JPS6052596B2 - イメ−ジセンサ− - Google Patents

イメ−ジセンサ−

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JPS6052596B2
JPS6052596B2 JP55090469A JP9046980A JPS6052596B2 JP S6052596 B2 JPS6052596 B2 JP S6052596B2 JP 55090469 A JP55090469 A JP 55090469A JP 9046980 A JP9046980 A JP 9046980A JP S6052596 B2 JPS6052596 B2 JP S6052596B2
Authority
JP
Japan
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groups
photodiode
same
group
series circuit
Prior art date
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Expired
Application number
JP55090469A
Other languages
English (en)
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JPS5715480A (en
Inventor
辰巳 石渡
秀夫 瀬川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
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Expired legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Facsimile Heads (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一次元イメージセンサー、特に等倍もしくは等
倍に近い縮率で原稿の画像を走査するのに適した一次元
イメージセンサーに関する。
従来のこの種のイメージセンサーにおいては、受光素子
の電極に接続すべき集積回路(IC)チップが電極と同
一の基板上に配置されておらず、従つてセンサー全体が
大形となり、またICチッ・プと電極との接続をワイヤ
ボンディングによつて行なつていたため、イメージセン
サーの製造の作業能率が低い上、製品の信頼性が低いと
いう問題があつた。そこで透明の部分を有する基板の透
明部分の上に、フォトダイオードアレイを形成するとと
もに、フォトダイオードアレイ駆動用の専用の集積回路
を前記基板上に設けたイメージセンサーが提案された。
しかるにこのような構成では、必要とされる専用の集積
回路チップのコストが高く、また集積回路チップとフォ
トダイオードとをテープキャリアで接続する工程が必要
であるなど、組立コストが高いという問題がある。
本発明の目的はコストアップを伴うことなく、外部接続
用端子の数を少なくし得るイメージセンサーを提供する
ことにある。
本発明に係るイメージセンサーは、基板と、前記基板上
にアレイ状に配列され、互いに隣接するものから成る群
に分けられ、また各群の一端から順に順位を付けられた
フォトダイオードと、前記基板上に設けられ、それぞれ
各フォトダイオードに対応し、各フォトダイオードと逆
直列接続されて逆直列回路を形成するブロッキングダイ
オードと、前記基板上に設けられ、それぞれ前記群の各
々に対応し、同一の群のフォトダイオードを含む逆直列
回路の一端に一端が接続された負荷抵抗およびダイオー
ドの直列回路とを備え、すべての群の同一の順位のフォ
トダイオードを含む逆直列回路の他端を同一の外部接続
用端子に接続し、、前記群を互いに隣接するものから成
る団に分け、同一の団に属する群に対応する直列回路の
他端を同一の外部接続用端子に接続し、各群に各団の一
端から順に順位を付け、すべての団の同一の順位の群の
フォトダイオードを含む逆直列回路の前記一端を同一の
外部接続用端子に接続したものである。
第1図は本発明に係る一次元イメージセンサーの一実施
例を示したもので、鎖線で示す部分の断面が第2図に示
されている。
同図において、1は帯状の基板て、幅方向の中央部分を
占める中央部分1aと中央部分1aの両側部に接合され
た側部板1bおよび1cとにより構成されているる。中
央部分板1aは透明な材料、例えばガラスにより形成さ
れている。側部板1bおよび1cは、例えばガラスエポ
キシ樹脂により形成されている。2は補強板で、基板1
と同一の平面形状を有し、例えばガラスエポキシ樹脂に
より形成されている。
補強板2には、第2図および底面を描いた第.3図に示
されるように、補強板2の幅方向の中間部を縦方向に延
びたスリット状の光窓2aが設けられている。3はフォ
トダイオードPを、基板1上に、光窓2aの真上に光窓
2aに沿うように直線上に配置!して成るフォトダイオ
ードアレイである。
また4は、各フォトダイオードPに対応するブロッキン
グダイオードBから成り、、フォトダイオードアレイ3
と平行して延びたブロッキングダイオードアレイである
。各フォトダイオードPおよび対応一するブロッキング
ダイオードBは、例えば第2図に示すように構成されて
いる。即ち、まずフォトダイオードPの透明電極P1は
、SnO2を電子ビーム蒸着またはスパッタリングによ
り100〜2000Aの膜厚に形成したものである。一
方ブロッキングダイオードBの電極B1はNiCr層B
laおよびAu層Blbをこの順序で電子ビーム蒸着ま
たはスパッタリングにより2000〜3000Aの膜厚
に形成したものである。これらの電極P1およびB1は
互いに接続するようにして形成されている。電極P1お
よび2の上にCdSの層P2および八が、スパッタリン
グまたは真空蒸着により形成されている。層P2および
への形成の後、空気中において50(代)の温度で・3
紛〜1時間の熱処理を行なう。次にCdTeの層P,お
よびB3を上記と同様の方法で、0.5〜2μmの厚さ
に形成し、アルゴンArおよび酸素02の混合気中にお
いて500Cの温度で1時間の熱処理を行なう。さらに
その上に0.5〜1μm<7)TCの層P,および八を
上記と同様の方法で形成する。対電極P5および八とし
てはAuを用いる。対電極P5およびB5は各ストライ
プに対して略垂直に、互いに反対方向に延びている。対
電極の構成材料であるAuはガラスに対する接着強度が
弱いので、延長部分P5a,B5aにおいてはガラス板
との間にNiCr層P6,B6が介在している。フォト
ダイオードPおよびブロッキングダイオードBの諸層の
うち、CdSがn型、CdTCがp型または真性の半導
体であり、バンドギャップがそれぞれ2.6eVおよび
1.6eVなので、p−nヘテロ接合が形成されている
これらのp−nヘテロ接合部は逆バイアスされると、等
価的にキャパシタンスとして作用する。フォトダイオー
ドPおよびブロッキングダイオードBは第4図に示すよ
うに電気的接続がなされている。
同図において、鎖線1の内側に示すのが基板1上に設け
られた要素を示す。
フォトダイオードPと対応するブロッキングダイオード
Bの対(以下PB対という)は、第2図にも示すように
電極P1と電極2とが、即ちカソード同士が互いに結合
されていて逆直列回路を形成している。PB対は互いに
隣接するr個、例えば12個のPB対から成る群に分け
られ、群は互いに隣接するs個、例えば1加の群から成
るt個例えば1瀬の団に分けられている。同一の群のフ
ォトダイオードPのアノードは同一の負荷抵抗Rの一端
に接続されている。一方、すべての群の、同一の側から
数えて同一の順位に位置するPB対のブロッキングダイ
オードBのアノードは互いに同一の外部接続用端子に接
続されている。
例えば、すべての群の左側から1番目のPB対はブロッ
キングダイオードのアノードが、外部接続用端子X1に
、2番目のPB対は外部接続用端子X2に接続されてい
る。また同一の団に属する群に対応する負荷抵抗Rの他
端はそれぞれダイオードを介して同一の外部接続用端子
(Yl,Y2・・・・・・Yr)さらに同一の団の、同
一の側から数えて同一の順位に位置する群に属するPB
対のフォトダイオードPのアノードは同一の外部接続用
端子に接続されている。例えばすべての団の左側から1
番目の群のPB対は外部接続用端子Z1に、2番目の群
のPB対は外部接続用端子Z2に接続されている。外部
接続用端子Xl,x2・・・・・・Xrには図示しない
回路手段により、第5図aに示すようにパルスが順次印
加される。外部接続用端子Yl,Y2,・・・・Ytは
、基板1の外部に設けられたMOSスイッチSl,s2
・・・・・・Stを介して、共通の線に接続されている
MOSスイッチSl,s2・・・・・・Stはそれぞれ
図示しない制御手段により第5図bに1高ョレベルで示
す期間だけ順次導通する。第5図から明らかなように、
各団に対応して設けられたMOSスイッチの導通は、外
部接続用端子Xl,x2・・・・・・Xrへのパルスの
印加が一巡する間続く。端子Xl,x2・・・・・・X
rへのパルスの印加が一巡すると、隣接する団に対応す
るMOSスツチが導通する。このように、端子Xl,x
2,・・・・Xrにパルスを順次印加し、これに関連さ
せてMOSスイッチを順次導通させると、各団のすべて
の群の同一の順位のP旦吋が1個ずつ順次選択されて電
圧を印加される。フォトダイオードPは電圧を印加され
ると、逆バイアスされて充電される。
充電後に、光が入射するとその光量に応じて充電変がフ
ォトダイオード内を流れて放電される。次に電圧が印加
されると、放電された分だけ再充電される。このとき、
再充電の電流に応じた電圧が負荷抵抗Rの両端に信号V
Outとして得られる。第6図はフォトダイオードに順
次電圧を印加することにより得られる信号VOutを示
したもので、A,b,dは再充電量が多いところを示し
、cは再充電量が小さいところを示す。各団のすべての
群の同一の順位のPB対が同時に選択され、外部接続用
端子Zl,Z2・・・・・・ムから同時に出力が得られ
る。
この出力は、レジスタなどを用いてパラレル−シリアル
変換される。ブロッキングダイオードBは露光の際に例
えばPB対Clll−Cl2l−Cl22−Cll.の
閉回路で放電が起こるのを阻止するためのものである。
外部接続用端子Xl,x2,・・・・Xrにパルスを印
加する代りに、外部接続用端子Xl,x2・・・・・・
Xrを、それぞれMOSスイッチを介して直流電源に接
続し、これらのMOSスイッチを第5図aに高レベルで
示す期間だけ順次導通させるようにしてもよい。
このようにすることの効果を以下に説明する。原稿の読
取りの解像度を高くしようとすればする程フォトダイオ
ードおよびブロッキングダイオードの幅は小さくなり、
従つてフォトダイオードおよびブロッキングダイオード
のPN接合部の面積が小さくなる。
すなわち、ブロッキングダイオードの順方向抵抗は増加
し、出力電圧が低下する。そこでブロッキングダイオー
ドの順方向電流を大きくするためには各層を薄く形成す
る必要がある。しかし、そうすると、ブロッキングダイ
オードのPN接合部の静電容量が大きくなり、ブロッキ
ングダイオードのブロッキング性は低下してしまう。
一方、ブロッキングダイオードの順方向電流を大きくす
るために、各層を薄くする代わりに、不純物濃度を高く
すると、これと同一のPN接合部を有するフォトダイオ
ードの逆方向抵抗が小さくなり、暗状態で電荷を蓄積で
きなくなる。いずれにしても、端子Xl,x2・・・X
rにパルスを印加する構成においては、端子Xl,x2
・・・Xrの電位が零のときに、フォトダイオードに蓄
積された電荷が少からずブロッキングダイオードを逆方
向に流れ、端子Xl,x2・・・Xrに達する経路で放
電される。これに対して、MOSスイッチを設けた構成
においては、上記の径路での放電は起らない。尚NOS
スイッチ以外の他の種々のトランジスタスイッチを用い
た場合も同様の効果が得られる。上記の実施例のフォト
ダイオードに代えて、SnO2一非晶質カルコゲナイド
膜(例えばSe−Te一M系のもの)−Auで構成され
たもの、またはSnO2−Cds−CdTe−Auで構
成されたものを用いてもよい。
この場合にも、ブロッキングダイオードとしてフォトダ
イオードSnO2の電極を除き、同一の層構成のものを
用いることとすれば製造が容易である。また基板に接す
る側の電極を互いに結合する代りに、第7図に示すよう
に対電極を互いに結合するようにしてもよい。
以上のように本発明によれば、フォトダイオードアレイ
とブロッキングダイオードアレイとを共通の基板上に設
けることとし、またフォトダイオ−ドーブロッキングダ
イオードの逆直列回路を隣接するものから成る群に分け
、さらに群を隣接するものから成る団に分け、各群に対
応して負荷抵抗を設け、各団に対応して外部接続用端子
を設け、また、すべての団の同一順位の群に対応する負
荷抵抗から得られる信号を同一の外部接続用端子を介し
て外部に出力することとしているので、外部接続用端子
の数を少くすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るイメージセンサーの一実施例を示
す平面図、第2図は第1図の−線拡大断面図、第3図は
第1図のイメージセンサーの底面図、第4図は第1図の
イメージセンサーの電気回路図、第5図A,bおよびc
は第4図の各部の動作を示すタイムチャート、第6図は
第4図の信号VOutを示すタイムチャート、第7図は
フォトダイオードおよびブロッキングダイオードの構造
の異なる例を示す、第2図と同様の拡大断面図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 基板と、前記基板上にアレイ状に配列され、互いに
    隣接するものから成る群に分けられ、また各群の一端か
    ら順に順位を付けられたフォトダイオードと、前記基板
    上に設けられ、それぞれ各フォトダイオードに対応し、
    各フォトダイオードと逆直列接続されて逆直列回路を形
    成するブロッキングダイオードと、前記基板上に設けら
    れ、それぞれ前記群の各々に対応し、同一の群のフォト
    ダイオードを含む逆直列回路の一端に一端が接続された
    負荷抵抗およびダイオードの直列回路とを備え、すべて
    の群の同一の順位のフォトダイオードを含む逆直列回路
    の他端を同一の外部接続用端子に接続し、前記群を互い
    に隣接するものから成る団に分け、同一の団に属する群
    に対応する直列回路の他端を同一の外部接続用端子に接
    続し、各群に各団の一端から順に順位を付け、すべての
    団の同一の順位の群のフォトダイオードを含む逆直列回
    路の前記一端を同一の外部接続用端子に接続したイメー
    ジセンサー。 2 前記ブロッキングダイオードは対応するフォトダイ
    オードに隣接するようにして設けられ、PN接合部を構
    成する半導体層が同一の層構成を有することを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載のイメージセンサー。 3 前記ブロッキングダイオードが、前記フォトダイオ
    ードアレイと略平行なアレイを構成するように配列され
    ていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のイ
    メージセンサー。
JP55090469A 1980-07-02 1980-07-02 イメ−ジセンサ− Expired JPS6052596B2 (ja)

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JPS5715480A JPS5715480A (en) 1982-01-26
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JPS58146972A (ja) * 1982-02-26 1983-09-01 Toshiba Corp 光学的情報読取り装置
FR2536188B1 (fr) * 1982-11-17 1987-10-23 Commissariat Energie Atomique Dispositif de lecture de document point par point utilisant une matrice d'elements photodetecteurs
JP2514924B2 (ja) * 1985-04-19 1996-07-10 松下電子工業株式会社 イメ−ジセンサ

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