JPS6217027B2 - - Google Patents

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JPS6217027B2
JPS6217027B2 JP58164425A JP16442583A JPS6217027B2 JP S6217027 B2 JPS6217027 B2 JP S6217027B2 JP 58164425 A JP58164425 A JP 58164425A JP 16442583 A JP16442583 A JP 16442583A JP S6217027 B2 JPS6217027 B2 JP S6217027B2
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JP
Japan
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sample
gear
thin film
sample holding
rotating shaft
Prior art date
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Expired
Application number
JP58164425A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6056069A (ja
Inventor
Kazumi Tanaka
Isamu Inoe
Koichi Kodera
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP16442583A priority Critical patent/JPS6056069A/ja
Publication of JPS6056069A publication Critical patent/JPS6056069A/ja
Publication of JPS6217027B2 publication Critical patent/JPS6217027B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • C23C14/505Substrate holders for rotation of the substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体製造工程等で薄膜を作成する蒸
着装置に関するものである。
従来例の構成とその問題点 通常蒸着を行なうには第1図に示すように蒸着
源本体Aに設けたルツボBと試料保持部材Cに載
置された試料Dを対向させて行なう。前記方式は
構造が簡単にでき比較的膜厚分布のばらつきの少
ない試料を得ることができる。そこでこのような
対向方式を用いて複数の試料を蒸着することが考
えられる。複数枚の試料を蒸着する方法には個々
の試料に蒸着源を設ける方式と1ケ所の蒸着源に
対して試料を順次送つて蒸着する方式が考えられ
るが、個々の試料に蒸着源を対向させて設ける方
式の場合は装置が大型化し不経済である。また1
ケ所の蒸着源に対して試料を順次送つて蒸着する
場合は試料を順次割出して送るだけでよく装置を
小型化でき機構を簡単にできる。また1ケの蒸着
源に対して試料を順次割出して蒸着する方式にも
単に試料を試料保持部材に載置して対向させて行
なう方式と、試料保持部材の試料を回転させて行
なう方式が考えられるが、単に試料保持部材に載
置して行なう場合は試料が大きくなり蒸着源の真
上より遠ざかるにつれて試料の中心部と外周部と
では膜厚分布のばらつきは大きくなるが、第2図
に示すように試料21を膜厚分布のバラツキの少
ない蒸着範囲でモータEにより回転させることに
より膜厚分布のばらつきの少ない試料を得ること
ができる。そこで第3図に示すように試料保持部
材Cに回転可能に設けた試料Dと蒸着源本体Aに
設けたルツボBとを対向させ、真空容器下面より
導入された試料回転機構の原動ギヤFと、被動ギ
ヤGとを噛み合わせ試料Dを回転させて蒸着し、
モータHにより試料保持部材Cに回転可能に設け
た試料Dを順次割出して行なう方式が考えられ
る。しかしこの方式の場合ルツボBの真上の試料
Dに蒸着している時に、蒸着中以外の試料にも角
度γで飛散した薄膜材Iが付着するという問題と
真空容器内を真空吸引、あるいは大気圧に戻す
時、真空容器内に付着、堆積していた塵埃が舞い
上り浮遊し、それらが試料に付着しピンホールが
発生するという欠点がある。
発明の目的 本発明は上記欠点を除去し、薄膜を形成してい
る試料以外の試料に不要な薄膜が付着したり、真
空容器内を真空にしたり大気圧に戻すときに、浮
遊する塵埃等が試料に付着しないようにしようと
するものである。
発明の構成 本発明は複数の試料を保持する試料保持部材
と、薄膜材を飛散せしめる蒸着源と、前記試料保
持部材を間欠駆動する駆動手段と、試料を遮蔽し
収納する試料保持機構と前記試料保持機構の回転
軸に設けた被動ギヤと噛み合つて前記試料に回転
を伝達する試料回転機構とを備えた蒸着装置であ
る。
実施例の説明 以下本発明の一実施例を図面にしたがつて説明
する。第4図は本発明の一実施例における試料保
持機構の断正面図、第5図は薄膜形成装置の断正
面図、第6図は同装置の平面図、第7図は試料回
転機構の正面図、第8図は同平面図、第9図は試
料保持機構及び試料回転機構に使用しているギヤ
の部分詳細を示す斜視図を示す。第4図から第9
図において、1は真空容器本体で下部に排気ポー
ト1aを有している。2は試料回転用モータで真
空容器本体1の下部に固定した回転導入機3と連
結し回転導入機3は軸受4に装着された原動軸5
と連結され、原動軸5には原動ギヤ6が固定され
ている。また軸受4には原動ギヤ6と噛みあつて
駆動するアイドラ18の軸25を固定した支持板
26が固定されている。この支持板26には長孔
26aが設けてあり軸受4を中心に回動可能にな
つている。径の小さな試料の場合は原動ギヤ6と
被動ギヤ17との間に中間ギヤ、すなわちアイド
ラギヤ18を入れ回転を伝達するようにしてい
る。アイドラギヤ18の必要ないときは長孔26
aの範囲で回転させ逃がしておく。8は回転導入
機で一端に試料保持部材9の駆動モータ7を固定
し、もう一端は複数の試料保持機構取付用切欠9
aを有した試料保持部材9を第2の回転軸28を
介して固定している。10は蒸着源本体でルツボ
11の送り機構(図示せず)を具備している。1
2は薄膜材でルツボ11に装着されている。
次に試料保持機構について説明する。13は試
料保持機構本体(以下ホルダー本体と称す)で円
周上に複数個の突起14aを有したリング状板バ
ネ14と軸15を固定している。軸15に装着さ
れた第1の回転軸16には被動ギヤ17が固定さ
れており原動ギヤ6またはアイドラギヤ18と噛
みあつて回転する。この構成で試料保持部材9を
駆動して前記試料保持機構に設けた被動ギヤ17
を前記原動ギヤ6またはアイドラギヤ18に噛み
合わせる様、前記原動ギヤ6もしくはアイドラギ
ヤ18のうちの被動ギヤ17と噛み合う側のギヤ
を前記被動ギヤとの噛み合い位置において被動ギ
ヤ17の駆動方向と一致する向きに回転駆動させ
ると共に、前記原動ギヤ6もしくはアイドラギヤ
18のうち前記被動ギヤ17と噛みあう側のギヤ
の基準ピツチ円直径の外側の歯末部の先端をとが
らせて斜面27を設けて歯先先端面どおしの接触
面積を小さくし噛みあいやすくしている。
19は筒状の防着板でホルダー本体13に設け
た孔13aに挿入された軸15に固定されてい
る。また防着板19の内側には内外周の膜厚分布
を均一にする蒸着マスク20が固定されている。
221は試料で第1の回転軸16に挿入され回転
軸16のフランジ部16aで支持されている。2
3は試料21の押圧機構部で第1の回転軸16に
挿入固定され内部に設けたバネ(図示せず)によ
り試料21を押圧固定している。22は防塵カバ
ーでホルダー本体1に着脱自在に固定している。
この様に構成された複数個の試料保持機構を試料
保持部材9に設けた切欠9aにホルダー本体1と
リング状板バネ14とのすき間14bをスライド
させて挿入し、リング状板バネ14に設けた突起
14aによりホルダー本体1を試料保持部材9に
押圧固定しモータ7により試料保持部材9に固定
した試料保持機構を割出して、防着板19の中心
がルツボ11の中心にくるようにし原動ギヤ6と
被動ギヤ17またはアイドラギヤ18と噛み合わ
せる。このようにして真空容器本体1の内部をあ
る真空度まで真空吸引し、薄膜材12に電子ビー
ムをあて、一定時間経過後シヤツター29を開く
と、ルツボ11の真上にある試料21には逆円す
い状に角度αの範囲で蒸着した薄膜材12は付着
するが防着板19より外側に角度βの範囲で蒸発
した薄膜材12はルツボ11の真上以外に設けた
防着板19により遮蔽される。したがつて蒸着中
以外の試料21への薄膜材12の付着を防止でき
る。
従つて順次薄膜を形成することができ、本実施
例では(1試料/1ルツボ)のペレツト状の蒸着
材料を使用しているため次の試料21がルツボ1
1の真上にくる様に試料保持部材9をモーター7
で間欠駆動させると共に蒸着源本体10に組込ま
れたルツボ送り機構の薄膜材12を装着したルツ
ボ11も間欠送りし試料21の真下にくる様にす
る。このようにして薄膜を形成するという動作を
繰り返すことにより複数の試料を同じ条件の下で
蒸着できる。また蒸着源から蒸発する薄膜材のう
ち試料21に付着する物以外はほとんど防着板1
9の内壁と蒸着マスク20に付着するため試料保
持部材9にはほとんど付着しないので薄膜材の除
去清掃回数を減らすことができる。また試料保持
機構は試料保持部材9に着脱自在に設けてあり、
試料21をクリーンな状態で収納したままで取扱
いができる。また試料21の蒸着領域を除きホル
ダー本体1と防塵カバー22で遮蔽しているので
真空容器内で浮遊している塵埃の付着を防止でき
る。また試料保持機構で薄膜材の付着が最も多い
防着板19と蒸着マスク20は試料保持機構より
容易に交換できるよう着脱自在にしている。
以上のように上記実施例によれば次のような効
果が得られる。
(1) 試料保持部材に回転可能に装着した複数枚の
試料を順次割出すと共に蒸着源の真上で前記試
料を回転させながら蒸着するように構成したこ
とにより1回の真空吸引で複数枚の試料を同一
条件下で蒸着できる。また試料を蒸着源の真上
で回転させながら行なうことにより単に試料を
試料保持部材に載置して蒸着源と対向させて行
なう場合に比べ膜厚分布のバラツキの小さな薄
膜を得ることができ品質、性能、生産性が向上
する。
(2) また複数の試料のそれぞれの所定の薄膜形成
領域を囲むと共に試料保持機構より蒸着源側に
伸張する筒状の防着板を設けることにより、あ
る一つの試料に薄膜を形成する時、他の試料の
いずれにも薄膜材が付着しなくなる。従つて試
料に単一の薄膜を形成する場合はもちろんのこ
と多層の薄膜材を蒸着する場合でも複数の試料
に一層目の薄膜材を蒸着している際に他の試料
の既に形成された一層目の薄膜の上に2層目の
薄膜材が付着すると特性を著しく劣化させるこ
とになるが本構成によれば他の試料への薄膜材
の付着をなくすることができる。
(3) 試料保持機構のホルダー本体と防塵カバーと
により試料の薄膜形成領域を除き試料周囲を遮
蔽することにより真空容器内を浮遊している塵
埃等の付着を防止できる。また試料を試料保持
機構に収納した状態で試料保持部材から容易に
着脱できるため試料を常にクリーンな状態に保
つて取扱いでき、ピンホールのない清浄な薄膜
を得ることができ作業性、歩留りが向上する。
(4) 原動ギヤと噛み合い原動ギヤを中心に回動可
能にアイドラギヤを設けて、前記原動ギヤの回
転をアイドラギヤを介して試料保持機構に設け
た被動ギヤと噛み合せて回転を伝達することに
より径の小さな試料にも対応できる。
(5) 原動ギヤもしくは、アイドラギヤのうち前記
被動ギヤと噛み合う側のギヤの基準ピツチ円直
径の外側の歯末部の先端をとがらせて歯先部ど
おしの接触面積を小さくすることにより、一定
方向に回転する原動ギヤ、あるいはアイドラギ
ヤと間欠駆動して割り出された試料保持機構の
被動ギヤと前記原動ギヤもしくはアイドラギヤ
の噛み合いをスムーズにすることができ装置の
信頼性が向上する。
発明の効果 以上のように本発明によれば、試料保持部材に
回転可能に装着した複数の試料を順次割出すとと
もに蒸着源の真上で前記試料を回転させながら蒸
着するように構成したことにより1回の真空吸引
で複数枚の試料を同一条件下で蒸着することがで
き、また、試料を蒸着源の真上で回転させながら
行うことにより、単に試料を試料保持部材に載置
して蒸着源と対向させて行う場合に比べ膜厚分布
のバラツキの小さな薄膜を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、第3図はそれぞれ従来例にお
ける薄膜形成装置の断正面図、第4図は本発明の
一実施例における薄膜形成装置の一部分の断正面
図、第5図は同装置の断正面図、第6図は同装置
の上面図、第7図は同装置の一部分の正面図、第
8図は同装置の一部分の平面図、第9図は同装置
の一部分の斜視図である。 1……真空容器本体、3……回転導入機、9…
…試料保持部材、10……蒸着源本体、11……
ルツボ、12……薄膜材、19……防着板、20
……蒸着マスク、21……試料、22……防塵カ
バー。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 複数の試料を保持する試料保持部材と、薄膜
    形成材料を飛散せしめる蒸着源と、前記試料保持
    部材を駆動して前記試料を前記蒸着源に順次対向
    せしめる駆動手段と、前記試料保持部材に着脱自
    在に設けられてあつて、第1の回転軸にて前記試
    料を保持する試料保持機構と、前記回転軸に設け
    た被動ギヤと噛み合い、前記試料に回転を伝達す
    る試料回転機構とを備え試料保持機構が試料を第
    1の回転軸に押圧固定する押圧機構部と、前記試
    料保持機構に設けられ前記試料の薄膜形成領域を
    囲むと共に前記試料より蒸着源側に伸張する筒状
    の防着板と、この防着板に設けた蒸着マスクと試
    料周囲を遮蔽する防塵カバーとを備えた薄膜形成
    装置。 2 試料保持部材が第2の回転軸に支持されると
    共に第2の回転軸を中心とする円周上に着脱自在
    に前記試料回転機構を保持する部材により構成さ
    れた特許請求の範囲第1項記載の薄膜形成装置。 3 試料保持機構に回転を伝達する手段が原動ギ
    ヤとこの原動ギヤを中心に回動可能なアイドラギ
    ヤにより構成され、前記アイドラギヤを介して前
    記回転軸に動力を伝達するようにした特許請求の
    範囲第1項記載の薄膜形成装置。 4 試料保持部材を駆動して第1の回転軸に設け
    た被動ギヤを駆動ギヤ、もしくはアイドラギヤに
    噛み合わせるよう、前記原動ギヤ、もしくはアイ
    ドラギヤのうちの前記被動ギヤと噛み合う側のギ
    ヤを前記被動ギヤとの噛み合い位置において前記
    被動ギヤの駆動方向と一致する向きに回転駆動す
    るよう構成した特許請求の範囲第1項または第3
    項記載の薄膜形成装置。 5 原動ギヤもしくはアイドラギヤのうち被動ギ
    ヤと噛み合う側のギヤの基準ピツチ円直径の外側
    の歯末部の先端をとがらせるよう構成した特許請
    求の範囲第1項または第3項記載の薄膜形成装
    置。
JP16442583A 1983-09-06 1983-09-06 薄膜形成装置 Granted JPS6056069A (ja)

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Publication Number Publication Date
JPS6056069A JPS6056069A (ja) 1985-04-01
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Families Citing this family (2)

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JP2008058417A (ja) 2006-08-29 2008-03-13 Brother Ind Ltd 画像形成装置

Citations (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5213935B2 (ja) * 1971-12-17 1977-04-18

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JPS5213935B2 (ja) * 1971-12-17 1977-04-18

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JPS6056069A (ja) 1985-04-01

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