JPS6052573A - 真空装置のモニタミラ− - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （ａ）発明の技術分野 本発明は、真空装置のモニタミラーに関す。

（ｂ）技術の背景 例えば、電子ビーム蒸着法により基板に金属薄膜を成膜
する際には、真空ヘルヂャ内のビーム源を監視すること
が行なわれる。本発明は係る真空ベルヂャ装置内監視ミ
ラーの改良を意図してなされたものである。

（Ｃ）従来技術の問題点 第１図番Ｊ１本発明の対象とする真空装置具体例を示す
模式図１図に従って従来の装置構成を説明する。

第１図に於いて、■は蒸着金属源をなずメル［−２２ば
前記蒸着源メル）１の状態を監視する対象とするガラス
鏡ミラー、３と４ば前記ミラー２の反射光を外部覗き窓
に引き出すガラス鏡面を有するミラー、５は真空ヘルヂ
ャ側面に設けられた前記の覗き窓、６は金属又は硬質ガ
ラス等で形成された真空ヘルヂャ、７は真空ベルチャ６
内部を真空排気系に連接するメインバルブ、及び８は成
膜対象の基板を装着する回転式のトレーである。

図示構成の装置は１図示されない電子銃から照射する電
子ビームを蒸着源メル１−１に入射し蒸発金属粒子をト
レー８側に照射するようにして基板」二に蒸着源金属を
成膜する。

第２図斜視図は、前記蒸着源メルト１監視のミラ一部拡
大の図である。９はその下方が真空ベルヂャ支台側に固
定された支柱である。

ところで、ミラー２は蒸着源メルトの直ぐ近くにある為
、７８解の金属微粒子が膜着し易く短時間でミラー表面
が曇り、又１表面の薄膜剥離を生ずることにより連続す
る蒸着源ノル１−状態監視に支障を生ずる。電子ビーム
蒸着の場合、入射ビーム位置を確認して蒸着するが、ミ
ラー表面が曇るとビーム配置が困難となる。更に、前記
剥離の金属薄膜はゴミの原因になりかねない等の不都合
を生ずる。

（ｄ）発明の目的 本発明の目的は前記の問題点を解決することにある。

拡がりのある蒸着源メルト（坩堝）状態を連続して監視
し、前記照射の電子ビームのＸＹ方向配置を適切に制御
することである。

（ｅ）発明の構成 前記目的は、蒸着源タルトを具える真空ベルヂャ装置に
おいて、装置外部から前記蒸着源メルｌ−の状態監視の
ミラーを回転せしめることにより達成することが出来る
。

（ｆ）発明の実施例 以下２本発明の一実施例を第３図と第４図に従って詳細
に説明する。

本発明によれば、従来のミラー設置位置に前記ミラー２
と略同面積の窓を有する円盤状の枠体を設け、該枠体背
後に回転する広面積の円盤ミラーを設置するものである
。

第３図は本発明の回転ミラー構造を示す斜視図。

第４図しよ第３図回転ミラーを真空ベルヂャ内に装着せ
る側面図である。

第３図に於いて、１０は例えばステンレス等で成形され
た枠体、１１は枠体１０の一部に開けた蒸着源メルト監
視の光路が形成される長方形の窓、］２は枠体１０背後
に配設する広面積の円盤ミラー、１３は円盤ミラー１２
を軸端部で固定する回転軸（図示１６は卿子止め部）、
１４は回転軸１３の軸承を形成した支柱、及び１５＆１
回転軸１３端の傘歯車である。該傘歯車１５ば、駆動側
の同歯車１７と噛み合う。

斜視図中には、蒸着源メルト１は示されないが前記枠体
の一部に開ける長方形の窓１】が、蒸着源メル１−１に
対面すると共に、監視の覗き窓５にも対面する。該監視
の光路は第２図と同しである。

第３図で説明せる本発明のミラー構成要部は第４図側面
図から更に明らかとなる。図中、１日は一対の傘歯車、
１９は円盤ミラー駆動用の撮、及び２０は真空ベルヂャ
６とベルヂャ支台２１とを気密接合する真空シールであ
る。円盤ミラー１２の他の各機能部に付す参照番号は第
３図と同じである。

第４図を参照して円盤ミラーの駆動方法を以下説明する
。

第４図に於いて、ベルヂャ支台側には、前記噛み合いの
傘歯車（１５と１７）と同じ連結機構の傘歯車１８が設
けられる。斯くして真空ベルヂャ外部から円盤ミラーを
手動操作、又は必要によりモータ駆動して、メルト状態
を監視する。円盤ミラー１２は、第２図図示のミラー２
に比べて１０倍以上の面積が容易に取得されることから
１例えば、窓１１を介して坩堝監視中、ミラーに曇が生
じた時でも随時、駆動用撮１９を微回動して新しいミラ
ー鏡面として蒸着源メルト監視がされ、入射の電子ビー
ム位置を最適化しうる。

更に又、坩堝メルト動作中、常時円盤ミラー１２をモー
タ駆動して監視するも構わない。

然し、長時間使用により円盤ミラーに曇りが生じても、
前記回転軸端の螺子１６によりミラーの交換が極めて容
易になされる構造となっている。

以上１本発明のモニタミラーは、真空装置として電子ビ
ーム蒸着の装置実施例を取上げているが。

本発明モニタミラーは他の例えば分子線ビームスバッタ
装置の加工状態監視等に適用しても構わない。

（ｇ）発明の効果 前記真空装置に適用する本発明のモニタミラーによれば
、長時間連続して装置外部から蒸着源メルトの監視が可
能となり、基板上成膜の膜厚等の品質管理に寄与するは
勿論、装置稼働時の保守が容易となる等の利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の真空装置に設けるモニタミラーの模式図
、第２図は第１図の蒸着源メルト監視のミラ一部拡大斜
視図、第３図は本発明の回転ミラー構成実施例を示す斜
視図、第４図は第３図構成体を真空ベルヂャ内に装着せ
る側面図である。 図中、■は蒸着源メルト　２はミラー、５は覗き窓、６
は真空ベルヂャ、７は真空排気バルブ。 ９と１４はミラーの支柱、１１は枠体１０の窓、１２は
円盤ミラー、１３は回転軸、１５と１７は傘歯車、１９
はつまみ、及び２０は真空シール部である。 答１図 萬２図 〜　神 域　憾 （Ｓ＋− ＼

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 蒸着源メル］・をすえる真空ベルヂャ装置において、装
   置外部から前記蒸着源メルトの状態監視のミラーを回転
   せしめることを特徴とする真空装置のモニタミラー。