物(120my)
が得られた、NMR(0MSO46、Ac0D 。
MF (3+*1)に溶解し、Et3N (26mg)
、引き続きチオエステル(5) (9119)を添加し
た。混合物を、室温で2.5時間、撹拌した。溶剤を蒸
発させ、粗生成物を、MeOHの勾配を用い■20/M
eO■で溶離する ■Pressクロマトグラフィを使
用して精製することにより、表題化合物(120my)
が得られた、NMR(0MSO46、Ac0D 。
TFA): 2.92 (t、211) ; 3.52
(d、IH) ;Q 7A (d−1fl)
! 1.96 (電−311) :4.1〜4
.6 (量、411) ; 5.1 (d、LH
) ; 5.7 6(d、IH) ; 6.2
〜7(m、411) 。
(d、IH) ;Q 7A (d−1fl)
! 1.96 (電−311) :4.1〜4
.6 (量、411) ; 5.1 (d、LH
) ; 5.7 6(d、IH) ; 6.2
〜7(m、411) 。
例8
7− (2−(2−アミノチアゾール−4−イル)1−
2−((Z)−1−カルボキシ−1−メチルエトキシイ
ミノ)アセトアミドl−3−El−(2−カルボキシ−
2−(3,4−ジヒドロキシフェニル)エチル)テトラ
ゾール−5−イルチオメチル]−セフー3−エム−4−
カルボン酸 1) xタノール(5,OIIm)中のり、 L−ド
ーパ(5g)の懸濁液に、トリエチルアミン(7肩L)
、引き続き C52(1,51111)を添加した。混
合物を室温で2時間、撹拌し、水(20mA)を、添加
し、撹拌をさらに12時間、継続した。ヨウ化メチル(
1,55m1)を添加し、混合物をさらに2時間撹拌し
、溶剤を蒸発させ、混合物に、シリカ上で、CH2Cl
12/CH30H(100: O→70:30)を用い
て溶離するクロマトグラフィ処理を行なうことにより、
チオエステル(3)(6,269)を得た、NMR(D
MSOd9 / TFAd)2.53 (s、3H)
; 3.14 (d、2H) ; 5.1(t、IH
) ; 6.4〜6.8 (鳳、3H)。
2−((Z)−1−カルボキシ−1−メチルエトキシイ
ミノ)アセトアミドl−3−El−(2−カルボキシ−
2−(3,4−ジヒドロキシフェニル)エチル)テトラ
ゾール−5−イルチオメチル]−セフー3−エム−4−
カルボン酸 1) xタノール(5,OIIm)中のり、 L−ド
ーパ(5g)の懸濁液に、トリエチルアミン(7肩L)
、引き続き C52(1,51111)を添加した。混
合物を室温で2時間、撹拌し、水(20mA)を、添加
し、撹拌をさらに12時間、継続した。ヨウ化メチル(
1,55m1)を添加し、混合物をさらに2時間撹拌し
、溶剤を蒸発させ、混合物に、シリカ上で、CH2Cl
12/CH30H(100: O→70:30)を用い
て溶離するクロマトグラフィ処理を行なうことにより、
チオエステル(3)(6,269)を得た、NMR(D
MSOd9 / TFAd)2.53 (s、3H)
; 3.14 (d、2H) ; 5.1(t、IH
) ; 6.4〜6.8 (鳳、3H)。
b) メタノール(80m11)およびアセトニトリル
(80m11)中のチオエステル(3)(3−549)
に、p−トルエンスルホン酸(1,259)を添加し、
次いで徐々に、過剰量のジアゾジフェニルメタンを添加
した。この混合物を、40℃で3時間および室温でさら
に16時間撹拌した。溶剤を蒸発させ、混合物をジクロ
ロメタンに溶解し、カッシリカ上テClI2C12/
C113011(Zoo:O→90:10)を用いて溶
離するクロマトグラフィにより精製することにより、エ
ステル(4)(2,8g)を得た、NMR(CDCl1
a)2.5 9 (s、31) ; 3.1 0
−3.3(m、2f[) ;4.7〜5.2 (m、
1tl) ; 6.13 (CIH) ;6.29(
dl、l1l); 6.56(d、Ilり; 6.93
(s、I H) ; 7.31 (’2 s、l0H
)。
(80m11)中のチオエステル(3)(3−549)
に、p−トルエンスルホン酸(1,259)を添加し、
次いで徐々に、過剰量のジアゾジフェニルメタンを添加
した。この混合物を、40℃で3時間および室温でさら
に16時間撹拌した。溶剤を蒸発させ、混合物をジクロ
ロメタンに溶解し、カッシリカ上テClI2C12/
C113011(Zoo:O→90:10)を用いて溶
離するクロマトグラフィにより精製することにより、エ
ステル(4)(2,8g)を得た、NMR(CDCl1
a)2.5 9 (s、31) ; 3.1 0
−3.3(m、2f[) ;4.7〜5.2 (m、
1tl) ; 6.13 (CIH) ;6.29(
dl、l1l); 6.56(d、Ilり; 6.93
(s、I H) ; 7.31 (’2 s、l0H
)。
C) エタノール(10mJl)中のエステル(4)(
2,669)に、水(51m1)中のアジ化ナトリウム
(565履g)を、室温で添加した。混合物を、還流下
に1時間撹拌し、溶剤を蒸発させ、残分ヲ、シjJ 左
上テCH2CA2 / Cl13011(100:0→
60:40)を用いて溶離するクロマトグラフィにより
精製することにより、化合物(5)(1,5y)を得た
、NMR(DMSO,He) 3.41(d、2H);
s、s O(t、I H) ; 6.46.6.5
4.6.61(3s、3H); 6.8(s、1B);
7.31(s、l0H)。
2,669)に、水(51m1)中のアジ化ナトリウム
(565履g)を、室温で添加した。混合物を、還流下
に1時間撹拌し、溶剤を蒸発させ、残分ヲ、シjJ 左
上テCH2CA2 / Cl13011(100:0→
60:40)を用いて溶離するクロマトグラフィにより
精製することにより、化合物(5)(1,5y)を得た
、NMR(DMSO,He) 3.41(d、2H);
s、s O(t、I H) ; 6.46.6.5
4.6.61(3s、3H); 6.8(s、1B);
7.31(s、l0H)。
d) 化合物(5)(830mg)を、トリフルオワ酢
酸/アニソール中に室温で溶解した。40分後に、溶剤
を蒸発させ、粗製酸(6)を得た。この酸(6)(51
8mg)および7−ACA(4891119)を、アセ
トニトリル(61ll)に懸濁させ、BF3Et20
(2、4ml)を撹拌しながら添加した。混合物を、4
0℃で35分間撹拌し、溶剤を蒸発させ、残分をエーテ
ル下に擦することにより固形物が得られ、この固形物を
、llP2O5S樹脂上で■20/C113011(1
00: 0→90:10)を用いて溶離して精製するこ
とにより、セファロスポリン(7849719)を得た
、NMR(DMSOd13/ CD3COOD) 3.
3 (d、2H) ; 3.67 (s、211)i4
.16.4.48 (2d、2H) ; 5.13 (
s、2H) ; 5.48 (t、IH) ; 6.2
〜6.6 (m、3■)。
酸/アニソール中に室温で溶解した。40分後に、溶剤
を蒸発させ、粗製酸(6)を得た。この酸(6)(51
8mg)および7−ACA(4891119)を、アセ
トニトリル(61ll)に懸濁させ、BF3Et20
(2、4ml)を撹拌しながら添加した。混合物を、4
0℃で35分間撹拌し、溶剤を蒸発させ、残分をエーテ
ル下に擦することにより固形物が得られ、この固形物を
、llP2O5S樹脂上で■20/C113011(1
00: 0→90:10)を用いて溶離して精製するこ
とにより、セファロスポリン(7849719)を得た
、NMR(DMSOd13/ CD3COOD) 3.
3 (d、2H) ; 3.67 (s、211)i4
.16.4.48 (2d、2H) ; 5.13 (
s、2H) ; 5.48 (t、IH) ; 6.2
〜6.6 (m、3■)。
e ) DMF(4m11)中のセファロスポリン(
7)(165mg)に、トリエチルアミン(46μt)
および化合物A(159mgX例6に記載したと同様)
を添加した。混合物を、室温で2.5時間撹拌し、溶剤
を蒸発させ、残分をTFA(4mA)を用いて室温で1
時間処理した。TFAを蒸発させ、残分を、[20/
AcOH/ CH30H(80: 1:20+65:1
:35)を用イテ溶離する HPLCによって精製する
ことにより、表題化合物(111+B) カ’4ラレタ
、NMR(DMSOd8 / CD3COOD/ TF
A−d) 1.53 (s、6H) ; 3.38(d
、2H); 3.6(s、2H); 4.16〜4.1
8(2d、2H); 5.12(d、IH) ; 5.
84(d、11) ; 5.5(t、IH); 6.2
〜6.7(m、3[[); 7.04 (s、111)
。
7)(165mg)に、トリエチルアミン(46μt)
および化合物A(159mgX例6に記載したと同様)
を添加した。混合物を、室温で2.5時間撹拌し、溶剤
を蒸発させ、残分をTFA(4mA)を用いて室温で1
時間処理した。TFAを蒸発させ、残分を、[20/
AcOH/ CH30H(80: 1:20+65:1
:35)を用イテ溶離する HPLCによって精製する
ことにより、表題化合物(111+B) カ’4ラレタ
、NMR(DMSOd8 / CD3COOD/ TF
A−d) 1.53 (s、6H) ; 3.38(d
、2H); 3.6(s、2H); 4.16〜4.1
8(2d、2H); 5.12(d、IH) ; 5.
84(d、11) ; 5.5(t、IH); 6.2
〜6.7(m、3[[); 7.04 (s、111)
。
例9
7− [2−(−アミノチアゾール−4−イル)−2−
((Z)−力ルボキシ−1−メチルエトキシイミノ)ア
セトアミド] −3−[(1−(2−カルボキシメチル
−4,5−ジヒドロキシフェニル)テトラゾール−5−
イル)チオメチル]−セフー3−エム−4−カルボン酸
。
((Z)−力ルボキシ−1−メチルエトキシイミノ)ア
セトアミド] −3−[(1−(2−カルボキシメチル
−4,5−ジヒドロキシフェニル)テトラゾール−5−
イル)チオメチル]−セフー3−エム−4−カルボン酸
。
a) 3.4−ジメトキシフェニル酢酸(7,84g
)を、エーテル(100mll)およびAc0t[(2
0an)中に可溶化した。発煙HNO3(1、68mM
)を、溶液に滴下法で添加した。撹拌を、室温で16時
間維持した。沈澱物を濾過し、エーテルで洗浄しかつ乾
燥することにより、化合物(1)(4,19g)を得た
、NMR(DMSO4a) 3.88 (s、31)
; 3.80 (s、311) ; 3.97 (s、
2H); 7.15 (s、1■) ;7.70 (s
、IH)。
)を、エーテル(100mll)およびAc0t[(2
0an)中に可溶化した。発煙HNO3(1、68mM
)を、溶液に滴下法で添加した。撹拌を、室温で16時
間維持した。沈澱物を濾過し、エーテルで洗浄しかつ乾
燥することにより、化合物(1)(4,19g)を得た
、NMR(DMSO4a) 3.88 (s、31)
; 3.80 (s、311) ; 3.97 (s、
2H); 7.15 (s、1■) ;7.70 (s
、IH)。
b) 化合物(1)(4,199)を、メタノール(2
00ml)およびTFA (2mg)中に可溶化した。
00ml)およびTFA (2mg)中に可溶化した。
lO%Pd/C(20019)を添加し、混合物を室温
および大気圧で2時間、水素添加した。
および大気圧で2時間、水素添加した。
触媒を濾別し、溶剤を蒸発させることにより、(2)を
粗製残分として得た。
粗製残分として得た。
C) 化合物(2)(3,6g)を、アセトニトリル(
35ml)および水(35ran)中で、トリエチルア
ミン(3,6an)の存在で可溶化した。混合物を、水
浴中で0℃に冷却し、チオホスゲン(1,6m1)を滴
下法で添加し、数分後に混合物を、 2 NHCLを用
いて酸性にし、エーテル中に抽出することにより、イン
チオシアネート(382,39)が得られた。このイソ
チオシアネートを、エタノール(60m1l)および炭
酸水素ナトリウム(830I119)を含有する水(3
0in)中に溶解した。水(30mff1)中のアジ化
ナトリウム(897m9)の水溶液を添加し、混合物を
40°Cで3172時間維持し、冷却し、2 NHC!
lを用いて酸性にし、蒸発させかつ残分をN f120
/AcQH(100:t:O−+25:1ニア5)を用
いて溶離するIIPI!O3Sクロマトグラフィによっ
て精製することにより、化合物(40960mg)を得
た、NMR(DMSO4a)3.51 (s、 3 H
) ; 3.78.3.86 (2s、6H) ; 7
.12 (s、211)。
35ml)および水(35ran)中で、トリエチルア
ミン(3,6an)の存在で可溶化した。混合物を、水
浴中で0℃に冷却し、チオホスゲン(1,6m1)を滴
下法で添加し、数分後に混合物を、 2 NHCLを用
いて酸性にし、エーテル中に抽出することにより、イン
チオシアネート(382,39)が得られた。このイソ
チオシアネートを、エタノール(60m1l)および炭
酸水素ナトリウム(830I119)を含有する水(3
0in)中に溶解した。水(30mff1)中のアジ化
ナトリウム(897m9)の水溶液を添加し、混合物を
40°Cで3172時間維持し、冷却し、2 NHC!
lを用いて酸性にし、蒸発させかつ残分をN f120
/AcQH(100:t:O−+25:1ニア5)を用
いて溶離するIIPI!O3Sクロマトグラフィによっ
て精製することにより、化合物(40960mg)を得
た、NMR(DMSO4a)3.51 (s、 3 H
) ; 3.78.3.86 (2s、6H) ; 7
.12 (s、211)。
d) ジクロロメタン(5(laA)中の化合物(4)
(900119)に、BSム(1,5m1)を添加した
。
(900119)に、BSム(1,5m1)を添加した
。
この溶液を、0℃に冷却し、BBr3 (2ml)を3
172時間撹拌しながら添加した。溶剤を蒸発させ、残
分を、水中に0℃で注入することにより加水分解した。
172時間撹拌しながら添加した。溶剤を蒸発させ、残
分を、水中に0℃で注入することにより加水分解した。
生じる反応混合物を、llP2O5S樹脂上で、[20
/ AcOH/ CH3011(100: 1 :0→
80:1:20)を用いて溶離するクロマトグラフィに
よって精製することにより、ジヒドロキシ化合物(5)
(700tgy)を得た、NMR3,33(s、2H
) ; 6.79.6.87(2s、2■)。
/ AcOH/ CH3011(100: 1 :0→
80:1:20)を用いて溶離するクロマトグラフィに
よって精製することにより、ジヒドロキシ化合物(5)
(700tgy)を得た、NMR3,33(s、2H
) ; 6.79.6.87(2s、2■)。
e) アセトニトリル(25m11)中のジヒドロキシ
化合物(5) (65019)および7−ACA (6
55肩g)に、室温でBFa、Et20(4肩t)を撹
拌しながら添加した。40℃で30分間撹拌した後に、
溶剤を蒸発させ、残分をエーテル下に擦しかつ820
/ AcOH/ CH3011(100: 1 : 0
→80:1:20)を用いて溶離する HP2055樹
脂クロマトグラフィによって精製することにより、セフ
ァロスポリン(6)(622119)を得た、NMR(
DMSOda / TFAd) 3.22 (s、2
H) ;3.80(s、2H) ; 4.28 (
d、1B); 5.19(s、2H); 6.81.6
.92 (2s、2H)。
化合物(5) (65019)および7−ACA (6
55肩g)に、室温でBFa、Et20(4肩t)を撹
拌しながら添加した。40℃で30分間撹拌した後に、
溶剤を蒸発させ、残分をエーテル下に擦しかつ820
/ AcOH/ CH3011(100: 1 : 0
→80:1:20)を用いて溶離する HP2055樹
脂クロマトグラフィによって精製することにより、セフ
ァロスポリン(6)(622119)を得た、NMR(
DMSOda / TFAd) 3.22 (s、2
H) ;3.80(s、2H) ; 4.28 (
d、1B); 5.19(s、2H); 6.81.6
.92 (2s、2H)。
f ) IINF(4m’i)中のセファロスポリン
(6)(x60+g)に、トリエチルアミン(46μl
)および化合物A(159m9) (例6に記載したと
同様)を添加した。混合物を、室温で4時間撹拌し、溶
剤を蒸発させ、残分をTFA (4all)に溶解しか
つ2172時間撹拌した。TFAを蒸発させ、残分を、
!+20 / AcOH/ CH301! (100:
1 :0→40:1:60)を用いて溶離するllP
2O5S樹脂クロマトグラフィによって精製することに
より、表題化合物(120+119)が得られた、II
MR(DMSOd6 / TF口) 1.53 (s、
6H) ; 3.21(s、21); 3.70(s、
2H) ; 4.20(d、III);4.60(d、
III) ; 5.16(d、IH) 5.83(d。
(6)(x60+g)に、トリエチルアミン(46μl
)および化合物A(159m9) (例6に記載したと
同様)を添加した。混合物を、室温で4時間撹拌し、溶
剤を蒸発させ、残分をTFA (4all)に溶解しか
つ2172時間撹拌した。TFAを蒸発させ、残分を、
!+20 / AcOH/ CH301! (100:
1 :0→40:1:60)を用いて溶離するllP
2O5S樹脂クロマトグラフィによって精製することに
より、表題化合物(120+119)が得られた、II
MR(DMSOd6 / TF口) 1.53 (s、
6H) ; 3.21(s、21); 3.70(s、
2H) ; 4.20(d、III);4.60(d、
III) ; 5.16(d、IH) 5.83(d。
l■);6.78.6.90(2s、2H) ; 7.
05(s、1fl)。
05(s、1fl)。
例10
7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)=2−
((Z)−1−カルボキシ−1−メチルエトキシイミノ
)アセトアミド−3−[(1−(2−(3゜4−ジヒド
ロキシフェニル)エチル)テトラゾール−5−イル)チ
オメチル]セフ−3−エム−4−カルボン酸。
((Z)−1−カルボキシ−1−メチルエトキシイミノ
)アセトアミド−3−[(1−(2−(3゜4−ジヒド
ロキシフェニル)エチル)テトラゾール−5−イル)チ
オメチル]セフ−3−エム−4−カルボン酸。
DIaF中の溶液のセファロスポリン(1)(135I
119)(例7参照)に、EtaN (42μi)、引
き続き化合物A(174肩g)(例6に記載したと同様
)を、室温で添加した。撹拌を%2’/2時間継続し、
溶剤を蒸発させ、残分をTF^(3ata)に溶解し、
室温で1時間撹拌した。溶剤を蒸発させ、残分を、ll
P2O5S樹脂上でH2O/ AcOH/ CH2O[
1(45: 1 : 55)を用いて溶離するクロマト
グラフィにかけることにより、表題化合物(98rag
)が得られた、NMR(DMSOd6、CD3COD、
TFAd) 1.55(s、6H) ; 2.95
(t、2H) ; 3.5〜3.8 (m、211
) ; 4.1 〜4.6 (鳳、411);5.
15.6.85 (2d、2H); 6.2〜6.7(
鳳、3H) ; 7.0 5 (s、1■)
。
119)(例7参照)に、EtaN (42μi)、引
き続き化合物A(174肩g)(例6に記載したと同様
)を、室温で添加した。撹拌を%2’/2時間継続し、
溶剤を蒸発させ、残分をTF^(3ata)に溶解し、
室温で1時間撹拌した。溶剤を蒸発させ、残分を、ll
P2O5S樹脂上でH2O/ AcOH/ CH2O[
1(45: 1 : 55)を用いて溶離するクロマト
グラフィにかけることにより、表題化合物(98rag
)が得られた、NMR(DMSOd6、CD3COD、
TFAd) 1.55(s、6H) ; 2.95
(t、2H) ; 3.5〜3.8 (m、211
) ; 4.1 〜4.6 (鳳、411);5.
15.6.85 (2d、2H); 6.2〜6.7(
鳳、3H) ; 7.0 5 (s、1■)
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式( I ): −CH_2−S−Q−(Y)n−P [式中、 Qは酸素原子、窒素原子および硫黄原子か ら選択される1〜4個の複素原子を有する5または6員
の複素環(該ベンゼン環はベンゼン環またはもう1つの
複素環に縮合されていてよい)を表し、該Qは可能であ
れば、正の電荷を有することができかつ利用可能な炭素
原子または窒素原子でカルボキシ基、スルホ基、C_1
〜C_4−アルコキシカルボニル基またはC_1〜C_
4−アルキル基(該アルキル基はそれ自体カルボキシ基
またはスルホ基またはC_1〜C_4−アルコキシカル
ボニル基によって置換されていてもよい)によって置換
されていてもよい、 Pは i)ベンゼン環(該ベンゼン環はもう1つのベンゼン環
(従って、ナフチル基を形成する)または窒素原子、酸
素原子および硫黄原子から選択される1、2または3個
の複素原子を含有する5または6員の複素環式芳香族基
に縮合されていてもよい)、該ベンゼン環(またはナフ
チルの場合には、いずれかのベンゼン環)は互いに対し
てオルト位にあるR^1およびR^2によって置換され
ており、前記R^1はヒドロキシ基またはその生体内で
加水分解可能なエステルを表しかつR^2はヒドロキシ
基、その生体内で加水分解可能なエステル基、カルボキ
シ基、スルホ基、ヒドロキシメチル基、メタンスルホア
ミド基または尿素基を表す、 ii)式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される基または iii)式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、Mは酸素原子または基NR^3を表し、該R^
3は水素原子またはC_1〜C_4−アルキル基を表す
]で示される基を表し、 環P(または環Pがベンゼン環でありかつ 別のベンゼン環に縮合されている場合には、いずれかの
ベンゼン環)は、更にC_1〜C_4−、アルキル基、
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシC_1〜C_
4−アルキル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ニ
トロ基、アミノ基、C_1〜C_4−アルキルアミノ基
、ジ−C_1〜C_4−アルキルアミノ基、アミノC_
1〜C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルキルア
ミノC_1〜C_4−アルキル基、ジ−C_1〜C_4
−アルキルアミノC_1〜C_4−アルキル基、C_1
〜C_4−アルカノイル基、C_1〜C_4−アルコキ
シ基、C_1〜C_4−アルキルチオ基、C_1〜C_
4−アルカノイルオキシ基、カルバモイル基、C_1〜
C_4−アルキルカルバモイル基、ジ−C_1〜C_4
−アルキルカルバモイル基、カルボキシ基、カルボキシ
C_1〜C_4−アルキル基、スルホ基、スルホC_1
〜C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルカンスル
ホンアミド基、C_1〜C_4−アルコキシカルボニル
基、C_1〜C_4−アルカノイルアミノ基、ニトロソ
基、チオウレイド基、アミジノ基、アンモニウム基、モ
ノ−、ジ−またはトリ−C_1〜C_4−アルキルアン
モニウムピリジニウム基、または1、2または3個のC
_1〜C_4−アルキル基またはC_1−C_4−アル
コキシ基によって置換されていてもよい、酸素原子、窒
素原子および硫黄原子から選択される、1〜4個の複素
原子を有する5員の複素環を表し、 n=1または2であり、その際n=1の場 合には、YはQとPの間の共有結合、またはカルボキシ
基またはスルホ基によって置換されていてもよい(1〜
4C)アルキレン基を表すかまたはYは基: −(CH_2)m−Y′− 表し、該式中m=1または2でありかつY′は −0.CO−または−NH.CO− を表し;かつn=0である場合には、QおよびPの両者
は利用可能な炭素−炭素または炭素−窒素結合に縮合さ
れている単環式環を表す]で示される3位の置換基を有
するセファロスポリン化合物。 2、Pが互いに対してオルト位に存在する基R^1およ
びR^3によって置換されたベンゼン環であり、前記R
^1およびR^2は相互に無関係にヒドロキシ基または
その生体内で加水分解可能なエステル基であり、前記ベ
ンゼン環は更に置換されていてもよい、特許請求の範囲
第1項記載の化合物。 3、−(Y)n−が基QとPの間の共有結合を表す、特
許請求の範囲第1項または第2項記載の化合物。 4、−(Y)n−がメチレン基またはエチレン基を表す
、特許請求の範囲第1項または第2項記載の化合物。 5、−S−Q−が式VI〜XII: ▲数式、化学式、表等があります▼(VI)▲数式、化学
式、表等があります▼(VII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII)▲数式、化
学式、表等があります▼(IX) ▲数式、化学式、表等があります▼(X)▲数式、化学
式、表等があります▼(X I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(XII) を有する、特許請求の範囲第1項から第4項までのいず
れか1項に記載の化合物。 6、式(XIII): ▲数式、化学式、表等があります▼(XIII) [式中、Q、Y、Pおよびnは前記のものを表し、 Xは硫黄原子、酸素原子、メチレン基また はスルフィニル基を表し、 R^4は水素原子、メトキシ基またはホルムアミド基を
表し、 R^5はそれぞれ5位で弗素原子、塩素、原子または臭
素原子によって置換されてもよい2−アミノチアゾール
−4−イル基または2−アミノオキサゾール−4−イル
基であり、またはR^5は5−アミノイソイチアゾール
−3−イル基、5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル基、3−アミノピラゾール−5−イル基、
3−アミノピラゾール−4−イル基、2−アミノピリミ
ジン−5−イル基、2−アミノピリド−6−イル基、4
−アミノピリミジン−2−イル基、2−アミノ−1,3
,4−チアゾール−5−イル基または5−アミノ−1−
メチル−1,2,4−チアゾール−3−イル基であり、 R^6は式:=N.O.R^7(二重結合の回りにシン
配置を有する)を表し、該式中R^7は水素原子、(1
〜6C)アルキル基、(3〜8C)シクロアルキル基、
(1〜3C)アルキル(3〜6C)シクロアルキル基、
(3〜6C)シクロアルキル(1〜3C)アルキル基、
カルボキシ基によって置換されていてもよい(3〜6C
)アルケニル基、(5〜8C)シクロアルケニル基、(
3〜6C)アルキニル基、(2〜5C)アルキルカルバ
モイル基、フェニルカルバモイル基、ベンンジルカルバ
モイル基、(1〜4C)アルキルカルバモイル(1〜4
C)アルキル基、ジ(1〜4C)アルキルカルバモイル
(1〜4C)アルキル基、(1〜4C)ハロアルキルカ
ルバモイル(1〜4C)アルキル基、(1〜3C)ハロ
アルキル基、(2〜6C)ヒドロキシアルキル基、(1
〜4C)アルコキシ(2〜4C)アルキル基、(1〜4
C)アルキルチオ(2〜4C)アルキル基、(1〜4C
)アルカンスルフィニル(1〜4C)アルキル基、(1
〜4C)アルカンスルホニル(1〜4C)アルキル基、
(2〜6C)アミノアルキル基、(1〜4C)アルキル
アミノ(1〜6C)アルキル基、(2〜8C)ジアルキ
ルアミノ(2〜6C)アルキル基、(1〜5C)シアノ
アルキル基、3−アミノ−3−カルボキシプロピル基、
2−(アミジノチオ)エチル基、2−(N−アミノアミ
ジノチオ)エチル基、テトラヒドロピラン−2−イル基
、チエタン−3−イル基、2−オキソピロジニル基、ま
たは2−オキソテトラヒドロフラニル基であり、R^7
は式(XIV); ▲数式、化学式、表等があります▼(XIV) [式中、qは1または2でありかつR^8およびR^9
は相互に無関係に水素原子またはC_1〜C_4−アル
キル基を表す]を有し、またはR^7は式(XV) −C^1^0R^1^1−(CH_2)r−COR^1
^2(XV)[式中、rは0〜3であり、R^1^0は
水素原子、(1〜3C)アルキル基またはメチルチオ基
を表し、R^1^1は水素原子、(1〜3C)アルキル
基、(3〜7C)シクロアルキル基、シアノ基、カルボ
キシ基、(2〜5C)カルボキシアルキル基またはメタ
ンスルホニルアミノ基を表し、またはR^1^0および
R^1^1は結合してそれらが結合された炭素原子と一
緒に(3〜7C)炭素環を形成し、かつR^1^2はヒ
ドロキシ基、アミノ基、(1〜4C)アルコキシ基、(
1〜4C)アルキルアミノ基または式:NHOR^1^
3を表し、該式中R^1^3は水素原子または(1〜4
C)アルキル基を表す]を有し、 またはR^6は式:=CH.R^1^4を有することが
でき、該式中R^1^4は水素原子、ハロゲン原子、(
1〜6C)アルキル基、(3〜7C)シクロアルキル基
、(2〜6C)アルケニル基、(3〜7C)シクロアル
ケニル基、フェニル基またはベンジル基を表す]で示さ
れる、特許請求の範囲第1項から第5項までのいずれか
1項に記載の化合物またはその塩またはエステル。 7、7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2((Z)−1−カルボキシ−1−メチルエトキシイミ
ノ)アセトアミド]−3−[2−(3,4−ジヒドロキ
シフェニル)−1,3,4−チアジアゾール−5−イル
チオメチル]セフ−3−エム−4−カルボン酸、7−[
2−(2−アミノチアゾール−4− イル)−2((Z)−エトキシイミノ)アセトアミド]
−3−[2−(3,4−ジヒドロキシフェニル)−1,
3,4−チアジアゾール−5−イルチオメチル]セフ−
3−エム−4−カルボン酸、 7−[1−(2−アミノチアゾール−4− イル)−1−(Z)−プロペンカルボキシアミド]−3
−[2−(3,4−ジヒドロキシフェニル)−1,3,
4−チアジアゾール−5−イルチオメチル]セフ−3−
エム−4−カルボン酸、 7−[1−(2−アミノチアゾール−4− イル)−1−(Z)−ブテンカルボキシアミド]−3−
[2−(3,4−ジヒドロキシフェニル)−1,3,4
−チアジアゾール−5−イルチオメチル]セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸、 7−[1−(2−アミノチアゾール−4− イル)−1−(E)−ブテンカルボキシアミド]−3−
[2−(3,4−ジヒドロキシフェニル)−1,3,4
−チアジアゾール−5−イルチオメチル]セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸、 7−[2−(2−アミノチアゾール−4− イル)−2−((Z)−メトキシイミノ)アセトアミド
]−3−[(6,7−ジヒドロキシキナゾリン−4−イ
ル)チオメチル]セフ−3−エム−4−カルボン酸、 7−[2−(2−アミノチアゾール−4− イル)−2−((Z)−1−カルボキシ−1−メチルエ
トキシイミノ)アセトアミド]−3−[6,7−ジヒド
ロキシキナゾリン−4−イル)チオメチル]セフ−3−
エム−4−カルボン酸、 7−[2−(2−アミノチアゾール−4− イル)−2−((Z)−1−メトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−[(1−(2−(3,4−−ジヒドロキシ
フェニル)エチル)テトラゾール−5−イル)チオメチ
ル]セフ−3−エム−4−カルボン酸、 7−[2−(2−アミノチアゾール−4− イル)−2−((Z)−1−カルボキシ−1−メチルエ
トキシイミノ)アセトアミド]−3−[1−(2−カル
ボキシ−2−(3,4−ジヒドロキシフェニル)エチル
)テトラゾール−5−イル)チオメチル]セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸、 7−[2−(2−アミノチアゾール−4− イル)−2−((Z)−1−カルボキシ−1−メチルエ
トキシイミノ)アセトアミド]−3−[(1−(2−カ
ルボキシメチル−4,5−ジヒドロキシフェニル)テト
ラゾール−5−イル)チオメチル]セフ−3−エム−4
−カルボン酸、または 7−[2−(2−アミノチアゾール−4− イル)−2−((Z)−1−カルボキシメチルエトキシ
イミノ)アセトアミド]−3−[1−(2−(3,4−
ジヒドロキシフェニル)エチル)テトラゾール−5−イ
ル)チオメチル]セフ−3−エム−4−カルボン酸であ
る、特許請求の範囲第1項記載の化合物。 8、式( I ): −CH_2−S−Q−(Y)n−P [式中、 Qは酸素原子、窒素原子および硫黄原子か ら選択される1〜4個の複素原子を有する5または6員
の複素環(該ベンゼン環はベンゼン環またはもう1つの
複素環に縮合されていてよい)を表し、該Qは可能であ
れば、正の電荷を有することができかつ利用可能な炭素
原子または窒素原子でカルボキシ基、スルホ基、C_1
〜C_4−アルコキシカルボニル基またはC_1〜C_
4−アルキル基(該アルキル基はそれ自体カルボキシ基
またはスルホ基またはC_1〜C_4−アルコキシカル
ボニル基によって置換されていてもよい)によって置換
されていてもよい、 Pは i)ベンゼン環(該ベンゼン環はもう1つのベンゼン環
(従って、ナフチル基を形成する)または窒素原子、酸
素原子および硫黄原子から選択される1、2または3個
の複素原子を含有する5または6員の複素環式芳香族基
に縮合されていてもよい)、該ベンゼン環(またはナフ
チルの場合には、いずれかのベンゼン環)は互いに対し
てオルト位にあるR^1およびR^2によって置換され
ており、前記R^1はヒドロキシ基またはその生体内で
加水分解可能なエステルを表しかつR^2はヒドロキシ
基、その生体内で加水分解可能なエステル基、カルボキ
シ基、スルホ基、ヒドロキシメチル基、メタンスルホア
ミド基または尿素基を表す、 ii)式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される基または iii)式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、Mは酸素原子または基NR^3を表し、該R^
3は水素原子またはC_1−C_4−アルキル基を表す
]で示される基を表し、 環P(または環Pがベンゼン環でありかつ 別のベンゼン環に縮合されている場合には、いずれかの
ベンゼン環)は、更にC_1〜C_4−アルキル基、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシC_1〜C_4
−アルキル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ニト
ロ基、アミノ基、C_1〜C_4−アルキルアミノ基、
ジ−C_1〜C_4−アルキルアミノ基、アミノC_1
〜C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルキルアミ
ノC_1〜C_4−アルキル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルアミノC_1〜C_4−アルキル基、C_1〜
C_4−アルカノイル基、C_1〜C_4−アルコキシ
基、C_1〜C_4−アルキルチオ基、C_1〜C_4
−アルカノイルオキシ基、カルバモイル基、C_1〜C
_4−アルキルカルバモイル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルカルバモイル基、カルボキシ基、カルボキシC
_1〜C_4−アルキル基、スルホ基、スルホC_1〜
C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルカンスルホ
ンアミド基、C_1〜C_4−アルコキシカルボニル基
、C_1〜C_4−アルカノイルアミノ基、ニトロソ基
、チオウレイド基、アミジノ基、アンモニウム基、モノ
−、ジ−またはトリ−C_1〜C_4−アルキルアンモ
ニウムピリジニウム基、または1、2または3個のC_
1〜C_4−アルキル基またはC_1−C_4−アルコ
キシ基によって置換されていてもよい、酸素原子、窒素
原子および硫黄原子から選択される、1〜4個の複素原
子を有する5員の複素環を表し、 n=1または2であり、その際n=1の場 合には、YはQとPの間の共有結合、またはカルボキシ
基またはスルホ基によって置換されていてもよい(1〜
4C)アルキレン基を表すかまたはYは基: −(CH_2)m−Y′− 表し、該式中m=1または2でありかつY′は −O、CO−または−NH、CO− を表し;かつn=0である場合には、QおよびPの両者
は利用可能な炭素−炭素または炭素−窒素結合に縮合さ
れている単環式環を表す]で示される3位の置換基を有
するセファロスポリン化合物および製薬学的に認容され
る賦形剤を含有する抗菌剤。 9、式( I ): −CH_2−S−Q−(Y)n−P [式中、 Qは酸素原子、窒素原子および硫黄原子か ら選択される1〜4個の複素原子を有する5または6員
の複素環(該ベンゼン環はベンゼン環またはもう1つの
複素環に縮合されていてよい)を表し、該Qは可能であ
れば、正の電荷を有することができかつ利用可能な炭素
原子または窒素原子でカルボキシ基、スルホ基、C_1
〜C_4−アルコキシカルボニル基またはC_1〜C_
4−アルキル基(該アルキル基はそれ自体カルボキシ基
またはスルホ基またはC_1〜C_4−アルコキシカル
ボニル基によって置換されていてもよい)によって置換
されていてもよい、 Pは i)ベンゼン環(該ベンゼン環はもう1つのベンゼン環
(従って、ナフチル基を形成する)または窒素原子、酸
素原子および硫黄原子から選択される1、2または3個
の複素原子を含有する5または6員の複素環式芳香族基
に縮合されていてもよい)、該ベンゼン環(またはナフ
チルの場合には、いずれかのベンゼン環)は互いに対し
てオルト位にあるR^1およびR^2によって置換され
ており、前記R^1はヒドロキシ基またはその生体内で
加水分解可能なエステルを表しかつR^2はヒドロキシ
基、その生体内で加水分解可能なエステル基、カルボキ
シ基、スルホ基、ヒドロキシメチル基、メタンスルホア
ミド基または尿素基を表す、 ii)式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される基または iii)式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、Mは酸素原子または基NR^3を表し、該R^
3は水素原子またはC_1〜C_4−アルキル基を表す
]で示される基を表し、 環P(または環Pがベンゼン環でありかつ 別のベンゼン環に縮合されている場合には、いずれかの
ベンゼン環)は、更にC_1〜C_4−アルキル基、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシC_1〜C_4
−アルキル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ニト
ロ基、アミノ基、C_1〜C_4−アルキルアミノ基、
ジ−C_1〜C_4−アルキルアミノ基、アミノC_1
〜C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルキルアミ
ノC_1〜C_4−アルキル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルアミノC_1〜C_4−アルキル基、C_1〜
C_4−アルカノイル基、C_1〜C_4−アルコキシ
基、C_1〜C_4−アルキルチオ基、C_1〜C_4
−アルカノイルオキシ基、カルバモイル基、C_1〜C
_4−アルキルカルバモイル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルカルバモイル基、カルボキシ基、カルボキシC
_1〜C_4−アルキル基、スルホ基、スルホC_1〜
C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルカンスルホ
ンアミド基、C_1〜C_4−アルコキシカルボニル基
、C_1〜C_4−アルカノイルアミノ基、ニトロソ基
、チオウレイド基、アミジノ基、アンモニウム基、モノ
−、ジ−またはトリ−C_1〜C_4−アルキルアンモ
ニウムピリジニウム基、または1、2または3個のC_
1〜C_4−アルキル基またはC_1−C_4−アルコ
キシ基によって置換されていてもよい、酸素原子、窒素
原子および硫黄原子から選択される、1〜4個の窒素原
子を有する5員の複素環を表し、 n=1または2であり、その際n=1の場 合には、YはQとPの間の共有結合、またはカルボキシ
基またはスルホ基によって置換されていてもよい(1〜
4C)アルキレン基を表すかまたはYは基: −(CH_2)m−Y’− 表し、該式中m=1または2でありかつY’は −0.CO−または−NH.CO− を表し:かつn=0である場合には、QおよびPの両者
は利用可能な炭素−炭素または炭素−窒素結合に縮合さ
れている単環式環を表す]で示される3位の置換基を有
するセファロスポリン化合物またはその塩またはエステ
ルを製造する方法において、式: −CH_2L [式中、Lは離脱基を表す]で示される3位の置換基を
有するセファロスポリン化合物を式: −S−Q−(Y)n−P [式中、Y、Q、Pおよびnは前記のものを表す]で示
される基を有する化合物と反応させ、かつ任意の官能性
基を場合により保護し、かつその後に必要に応じて、 i)任意の保護基を除去し、 ii)生体内で加水分解可能なエステルを形成するため
に、相応するヒドロキシ基をエステル化し、 iii)XがSである化合物を、Xがスルフィニル基で
ある化合物に転化し、またはその逆の転化を行い、 iv)製薬学的に容認される塩を形成させることを特徴
とするセファロスポリン化合物の製法。 10、式( I ): −CH_2−S−Q−(Y)n−P [式中、 Qは酸素原子、窒素原子および硫黄原子か ら選択される1〜4個の複素原子を育する5または6員
の複素環(該ベンゼン環はベンゼン環またはもう1つの
複素環に縮合されていてよい)を表し、該Qは可能であ
れば、正の電荷を有することができかつ利用可能な炭素
原子または窒素原子でカルボキシ基、スルホ基、C_1
〜C_4−アルコキシカルボニル基または、C_1〜C
_4−アルキル基(該アルキル基はそれ自体カルボキシ
基またはスルホ基またはC_1〜C_4−アルコキシカ
ルボニル基によって置換されていてもよい)によって置
換されていてもよい、 Pは i)ベンゼン環(該ベンゼン環はもう1つのベンゼン環
(従って、ナフチル基を形成する)または窒素原子、酸
素原子および硫黄原子から選択される1、2または3個
の複素原子を含有する5または6員の複素環式芳香族基
に縮合されていてもよい)、該ベンゼン環(またはナフ
チルの場合には、いずれかのベンゼン環)は互いに対し
てオルト位にあるR^1およびR^2によって置換され
ており、前記R^1はヒドロキシ基またはその生体内で
加水分解可能なエステルを表しかつR^2はヒドロキシ
基、その生体内で加水分解可能なエステル基、カルボキ
シ基、スルホ基、ヒドロキシメチル基、メタンスルホア
ミド基または尿素基を表す、 ii)式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される基または iii)式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、Mは酸素原子または基NR^3を表し、該R^
3は水素原子またはC_1〜C_4−アルキル基を表す
]で示される基を表し、 環P(または環Pがベンゼン環でありかつ 別のベンゼン環に縮合されている場合には、いずれかの
ベンゼン環)は、更にC_1〜C_4−アルキル基、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシC_1〜C_4
−アルキル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ニト
ロ基、アミノ基、C_1〜C_4−アルキルアミノ基、
ジ−C_1〜C_4−アルキルアミノ基、アミノC_1
〜C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルキルアミ
ノC_1〜C_4−アルキル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルアミノC_1〜C_4−アルキル基、C_1〜
C_4−アルカノイル基、C_1〜C_4−アルコキシ
基、C_1〜C_4−アルキルチオ基、C_1〜C_4
−アルカノイルオキシ基、カルバモイル基、C_1〜C
_4−アルキルカルバモイル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルカルバモイル基、カルボキシ基、カルボキシC
_1〜C_4−アルキル基、スルホ基、スルホC_1〜
C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルカンスルホ
ンアミド基、C_1〜C_4−アルコキシカルボニル基
、C_1〜C_4−アルカノイルアミノ基、ニトロソ基
、チオウレイド基、アミジノ基、アンモニウム基、モノ
−、ジ−またはトリ−C_1〜C_4−アルキルアンモ
ニウムピリジニウム基、または1、2または3個のC_
1〜C_4−アルキル基またはC_1〜C_4−アルコ
キシ基によって置換されていてもよい、酸素原子、窒素
原子および硫黄原子から選択される、1〜4個の複素原
子を有する5員の複素環を表し、 n=1または2であり、その際n=1の場 合には、YはQとPの間の共有結合、またはカルボキシ
基またはスルホ基によって置換されていてもよい(1〜
4C)アルキレン基を表すかまたはYは基: −(CH_2)_m−Y’− 表し、該式中m=1または2でありかつY’は −0.CO−または−NH.CO− を表し;かつn=0である場合には、QおよびPの両者
は利用可能な炭素−炭素または炭素−窒素結合に縮合さ
れている単環式環を表す]で示される3位の置換基を有
するセファロスポリン化合物またはその塩またはエステ
ルを製造する方法において、式: −CH_2SH で示される3位の置換基を有するセファロスポリン化合
物を式: −Q−(Y)n−P [式中、Y、Q、Pおよびnは前記のものを表す]で示
される基を有する化合物と反応させ、かつ任意の官能性
基を場合により保護し、かつその後に必要に応じて、 i)任意の保護基を除去し、 ii)生体内で加水分解可能なエステルを形成するため
に、相応するヒドロキシ基をエステル化し、 iii)XがSである化合物を、Xがスルフィニル基で
ある化合物に転化し、またはその逆の転化を行い、 iv)製薬学的に認容される塩を形成させることを特徴
とするセファロスポリン化合物の製法。 11、式( I ): −CH2−S−Q−(Y)n−P [式中、 Qは酸素原子、窒素原子および硫黄原子か ら選択される1〜4個の複素原子を有する5または6員
の複素環(該ベンゼン環はベンゼン環またはもう1つの
複素環に縮合されていてよい)を表し、該Qは可能であ
れば、正の電荷を有することができかつ利用可能な炭素
原子または窒素原子でカルボキシ基、スルホ基、C_1
〜C_4−アルコキシカルボニル基またはC_1〜C_
4−アルキル基(該アルキル基はそれ自体カルボキシ基
またはスルホ基またはC_1〜C_4−アルコキシカル
ボニル基によって置換されていてもよい)によって置換
されていてもよい、 Pは i)ベンゼン環(該ベンゼン環はもう1つのベンゼン環
(従って、ナフチル基を形成する)または窒素原子、酸
素原子および硫黄原子から選択される1、2または3個
の複素原子を含有する5または6員の複素環式芳香族基
に縮合されていてもよい)、該ベンゼン環(またはナフ
チルの場合には、いずれかのベンゼン環)は互いに対し
てオルト位にあるR^1およびR^2によって置換され
ており、前記R^1はヒドロキシ基またはその生体内で
加水分解可能なエステルを表しかつR^2はヒドロキシ
基、その生体内で加水分解可能なエステル基、カルボキ
シ基、スルホ基、ヒドロキシメチル基、メタンスルホア
ミド基または尿素基を表す、 ii)式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される基または iii)式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、Mは酸素原子または基NR^3を表し、該R^
3は水素原子またはC_1〜C_4−アルキル基を表す
]で示される基を表し、 環P(または環Pがベンゼン環でありかつ 別のベンゼン環に縮合されている場合には、いずれかの
ベンゼン環)は、更にC_1〜C_4−アルキル基、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシC_1〜C_4
−アルキル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ニト
ロ基、アミノ基、C_1〜C_4−アルキルアミノ基、
ジ−C_1〜C_4−アルキルアミノ基、アミノC_1
〜C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルキルアミ
ノC_1〜C_4−アルキル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルアミノC_1〜C_4−アルキル基、C_1〜
C_4−アルカノイル基、C_1〜C_4−アルコキシ
基、C_1〜C_4−アルキルチオ基、C_1〜C_4
−アルカノイルオキシ基、カルバモイル基、C_1−C
_4−アルキルカルバモイル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルカルバモイル基、カルボキシ基、カルボキシC
_1〜C_4−アルキル基、スルホ基、スルホC_1〜
C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルカンスルホ
ンアミド基、C_1〜C_4−アルコキシカルボニル基
、C_1〜C_4−アルカノイルアミノ基、ニトロソ基
、チオウレイド基、アミジノ基、アンモニウム基、モノ
−、ジ−またはトリ−C_1〜C_4−アルキルアンモ
ニウムピリジニウム基、または1、2または3個のC_
1〜C_4−アルキル基またはC_1〜C_4−アルコ
キシ基によって置換されていてもよい、酸素原子、窒素
原子および硫黄原子から選択される、1〜4個の複素原
子を有する5員の複素環を表し、 n=1または2であり、その際n=1の場 合には、YはQとPの間の共有結合、またはカルボキシ
基またはスルホ基によって置換されていてもよい(1〜
4C)アルキレン基を表すかまたはYは基: −(CH_2)m−Y’− 表し、該式中m=1または2でありかつY’は −0.CO−または−NH.CO− を表し;かつn=0である場合には、QおよびPの両者
は利用可能な炭素−炭素または炭素−窒素結合に縮合さ
れている単環式環を表す]で示される3位の置換基を有
するセファロスポリン化合物またはその塩またはエステ ルを製造する方法において、式: −CH_2S−Q−J 示される3位の置換基を有するセファロスポリン化合物
を式: K−P [式中、QおよびPは前記のものを表し、Jとには、反
応してQとPとの間に−(Y)_n−を形成するような
基を表し、Yおよびnは前記のものを表す]で示される
化合物と反応させ、かつ任意の官能性基を場合により保
護し、かつその後に必要に応じて、 i)任意の保護基を除去し、 ii)生体内で加水分解可能なエステルを形成するため
に、相応するヒドロキシ基をエステル化し、 iii)XがSである化合物を、Xがスルフィニル基で
ある化合物に転化し、またはその逆の転化を行い、 iv)製薬学的に認容される塩を形成させることを特徴
とするセファロスポリン化合物の製法。 12、式( I ): −CH_2−S−Q−(Y)n−P [式中、 Qは酸素原子、窒素原子および硫黄原子か ら選択される1〜4個の複素原子を有する5または6員
の複素環(該ベンゼン環はベンゼン環またはもう1つの
複素環に縮合されていてよい)を表し、該Qは可能であ
れば、正の電荷を有することができかつ利用可能な炭素
原子または窒素原子でカルボキシ基、スルホ基、C_1
〜C_4−アルコキシカルボニル基またはC_1〜C_
4−アルキル基(該アルキル基はそれ自体カルボキシ基
またはスルホ基またはC_1〜C_4−アルコキシカル
ボニル基によって置換されていてもよい)によって置換
されていてもよい、 Pは i)ベンゼン環(該ベンゼン環はもう1つのベンゼン環
(従って、ナフチル基を形成する)または窒素原子、酸
素原子および硫黄原子から選択される1、2または3個
の複素原子を含有する5または6員の複素環式芳香族基
に縮合されていてもよい)、該ベンゼン環(またはナフ
チルの場合には、いずれかのベンゼン環)は互いに対し
てオルト位にあるR^1およびR^2によって置換され
ており、前記Rはヒドロキシ基またはその生体内で加水
分解可能なエステルを表しかつR^2はヒドロキシ基、
その生体内で加水分解可能なエステル基、カルボキシ基
、スルホ基、ヒドロキシメチル基、メタンスルホアミド
基または尿素基を表す、 ii)式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される基または iii)式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、Mは酸素原子または基NR^3を表し、該R^
3は水素原子またはC_1〜C_4−アルキル基を表す
]で示される基を表し、 環P(または環Pがベンゼン環でありかつ 別のベンゼン環に縮合されている場合には、いずれかの
ベンゼン環)は、更にC_1〜C_4−アルキル基、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシC_1〜C_4
−アルキル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ニト
ロ基、アミノ基、C_1〜C_4−アルキルアミノ基、
ジ−C_1〜C_4−アルキルアミノ基、アミノC_1
〜C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルキルアミ
ノC_1〜C_4−アルキル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルアミノC_1〜C_4−アルキル基、C_1〜
C_4−アルカノイル基、C_1〜C_4−アルコキシ
基、C_1〜C_4−アルキルチオ基、C_1〜C_4
−アルカノイルオキシ基、カルバモイル基、C_1〜C
_4−アルキルカルバモイル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルカルバモイル基、カルボキシ基、カルボキシC
_1〜C_4−アルキル基、スルホ基、スルホC_1〜
C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルカンスルホ
ンアミド基、C_1〜C_4−アルコキシカルボニル基
、C_1〜C_4−アルカノイルアミノ基、ニトロソ基
、チオウレイド基、アミジノ基、アンモニウム基、モノ
−、ジ−またはトリ−C_1〜C_4−アルキルアンモ
ニウムピリジニウム基、または1、2または3個のC_
1〜C_4−アルキル基またはC_1−C_4−アルコ
キシ基によって置換されていてもよい、酸素原子、窒素
原子および硫黄原子から選択される、1〜4個の複素原
子を有する5員の複素環を表し、 n=1または2であり、その際n=1の場 合には、YはQとPの間の共有結合、またはカルボキシ
基またはスルホ基によって置換されていてもよい(1〜
4C)アルキレン基を表すかまたはYは基: −(CH_2)m−Y’− 表し、該式中m=1または2でありかつY’は −0.CO−または−NH.CO− を表し;かつn=0である場合には、QおよびPの両者
は利用可能な炭素−炭素または炭素−窒素結合に縮合さ
れている単環式環を表す]で示される3位の置換基を有
するセファロスポリン化合物またはその塩またはエステ
ルを製造する方法において、式(XVI): ▲数式、化学式、表等があります▼(XVI) [式中R^4、X、Y、Q、Pおよびnは前記のものを
表す]で示される化合物を式(XVII): ▲数式、化学式、表等があります▼(XVII) [式中、R^5、R^6は前記のものを表す]で示され
る化合物又はその反応性誘導体と反応させ、かつ任意の
官能性基を場合により保護し、かつその後に必要に応じ
て、 i)任意の保護基を除去し、 ii)生体内で加水分解可能なエステルを形成するため
に、相応するヒドロキシ基をエステル化し、 iii)XがSである化合物を、Xがスルフィニル基で
ある化合物に転化し、またはその逆の転化を行い、 iv)製薬学的に認容される塩を形成させることを特徴
とする、セファロスポリンの製法。 13、式(XIII): ▲数式、化学式、表等があります▼(XIII) [式中、 Qは酸素原子、窒素原子および硫黄原子か ら選択される1〜4個の複素原子を有する5または6員
の複素環(該ベンゼン環はベンゼン環またはもう1つの
複素環に縮合されていてよい)を表し、該Qは可能であ
れば、正の電荷を有することができかつ利用可能な炭素
原子または窒素原子でカルボキシ基、スルホ基、C_1
〜C_4−アルコキシカルボニル基またはC_1〜C_
4−アルキル基(該アルキル基はそれ自体カルボキシ基
またはスルホ基またはC_1〜C_4−アルコキシカル
ボニル基によって置換されていてもよい)によって置換
されていてもよい、 Pは i)ベンゼン環(該ベンゼン環はもう1つのベンゼン環
(従って、ナフチル基を形成する)または窒素原子、酸
素原子および硫黄原子から選択される1、2または3個
の複素原子を含有する5または6員の複素環式芳香族基
に縮合されていてもよい)、該ベンゼン環(またはナフ
チルの場合には、いずれかのベンゼン環)は互いに対し
てオルト位にあるR^1およびR^2によって置換され
ており、前記R^1はヒドロキシ基またはその生体内で
加水分解可能なエステルを表しかつR^2はヒドロキシ
基、その生体内で加水分解可能なエステル基、カルボキ
シ基、スルホ基、ヒドロキシメチル基、メタンスルホア
ミド基または尿素基を表す、 ii)式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される基または iii)式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、Mは酸素原子または基NR^3を表し、該R^
3は水素原子またはC_1〜C_4−アルキル基を表す
]で示される基を表し、 環P(または環Pがベンゼン環でありかつ 別のベンゼン環に縮合されている場合には、いずれかの
ベンゼン環)は、更にC_1〜C_4−アルキル基、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシC_1〜C_4
−アルキル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ニト
ロ基、アミノ基、C_1〜C_4−アルキルアミノ基、
ジ−C_1〜C_4−アルキルアミノ基、アミノC_1
〜C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルキルアミ
ノC_1〜C_4−アルキル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルアミノC_1〜C_4−アルキル基、C_1〜
C_4−アルカノイル基、C_1〜C_4−アルコキシ
基、C_1〜C_4−アルキルチオ基、C_1〜C_4
−アルカノイルオキシ基、カルバモイル基、C_1〜C
_4−アルキルカルバモイル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルカルバモイル基、カルボキシ基、カルボキシC
_1〜C_4−アルキル基、スルホ基、スルホC_1〜
C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルカンスルホ
ンアミド基、C_1〜C_4−アルコキシカルボニル基
、C_1〜C_4−アルカノイルアミノ基、ニトロソ基
、チオウレイド基、アミジノ基、アンモニウム基、モノ
−、ジ−またはトリ−C_1〜C_4−アルキルアンモ
ニウムピリジニウム基、または1、2または3個のC_
1〜C_4−アルキル基またはC_1〜C_4−アルコ
キシ基によって置換されていてもよい、酸素原子、窒素
原子および硫黄原子から選択される、1〜4個の複素原
子を有する5員の複素環を表し、 n=1または2であり、その際n=1の場 合には、YはQとPの間の共有結合、またはカルボキシ
基またはスルホ基によって置換されていてもよい(1〜
4C)アルキレン基を表すかまたはYは基: −(CH_2)m−Y’− 表し、該式中m=1または2でありかつY’は −0.CO−または−NH.CO− を表し;かつn=0である場合には、QおよびPの両者
は利用可能な炭素−炭素または炭素−窒素結合に縮合さ
れている単環式環を表し、 Xは硫黄原子、酸素原子、メチレン基また はスルフィニル基を表し、 R^4は水素原子、メトキシ基またはホルムアミド基を
表し、 R^5はそれぞれ5位で弗素原子、塩素原子または臭素
原子によって置換されてもよい2−アミノチアゾール−
4−イル基または2−アミノオキサゾール−4−イル基
であり、またはR^5は5−アミノイソイチアゾール−
3−イル基、5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル基、3−アミノピラゾール−5−イル基、3
−アミノピラゾール−4−イル基、2−アミノピリミジ
ン−5−イル基、2−アミノピリド−6−イル基、4−
アミノピリミジン−2−イル基、2−アミノ−1,3,
4−チアゾール−5−イル基または5−アミノ−1−メ
チル−1,2,4−チアゾール−3−イル基であり、 R^6は式:=N.O.R^7(二重結合の回りにシン
配置を有する)を表し、該式中R^7は水素原子、(1
〜6C)アルキル基、(3〜8C)シクロアルキル基、
(1〜3C)アルキル(3〜6C)シクロアルキル基、
(3〜6C)シクロアルキル(1〜3C)アルキル基、
カルボキシ基によって置換されていてもよい(3〜6C
)アルケニル基、(5〜8C)シクロアルケニル基、(
3〜6C)アルキニル基、(2〜5C)アルキルカルバ
モイル基、フェニルカルバモイル基、ベンンジルカルバ
モイル基、(1〜4C)アルキルカルバモイル(1〜4
C)アルキル基、ジ(1〜4C)アルキルカルバモイル
(1〜4C)アルキル基、(1〜4C)ハロアルキルカ
ルバモイル(1〜4C)アルキル基、(1〜3C)ハロ
アルキル基、(2〜6C)ヒドロキシアルキル基、(1
〜4C)アルコキシ(2〜4C)アルキル基、(1〜4
C)アルキルチオ(2〜4C)アルキル基、(1〜4C
)アルカンスルフィニル(1〜4C)アルキル基、(1
〜4C)アルカンスルホニル(1〜4C)アルキル基、
(2〜6C)アミノアルキル基、(1〜4C)アルキル
アミノ(1〜6C)アルキル基、(2〜8C)ジアルキ
ルアミノ(2〜6C)アルキル基、(1〜5C)シアノ
アルキル基、3−アミノ−3−カルボキシプロピル基、
2−(アミジノチオ)エチル基、2−(N−アミノアミ
ジノチオ)エチル基、テトラヒドロピラン−2−イル基
、チエタン−3−イル基、2−オキソピロジニル基、ま
たは2−オキソテトラヒドロフラニル基であり、R^7
は式(XIV): ▲数式、化学式、表等があります▼(XIV) [式中、qは1または2でありかつR^8およびR^9
は相互に無関係に水素原子またはC_1〜C_4−アル
キル基を表す]を有し、またはR^7は式(XV): −C^1^0R^1^1−(CH_2)r−COR^1
^2(XV)[式中、rは0〜3であり、R^1^0は
水素原子、(1〜3C)アルキル基またはメチルチオ基
を表し、R^1^1は水素原子、(1〜3C)アルキル
基、(3〜7C)シクロアルキル基、シアノ基、カルボ
キシ基、(2〜5C)カルボキシアルキル基またはメタ
ンスルホニルアミノ基を表し、またはR^1^0および
R^1^1は結合してそれらが結合された炭素原子と一
緒に(3〜7C)炭素環を形成し、かつR^1^2はヒ
ドロキシ基、アミノ基、(1〜4C)アルコキシ基、(
1〜4C)アルキルアミノ基または式:NHOR^1^
3を表し、該式中R^1^3は水素原子または(1〜4
C)アルキル基を表す]を有する]で示される、3位の
置換基を有するセファロスポリン化合物またはその塩ま
たはエステルを製造する方法において、式(XVIII): ▲数式、化学式、表等があります▼(XVIII) [式中、R^4、R^5、X、Y、Q、P及びnは前記
のものを表す]で示される化合物を式: R^7ONH_2 [式中、R^7は前記のものを表す]で示される化合物
と反応させ、かつ任意の官能性基を場合により保護し、
かつその後に必要に応じて、 i)任意の保護基を除去し、 ii)生体内で加水分解可能なエステルを形成するため
に、相応するヒドロキシ基をエステル化し、 iii)XがSである化合物を、Xがスルフィニル基で
ある化合物に転化し、またはその逆の転化を行い、 iv)製薬学的に認容される塩を形成させることを特徴
とする、セファロスポリン化合物の製法。 14、式(XIII): ▲数式、化学式、表等があります▼(XIII) [式中、 Qは酸素原子、窒素原子および硫黄原子か ら選択される1〜4個の複素原子を有する5または6員
の複素環(該ベンゼン環はベンゼン環またはもう1つの
複素環に縮合されていてよい)を表し、該Qは可能であ
れば、正の電荷を有することができかつ利用可能な炭素
原子または窒素原子でカルボキシ基、スルホ基、C_1
〜C_4−アルコキシカルボニル基またはC_1〜C_
4−アルキル基(該アルキル基はそれ自体カルボキシ基
またはスルホ基またはC_1〜C_4−アルコキシカル
ボニル基によって置換されていてもよい)によって置換
されていてもよい、 Pは i)ベンゼン環(該ベンゼン環はもう1つのベンゼン環
(従って、ナフチル基を形成する)または窒素原子、酸
素原子および硫黄原子から選択される1、2または3個
の複素原子を含有する5または6員の複素環式芳香族基
に縮合されていてもよい)、該ベンゼン環(またはナフ
チルの場合には、いずれかのベンゼン環)は互いに対し
てオルト位にあるR^1およびR^2によって置換され
ており、前記R^1はヒドロキシ基またはその生体内で
加水分解可能なエステルを表しかつR^2はヒドロキシ
基、その生体内で加水分解可能なエステル基、カルボキ
シ基、スルホ基、ヒドロキシメチル基、メタンスルホア
ミド基または尿素基を表す、 ii)式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される基または iii)式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、Mは酸素原子または基NR^3を表し、該R^
3は水素原子またはC_1〜C_4−アルキル基を表す
]で示される基を表し、 環P(または環Pがベンゼン環でありかつ 別のベンゼン環に縮合されている場合には、いずれかの
ベンゼン環)は、更にC_1〜C_4−アルキル基、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシC_1〜C_4
−アルキル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ニト
ロ基、アミノ基、C_1〜C_4−アルキルアミノ基、
ジ−C_1〜C_4−アルキルアミノ基、アミノC_1
〜C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルキルアミ
ノC_1〜C_4−アルキル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルアミノC_1〜C_4−アルキル基、C_1〜
C_4−アルカノイル基、C_1〜C_4−アルコキシ
基、C_1〜C_4−アルキルチオ基、C_1〜C_4
−アルカノイルオキシ基、カルバモイル基、C_1〜C
_4−アルキルカルバモイル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルカルバモイル基、カルボキシ基、カルボキシC
_1〜C_4−アルキル基、スルホ基、スルホC_1〜
C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルカンスルホ
ンアミド基、C_1〜C_4−アルコキシカルボニル基
、C_1〜C_4−アルカノイルアミノ基、ニトロソ基
、チオウレイド基、アミジノ基、アンモニウム基、モノ
−、ジ−またはトリ−C_1〜C_4−アルキルアンモ
ニウムピリジニウム基、または1、2または3個のC_
1〜C_4−アルキル基またはC_1〜C_4−アルコ
キシ基によって置換されていてもよい、酸素原子、窒素
原子および硫黄原子から選択される、1〜4個の複素原
子を有する5員の複素環を表し、 n=1または2であり、その際n=1の場 合には、YはQとPの間の共有結合、またはカルボキシ
基またはスルホ基によって置換されていてもよい(1〜
4C)アルキレン基を表すかまたはYは基: −(CH_2)m−Y’− 表し、該式中m=1または2でありかつY’は −0.CO−または−NH.CO− を表し;かつn=0である場合には、Qおよびpの両者
は利用可能な炭素−炭素または炭素−窒素結合に縮合さ
れている単環式環を表し、 Xは硫黄原子、酸素原子、メチレン基また はスルフィニル基を表し、 R^4は水素原子、メトキシ基またはホルムアミド基を
表し、 R^5はそれぞれ5位で弗素原子、塩素原子または臭素
原子によって置換されてもよい2−アミノチアゾール−
4−イル基または2−アミノオキサゾール−4−イル基
であり、またはR^5は5−アミノイソイチアゾール−
3−イル基、5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル基、3−アミノピラゾール−5−イル基、3
−アミノピラゾール−4−イル基、2−アミノピリミジ
ン−5−イル基、2−アミノピリド−6−イル基、4−
アミノピリミジン−2−イル基、2−アミノ−1,3,
4−チアゾール−5−イル基または5−アミノ−1−メ
チル−1,2,4−チアゾール−3−イル基であり、 R^6は式:=N.O.R^7(二重結合の回りにシン
配置を有する)を表し、該式中R^7は、(1〜6C)
アルキル基、(3〜8C)シクロアルキル基、(1〜3
C)アルキル(3〜6C)シクロアルキル基、(3〜6
C)シクロアルキル(1〜3C)アルキル基、カルボキ
シ基によって置換されていてもよい(3〜6C)アルケ
ニル基、(5〜8C)シクロアルケニル基、(3〜6C
)アルキニル基、(2〜5C)アルキルカルバモイル基
、フェニルカルバモイル基、ベンンジルカルバモイル基
、(1〜4C)アルキルカルバモイル(1〜4C)アル
キル基、ジ(1〜4C)アルキルカルバモイル(1〜4
C)アルキル基、(1〜4C)ハロアルキルカルバモイ
ル(1〜4C)アルキル基、(1〜3C)ハロアルキル
基、(2〜6C)ヒドロキシアルキル基、(1〜4C)
アルコキシ(2〜4C)アルキル基、(1〜4C)アル
キルチオ(2〜4C)アルキル基、(1〜4C)アルカ
ンスルフィニル(1〜4C)アルキル基、(1〜4C)
アルカンスルホニル(1〜4C)アルキル基、(2〜6
C)アミノアルキル基、(1〜4C)アルキルアミノ(
1〜6C)アルキル基、(2〜8C)ジアルキルアミノ
(2〜6C)アルキル基、(1〜5C)シアノアルキル
基、3−アミノ−3−カルボキシプロピル基、2−(ア
ミジノチオ)エチル基、2−(N−アミノアミジノチオ
)エチル基、テトラヒドロピラン−2−イル基、チエタ
ン−3−イル基、2−オキソピロジニル基、または2−
オキソテトラヒドロフラニル基であり、R^7は式(X
IV): ▲数式、化学式、表等があります▼(XIV) [式中、qは1または2でありかつR^8およびR^9
は相互に無関係に水素原子またはC_1〜C_4−アル
キル基を表す]を有し、またはR^7は式(XV): −C^1^0R^1^1−(CH_2)r−COR^1
^2(XV)[式中、rは0〜3であり、R^1^0は
水素原子、(1〜3C)アルキル基またはメチルチオ基
を表し、R^1^1は水素原子、(1〜3C)アルキル
基、(3〜7C)シクロアルキル基、シアノ基、カルボ
キシ基、(2〜5C)カルボキシアルキル基またはメタ
ンスルホニルアミノ基を表し、またはR^1^0および
R^1^1は結合してそれらが結合された炭素原子と一
緒に(3〜7C)炭素環を形成し、かつR^1^2はヒ
ドロキシ基、アミノ基、(1〜4C)アルコキシ基、(
1〜4C)アルキルアミノ基または式:NHOR^1^
3を表し、該式中R^1^3は水素原子または(1〜4
C)アルキル基を表す]を有する]で示される、3位の
置換基を有するセファロスポリン化合物またはその塩ま
たはエステルを製造する方法において、式( XIII): ▲数式、化学式、表等があります▼(XIII) [式中、R^4、R^5、X、Q、Y、Pおよびnは前
記のものを表し、かつR^6は基: =NOR^7を表しかつR^7は水素原子以外の前記の
ものを表す]で示される化合物を式(XIX): L^1−R^1^5 [式中、L^1は離脱基を表しかつR^1^5は水素原
子以外の前記の基を表す]で示される化合物と反応させ
、かつ任意の官能性基を場合により保護し、かつその後
に必要に応じて、 i)任意の保護基を除去し、 ii)生体内で加水分解可能なエステルを形成するため
に、相応するヒドロキシ基をエステル化し、 iii)XがSである化合物を、Xがスルフィニル基で
ある化合物に転化し、またはその逆の転化を行い、 iv)製薬学的に認容される塩を形成させることを特徴
とするセファロスポリン化合物の製法。 15、式(XIII): ▲数式、化学式、表等があります▼(XIII) [式中、Qは酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選
択される1〜4個の複素原子を有する5または6員の複
素環(該ベンゼン環はベンゼン環またはもう1つの複素
環に縮合されていてよい)を表し、該Qは可能であれば
、正の電荷を有することができかつ利用可能な炭素原子
または窒素原子でカルボキシ基、スルホ基、C_1〜C
_4−アルコキシカルボニル基またはC_1〜C_4−
アルキル基(該アルキル基はそれ自体カルボキシ基また
はスルホ基またはC_1〜C_4−アルコキシカルボニ
ル基によって置換されていてもよい)によって置換され
ていてもよい、 Pは i)ベンゼン環(該ベンゼン環はもう1つのベンゼン環
(従って、ナフチル基を形成する)または窒素原子、酸
素原子および硫黄原子から選択される1、2または3個
の複素原子を含有する5または6員の複素環式芳香族基
に縮合されていてもよい)、該ベンゼン環(またはナフ
チルの場合には、いずれかのベンゼン環)は互いに対し
てオルト位にあるR^1およびR^2によって置換され
ており、前記R^1はヒドロキシ基またはその生体内で
加水分解可能なエステルを表しかつR^2はヒドロキシ
基、その生体内で加水分解可能なエステル基、カルボキ
シ基、スルホ基、ヒドロキシメチル基、メタンスルホア
ミド基または尿素基を表す、 ii)式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される基または ii)式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、Mは酸素原子または基NR^3を表し、該R^
3は水素原子またはC_1〜C_4−アルキル基を表す
]で示される基を表し、 環P(または環Pがベンゼン環でありかつ 別のベンゼン環に縮合されている場合には、いずれかの
ベンゼン環)は、更にC_1〜C_4−アルキル基、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシC_1〜C_4
−アルキル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ニト
ロ基、アミノ基、C_1〜C_4−アルキルアミノ基、
ジ−C_1〜C_4−アルキルアミノ基、アミノC_1
〜C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルキルアミ
ノC_1〜C_4−アルキル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルアミノC_1〜C_4−アルキル基、C_1〜
C_4−アルカノイル基、C_1〜C_4−アルコキシ
基、C_1〜C_4−アルキルチオ基、C_1〜C_4
−アルカノイルオキシ基、カルバモイル基、C_1〜C
_4−アルキルカルバモイル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルカルバモイル基、カルボキシ基、カルボキシC
_1〜C_4、−アルキル基、スルホ基、スルホC_1
〜C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルカンスル
ホンアミド基、C_1〜C_4−アルコキシカルボニル
基、C_1〜C_4−アルカノイルアミノ基、ニトロソ
基、チオウレイド基、アミジノ基、アンモニウム基、モ
ノ−、ジ−またはトリ−C_1〜C_4−アルキルアン
モニウムピリジニウム基、または1、2または3個のC
_1〜C__4−アルキル基またはC_1〜C_4−ア
ルコキシ基によって置換されていてもよい、酸素原子、
窒素原子および硫黄原子から選択される、1〜4個の複
素原子を有する5員の複素環を表し、 n=1または2であり、その際n=1の場 合には、YはQとPの間の共有結合、またはカルボキシ
基またはスルホ基によって置換されていてもよい(1〜
4C)アルキレン基を表すかまたはYは基: −(CH_2)m−Y’− 表し、該式中m=1または2でありかつY’は −0.CO−または−NH.CO− を表し;かつn=0である場合には、QおよびPの両者
は利用可能な炭素−炭素または炭素−窒素結合に縮合さ
れている単環式環を表し、 Xは硫黄原子、酸素原子、メチレン基また はスルフィニル基を表し、 R^4は水素原子、メトキシ基またはホルムアミド基を
表し、 R^5はそれぞれ5位で弗素原子、塩素原子または臭素
原子によって置換されてもよい2−アミノチアゾール−
4−イル基または2−アミノオキサゾール−4−イル基
であり、またはR^5は5−アミノイソイチアゾール−
3−イル基、5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル基、3−アミノピラゾール−5−イル基、3
−アミノピラゾール−4−イル基、2−アミノピリミジ
ン−5−イル基、2−アミノピリド−6−イル基、4−
アミノピリミジン−2−イル基、2−アミノ−1,3,
4−チアゾール−5−イル基または5−アミノ−1−メ
チル−1,2,4−チアゾール−3−イル基であり、 R^6は式:=N.O.R^7(二重結合の回りにシン
配置を有する)を表し、該式中R^7は水素原子、(1
〜6C)アルキル基、(3〜8C)シクロアルキル基、
(1〜3C)アルキル(3〜6C)シクロアルキル基、
(3〜6C)シクロアルキル(1〜3C)アルキル基、
カルボキシ基によって置換されていてもよい(3〜6C
)アルケニル基、(5〜8C)シクロアルケニル基、(
3〜6C)アルキニル基、(2〜5C)アルキルカルバ
モイル基、フェニルカルバモイル基、ベンンジルカルバ
モイル基、(1〜4C)アルキルカルバモイル(1〜4
C)アルキル基、ジ(1〜4C)アルキルカルバモイル
(1〜4C)アルキル基、(1〜4C)ハロアルキルカ
ルバモイル(1〜4C)アルキル基、(1〜3C)ハロ
アルキル基、(2〜6C)ヒドロキシアルキル基、(1
〜4C)アルコキシ(2〜4C)アルキル基、(1〜4
C)アルキルチオ(2〜4C)アルキル基、(1〜4C
)アルカンスルフィニル(1〜4C)アルキル基、(1
〜4C)アルカンスルホニル(1〜4C)アルキル基、
(2〜6C)アミノアルキル基、(1〜4C)アルキル
アミノ(1〜6C)アルキル基、(2〜8C)ジアルキ
ルアミノ(2〜6C)アルキル基、(1〜5C)シアノ
アルキル基、3−アミノ−3−カルボキシプロピル基、
2−(アミジノチオ)エチル基、2−(N−アミノアミ
ジノチオ)エチル基、テトラヒドロピラン−2−イル基
、チエタン−3−イル基、2−オキソピロジニル基、ま
たは2−オキソテトラヒドロフラニル基であり、R^7
は式(XIV): ▲数式、化学式、表等があります▼(XIV) [式中、qは1または2でありかつR^8およびR^9
は相互に無関係に水素原子またはC_1〜C_4−アル
キル基を表す]を有し、またはR^7は式(XV): −C^1^0R^1^1−(CH_2)r−COR^1
^2(XV)[式中、rは0〜3であり、R^1^0は
水素原子、(1〜3C)アルキル基またはメチルチオ基
を表し、R^1^1は水素原子、(1〜3C)アルキル
基、(3−7C)シクロアルキル基、シアノ基、カルボ
キシ基、(2〜5C)カルボキシアルキル基またはメタ
ンスルホニルアミノ基を表し、またはR^1^0および
R^1^1は結合してそれらが結合された炭素原子と一
緒に(3〜7C)炭素環を形成し、かつR^1^2はヒ
ドロキシ基、アミノ基、(1〜4C)アルコキシ基、(
1〜4C)アルキルアミノ基または式:NHOR^1^
9を表し、該式中R^1^3は水素原子または(1〜4
C)アルキル基を表す]を有し、 またはR^6は式:=CH.R^1^4を有することが
でき、該式中R^1^4は水素原子、ハロゲン原子、(
1〜6C)アルキル基、(3〜7C)シクロアルキル基
、(2〜6C)アルケニル基、(3〜7C)シクロアル
ケニル基、フェニル基またはベンジル基を表す]で示さ
れる、3位の置換基を有する化合物またはその塩または
エステルを製造する方法において、前記化合物の適当な
先駆物質を環化させることにより、基R^5を形成させ
、かつ任意の官能性基を場合により保護し、かつその後
に必要に応じて、 i)任意の保護基を除去し、 ii)生体内で加水分解可能なエステルを形成するため
に、相応するヒドロキシ基をエステル化し、 iii)XがSである化合物を、Xがスルフィニル基で
ある化合物に転化し、またはその逆の転化を行い、 iv)製薬学的に認容される塩を形成させることを特徴
とするセファロスポリン化合物の製法。 16、式(XVI)または式(XVII)または式(XX)
: ▲数式、化学式、表等があります▼(XVI) または ▲数式、化学式、表等があります▼(XVII) または ▲数式、化学式、表等があります▼(XX) [式中、L^2は離脱基を表し、かつ Qは酸素原子、窒素原子および硫黄原子か ら選択される1〜4個の複素原子を有する5または6員
の複素環(該ベンゼン環はベンゼン環またはもう1つの
複素環に縮合されていてよい)を表し、該Qは可能であ
れば、正の電荷を有することができかつ利用可能な炭素
原子または窒素原子でカルボキシ基、スルホ基、C_1
〜C_4−アルコキシカルボニル基またはC_1〜C_
4−アルキル基(該アルキル基はそれ自体カルボキシ基
またはスルホ基またはC_1〜C_4−アルコキシカル
ボニル基によって置換されていてもよい)によって置換
されていてもよい、 Pは i)ベンゼン環(該ベンゼン環はもう1つのベンゼン環
(従って、ナフチル基を形成する)または窒素原子、酸
素原子および硫黄原子から選択される1、2または3個
の複素原子を含有する5または6員の複素環式芳香族基
に縮合されていてもよい)、該ベンゼン環(またはナフ
チルの場合には、いずれかのベンゼン環)は互いに対し
てオルト位にあるR^1およびR^2によって置換され
ており、前記R^1はヒドロキシ基またはその生体内で
加水分解可能なエステルを表しかつR^2はヒドロキシ
基、その生体内で加水分解可能なエステル基、カルボキ
シ基、スルホ基、ヒドロキシメチル基、メタンスルホア
ミド基または尿素基を表す、 ii)式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される基または iii)式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、Mは酸素原子または基NR^3を表し、該R^
3は水素原子またはC_1〜C_4−アルキル基を表す
]で示される基を表し、 環P(または環Pがベンゼン環でありかつ 別のベンゼン環に縮合されている場合には、いずれかの
ベンゼン環)は、更にC_1〜C_4−アルキル基、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシC_1〜C_4
−アルキル基、シアノ基、トリフルオロメチル基、ニト
ロ基、アミノ基、C_1〜C_4−アルキルアミノ基、
ジ−C_1〜C_4−アルキルアミノ基、アミノC_1
〜C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルキルアミ
ノC_1〜C_4−アルキル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルアミノC_1〜C_4−アルキル基、C_1〜
C_4−アルカノイル基、C_1〜C_4−アルコキシ
基、C_1〜C_4−アルキルチオ基、C_1〜C_4
−アルカノイルオキシ基、カルバモイル基、C_1〜C
_4−アルキルカルバモイル基、ジ−C_1〜C_4−
アルキルカルバモイル基、カルボキシ基、カルボキシC
_1〜C_4−アルキル基、スルホ基、スルホC_1〜
C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルカンスルホ
ンアミド基、C_1〜C_4−アルコキシカルボニル基
、C_1〜C_4−アルカノイルアミノ基、ニトロソ基
、チオウレイド基、アミジノ基、アンモニウム基、モノ
−、ジ−またはトリ−C_1〜C_4−アルキルアンモ
ニウムピリジニウム基、または1、2または3個のC_
1〜C_4−アルキル基またはC_1〜C_4−アルコ
キシ基によって置換されていてもよい、酸素原子、窒素
原子および硫黄原子から選択される、1〜4個の複素原
子を有する5員の複素環を表し、 n=1または2であり、その際n=1の場 合には、YはQとPの間の共有結合、またはカルボキシ
基またはスルホ基によって置換されていてもよい(1〜
4C)アルキレン基を表すかまたはYは基: −(CH_2)m−Y’− 表し、該式中m=1または2でありかつY’は −0.CO−または−NH.CO− を表し;かつn=0である場合には、QおよびPの両者
は利用可能な炭素−炭素または炭素−窒素結合に縮合さ
れている単環式環を表し、 R^4は水素原子、メトキシ基またはホルムアミド基を
表し、 R^5はそれぞれ5位で弗素原子、塩素原子または臭素
原子によって置換されてもよい2−アミノチアゾール−
4−イル基または2−アミノオキサゾール−4−イル基
であり、またはR^5は5−アミノイソイチアゾール−
3−イル基、5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル基、3−アミノピラゾール−5−イル基、3
−アミノピラゾール−4−イル基、2−アミノピリミジ
ン−5−イル基、2−アミノピリド−6−イル基、4−
アミノピリミジン−2−イル基、2−アミノ−1,3,
4−チアゾール−5−イル基または5−アミノ−1−メ
チル−1,2,4−チアゾール−3−イル基であり、 R^6は式:=N.O.R^7(二重結合の回りにシン
配置を有する)を表し、該式中R^7は水素原子、(1
〜6C)アルキル基、(3〜8C)シクロアルキル基、
(1〜3C)アルキル(3〜6C)シクロアルキル基、
(3〜6C)シクロアルキル(1〜3C)アルキル基、
カルボキシ基によって置換されていてもよい(3〜6C
)アルケニル基、(5〜8C)シクロアルケニル基、(
3〜6C)アルキニル基、(2〜5C)アルキルカルバ
モイル基、フェニルカルバモイル基、ベンンジルカルバ
モイル基、(1〜4C)アルキルカルバモイル(1〜4
C)アルキル基、ジ(1〜4C)アルキルカルバモイル
(1〜4C)アルキル基、(1〜4C)ハロアルキルカ
ルバモイル(1〜4C)アルキル基、(1〜3C)ハロ
アルキル基、(2〜6C)ヒドロキシアルキル基、(1
〜4C)アルコキシ(2〜4C)アルキル基、(1〜4
C)アルキルチオ(2〜4C)アルキル基、(1〜4C
)アルカンスルフィニル(1〜4C)アルキル基、(1
〜4C)アルカンスルホニル(1〜4C)アルキル基、
(2〜6C)アミノアルキル基、(1〜4C)アルキル
アミノ(1〜6C)アルキル基、(2〜8C)ジアルキ
ルアミノ(2〜6C)アルキル基、(1〜5C)シアノ
アルキル基、3−アミノ−3−カルボキシプロピル基、
2−(アミジノチオ)エチル基、2−(N−アミノアミ
ジノチオ)エチル基、テトラヒドロピラン−2−イル基
、チエタン−3−イル基、2−オキソピロジニル基、ま
たは2−オキソテトラヒドロフラニル基であり、R^7
は式(XIV): ▲数式、化学式、表等があります▼(XIV) [式中、qは1または2でありかつR^8およびR^9
は相互に無関係に水素原子またはC_1〜C_4−アル
キル基を表す]を有し、またはR^7は式(XV): −C^1^0R^1^1−(CH_2)r−COR^1
^2(XV)[式中、rは0〜3であり、R^1^0は
水素原子、(1〜3C)アルキル基またはメチルチオ基
を表し、R^1^1は水素原子、(1〜3C)アルキル
基、(3〜7C)シクロアルキル基、シアノ基、カルボ
キシ基、(2−5C)カルボキシアルキル基またはメタ
ンスルホニルアミノ基を表し、またはR^1^0および
R^1^1は結合してそれらが結合された炭素原子と一
緒に(3〜7C)炭素環を形成し、かつR^1^2はヒ
ドロキシ基、アミノ基、(1〜4C)アルコキシ基、(
1〜4C)アルキルアミノ基または式:NHOR^1^
3を表し、該式中R^1^3は水素原子または(1〜4
C)アルキル基を表す]を有し、 またはR^6は式:=CH.R^1^4を有することが
でき、該式中R^1^4は水素原子、ハロゲン原子、(
1〜6C)アルキル基、(3〜7C)シクロアルキル基
、(2〜6C)アルケニル基、(3〜7C)シクロアル
ケニル基、フェニル基またはベンジル基を表す]で示さ
れる化合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP86402917.8 | 1986-12-23 | ||
EP86402917 | 1986-12-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63185985A true JPS63185985A (ja) | 1988-08-01 |
Family
ID=8196373
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62321636A Pending JPS63185985A (ja) | 1986-12-23 | 1987-12-21 | セフアロスポリン化合物、その製法および該化合物を含有する抗菌剤 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5057511A (ja) |
EP (1) | EP0272827A3 (ja) |
JP (1) | JPS63185985A (ja) |
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1987
- 1987-12-04 EP EP87310708A patent/EP0272827A3/en not_active Withdrawn
- 1987-12-15 US US07/133,482 patent/US5057511A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-12-21 JP JP62321636A patent/JPS63185985A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02256683A (ja) * | 1986-04-14 | 1990-10-17 | Banyu Pharmaceut Co Ltd | 新規セフアロスポリン誘導体及びその製造法 |
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---|---|---|---|---|
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Publication number | Publication date |
---|---|
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