JPH0663968B2 - 光学モニタ装置 - Google Patents
光学モニタ装置Info
- Publication number
- JPH0663968B2 JPH0663968B2 JP63289199A JP28919988A JPH0663968B2 JP H0663968 B2 JPH0663968 B2 JP H0663968B2 JP 63289199 A JP63289199 A JP 63289199A JP 28919988 A JP28919988 A JP 28919988A JP H0663968 B2 JPH0663968 B2 JP H0663968B2
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- Japan
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- substrate
- box
- rotating body
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/8422—Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は真空処理装置により基板の表面に形成される
薄膜の反射光スペクトルをモニタする光学モニタ装置に
関するものである。
薄膜の反射光スペクトルをモニタする光学モニタ装置に
関するものである。
（従来の技術） 従来の光学モニタ装置には種々のものがある。第３図の
例は透明な基板の表面に形成される薄膜の反射光スペク
トルをモニタするものである。第３図によれば、真空蒸
着装置の真空槽１内には透明な基板２が蒸発源３の上方
に配設され、蒸発源３より蒸発された物質の粒子が基板
２の表面に付着して、薄膜が形成されるが、この薄膜の
反射光のモニタは、光源４からの光を基板２の裏面より
入射させて、基板２の表面の薄膜で反射させ、この反射
した光のスペクトルを分光器５で測定することによって
なされている。第４図の例は光を透過しない基板の表面
に形成される薄膜の反射光スペクトルをモニタするもの
である。第４図によれば、第１図と同様に蒸発源３より
蒸発された物質の粒子が基板２の表面に付着して、薄膜
が形成されるが、この薄膜の反射光のモニタは、真空槽
１外の光源４からの光がレンズ６を通ってから真空槽１
の入射窓1aより真空槽１内に入り、そして基板２の表面
の薄膜で反射され、反射された光が真空槽１の反射窓1b
を出て、レンズ７を通ってから分光器５に入り、そこ
で、反射した光のスペクトルを測定することによってな
されている。第５図の例は光を透過しないフィルム状の
基板の表面に形成される薄膜の反射光スペクトルをモニ
タするものである。第５図によれば、フィルム状の基板
２は送出しドラム８より送出された後、中央ドラム９で
案内されながら、フィルム状の基板２の表面に蒸発源３
より蒸発された物質の粒子が付着して、薄膜が形成さ
れ、そして、巻取りドラム10に巻取られている。フィル
ム状の基板２の表面に形成される薄膜の反射光のモニタ
は、真空槽１外の光源４からの光が真空槽１内に入り、
中央ドラム９より巻取りドラム10に向かって走行してい
るフィルム状の基板２の表面の薄膜で反射され、反射さ
れた光が真空槽１外に出て、分光器５に入り、そこで、
反射した光のスペクトルを測定することによってなされ
ている。
例は透明な基板の表面に形成される薄膜の反射光スペク
トルをモニタするものである。第３図によれば、真空蒸
着装置の真空槽１内には透明な基板２が蒸発源３の上方
に配設され、蒸発源３より蒸発された物質の粒子が基板
２の表面に付着して、薄膜が形成されるが、この薄膜の
反射光のモニタは、光源４からの光を基板２の裏面より
入射させて、基板２の表面の薄膜で反射させ、この反射
した光のスペクトルを分光器５で測定することによって
なされている。第４図の例は光を透過しない基板の表面
に形成される薄膜の反射光スペクトルをモニタするもの
である。第４図によれば、第１図と同様に蒸発源３より
蒸発された物質の粒子が基板２の表面に付着して、薄膜
が形成されるが、この薄膜の反射光のモニタは、真空槽
１外の光源４からの光がレンズ６を通ってから真空槽１
の入射窓1aより真空槽１内に入り、そして基板２の表面
の薄膜で反射され、反射された光が真空槽１の反射窓1b
を出て、レンズ７を通ってから分光器５に入り、そこ
で、反射した光のスペクトルを測定することによってな
されている。第５図の例は光を透過しないフィルム状の
基板の表面に形成される薄膜の反射光スペクトルをモニ
タするものである。第５図によれば、フィルム状の基板
２は送出しドラム８より送出された後、中央ドラム９で
案内されながら、フィルム状の基板２の表面に蒸発源３
より蒸発された物質の粒子が付着して、薄膜が形成さ
れ、そして、巻取りドラム10に巻取られている。フィル
ム状の基板２の表面に形成される薄膜の反射光のモニタ
は、真空槽１外の光源４からの光が真空槽１内に入り、
中央ドラム９より巻取りドラム10に向かって走行してい
るフィルム状の基板２の表面の薄膜で反射され、反射さ
れた光が真空槽１外に出て、分光器５に入り、そこで、
反射した光のスペクトルを測定することによってなされ
ている。
（発明が解決しようとする課題） 従来の光学モニタ装置は、特に第４図に示される光を透
過しない基板の表面に形成される薄膜の反射光スペクト
ルをモニタする例の場合には、蒸発源３より蒸発された
物質の粒子が真空槽１の入射窓1aと反射窓1bとに付着し
て、光の透過を悪くするため、長時間の使用ができない
問題があった。また、第５図に示される光を透過しない
フィルム状の基板の表面に形成される薄膜の反射光スペ
クトルをモニタする例の場合には、基板２の形状がフィ
ルム状のものに限定され、その他の形状のものが使用で
きず、しかも、フィルム状の基板２の表面に蒸発源３よ
り蒸発された物質の粒子が付着して、薄膜が形成される
部分と、薄膜に光を照射して反射光スペクトルをモニタ
する部分とが離れているときとか、あるいはフィルム状
の基板２の走行速度が遅いときとかには、膜形成部と測
定部とにおける反射光スペクトルが同じものでないた
め、反射光スペクトルをモニタする際の即時性が失われ
る等の問題があった。
過しない基板の表面に形成される薄膜の反射光スペクト
ルをモニタする例の場合には、蒸発源３より蒸発された
物質の粒子が真空槽１の入射窓1aと反射窓1bとに付着し
て、光の透過を悪くするため、長時間の使用ができない
問題があった。また、第５図に示される光を透過しない
フィルム状の基板の表面に形成される薄膜の反射光スペ
クトルをモニタする例の場合には、基板２の形状がフィ
ルム状のものに限定され、その他の形状のものが使用で
きず、しかも、フィルム状の基板２の表面に蒸発源３よ
り蒸発された物質の粒子が付着して、薄膜が形成される
部分と、薄膜に光を照射して反射光スペクトルをモニタ
する部分とが離れているときとか、あるいはフィルム状
の基板２の走行速度が遅いときとかには、膜形成部と測
定部とにおける反射光スペクトルが同じものでないた
め、反射光スペクトルをモニタする際の即時性が失われ
る等の問題があった。
この発明は、上記のような従来の問題を解決して、長時
間の連続的な使用を可能にし、しかも、基板の形状に限
定されず、いかなる形状の基板であってもよく、更に、
基板の表面の薄膜の反射光スペクトルをモニタする際の
即時性をもった光学モニタ装置を提供することを目的と
している。
間の連続的な使用を可能にし、しかも、基板の形状に限
定されず、いかなる形状の基板であってもよく、更に、
基板の表面の薄膜の反射光スペクトルをモニタする際の
即時性をもった光学モニタ装置を提供することを目的と
している。
（課題を解決するための手段） 上記目的を達成するために、この発明の光学モニタ装置
は、真空槽内の基板近傍の空間に配設され、基板の表面
に薄膜を形成する物質と同一の物質の粒子の入射する開
口部を一部にもつ防着箱と、この防着箱の開口部を覆
い、かつ防着箱の壁との間の隙間が小さくなるように防
着箱内に配設され、上記開口部より入射する物質の粒子
を一部に付着させて薄膜を形成する回転体と、この回転
体を上記防着箱内で回転させる回転機構と、上記回転体
の一部に付着して形成される薄膜のうち、上記開口部に
面していない上記防着箱内に存在する部分に光を照射し
て、その薄膜からの光の反射スペクトルを測定する光学
的手段とを備えている。
は、真空槽内の基板近傍の空間に配設され、基板の表面
に薄膜を形成する物質と同一の物質の粒子の入射する開
口部を一部にもつ防着箱と、この防着箱の開口部を覆
い、かつ防着箱の壁との間の隙間が小さくなるように防
着箱内に配設され、上記開口部より入射する物質の粒子
を一部に付着させて薄膜を形成する回転体と、この回転
体を上記防着箱内で回転させる回転機構と、上記回転体
の一部に付着して形成される薄膜のうち、上記開口部に
面していない上記防着箱内に存在する部分に光を照射し
て、その薄膜からの光の反射スペクトルを測定する光学
的手段とを備えている。
（作用） この発明の光学モニタ装置においては、防着箱の開口部
より入射する、基板の表面に薄膜を形成する物質と同一
の物質の粒子が、防着箱内に回り込むことなく、回転機
構によって回転させられている回転体の一部に付着し
て、そこに薄膜が形成されるようになる。そして、この
薄膜の反射光スペクトルは光学的手段で測定されるよう
になる。
より入射する、基板の表面に薄膜を形成する物質と同一
の物質の粒子が、防着箱内に回り込むことなく、回転機
構によって回転させられている回転体の一部に付着し
て、そこに薄膜が形成されるようになる。そして、この
薄膜の反射光スペクトルは光学的手段で測定されるよう
になる。
（実施例） 以下、この発明の実施例について図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図はこの発明の実施例を示しており、同図におい
て、光学モニタ装置は、防着箱21と、回転体31と、回転
機構41と、光学的手段51とを備えている。防着箱21は、
真空槽１内の基板２近傍の空間に配設されている。防着
箱21の蒸発源３側の壁の一部には開口部22が設けられ、
蒸発源３より蒸発した物質の粒子が基板２の表面に付着
して薄膜を形成すると共に、この開口部22に入射するよ
うになる。防着箱21内には円板状の回転体31が配設さ
れ、この回転体31は防着箱21の開口部22を覆っている。
また、回転体31と防着箱21の壁との間の隙間は小さくな
っている。したがって、開口部22より入射した蒸発した
物質の粒子は、回転体31の一部に付着して、そこに薄膜
を形成するが、回転体31と防着箱21の壁との間の隙間は
小さくなっているため、開口部22より入射した蒸発した
物質の粒子が防着箱21内に回り込むことがなく、防着箱
21内の汚染が少なくなって、長時間の連続的な使用が可
能になる。回転体31には回転機構41が接続され、回転機
構41によって、回転体31が防着箱21内で回転するように
なっている。回転機構41は回転駆動機（図示せず）や回
転導入機構42を介して回転軸43を回転させ、そして、こ
の回転軸43の端部の歯車44と歯合する歯車45を介して、
回転軸46を回転させている。回転軸46の回転により、回
転体31が回転する。回転体31が回転することによって、
回転体31の一部に形成された薄膜は、開口部22より防着
箱21内に移行し、光学的手段51によって、その薄膜の光
の反射スペクトルが測定されるようになる。光学的手段
51は、光源４からの光がレンズ52及びハーフミラー53を
通って回転体31の一部に形成された薄膜に入射され、そ
こで反射されてから再びハーフミラー53を通り、そして
400nmのフィルター54を通って受光器55に入ると共に、7
50nmのフィルター56を通って受光器57に入るものであ
る。
て、光学モニタ装置は、防着箱21と、回転体31と、回転
機構41と、光学的手段51とを備えている。防着箱21は、
真空槽１内の基板２近傍の空間に配設されている。防着
箱21の蒸発源３側の壁の一部には開口部22が設けられ、
蒸発源３より蒸発した物質の粒子が基板２の表面に付着
して薄膜を形成すると共に、この開口部22に入射するよ
うになる。防着箱21内には円板状の回転体31が配設さ
れ、この回転体31は防着箱21の開口部22を覆っている。
また、回転体31と防着箱21の壁との間の隙間は小さくな
っている。したがって、開口部22より入射した蒸発した
物質の粒子は、回転体31の一部に付着して、そこに薄膜
を形成するが、回転体31と防着箱21の壁との間の隙間は
小さくなっているため、開口部22より入射した蒸発した
物質の粒子が防着箱21内に回り込むことがなく、防着箱
21内の汚染が少なくなって、長時間の連続的な使用が可
能になる。回転体31には回転機構41が接続され、回転機
構41によって、回転体31が防着箱21内で回転するように
なっている。回転機構41は回転駆動機（図示せず）や回
転導入機構42を介して回転軸43を回転させ、そして、こ
の回転軸43の端部の歯車44と歯合する歯車45を介して、
回転軸46を回転させている。回転軸46の回転により、回
転体31が回転する。回転体31が回転することによって、
回転体31の一部に形成された薄膜は、開口部22より防着
箱21内に移行し、光学的手段51によって、その薄膜の光
の反射スペクトルが測定されるようになる。光学的手段
51は、光源４からの光がレンズ52及びハーフミラー53を
通って回転体31の一部に形成された薄膜に入射され、そ
こで反射されてから再びハーフミラー53を通り、そして
400nmのフィルター54を通って受光器55に入ると共に、7
50nmのフィルター56を通って受光器57に入るものであ
る。
なお、第１図において、61はガス導入ノズル、62はホロ
ーカソードガン、63は収束コイルである。
ーカソードガン、63は収束コイルである。
ところで、その他の実施例として、第１図の円板状の回
転体の代りに、第２図に示すように円筒の回転体31を用
いてもよく、また、第１図の光学的手段の代りに、第２
図に示すように光源４からの光を円筒の回転体31の一部
の薄膜で反射し、その反射スペクトルを分光器５で測定
してもよい。更に、光学モニタ装置を真空蒸着装置に用
いているが、スパッタリング装置やCVD装置等の真空処
理装置に用いてもよく、また光学的手段で２波長の反射
スペクトルを測定する代りに、全波長の反射スペクトル
を測定してもよい。更にその上、回転体31に基板２と同
様の薄膜を形成するために、回転体31を加熱したり、回
転体31に電圧を印加してもよい。
転体の代りに、第２図に示すように円筒の回転体31を用
いてもよく、また、第１図の光学的手段の代りに、第２
図に示すように光源４からの光を円筒の回転体31の一部
の薄膜で反射し、その反射スペクトルを分光器５で測定
してもよい。更に、光学モニタ装置を真空蒸着装置に用
いているが、スパッタリング装置やCVD装置等の真空処
理装置に用いてもよく、また光学的手段で２波長の反射
スペクトルを測定する代りに、全波長の反射スペクトル
を測定してもよい。更にその上、回転体31に基板２と同
様の薄膜を形成するために、回転体31を加熱したり、回
転体31に電圧を印加してもよい。
（発明の効果） この発明は、上記のように防着箱の開口部より入射す
る、基板の表面に薄膜を形成する物質と同一の物質の粒
子が、防着箱内に回り込むことなく、回転機構によって
回転させられている回転体の一部に付着して、そこに薄
膜が形成され、この薄膜の反射光スペクトルを光学的手
段で測定するようにしているので、光学モニタ装置を長
時間連続的に使用でき、しかも、透明基板に限らず、不
透明な基板等いかなる種類、形状の基板についても利用
できる効果をもっている。また、基板への薄膜形成時、
この薄膜と同等な反射光スペクトルの測定にも利用で
き、更に、基板の表面の薄膜の反射光スペクトルをモニ
タする際の即時性をもつことができる等の効果を持って
いる。
る、基板の表面に薄膜を形成する物質と同一の物質の粒
子が、防着箱内に回り込むことなく、回転機構によって
回転させられている回転体の一部に付着して、そこに薄
膜が形成され、この薄膜の反射光スペクトルを光学的手
段で測定するようにしているので、光学モニタ装置を長
時間連続的に使用でき、しかも、透明基板に限らず、不
透明な基板等いかなる種類、形状の基板についても利用
できる効果をもっている。また、基板への薄膜形成時、
この薄膜と同等な反射光スペクトルの測定にも利用で
き、更に、基板の表面の薄膜の反射光スペクトルをモニ
タする際の即時性をもつことができる等の効果を持って
いる。
第１図はこの発明の実施例を示す説明図、第２図はこの
発明のその他の実施例を示す説明図である。第３図、第
４図及び第５図は従来の光学モニタ装置を示す説明図で
ある。 図中、 １……真空槽 ２……基板 21……防着箱 22……開口部 31……回転体 41……回転機構 51……光学的手段 なお、図中、同一符号は同一又は相当部分を示してい
る。
発明のその他の実施例を示す説明図である。第３図、第
４図及び第５図は従来の光学モニタ装置を示す説明図で
ある。 図中、 １……真空槽 ２……基板 21……防着箱 22……開口部 31……回転体 41……回転機構 51……光学的手段 なお、図中、同一符号は同一又は相当部分を示してい
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審査官 平井 良憲 (56)参考文献 特開 昭63−128178（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−140609（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】真空槽内の基板近傍の空間に配設され、基
板の表面に薄膜を形成する物質の粒子の入射する開口部
を一部にもつ防着箱と、この防着箱の開口部を覆い、か
つ防着箱の壁との間の隙間が小さくなるように防着箱内
に配設され、上記開口部より入射する物質の粒子を一部
に付着させて薄膜を形成する回転体と、この回転体を上
記防着箱内で回転させる回転機構と、上記回転体の一部
に付着して形成される薄膜のうち、上記開口部に面して
いない上記防着箱内に存在する部分に光を照射して、そ
の照射した薄膜からの光の反射スペクトルを測定する光
学的手段とを備えた光学モニタ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63289199A JPH0663968B2 (ja) | 1988-11-16 | 1988-11-16 | 光学モニタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63289199A JPH0663968B2 (ja) | 1988-11-16 | 1988-11-16 | 光学モニタ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02134542A JPH02134542A (ja) | 1990-05-23 |
| JPH0663968B2 true JPH0663968B2 (ja) | 1994-08-22 |
Family
ID=17740063
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63289199A Expired - Lifetime JPH0663968B2 (ja) | 1988-11-16 | 1988-11-16 | 光学モニタ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0663968B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU6014996A (en) * | 1995-06-14 | 1997-01-15 | Kirin Beer Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for inspecting coating film |
| US6123429A (en) * | 1997-05-17 | 2000-09-26 | Tokyo Electron Limited | Light source device |
| JPH1197446A (ja) | 1997-09-18 | 1999-04-09 | Tokyo Electron Ltd | 縦型熱処理装置 |
| US6080965A (en) * | 1997-09-18 | 2000-06-27 | Tokyo Electron Limited | Single-substrate-heat-treatment apparatus in semiconductor processing system |
| GB2437980B (en) * | 2006-05-13 | 2010-05-19 | Optical Reference Systems Ltd | Apparatus for measuring semiconductor physical characteristics |
| CN106304845B (zh) * | 2015-04-24 | 2019-09-03 | 大塚电子株式会社 | 光学测定装置以及光学测定方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH076063B2 (ja) * | 1986-11-17 | 1995-01-25 | 松下電器産業株式会社 | 光検出方法および装置 |
-
1988
- 1988-11-16 JP JP63289199A patent/JPH0663968B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02134542A (ja) | 1990-05-23 |
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