JPS6055503B2 - 新規置換ベンズアミド，その製造法およびこれを有効成分とする鎮吐剤 - Google Patents
新規置換ベンズアミド，その製造法およびこれを有効成分とする鎮吐剤Info
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- JPS6055503B2 JPS6055503B2 JP51067553A JP6755376A JPS6055503B2 JP S6055503 B2 JPS6055503 B2 JP S6055503B2 JP 51067553 A JP51067553 A JP 51067553A JP 6755376 A JP6755376 A JP 6755376A JP S6055503 B2 JPS6055503 B2 JP S6055503B2
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
- C07D295/12—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms
- C07D295/125—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms with the ring nitrogen atoms and the substituent nitrogen atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings
- C07D295/13—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms with the ring nitrogen atoms and the substituent nitrogen atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings to an acyclic saturated chain
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- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P1/00—Drugs for disorders of the alimentary tract or the digestive system
- A61P1/08—Drugs for disorders of the alimentary tract or the digestive system for nausea, cinetosis or vertigo; Antiemetics
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D207/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D207/08—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms, attached to ring carbon atoms
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、新規置換ベンズアミド、その第４級アンモ
ニウム塩、その酸化物、その薬理的に許容される酸付加
塩および右施性もしくは左施性光学異性体、ならびにそ
の製造法に関し、さらに本発明の置換ベンズアミド類を
有効成分とする医薬に関する。
ニウム塩、その酸化物、その薬理的に許容される酸付加
塩および右施性もしくは左施性光学異性体、ならびにそ
の製造法に関し、さらに本発明の置換ベンズアミド類を
有効成分とする医薬に関する。
この発明による置換ベンズアミド類は、
一般式
〔式中、Ａは低級アルキル基、ｘは水素原子、ハロゲン
原子、低級アルキルスルホニル基、スルファモイル基ま
たはモノないしジ低級アルキルスルファモイル基、Ｙは
水素原子、ニトロ基またはアミノ基、Ｗは直鎖状もしく
は分枝状の低級アルキレン基、ＢはＮ 基にこでＲ１
は低級アルキル基、Ｒ２はヒドロキシ低級アルキル基を
意味する。
原子、低級アルキルスルホニル基、スルファモイル基ま
たはモノないしジ低級アルキルスルファモイル基、Ｙは
水素原子、ニトロ基またはアミノ基、Ｗは直鎖状もしく
は分枝状の低級アルキレン基、ＢはＮ 基にこでＲ１
は低級アルキル基、Ｒ２はヒドロキシ低級アルキル基を
意味する。
）、４−ヒドロキシ低級アルキル基−１−ピペラジニル
基または一般式 （ここでＲはヒドロキシ低級アルキル基、低級アルカノ
イル基またはベンズヒドリロキシ低級アルキル基をそれ
ぞれ意味する。
基または一般式 （ここでＲはヒドロキシ低級アルキル基、低級アルカノ
イル基またはベンズヒドリロキシ低級アルキル基をそれ
ぞれ意味する。
）で示Δれるラセミ刑、六旌惜ム１．イ１ｆた書任乎蛍
異性の複素環基をそれぞれ意味する。
異性の複素環基をそれぞれ意味する。
〕で示される置換ベンズアミド、その第４級アンモニウ
ム塩、その酸化物、その薬理的に許容される酸付加塩お
よびその右施性もしくは左施性光学異性体である。
ム塩、その酸化物、その薬理的に許容される酸付加塩お
よびその右施性もしくは左施性光学異性体である。
この発明による置換ベンズアミドは、
一般式
〔式中、Ａ，．ＸおよびＹは前記と同意義、Ｄは水７酸
基または有機残基を意味する。
基または有機残基を意味する。
〕で示される化合物に、
一般式
〔式中、ＷおよびＢは前記と同意義である。
〕）で示されるアミンまたはその反応性誘導体を反応さ
せて得られ、必要に応じてその第４級アンモニウム塩、
その酸化物またはその薬理的に許容される酸付加塩に導
かれる。この発明の化合物において、Ａ．．ＸおよびＢ
・（Ｒ１、Ｒ２およびＲ）における低級アルキル基とし
ては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピルなどＣ
１〜５のアルキル基が例示され、Ｗの低級アルキレン基
としては−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）一、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｃ
Ｈ２−などの基が例示され、Ｒの低級アルカノイル基と
してはアセチル基、プロピオニル基などが例示される。
せて得られ、必要に応じてその第４級アンモニウム塩、
その酸化物またはその薬理的に許容される酸付加塩に導
かれる。この発明の化合物において、Ａ．．ＸおよびＢ
・（Ｒ１、Ｒ２およびＲ）における低級アルキル基とし
ては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピルなどＣ
１〜５のアルキル基が例示され、Ｗの低級アルキレン基
としては−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）一、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｃ
Ｈ２−などの基が例示され、Ｒの低級アルカノイル基と
してはアセチル基、プロピオニル基などが例示される。
出発化合物（■）において、Ｄて表わされる有機残基は
、反応性酸誘導体を形成できる基であればよく、その例
としては、メチルエステル、エチルエステル、プロピル
エステル、ブチルエステル、イソブチルエステル、ペン
チルエステル、イソペンチルエステル等の低級アルキル
エステル類またはシアノメチルエステル、メトキシメチ
ルエステルもしくはＮ−ヒドロキシイミドエステルなど
の反応性エステル類または適宜置換された芳香族エステ
ル類；酸ハロゲン化物；酸ヒドラジド；酸アジド；対称
型酸無水物；例えば炭酸エステルもしくはハロホルムエ
ステルで形成せられる混合酸無水物；トリアゾリド、テ
トラゾリドもしくはィミダゾリドなどのアゾリド；酸イ
ソチオシアネート；ω一置換トリハロアセトフエノン類
：α一置換オキソベンゼンアセトニトリル；核置換ベン
ズアミド等が挙げられる。
、反応性酸誘導体を形成できる基であればよく、その例
としては、メチルエステル、エチルエステル、プロピル
エステル、ブチルエステル、イソブチルエステル、ペン
チルエステル、イソペンチルエステル等の低級アルキル
エステル類またはシアノメチルエステル、メトキシメチ
ルエステルもしくはＮ−ヒドロキシイミドエステルなど
の反応性エステル類または適宜置換された芳香族エステ
ル類；酸ハロゲン化物；酸ヒドラジド；酸アジド；対称
型酸無水物；例えば炭酸エステルもしくはハロホルムエ
ステルで形成せられる混合酸無水物；トリアゾリド、テ
トラゾリドもしくはィミダゾリドなどのアゾリド；酸イ
ソチオシアネート；ω一置換トリハロアセトフエノン類
：α一置換オキソベンゼンアセトニトリル；核置換ベン
ズアミド等が挙げられる。
もつともこの本発明は上記のものに限定されるものでは
ない。この発明の方法によれば、アミン（■）は、その
反応性誘導体（必要に応じて単離されていてもよい。
ない。この発明の方法によれば、アミン（■）は、その
反応性誘導体（必要に応じて単離されていてもよい。
）の状態で反応に供されることが好ましい。例えば（ａ
）アミンと、塩化燐またはオキシ塩化燐またはジアルキ
ルクロロホスファイトまたはジアリルクロロホスファイ
トまたはオルトフェニレンクロロホスファイトまたはア
ルキルもしくはアリルジクロロホスファイトとの反応生
成物、（ｂ）アミンのイソシアネート、（ｃ）アミンの
対称型もしくは非対称型のスルファミド、（ｄ）相当す
る対称型の尿素、（ｅ）相当するエナミン類などが挙げ
られる。上記の反応性誘導体は、そのままで、または予
め単離した後、酸と反応される。この発明の方法はまた
、例えば四塩化珪素、無水燐酸、ジシクロヘキシルカル
ボジイミドのようなりルボジイミド、メトキシアセチレ
ンもしくはエトキシアセチレンなどのアルコキシアセチ
レンなどの縮合剤の存在下で遊離酸ど遊離アミンとを反
応させてもよい。
）アミンと、塩化燐またはオキシ塩化燐またはジアルキ
ルクロロホスファイトまたはジアリルクロロホスファイ
トまたはオルトフェニレンクロロホスファイトまたはア
ルキルもしくはアリルジクロロホスファイトとの反応生
成物、（ｂ）アミンのイソシアネート、（ｃ）アミンの
対称型もしくは非対称型のスルファミド、（ｄ）相当す
る対称型の尿素、（ｅ）相当するエナミン類などが挙げ
られる。上記の反応性誘導体は、そのままで、または予
め単離した後、酸と反応される。この発明の方法はまた
、例えば四塩化珪素、無水燐酸、ジシクロヘキシルカル
ボジイミドのようなりルボジイミド、メトキシアセチレ
ンもしくはエトキシアセチレンなどのアルコキシアセチ
レンなどの縮合剤の存在下で遊離酸ど遊離アミンとを反
応させてもよい。
この発明のアミド化反応は、溶媒の存在下または不存在
下で行なわれる。
下で行なわれる。
溶媒として使用される系は、アミド化反応に不活性なも
のであつて、例えばアルコール類、ポリオール類、ベン
ゼン、トルエン、ジオキサン、クロロホルム、またはジ
エチレングリコールジメチルエーテルなどが挙げられる
。又出発物質として使用するアミンの過剰量を溶媒とし
て使用することもできる。アミド化反応中は、反応混合
物を例えば上記溶媒の沸点に加熱するのが好ましい。ま
た、アミド化反応における反応温度は特に限定されるも
のではなく、反応剤、溶媒等によつて適宜選択される。
のであつて、例えばアルコール類、ポリオール類、ベン
ゼン、トルエン、ジオキサン、クロロホルム、またはジ
エチレングリコールジメチルエーテルなどが挙げられる
。又出発物質として使用するアミンの過剰量を溶媒とし
て使用することもできる。アミド化反応中は、反応混合
物を例えば上記溶媒の沸点に加熱するのが好ましい。ま
た、アミド化反応における反応温度は特に限定されるも
のではなく、反応剤、溶媒等によつて適宜選択される。
この発明によつて得られた化合物は、必要に応じて塩酸
、臭化水素酸、硫酸、燐酸、蓚酸、酢酸、酒石酸、クエ
ン酸、またはメタンスルホン酸等の薬理的に許容し得る
無機酸または有機酸と反応させて、酸付加塩に導かれる
。
、臭化水素酸、硫酸、燐酸、蓚酸、酢酸、酒石酸、クエ
ン酸、またはメタンスルホン酸等の薬理的に許容し得る
無機酸または有機酸と反応させて、酸付加塩に導かれる
。
また、この化合物は、必要に応じてハロゲン化アルキル
または硫酸アルキルと反応させて第４級アンモニウム塩
に導かれる。
または硫酸アルキルと反応させて第４級アンモニウム塩
に導かれる。
さらに必要に応じて酸化物に導かれ、または、光学的に
分割されることもある。この発明の技術的特徴を例示す
るために、以下にこの発明の本発明を記載するが、本発
明はこれらの操作方法およびこれらが適用せられる用途
に限定されるものではない。
分割されることもある。この発明の技術的特徴を例示す
るために、以下にこの発明の本発明を記載するが、本発
明はこれらの操作方法およびこれらが適用せられる用途
に限定されるものではない。
実施例１
Ｎ−（１−（２″−ヒドロキシエチル）−２−ピロリジ
ニルメチル）−２−メトキシー５−スルファモイルベン
ズアミド２５０ｍ１フラスコに、２−メトキシー５−ス
ルファモイル安息香酸エチル４８ｙと水１７ｙと１−（
２−ヒドロキシエチル）−２−アミノメチルピロリジン
３２ｆを導入する。
ニルメチル）−２−メトキシー５−スルファモイルベン
ズアミド２５０ｍ１フラスコに、２−メトキシー５−ス
ルファモイル安息香酸エチル４８ｙと水１７ｙと１−（
２−ヒドロキシエチル）−２−アミノメチルピロリジン
３２ｆを導入する。
この混合物を、試料が希酢酸に完全に溶けるまで水浴上
で加熱する。この溶液を冷却して３００ｍ１の水て希釈
する。生成した結晶を吸引ろ過して取り出し、水洗し、
４０℃で乾燥する。得た置換ベンズアミドを酢酸塩に変
え、次いで塩基を遊離して精製する。Ｎ−（１−（２″
−ヒドロキシエチル）−２−ピロリジニルメチル）−２
−メトキシー５−スルファモイルベンズアミド３９ｙが
得られた（収率：５９％、融点１３５〜１３６℃）。
で加熱する。この溶液を冷却して３００ｍ１の水て希釈
する。生成した結晶を吸引ろ過して取り出し、水洗し、
４０℃で乾燥する。得た置換ベンズアミドを酢酸塩に変
え、次いで塩基を遊離して精製する。Ｎ−（１−（２″
−ヒドロキシエチル）−２−ピロリジニルメチル）−２
−メトキシー５−スルファモイルベンズアミド３９ｙが
得られた（収率：５９％、融点１３５〜１３６℃）。
実施例２
Ｎ−（１−（３″−ヒドロキシプロピル）−２ーピロリ
ジニルメチル）−２−メトキシー５−エチルスルホニル
ベンズアミド●塩酸塩２５０ｍ１フラスコ中に、２−メ
トキシー５−エチルスルホニル安息香酸メチル３８．８
ｆ１水１３．５ｍ１、１−（３−ヒドロキシプロピル）
−２−アミノメチルピロリジン２＆４ｆＩを導入する。
ジニルメチル）−２−メトキシー５−エチルスルホニル
ベンズアミド●塩酸塩２５０ｍ１フラスコ中に、２−メ
トキシー５−エチルスルホニル安息香酸メチル３８．８
ｆ１水１３．５ｍ１、１−（３−ヒドロキシプロピル）
−２−アミノメチルピロリジン２＆４ｆＩを導入する。
この混合物を８５〜９０℃の温度で１叫間加熱する。蒸
発後、この）残渣を２００ｍ１のエタノールに溶解し、
この溶液をアルコール性塩酸でＰＨｌの酸性にする。テ
トラヒドロフランを添加し、生成した結晶を枦取し、洗
浄し、乾燥室中５０℃で乾燥する。アルコールからの再
結晶によつて、Ｎ−（１−（３″−ヒドロキシ）プロピ
ル）−２−ピロリジニルメチル）−２−メトキシー５−
エチルスルホニルベンズアミド●塩酸塩３５Ｖが得られ
た（収率：５５．５％、融点：１８４〜１８６ＶＣ）。
実施例３ Ｎ−（１″−アセチルー７−ピロリジニルメチル）−２
−メトキシー５−スルファモイルベンズアミド２−メト
キシー５−スルファモイル安息香酸エチル４８ｙとＮ−
アセチルー２−アミノメチルピロリジン３１．５ｙとを
前記と同様に反応させると、Ｎ一（１″−アセチルー７
−ピロリジニルメチル）一２−メトキシー５−スルファ
モイルベンズアミド３４．５ｙが得られた（収率：５２
．５％、融点：２０４℃）。
発後、この）残渣を２００ｍ１のエタノールに溶解し、
この溶液をアルコール性塩酸でＰＨｌの酸性にする。テ
トラヒドロフランを添加し、生成した結晶を枦取し、洗
浄し、乾燥室中５０℃で乾燥する。アルコールからの再
結晶によつて、Ｎ−（１−（３″−ヒドロキシ）プロピ
ル）−２−ピロリジニルメチル）−２−メトキシー５−
エチルスルホニルベンズアミド●塩酸塩３５Ｖが得られ
た（収率：５５．５％、融点：１８４〜１８６ＶＣ）。
実施例３ Ｎ−（１″−アセチルー７−ピロリジニルメチル）−２
−メトキシー５−スルファモイルベンズアミド２−メト
キシー５−スルファモイル安息香酸エチル４８ｙとＮ−
アセチルー２−アミノメチルピロリジン３１．５ｙとを
前記と同様に反応させると、Ｎ一（１″−アセチルー７
−ピロリジニルメチル）一２−メトキシー５−スルファ
モイルベンズアミド３４．５ｙが得られた（収率：５２
．５％、融点：２０４℃）。
実施例４
Ｎ−（Ｎ″一エチルーＮ″−（７−ヒドロキシエチル）
アミノエチル）−２−メトキシー４−アミノー５−クロ
ロベンズアミド２５０ｍ１フラスコに、２−メトキシー
４−アミノー５−クロロ安息香酸６．１ｙと、Ｎ−エチ
ルーＮ一２−ヒドロキシエチルエチレンジアミンとを導
入する。
アミノエチル）−２−メトキシー４−アミノー５−クロ
ロベンズアミド２５０ｍ１フラスコに、２−メトキシー
４−アミノー５−クロロ安息香酸６．１ｙと、Ｎ−エチ
ルーＮ一２−ヒドロキシエチルエチレンジアミンとを導
入する。
この混合物を１００℃に加熱し、次いで無水燐酸６．５
ダを添加する。この混合物を注意して１１０℃迄加熱し
、次いて温度を１５０〜１６０℃に急速に上げる。この
温度を半時間維持し、そして１００℃に冷却後、１００
ｍ１の水を加える。各成分が完全に溶解した後、ソーダ
（炭酸ナトリウム）を加える。この混合物を冷却し、析
出物を枦取し、水で洗浄して乾燥する。Ｎ−（Ｎ″一エ
チルーＮ゛−（７−ヒドロキシエチル）アミノエチル）
−２−メトキシー４−アミノー５−クロロベンズアミド
６．６ｙが得られた（収率：６９．８％、融点：１１１
〜１１７Ｃ）。
ダを添加する。この混合物を注意して１１０℃迄加熱し
、次いて温度を１５０〜１６０℃に急速に上げる。この
温度を半時間維持し、そして１００℃に冷却後、１００
ｍ１の水を加える。各成分が完全に溶解した後、ソーダ
（炭酸ナトリウム）を加える。この混合物を冷却し、析
出物を枦取し、水で洗浄して乾燥する。Ｎ−（Ｎ″一エ
チルーＮ゛−（７−ヒドロキシエチル）アミノエチル）
−２−メトキシー４−アミノー５−クロロベンズアミド
６．６ｙが得られた（収率：６９．８％、融点：１１１
〜１１７Ｃ）。
実施例５Ｎ−（１−（７−ベンズヒドリロキシエチル）
一２−ピロリジニルメチル）−２−メトキシー５−スル
ファモイルベンズアミド４１フラスコに、１−（７−ベ
ンズヒドリロキシエチル）−２−アミノメチルピロリジ
ン９９ｙＳと、メチルエチルケトン５００ｍ１を導入す
る。
一２−ピロリジニルメチル）−２−メトキシー５−スル
ファモイルベンズアミド４１フラスコに、１−（７−ベ
ンズヒドリロキシエチル）−２−アミノメチルピロリジ
ン９９ｙＳと、メチルエチルケトン５００ｍ１を導入す
る。
この混合物を１５℃に冷却し、２−メトキシー５−スル
ファモイルベンゾイルクロライド８０ｆとメチルエチル
ケトン１５００ｗＬｔとの溶液を添加する。この混合物
を室温で２時間攪拌する。生成した析出物を枦グ取し、
少量のメチルエチルケトンで洗浄し、乾燥する。得た塩
酸塩を高温のうちにアンモニアでアルカリ性にし、生成
物を冷却によつて結晶化させる。この結晶を炉取し、洗
浄し、乾燥室中５０Ｃで乾燥する。エタノールがら再結
晶させ、カーボン・ブラックで淵過し、乾燥してＮ−（
１一（７−ベンズヒドリロキシエチル）−２−ピロリジ
ニルメチル）−２−メトキシー５−スルファモイルベン
ズアミド８８ｙを得た（収率：５２．６％、融点：１２
４℃）。実施例６ １−（２゛−メトキシー４″−ニトロベンズアミドプロ
ピル）−４−ヒドロキシエチルピペラジン１ｅフラスコ
に、１−（２′−ヒドロキシエチル）−４−（３″−ア
ミノプロピル）ピペラジン４５ｆとクロロホルム１８０
ｍ１を導入する。
ファモイルベンゾイルクロライド８０ｆとメチルエチル
ケトン１５００ｗＬｔとの溶液を添加する。この混合物
を室温で２時間攪拌する。生成した析出物を枦グ取し、
少量のメチルエチルケトンで洗浄し、乾燥する。得た塩
酸塩を高温のうちにアンモニアでアルカリ性にし、生成
物を冷却によつて結晶化させる。この結晶を炉取し、洗
浄し、乾燥室中５０Ｃで乾燥する。エタノールがら再結
晶させ、カーボン・ブラックで淵過し、乾燥してＮ−（
１一（７−ベンズヒドリロキシエチル）−２−ピロリジ
ニルメチル）−２−メトキシー５−スルファモイルベン
ズアミド８８ｙを得た（収率：５２．６％、融点：１２
４℃）。実施例６ １−（２゛−メトキシー４″−ニトロベンズアミドプロ
ピル）−４−ヒドロキシエチルピペラジン１ｅフラスコ
に、１−（２′−ヒドロキシエチル）−４−（３″−ア
ミノプロピル）ピペラジン４５ｆとクロロホルム１８０
ｍ１を導入する。
２−メトキシー４−ニトロベンゾイルクロライド５１Ｖ
の溶液を５〜１０℃の温度でこの混合物へ注入する。
の溶液を５〜１０℃の温度でこの混合物へ注入する。
注入７の最後でこの混合物を室温に導き、ついで１時間
から１時間１紛の間４０〜４５℃で加熱する。水を加え
て、クロロホルムを蒸発させる。カーボン・ブラックを
使つて、得た溶液をろ過し、炭酸カリウム５０ｙを加え
てベンズアミド塩基を析出させる。・傾瀉させた後、生
成物を塩化メチルに溶解し、そして水溶液を塩化メチレ
ンて抽出する。有機相を炭酸カリウムで乾燥し、次いで
塩化メチレンを減圧で蒸溜する。
から１時間１紛の間４０〜４５℃で加熱する。水を加え
て、クロロホルムを蒸発させる。カーボン・ブラックを
使つて、得た溶液をろ過し、炭酸カリウム５０ｙを加え
てベンズアミド塩基を析出させる。・傾瀉させた後、生
成物を塩化メチルに溶解し、そして水溶液を塩化メチレ
ンて抽出する。有機相を炭酸カリウムで乾燥し、次いで
塩化メチレンを減圧で蒸溜する。
塩酸塩を形成し、さらにアンモニアで処理して、油状の
ベンズアミドを精製する。１−（２″−メトキシー４″
−ニトロベンズアミドプロピル）−４−ヒドロキシエチ
ルピペラジン５９ｙが油状物で得られた（収率：６７．
２％）。
ベンズアミドを精製する。１−（２″−メトキシー４″
−ニトロベンズアミドプロピル）−４−ヒドロキシエチ
ルピペラジン５９ｙが油状物で得られた（収率：６７．
２％）。
非水溶液媒体での過塩素酸による定量分析の結果、純度
９７．８％であつた。実施例７ Ｎ−（１−（７−ヒドロキシエチル）−２−ピロリジニ
ルメチル）−２−メトキシー５−エチルスルホニルベン
ズアミド●塩酸塩５００ｍ１のフラスコに、１−（２−
ヒドロキシエチル）−２−アミノメチルピロリジン３９
ｙとメチルエチルケトン２５０ｍ１を導入し、温度を５
〜１０に維持しながら２−メトキシー５−エチルスルホ
ニルベンゾイルクロライド７０ｇを添加する。
９７．８％であつた。実施例７ Ｎ−（１−（７−ヒドロキシエチル）−２−ピロリジニ
ルメチル）−２−メトキシー５−エチルスルホニルベン
ズアミド●塩酸塩５００ｍ１のフラスコに、１−（２−
ヒドロキシエチル）−２−アミノメチルピロリジン３９
ｙとメチルエチルケトン２５０ｍ１を導入し、温度を５
〜１０に維持しながら２−メトキシー５−エチルスルホ
ニルベンゾイルクロライド７０ｇを添加する。
一晩中攪拌した後、結晶生成物を吸引沖過により取り出
し、メチルエチルケトンで洗浄して４５℃で乾燥する。
粗生成物を９５℃で、２００ｍ１のアルコール中で再結
晶する。Ｎ−（１−（７−ヒドロキシエチル）−２−ピ
ロリジニルメチル）−２−メトキシコ一５−エチルスル
ホニルベンズアミド●塩酸塩７３ｆが得られた（収率：
６６．５％、融点：１７５〜１７８℃）。
し、メチルエチルケトンで洗浄して４５℃で乾燥する。
粗生成物を９５℃で、２００ｍ１のアルコール中で再結
晶する。Ｎ−（１−（７−ヒドロキシエチル）−２−ピ
ロリジニルメチル）−２−メトキシコ一５−エチルスル
ホニルベンズアミド●塩酸塩７３ｆが得られた（収率：
６６．５％、融点：１７５〜１７８℃）。
実施例８
Ｎ−（Ｎ″一エチルーＮ″−（７−ヒドロキシエチル）
−アミノエチル）−２−メトキシー５−スルファモイル
ベンズアミド２５０ｍ１フラスコに、２−メトキシー５
−スルファモイル安息香酸エチル７８ｆと水２７ｍ１と
Ｎ−エチルーＮ−ヒドロキシエチルエチレンジアミン５
．１ｙを導入する。
−アミノエチル）−２−メトキシー５−スルファモイル
ベンズアミド２５０ｍ１フラスコに、２−メトキシー５
−スルファモイル安息香酸エチル７８ｆと水２７ｍ１と
Ｎ−エチルーＮ−ヒドロキシエチルエチレンジアミン５
．１ｙを導入する。
この混合物を水浴上で１ｍ間加熱する。この溶液を希釈
し、次いでベンズアミド塩基を結晶化させる。塩酸塩を
形成し、塩基をアンモニアで再沈澱させて、ベンズアミ
ド塩基の結晶を精製する。得た結晶を吸引枦過して取り
出し、全ての塩化物イオンを除去するまで水洗し、乾燥
室中４０℃で乾燥する。Ｎ−（Ｎ″一エチルーＮ″−（
２″−ヒドロキシエチル）アミノエチル）一（２一メト
キシー５−スルファモイルベンズアミド６６ｖが得られ
た（収率：６４％、融点：１４９〜１５０℃）。実施例
９Ｎ−（１−（３″−ヒドロキシプロピル）−２ーピロ
リジニルメチル）−２−メトキシー５−スルファモイル
ベンズアミド●塩酸塩２５０ｍ１フラスコに、２−メト
キシー５−スルファモイル安息香酸エチル３８．９ｙと
水１３．５ｍ１．（５Ｎ一１−（３″−ヒドロキシプロ
ピル）−２−アミノメチルピロリジン２８．４ｙとを導
入する。
し、次いでベンズアミド塩基を結晶化させる。塩酸塩を
形成し、塩基をアンモニアで再沈澱させて、ベンズアミ
ド塩基の結晶を精製する。得た結晶を吸引枦過して取り
出し、全ての塩化物イオンを除去するまで水洗し、乾燥
室中４０℃で乾燥する。Ｎ−（Ｎ″一エチルーＮ″−（
２″−ヒドロキシエチル）アミノエチル）一（２一メト
キシー５−スルファモイルベンズアミド６６ｖが得られ
た（収率：６４％、融点：１４９〜１５０℃）。実施例
９Ｎ−（１−（３″−ヒドロキシプロピル）−２ーピロ
リジニルメチル）−２−メトキシー５−スルファモイル
ベンズアミド●塩酸塩２５０ｍ１フラスコに、２−メト
キシー５−スルファモイル安息香酸エチル３８．９ｙと
水１３．５ｍ１．（５Ｎ一１−（３″−ヒドロキシプロ
ピル）−２−アミノメチルピロリジン２８．４ｙとを導
入する。
この混合物を８０℃で１０時間加熱する。冷却後、ベン
ゼン１００ｍ１を加えて溶媒を溜去する。そしてこの混
合物を冷却して、水５００ｍ１を加える。生成した結晶
を炉取し、水で洗浄して、乾燥室中５０℃で乾燥する。
Ｎ−（１−（３″−ヒドロキシプロピル）−２−ピロリ
ジニルメチル）−２−メトキシー５−スルファモイルベ
ンズアミド４０クが得られた（収率：７２％）。ベンズ
アミドを無水アルコールに溶解し、濃度２５％のエタノ
ール性塩酸で処理して、塩酸塩に変える。得られた固体
をメタノールで再結晶させる。Ｎ−（１−（３′−ヒド
ロキシプロピル）−２−ピロリジニルメチル）−２−メ
トキシー５ースルファモイルベンズアミド・塩酸塩３８
ｙが得られた（収率：６２．２％、融点：２２６〜２２
ＣｆＣ）。実施例１０１−（７−メトキシー４゛−アミ
ノーベンズアミドプロピル）−４−ヒドロキシエチルピ
ペラジン・２燐酸塩２５０ｍ１フラスコに、２−メトキ
シー４−アミノ安息香酸２．８ｆと１−（７−ヒドロキ
シエチル）一４−（３″−アミノプロピル）ピペラジン
３．４ｙとピリジン６０ｍ１を導入し、四塩化珪素２．
３ｙを滴下する。
ゼン１００ｍ１を加えて溶媒を溜去する。そしてこの混
合物を冷却して、水５００ｍ１を加える。生成した結晶
を炉取し、水で洗浄して、乾燥室中５０℃で乾燥する。
Ｎ−（１−（３″−ヒドロキシプロピル）−２−ピロリ
ジニルメチル）−２−メトキシー５−スルファモイルベ
ンズアミド４０クが得られた（収率：７２％）。ベンズ
アミドを無水アルコールに溶解し、濃度２５％のエタノ
ール性塩酸で処理して、塩酸塩に変える。得られた固体
をメタノールで再結晶させる。Ｎ−（１−（３′−ヒド
ロキシプロピル）−２−ピロリジニルメチル）−２−メ
トキシー５ースルファモイルベンズアミド・塩酸塩３８
ｙが得られた（収率：６２．２％、融点：２２６〜２２
ＣｆＣ）。実施例１０１−（７−メトキシー４゛−アミ
ノーベンズアミドプロピル）−４−ヒドロキシエチルピ
ペラジン・２燐酸塩２５０ｍ１フラスコに、２−メトキ
シー４−アミノ安息香酸２．８ｆと１−（７−ヒドロキ
シエチル）一４−（３″−アミノプロピル）ピペラジン
３．４ｙとピリジン６０ｍ１を導入し、四塩化珪素２．
３ｙを滴下する。
この混合物を還流温度で３時間加熱する。ピリジンを減
圧で溜去する。水３０ｍ１を加え、次いでＰＨが１にな
るまで塩酸を加える。この混合物を沸点まで加熱し、Ｐ
Ｈが常に酸性になつていることをチェックした後、ｐ過
して、アンモニアを高温のうちに添加する。冷却後、沈
澱液体が傾瀉する。１−（７−メトキシー４″−アミノ
ベンズアミドプロピル）−４−ヒドロキシエチルビペラ
ジン３．９ｙが得られた（収率：６９．６％）。
圧で溜去する。水３０ｍ１を加え、次いでＰＨが１にな
るまで塩酸を加える。この混合物を沸点まで加熱し、Ｐ
Ｈが常に酸性になつていることをチェックした後、ｐ過
して、アンモニアを高温のうちに添加する。冷却後、沈
澱液体が傾瀉する。１−（７−メトキシー４″−アミノ
ベンズアミドプロピル）−４−ヒドロキシエチルビペラ
ジン３．９ｙが得られた（収率：６９．６％）。
非水溶液媒体での定量分析による純度は９７．５％であ
つた。得た塩基をアルコールに溶解し、次いで燐酸で燐
酸塩に変える。得た燐酸塩は３モルの水で結晶する２燐
酸塩である。１−（７−メトキシー４―アミノベンズア
ミドプロピル）−４−ヒドロキシエチルピペラジン・２
燐酸塩３．２ｙを得た（融点：１４４〜１４５２Ｃ）。
つた。得た塩基をアルコールに溶解し、次いで燐酸で燐
酸塩に変える。得た燐酸塩は３モルの水で結晶する２燐
酸塩である。１−（７−メトキシー４―アミノベンズア
ミドプロピル）−４−ヒドロキシエチルピペラジン・２
燐酸塩３．２ｙを得た（融点：１４４〜１４５２Ｃ）。
この発明のベンズアミドは、価値ある治療活性、特に鎮
吐剤としての活性を有する。
吐剤としての活性を有する。
その毒性は極めて低いので、副作用を生じる危険もなく
、人間の治療に使用できる。この発明の生成物の急性毒
性を、ネズミにおいて非経口投与（静脈注射又は、腹膜
内注射）により測定した。
、人間の治療に使用できる。この発明の生成物の急性毒
性を、ネズミにおいて非経口投与（静脈注射又は、腹膜
内注射）により測定した。
ベーレンス●ケルベル（ＢｅｈｒｅｎｓａｎｄＫａｒｌ
）Ｅｒ）法により計算したＬＤ５。値を以下の表１に示
す。アポモルフィンを打ち消す作用を有するこの発明の
生成物の鎮吐作用を、デユクロ（ＤｕｃｒＯｔ）および
ドウクール（ＤｅｃＯｕｒｔ）によつて開発せら。
）Ｅｒ）法により計算したＬＤ５。値を以下の表１に示
す。アポモルフィンを打ち消す作用を有するこの発明の
生成物の鎮吐作用を、デユクロ（ＤｕｃｒＯｔ）および
ドウクール（ＤｅｃＯｕｒｔ）によつて開発せら。
れたチヤン●エンゾール（ＣｈｅｎａｎｄＥｎｓＯｒ）
法により犬において研究した。得た結果をクールヴオア
ジエ（ＣＯｕｒｖＯｉｓｉｅｒ）によつて得られたフェ
ノチアジン（プロク山レペラジン）の場合の結果、およ
びシヤレツク（Ｓｃｈａｌｌｅｋ）によつて得られたト
リメトベンズアミドの場合の結果と比べて、次の表２に
示した。
法により犬において研究した。得た結果をクールヴオア
ジエ（ＣＯｕｒｖＯｉｓｉｅｒ）によつて得られたフェ
ノチアジン（プロク山レペラジン）の場合の結果、およ
びシヤレツク（Ｓｃｈａｌｌｅｋ）によつて得られたト
リメトベンズアミドの場合の結果と比べて、次の表２に
示した。
クロルプロマジンを標準物質として、皮下投与により作
用指数を計算した。これらの結果により本発明の化合物
が、鎮吐剤としてフェノチアジン（プロクロルペラジン
）およびトリメトベンズアミドより著しく効果があるこ
とが証明された。
用指数を計算した。これらの結果により本発明の化合物
が、鎮吐剤としてフェノチアジン（プロクロルペラジン
）およびトリメトベンズアミドより著しく効果があるこ
とが証明された。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ａは低級アルキル基、Ｘは水素原子、ハロゲン
原子、低級アルキルスルホニル基、スルファモイル基ま
たはモノないしジ低級アルキルスルファモイル基、Ｙは
水素原子、ニトロ基またはアミノ基、Ｗは直鎖状もしく
は分枝状の低級アルキレン基、Ｂは▲数式、化学式、表
等があります▼基（ここでＲ＿１は低級アルキル基、Ｒ
＿２はヒドロキシ低級アルキル基を意味する。 ）、４−ヒドロキシ低級アルキル−１−ピペラジニル基
または一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここでＲはヒドロキシ低級アルキル基、低級アルカノ
イル基またはベンズヒドリロキシ低級アルキル基をそれ
ぞれ意味する。 ）で示されるラセミ型、右施性もしくは左施性光学異性
の複素環基をそれぞれ意味する。〕で示される置換ベン
ズアミド、その第４級アンモニウム塩、その酸化物、そ
の薬理的に許容される酸付加塩およびその右施性もしく
は左施性光学異性体。 ２ Ｎ−（１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリ
ジニルメチル）−２−メトキシ−５−スルファモイルベ
ンズアミドである特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３ Ｎ−（１−（３′−ヒドロキシプロピル）−２−ピ
ロリジニルメチル）−２−メトキシ−５−エチルスルホ
ニルベンズアミド・塩酸塩である特許請求の範囲第１項
記載の化合物。４ Ｎ−（１′−アセチル−２′−ピロ
リジニルメチル）−２−メトキシ−５−スルファモイル
ベンズアミドである特許請求の範囲第１項記載の化合物
。 ５ Ｎ−（Ｎ′−エチル−Ｎ′−（２′−ヒドロキシエ
チル）−アミノエチル）−２−メトキシ−４−アミノ−
５−クロロベンズアミドである特許請求の範囲第１項記
載の化合物。 ６ Ｎ−（１−（２′−ベンズヒドリロキシエチル）−
２−ピロリジニルメチル）−２−メトキシ−５−スルフ
ァモイルベンズアミドである特許請求の範囲第１項記載
の化合物。 ７ １−（２′−メトキシ−４′−ニトロベンズアミド
プロピル）−４−ヒドロキシエチルピペラジンである特
許請求の範囲第１項記載の化合物。 ８ Ｎ−（１−（２′−ヒドロキシエチル）−２−ピロ
リジニルメチル）−２−メトキシ−５−エチルスルホニ
ルベンズアミド・塩酸塩である特許請求の範囲第１項記
載の化合物。 ９ Ｎ−（Ｎ′−エチル−Ｎ′−（２′−ヒドロキシエ
チル）アミノエチル）−２−メトキシ−５−スルファモ
イルベンズアミドである特許請求の範囲第１項記載の化
合物。 １０ Ｎ−（１−（３′−ヒドロキシプロピル）−２−
ピロリジニルメチル）−２−メトキシ−５−スルファモ
イルベンズアミド・塩酸塩である特許請求の範囲第１項
記載の化合物。 １１ １−（２′−メトキシ−４′−アミノベンズアミ
ドプロピル）−４−ヒドロキシエチルピペラジンである
特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １２ １−（２′−メトキシ−４′−アミノベンズアミ
ドプロピル）−４−ヒドロキシエチルピペラジン・２燐
酸塩である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １３ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ａは低級アルキル基、Ｘは水素原子、ハロゲン
原子、低級アルキルスルホニル基、スルファモイル基ま
たはモノないしジ低級アルキルスルファモイル基、Ｙは
水素原子、ニトロ基またはアミノ基、Ｄは水酸基または
有機残基をそれぞれ意味する。 〕で示される化合物に、 一般式 Ｈ＿２Ｎ−Ｗ−Ｂ 〔式中、Ｗは直鎖状もしくは分枝状の低級アルキレン基
、Ｂは▲数式、化学式、表等があります▼基（ここでＲ
＿１は低級アルキル基、Ｒ＿２はヒドロキシ低級アルキ
ル基をそれぞれ意味する。 ）、４−ヒドロキシ低級アルキル−１−ピペラジニル基
または一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここでＲはヒドロキシ低級アルキル基、低級アルカノ
イル基またはベンズヒドリロキシ低級アルキル基をそれ
ぞれ意味する。 ）で示されるラセミ型、右施性もしくは左施性光学異性
の複数環基をそれぞれ意味する。〕で示されるアミンま
たはその反応性誘導体を反応させて、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ａ、Ｘ、Ｙ、Ｗ、Ｂはそれぞれ前記と同じ意味
である。 〕で示される置換ベンズアミドを得、必要に応じてこれ
をその第４級アンモニウム塩、その酸化物またはその薬
理的に許容される酸付加塩に導くことを特徴とする置換
ベンズアミド類の製造法。 １４ Ｎ−（１−（２′−ヒドロキシエチル）−２−ピ
ロリジニルメチル）−２−メトキシ−５−スルファモイ
ルベンズアミドを合成するための特許請求の範囲第１３
項記載の製造法。 １５ Ｎ−（１−（３′−ヒドロキシプロピル）−２−
ピロリジニルメチル）−２−メトキシ−５−エチルスル
ホニルベンズアミド・塩酸塩を合成するための特許請求
の範囲第１３項記載の製造法。 １６ Ｎ−（１′−アセチル−２′−ピロリジニルメチ
ル）−２−メトキシ−５−スルファモイルベンズアミド
を合成するための特許請求の範囲第１３項記載の製造法
。 １７ Ｎ−（Ｎ′−エチル−Ｎ′−（２′−ヒドロキシ
エチル）−アミノエチル）−２−メトキシ−４−アミノ
−５−クロロベンズアミドを合成するための特許請求の
範囲第１３項記載の製造法。 １８ Ｎ−（１−２′−ベンズヒドリロキシエチル）−
２−ピロリジニルメチル）−２−メトキシ−５−スルフ
ァモイルベンズアミドを合成するための特許請求の範囲
第１３項記載の製造法。 １９ １−（２′−メトキシ−４′−ニトロベンズアミ
ドプロピル）−４−ヒドロキシエチルピペラジンを合成
するための特許請求の範囲第１３項記載の製造法。 ２０ Ｎ−（１−（２′−ヒドロキシエチル）−２−ピ
ロリジニルメチル）−２−メトキシ−５−エチルスルホ
ニルベンズアミド・塩酸塩を合成するための特許請求の
範囲第１３項記載の製造法。 ２１ Ｎ−（Ｎ′−エチル−Ｎ′−（２′−ヒドロキシ
エチル）アミノエチル）−２−メトキシ−５−スルファ
モイルベンズアミドを合成するための特許請求の範囲第
１３項記載の製造法。 ２２ Ｎ−（１−（３′−ヒドロキシプロピル）−２−
ピロリジニルメチル）−２−メトキシ−５−スルファモ
イルベンズアミド・塩酸塩を合成するための特許請求の
範囲第１３項記載の製造法。 ２３ １−（２′−メトキシ−４′−アミノベンズアミ
ドプロピル）−４−ヒドロキシエチルピペラジンを合成
するための特許請求の範囲第１３項記載の製造法。 ２４ １−（２′−メトキシ−４′−アミノベンズアミ
ドプロピル）−４−ヒドロキシエチルピペラジン・２燐
酸塩を合成するための特許請求の範囲第１３項記載の製
造法。 ２５ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ａは低級アルキル基、Ｘは水素原子、ハロゲン
原子、低級アルキルスルホニル基、スルファモイル基ま
たはモノないしジ低級アルキルスルファモイル基、Ｙは
水素原子、ニトロ基またはアミノ基、Ｗは直鎖状もしく
は分枝状の低級アルキレン基、Ｂは▲数式、化学式、表
等があります▼基（ここでＲ＿１は低級アルキル基、Ｒ
＿２はヒドロキシ低級アルキル基を意味する。 ）、４−ヒドロキシ低級アルキル−１−ピペラジニル基
または一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここでＲはヒドロキシ低級アルキル基、低級アルカノ
イル基またはベンズヒドリロキシ低級アルキル基をそれ
ぞれ意味する。 ）で示されるラセミ型、右施性もしくは左施性光学異性
の複素環基をそれぞれ意味する。〕で示される置換ベン
ズアミド、その第４級アンモニウム塩、その酸化物、そ
の薬理的に許容される酸付加塩およびその右施性もしく
は左施性光学異性体を有効成分とする鎮吐剤。 ２６ 薬理的に許容される担体と組合わされてなる特許
請求の範囲第２５項記載の鎮吐剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR7518001A FR2313935A1 (fr) | 1975-06-10 | 1975-06-10 | Nouveaux benzamides substitues, leurs derives et leur procede de preparation |
| FR7518001 | 1975-06-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5231041A JPS5231041A (en) | 1977-03-09 |
| JPS6055503B2 true JPS6055503B2 (ja) | 1985-12-05 |
Family
ID=9156239
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51067553A Expired JPS6055503B2 (ja) | 1975-06-10 | 1976-06-08 | 新規置換ベンズアミド，その製造法およびこれを有効成分とする鎮吐剤 |
Country Status (37)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6055503B2 (ja) |
| AR (1) | AR210888A1 (ja) |
| AT (1) | AT358571B (ja) |
| AU (1) | AU506001B2 (ja) |
| BE (1) | BE842059A (ja) |
| BG (1) | BG27360A3 (ja) |
| CA (1) | CA1064930A (ja) |
| CH (1) | CH596175A5 (ja) |
| CS (1) | CS189007B2 (ja) |
| DD (1) | DD124380A5 (ja) |
| DE (1) | DE2623075A1 (ja) |
| DK (1) | DK255276A (ja) |
| EG (1) | EG12285A (ja) |
| ES (1) | ES448643A1 (ja) |
| FI (1) | FI761669A (ja) |
| FR (1) | FR2313935A1 (ja) |
| GB (1) | GB1500105A (ja) |
| HK (1) | HK46979A (ja) |
| HU (1) | HU172195B (ja) |
| IE (1) | IE43375B1 (ja) |
| IN (1) | IN142899B (ja) |
| LU (1) | LU75104A1 (ja) |
| MW (1) | MW1676A1 (ja) |
| MX (1) | MX3580E (ja) |
| NL (1) | NL186382C (ja) |
| NO (1) | NO146058C (ja) |
| NZ (1) | NZ181072A (ja) |
| OA (1) | OA05350A (ja) |
| PH (1) | PH13912A (ja) |
| PL (2) | PL103075B1 (ja) |
| PT (1) | PT65164B (ja) |
| RO (1) | RO70265A (ja) |
| SE (1) | SE415971B (ja) |
| SU (2) | SU607551A3 (ja) |
| YU (1) | YU39352B (ja) |
| ZA (1) | ZA763042B (ja) |
| ZM (1) | ZM6576A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NZ186175A (en) * | 1977-01-27 | 1980-03-05 | Shionogi & Co | Meta-sulphonamidobenzamide derivatives |
| FR2415099A1 (fr) * | 1978-01-20 | 1979-08-17 | Ile De France | Nouveaux derives de 4-amino-5-alkylsulfonyl ortho-anisamides, leurs procedes de preparation et leur application comme psychotropes |
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