JPS58159497A - セフエム誘導体 - Google Patents

セフエム誘導体

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JPS58159497A
JPS58159497A JP3431283A JP3431283A JPS58159497A JP S58159497 A JPS58159497 A JP S58159497A JP 3431283 A JP3431283 A JP 3431283A JP 3431283 A JP3431283 A JP 3431283A JP S58159497 A JPS58159497 A JP S58159497A
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formula
acid
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JP3431283A
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ヴアルタ−・デユルクハイマ−
デイ−テル・ボルマン
エ−ベルハルト・エ−ラ−ス
エルマル・シユリナ−
レネ・エイム
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Hoechst AG
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Hoechst AG
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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は下記の一般式(1)で示されるセフェム誘導体
に関する。
(式中bRIは水素またはアミン保護基であり、R7は
1〜4個の炭素原子乞有するアルキル基であジ; Rsは水素または生理学的に受容できる塩R1はトリア
ジニル基であり、該トリアジニル基は部分的に、または
完全に水添されていてもよく、また、低級アルキルで置
換されており、更ニ、ヒドロキシ基、オキソ基およびオ
キシド基から選択される1個以上の基で置換されておV
;そして、 一0R2基はシンー位にある。) R7がアミノ保護基である場合、必要に応じて、保護基
を除去して遊離のアミン基に変換してもよい。
1〜4個の炭素原子を有するアルキルは例えばメチル、
エチル、プロピルおよびブチルなどである。
また、R3が生理学的に受容できる塩である場合必要に
応じて遊離のカルボン酸にかえることもできるし、ある
いはこの逆に、R3が水素原子である場合、所望により
、適当な生理学的に受容できる塩に変換することもでき
る。
アミン保護基としては、ペプチド化学で知られたアミノ
保護基〔例えばツーペン−ワイル(Houben−We
yl)第ZV/1巻第46頁(1974)参照〕を使用
できる。特になかんずくノ・ロゲンあるいはシアンによ
って置換されている1〜4個のアルキル炭素原子を有す
るアルキルオキシカルボニル例、tばメトキシカルボニ
ル、第三ブチルオキシカルボニル、トリクロルエトキシ
カルボニル、シアン−第三フ゛チルオキシカルボニル、
あるいは1〜4[固のアルキル炭素原子を有するアリー
ルアルキルオキシカルボニル特ニフェニルアルキルオキ
シ力ルボニル(ここでアリール残基はまたさらに例えば
ニトロあるいは低級アルキルオキシによって置換されて
いてよい)なかんずくベンジルオキシカルボニル、p−
ニトロ−あるいはp−メトキシ−ベンジルオキシカルボ
キシ、3,5−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、
2−ビフェニル−(4)−イソプロピル−オキシカルボ
ニル、あるいはアルキルが1〜4個の炭素原子からなる
トリアルキルシリル例えばトリメチルシリル、第三ブチ
ルジメチルシリルなどを使用できる。これらの他に、ベ
ンジル、ベンズヒドリル、クロルアセチル、トリクロル
アセチルおよびトリフェニルメチルなども同様に使用で
きる。
”生理学的に受容できる塩”は例えば、アルカリあるい
はアルカリ土類イオンなかんずくナトリウム、カリウム
、カルシウムあるいはマグネシウムイオン、アンモニウ
ムイオンならびに有機アンモニウムイオン特に場合によ
っては置換されているアルキル化アンモニウムイオン例
えばトリエチルアンモニウムイオンあるいはジェタノー
ルアンモニウムイオン、ならびにモルホリンアンモニウ
ムイオン、ペンジルアスモニウムイオン、プロ力インア
ンモニウムイオン、L−アルギニンアンモニウムイオン
およびL−リジンアンモニウムイオンである。
(式中、”l p R2r R3およびR4は前記した
意味を表わす、そしてBは求核基によって交換され得る
基を表わす)を有するセフェム化合物を塩基の存在下に
一般式I(−EIR,(ここで、R6は前記に定義した
とうりのものである。)の求核性化合物と反応させるこ
とによって製造できる。
式■において、Bは特に1〜4個の炭素原子を有するア
シルオキシなかんずくアセトキシ、ノ・ロゲンなかんず
く塩素あるいは臭素、アジド基、カルバモイルオキシ基
あるいは2−メルカプト−ピリジン−N−オキシド残基
7表わし得る。交換しうる基としての前記ピリジン化合
物の使用はr Tetrahedron Letter
s J第23巻(1972)第2345頁に記載されて
いる。
上記の製造は、一般式(fV)の化合物1モルを一般式
H−8R,の化合物1モルと1反応乞妨害しない溶媒中
で反応させるようにして実施される。
求核性化合物Z過剰量使用すると収量に好ましい効果乞
与える。その際、対応するアンチ化合物が微量に出現す
るならば、これらは慣用の方法例えば再結晶により除去
され得る。
反応を妨害しない溶媒の例は水、アセトン、クロロホル
ム、ニトロベンゼン、塩化メチレン、塩化エチレン、ジ
メチルホルムアミド、メタノール。
エタノール、エーテル、テトラヒドロフラン、ジメチル
スルホキシド、あるいは反応に不利に影響しない任意の
他の溶媒である。強い極性溶媒ながんずく水が好都合で
ある。溶媒のうち、親水性溶媒なかんずくアセトン、メ
タノール、エタノール、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシドがまた水との混合物においても使用され
得る。
反応はpH範囲5〜8なかんずく中性p 値で行われる
化合物1”/(R3=水素)あるいは求核性化合物H8
−R,が遊離の形で使用される場合、反応はなかんずく
塩基例えばアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩
、アルカリ金属炭酸水素塩、例えば重炭酸ナトリウムあ
るいはカリウムのような無機塩基、トリアルキルアミン
あるいは第三アンモニウム塩基のような有機塩基の存在
下に行われる。
式(IV)の化合物およびH8−R,はまた直接その塩
の形なかんずくナトリウム塩あるいはカリウム塩の形で
用いられ得る。
反応温度は広範囲に変化してよい。大抵反応は室温ある
いは用いられている溶媒のもしくは溶媒混合物の還流温
度まで加温下に、しかしながら合目的々にはおよそ80
℃ケこえない温度で行われる。
反応媒質からの式(T)の化合物の単離は、得られる化
合物の溶解度に従った既知の方法により行われ得る。
従って例えば反応生成物は場合によっては有機溶媒Z蒸
発させて除去したのち水にとり、例えばf過あるいは遠
心分離のような相当する精製操作ののち清澄化された反
応混合物に合目的々にはおよそ化学量論的量で鉱酸を添
加することにより遊離のカルボン酸(R4=H)の形で
析出する。鉱酸としては特に希塩酸あるいは硫酸のよう
な希酸が適する。また例えばぎ酸あるいはトリフルオル
酢酸のような強い低分子有機酸、あるいはまた例工ばト
ルエンスルホン酸あるいはナフタレンスルホン酸のよう
なアリールスルホン酸もその使用が見出された。ときに
は−また溶液の凍結乾燥も適当である。
式(1)のアミドセフェム酸は大抵の場合無定形の固体
物質としてかもしくは結晶形で析出する。
これは場合によってはpH2〜1で抽出することにより
遊離の酸として分離される。抽出剤として種々の水非混
和性有機溶媒が使用され得る。例えば、塩化メチレンの
ようなハロゲン化炭化水素あるいは例えば酢酸エチルエ
ステルあるいは酢酸n−ブチルエステルのようなエステ
ル、またメチルイソブチルケトンのようなケトンである
抽出液から例えば溶媒を蒸発させ、例えばエーテルで便
利することにより、生じる式Iのアミドセフェム酸が取
得される。
所望ならば、アミノ基の一時的な保護のために加えられ
る保護基は、例えばペプチド化学に記載されているよう
な文献上知られた方法により除去され得る。例えばR1
がトリフェニルメチル基を表わす場合は、開裂は酸性媒
質中で行われる。ぎ酸と水から成る混合物特に1:1〜
4:1の割合の水とぎ酸から成る混合物が好都合である
ことが実証せられた。
遊離のアミンならびにカルボキシル基を有する式(T)
の化合物乞単離するには既知の実験室的方法により行わ
れ得る。例えばトリフェニルメチル基乞トリフェニルカ
ルビノールとして除去する場合には該トリフェニルカル
ビノールを吸引沢過し、次いで溶液ン濃縮するごとによ
り行われ得る。
得られる式(T)’Y有する酸はその生理学的に受容で
きる塩に変換され得る。特に例えばナトリウム塩のよう
なアルカリ塩にあるいは有機塩基なかんずく例えばプロ
ピオン酸のような第三アミンとの塩に変換され得る。
塩への変換は自体知られた方法で一般式(1)のカルボ
ン酸と所望の塩基例えば重炭酸ナトリウムとかあるいは
例えば酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリウム、ヘキ
サン酸ナトリウム、2−エテル−ヘキサン酸ナトリウム
あるいは酢酸カリウムのような有機カルボン酸のナトリ
ウム塩とを反応させることにより行われ得る。
例えば適当な有機溶媒を用いて析出させるかあるいは凍
結乾燥により塩を直接反応溶液から単離することも可能
である。
求核性化合物、H−8R,は公知化合物であり。
文献に記載された方法により製造できる。
出発物質として使用される一般式(IV)の化合物は、
一般式(n) (式中、B、R9およびR4は前記と同じものである。
)で示されるラクタムを一般式(1)(式中、R8およ
びR2は前記と同じものである。)を有するカルボン酸
の反応性誘導体と反応させることによって製造できる。
一般式■を有するセフェム化合物は、文献上既知である
か、あるいは文献上の記載により例えばE 、 F 、
 F’1ynn氏著rC!ephalosporins
 andPenicilコLnB r  Chem 1
Btr7  and  B1010g7  J1972
年版の記載により得られる。前記刊行物においてアンチ
位−C−から区別して全く反対にN 20 する式1の化合物を得るためには、すでに一般装置を有
する出発物質がシン化合物として存在していることに留
意するべきである。従ってシン化合物との反応に慣用の
穏和な反応条件が保持されるならば、大抵シン型の最終
生成物が得られる。それでもなお、わずかな量の対応す
るアンチ化合物が汚染物として最終生成物中に出現する
ことかたまたま起9得るが、これは所望ならば例えば再
結晶のような実験室的に知られている方法により分離さ
れ得る。
アシル化に用いられる一般式Iを有するカルボン酸は種
々の方法により製造される。
従って例えばR7が水素である式■の化合物はチオ尿素
と との反応およびそれに続くエステル基のけん化によジ得
られ、その際反応は合目的々には化学量論的量のチオ尿
素を用い室温で例えばアセトンのような含水性溶媒中桁
われ、反応は2〜3時間以下(例えば最高で約2〜3時
間)で行われるべきである。
アミン基がR3によって置換されている式Iの化合物は
、2−アミノチアゾール−4−グリオキシル−アルキル
あるいはアラルキルエステルのα−カルボニル基を一般
式H2N −OR,を有するヒドロキシルアミン化合物
と反応させ続いて得られるエステルをそれ自体知られた
方法でけん化することもできる。
この反応に用いられるアミノチアゾール−グリオキシエ
ステルの製法はドイツ特許出願第P2710902.0
 号明細書に記載されている。反応に必要なヒドロキシ
ルアミン誘導体は大抵知られているかあるいは文献上の
記載によジ容易に製造され得る。
この両成分の反応はグリオキシル酸誘導体とカルボニル
試薬との反応について文献上記載されている条件下に行
われる。
一般式璽において残基R1が容易に再び除去され得る保
護基を表わす場合、アミノ基へのその導入はアミン保護
基についてのペプチド化学で知られた方法により行われ
る〔くわしくは5chr6derLイ1bke氏等著r
 The Peptides J第1巻第3頁(196
5)参照〕。かかる基が例えばトリフェニルメチルを表
わす場合、その導入はトリフェニルクロルメタンを用い
て行われ、その際反応は合目的々に例えばハロゲン化炭
化水素のような有機溶媒中塩基の存在下に行われる。
ハロゲン化炭化水素としてはこれにはクロロホルムおよ
び塩化メチレンが好都合であることが判った。塩基とし
ては特に例えばトリエチルアミンあるいはN−メチルモ
ルホリンのような第三アミンがあげられ得る。
基−C−をシン型で包含している出発物質の製1 OR。
造に際してのみならず、また他のすべての反応に際して
も、シン型のオキシム基が何らかの理由によってアンチ
型に変化することを回避するために、シン化合物との反
応についての専門家にとって文献上知られているような
、例えば何ら高めない温度、何ら長期化しない反応時間
、酸性反応成分の実質的過剰の不存在等のような可能な
限ジ穏和で慎重な反応条件を用いるのが合目的々である
式■の化合物とのアシル化反応に用いられるアミド形成
能のある一般式I を有するカルボン酸の反応性誘導体は文献上既知の方法
によりカルボン酸から得られる。反応性誘導体の例とし
ては活性化エステル例えばP−ニトロフェニルエステル
、トリクロルフェニルススチル、アジドあるいは無水物
があげられる。カルボキシル基の好ましい活性化法は、
これを対称型無水物に変換することにある。対称型無水
物の製法は文献上知られておりペプチド化学に一般的に
用いられる方法に相轟する。例えば一般式■のカルボン
酸から例えばN、N−ジ置換カルボジイミド例えばジシ
クロへキシルカルボジイミドのような縮合剤を用いて内
部無水物を得、続いてこれを有機溶媒中で式■のアミノ
セフェムカルボン酸ト反応せしめる。
式lのカルボン酸を用いて式■の化合物をアシル化する
ことによる一般式■の化合物の製造は種々の実験条件下
例えば種々の溶媒を使用して行われ得る。溶媒としては
例えばハロゲン化炭化水素例えば塩化メチレンあるいは
クロロホルムのような有機溶媒が適するが、しかし捷だ
水、あるいは水混和性有機溶媒と水との混合物も適する
。良好な反応進行のためには弐Hのアミノラクタム誘導
体が溶液状態となっていることが合口的々である。
一般式II (R,−水素)を有するアミノセフェムカ
ルボン酸を使用する場合、化合物は塩基の存在下に溶液
となされねばならない。
7− Af:!Sならびに多数の7−アミノ−Δ8−セ
フェムー4−カルボン酸の溶解に適した塩基として無機
あるいは有機塩基があげられる。従って有機溶媒中にお
ける溶液を調製するには特にトリエチルアミン、N、N
−ジメチルアニリンあるいはN−メチルモルホリンのよ
うな第三アミンが、そして水溶液を調製するには特に重
炭酸ナトリウムあるいは重炭酸カリウムのような重炭酸
アルカリ、ならびに第三アミンが良いことが判った。塩
基は所望される反応に基づいて一般に少くとも化学量論
的量で加えられる。例えば約0.1〜2モル特に約0.
2〜0.8モル過剰の塩基は好都合であり得る。
塩基に対して感じ易い式■の化合物の際は反応進行に応
じて塩基を連続的に添加することによりpHを約4〜8
なかんずく6〜7に一定に保持せしめる。
弐■を有するアミノラクタム誘導体の溶解は広い温度範
囲で行われ得る。しかしながら合口的々には約40℃を
越えるべきではない。塩基に対して感受性の誘導体では
約O〜15℃の温度範囲を選択するのが好ましい。
溶液中あるいは場合によっては懸濁液中に存在している
式■のアミノセフェム誘導体に一般式lを有するカルボ
ン酸の活性化誘導体を加える。反応は自体知られた方法
で行われる。水あるいは水と有機溶媒からなる混合物を
反応媒質として使用する際は温度を約−5℃〜+10℃
に保持するのが好ましい。有機溶媒を使用する際はアシ
ル化はまた約65℃までなかんずく室温で行われ得る。
より良好な反応の冥施のために式1の活性化カルボン酸
誘導体を反応を妨害しない溶媒中にとり希釈した形で加
える。アシル化を水性媒質中で行う場合、例えばアセト
ンあるいはメチルエチルケトンのような無水ケトン、あ
るいははげしい攪拌下に例えばジエチルエーテルあるい
はジイソプロピルエーテルのようなエーテルが活性化カ
ルボン酸誘導体の溶媒として使用され得る。
アシル化が非水性媒質中で行われる場合、アシル化に使
用されるのと同じ溶媒を酸誘導体の希釈に用いることが
好ましい。
式■を有する活性化酸誘導体は高収量達成のためには少
くとも化学量論的量で用いられる。約5〜25チの過剰
が合目的々であることが証明され得る。
別法として、本願発明の化合物は、第3位に置換トリア
ジニル基を有する一般式(It)のラクタムを一般式(
1)のカルボン酸反応性誘導体と反応させることによっ
ても製造できる。
本発明による一般式(1)の化合物は価値ある化学療法
剤であって、グラム陽性およびグラム陰性細菌に対して
驚くほど強い抗菌作用を有し、ペニシリナーゼ形成性ぶ
どう球菌に対して予期しないほど良く奏効し、そしてま
た一部制菌作用を示す。
一般式(1)を有する化合物は、既知のセファロスポリ
ンがほとんど効力がない系列の細菌に対して注目に値い
する抗微生物活性においてすぐれている。
式(T)の化合物はさらに、好ましい毒物学的および薬
理学的性質を示すので、これらは感染性疾患の治療に対
する価値ある抗微生物作用を表わす。
本発明による生成物はまた他の有効成分例えばペニシリ
ン、アミノグリコシド、セファロスポリン、アミノグリ
コシドの系列あるいは、例えば解熱剤、鎮痛剤あるいは
消炎剤のような細菌感染の系列に影響する化合物と組み
合せて使用され得る。
一般式(T)の化合物は経口、筋肉内あるいは静脈内に
投与され得る。
一般式(1)の化合物の1種もしくはそれ以上を有効成
分として包含している医薬製剤は、一般式(1)を有す
る化合物を1種もしくはそれ以上の薬理学的に受容され
得る担体物質あるいは希釈剤、例えば光てん剤、乳化剤
、滑沢剤、味覚矯正剤、着色物質あるいは緩衝物質と混
合し、例えば錠剤、糖衣錠、カプセルのような適当なガ
レヌス製剤あるいは非経口投与に適した溶液もしくは懸
濁液となすことにより調製され得る。担体あるいは希釈
剤としては例えばトラガカント、乳糖、タルク、寒天、
ポリグリコール、エタノールおよび水があげられる。非
経口投与にはなかんずく懸濁iあるいは溶液があげられ
る。作用物質なそのままで担体あるいは希釈剤なしで適
当な形例えばカプセル中にて投与することも可能である
一般式Iの化合物の適当な用量は体重およそ60tの成
人につき1日当りおよそ0.4〜20Fなかんずく0.
5〜4yである。1回量あるいは一般に数回量で投与さ
れ得、その際1回量は作用物質をおよそ50〜1000
qの量なかんずく100〜500111Nの量で包含し
うる。
以下、実施例をあげて本発明の式(I)の化合物の製造
を例証する。
実施例1 7−β−(:2−(2−アミノ−チアゾール−4−イル
)−2−シン−メトキシイミノ−アセトアミド)−3−
(4−エチル−6−ヒドロキシ−5−オキンー1.2.
4−)リアジン−3−イル−チオメチル)−セファ−3
−エム−4−カルボン酸7−β−(2−(2−アミノ−
チアゾール−4−イル)−2−シン−メトキシイミノ−
アセトアミド〕−セファロスポラン酸2.3F(5ミリ
モル)を当モル量の炭酸水素す) IJウムと共に水5
0wLt中に溶解させる。これに水30d中の4−エチ
ル−6−ヒドロキシ−3−メルカプト−5−オキソ−1
,2,4−)リアジン623■(3,6ミリモル)およ
び当モル量の炭酸水素ナトリウムの溶液に加え、必要な
らばIN炭酸水素ナトリウム溶液を添加することによp
p6.8〜7.2に調整する。
この溶液を攪拌下にpHす一定に保持して4時間60℃
に加温する。20℃に冷却後2n塩酸を用いてp 5に
調整し、酢酸エチルで抽出し続いて水相を2n塩酸を用
いてpH2,0に酸性化する。
沈澱をe過し水洗しそして真空下に37℃で水酸化カリ
ウムで乾燥する。上記表題の化合物602■が単離され
る。
Rr:o、18(酢酸エテル:メタノール:氷酢酸=2
0101) 工R(KBr):  1766z二1(β−ラクタムの
吸収帯)NMR(d、−DMSo 、60 MHz)δ
= 1.14 ppm (t 、 3H、−N−a−a
H,)δ= 3.77 ppm (s 、 = N−Q
C!H,)δ= 4.07 ppm (cl 、 −N
−C1H,−〇 )δ=5.O7ppm (d、、IH
,6−CH−)δ= 5.74 ppm (q 、 I
 H、7−OH−)δ=7.14ppm (s 、幅広
い、2H1−NH2)δ=9.53 ppm  (a 
、 I H、−Co−NH−)実施例2 7−β−C2−C2−アミノ−チアゾール−4−(ル)
−2−シン−メトキシイミノ−アセトアミド]−5−(
6−ヒドロキシ−4−メチル−5−オキンー1.2.4
−)リアジン−3−イル−チオメチル)−セファ−3−
エム−4−カルボン酸の製造 7−β−(2−(2−アミノ−チアゾール−4−イル)
−2−シン−メトキシイミノ−アセトアミド〕−セファ
ロスポラン酸2.3F(5ミリモル)を当モル量の炭酸
水素ナトリウムと共に水50*1中に溶解させる。これ
に水30−中の6−ヒドロキシ−3−メルカプト−4−
メチル−5−オキソ−1,2,4−)リアジン572!
&y(3,6ミリモル)および当モル量の炭酸水素ナト
リウムの溶液に加え、必要ならばIN炭酸水素ナトリウ
ム溶液を添加することによりT)H6,8〜7.2に調
整する。
この溶液を攪拌下にpHを一定に保持して4時間60℃
に1.+n温する。つぎにヒh己のチオール200ツ(
1,26ミリ(ル)をもう一度加えそして65℃でさら
に6時間加熱する。20℃に冷却′f&2n塩酸を用い
てpH5に調整し、酢酸エチルで抽出し続いて水相を2
n塩酸を用いてpH2,oに酸性化する。沈殿を沢過し
水洗しそして真空下に37℃で水酸化カリウムで乾燥す
る。
標記化合物818■が分取される。
Rf:o、19(酢酸エチル:メタノール:氷酢酸=2
01(1:1) IR(KBr): 1160cm ” (β−ラクタム
の吸収帯)NMR(d、−DMSo 、60 MH2)
δ= 3.28 ppm (s 、−N−CH,)δ=
 3.82 ppm (e 、 = N−0C/H,)
δ=5.10 ppm (d−、IH、6−CH−)δ
=5.73ppm (q、IH,7−0H−)δ−7.
16ppm(幅広い、 2Ti 、  NHz)δ= 
9.54 ppm (d、 IH、−Co−N)(−)
特許 出 願人 ヘキスト・アクナーエンゲゼルシャフ
ト第1頁の続き 優先権主張 @1977年4月15日e■西ドイツ(D
E)■P2716707゜3 ■発 明 者 エルマル・シュリナー 西ドイツ国ヴイースバーデン・ ヘッドウイツヒシュトラーセ2 番 @発 明 者 レネ・ニイム フランス国ロマンヴイル・リュ ジャンジョレス72番

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記の一般式(T)で示されるセフェム誘導体。 HR4 (式中、R1は水素またはアミン保護基であり;R2は
    1〜4個の炭素原子を有するアルキル基であジ; R3は水素または生理学的に受容できる塩であジ; R4は水素であり; R6はトリアジニル基であり、該トリアジニル基は部分
    的に、または完全に水添されていてもよく、また、低級
    アルキルで置換されており、更に、ヒドロキシ基、オキ
    ソ基およびオキシド基から選択される1個以上の基で置
    換されておジ;そして、 −OR,基はシンー位にある。)
JP3431283A 1977-04-02 1983-03-02 セフエム誘導体 Granted JPS58159497A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2714880.7 1977-04-02
DE19772714880 DE2714880A1 (de) 1977-04-02 1977-04-02 Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung
DE2716707.3 1977-04-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58159497A true JPS58159497A (ja) 1983-09-21
JPS6228154B2 JPS6228154B2 (ja) 1987-06-18

Family

ID=6005524

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