JPS6050785B2 - ピリドキシン酸誘導体の製造方法 - Google Patents

ピリドキシン酸誘導体の製造方法

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JPS6050785B2
JPS6050785B2 JP50045392A JP4539275A JPS6050785B2 JP S6050785 B2 JPS6050785 B2 JP S6050785B2 JP 50045392 A JP50045392 A JP 50045392A JP 4539275 A JP4539275 A JP 4539275A JP S6050785 B2 JPS6050785 B2 JP S6050785B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光遮蔽剤(Ligtlt−Screening
agent)に関する。
更に詳細には、本発明は光遮蔽剤、その製造法及び該剤
を用いる有害な光線からの皮膚の保護法に関する。更に
本発明は該剤の必須活性成分のあるもの及びその製造法
に関する。本発明によつて提供される光遮蔽剤は、必須
活性成分として、一般式〔式中、nが1を表わす場合、
R1は水素、アルキル、アルカリ金属、アンモニウム又
は1個もしくはそれ以上のアルキルもしくはヒドロキシ
ア.ルキル基で置換されたアンモニウムを表わし、R2
はヒドロキシメチル又はアルコキシメチルを表わしそし
てR3は水素を表わすか、或いはR1及びR2は一緒に
なつてメチレン基を表わしそしてR3は水素、メチル又
はエチルを表わし;nが2を表わす場合、R1はアルカ
リ土類金属を表わし、R2はヒドロキシメチル又はアル
コキシメチルを表わしそしてR3は水素を表わす〕の化
合物の1種もしくはそれ以上及び/又はその酸付加塩の
1種もしくはそれ以上、並びに適合する化粧品基剤(C
Osmeticbase)を含有する。
式1の化合物の遮弊作用は、それらが特定の吸収により
生体表面細胞(11V1ngepiderma1ce1
1)を太陽の紅斑一生成紫外線(Erythema−P
rOducingultravlOletray)(2
90nm〜340r1m)から遮蔽するという事実に基
ついている。式■の化合物、例えば4−ピリドキシン酸
(4−PyridOxicacid)又は4−ピリドキ
シン酸ラグ)トンは、ピリドキシン(ビタミンB6)の
代謝産物又はそれらの誘導体である。
従つて式1の化合物は、通常の光遮蔽剤中に存在するU
V一吸収活性物質と対照的に外固性物質(ExOgen
OussuOstance)と考えられない。それ故に
式1の化合物は、皮膚に対して非常に良好な許容性を有
する。
本発明によつて提供される光遮蔽剤の更に別の利点は、
その選択的な吸収、その臭いのないこと、及びその良好
な化学的及び光化学的安定性にある。更にR2が水素を
表わす式1の化合物は、吸収された皮膚一有害性UV光
の大部分を長波長螢光照射(FluOrescenti
rradiatiOn)(42011m)として再発光
する。
この螢光照射は褐色光の範囲にあり、皮膚に有害な照射
が事実褐色着色に有用な照射に変えられる。本明細にお
いて、“゜アルキル゛はそれ自体で又ぱ゜アルコキゾ゛
もしくはヒドロキシアルキル゛における如き組合せにお
いて炭素原子数頷個までの直鎖状又は分岐鎖状の炭化水
素基を意味する。
炭素原子数7個までの゜゜低級アルキル基゛が好適であ
る。R2がヒドロキシメチル又はアルコキシメチルであ
り、R3が水素でありそしてR1が水素、アルカリ金属
、アルカリ土類金属又は置換されたアンモ゛ニウムであ
る式1の化合物が好適である。
この場合、ナトリウム及びカリウムが特に好適なアルカ
リ金属であり、カルシウム及びマグネシウムが特に好適
なアルカリ土類金属てあり、そしてジエタノールアンモ
ニウム及びトリエタノールアンモニウムが特に好適な置
換されたアンモニウム基である。特に好適な化合物は、
4−ピリドキシン酸ナトリウム、 4−ピリドキシン酸カリウム、及び 4−ピリドキシン酸トリエタノールアンモニウムである
式1の化合物のいくつかの最大吸収波長(エタノール中
で測定)を下表に示す:本発明によつて提供される光遮
蔽剤は、式1の4化合物の1種もしくはそれ以上及び/
又はその酸付加塩の1種もしくはそれ以上を適合しうる
化粧品基剤と混合することによつて製造される。
本発明によつて提供される光遮蔽剤中に存在する化粧品
基剤としては、化粧品の必要条件及び用.いる式1の化
合物又はその酸付加塩の溶解性を満足する通常の化粧品
基剤のいずれであつてもよい。即ち例えばクリーム、ミ
ルク、軟こう、オイル、液剤、スプレー、ゲルなどが製
造され得る。しかしながら、光遮蔽作用の強度は、用い
る基剤及び同一の基剤の場合必須の活性成分の濃度に依
存する。しかし適当な濃度は25%を越えるべきでない
。好ましくは濃度は2〜6%である。先に定義した必須
の活性成分の更に別の利点は、特にある種のものを選択
することによつて最終剤への溶解度の必要条件を考慮す
ることができる(例えば、水性剤に対しては塩が選択し
うる)ことにある。
上記の必須活性成分は、他の通常の光遮蔽剤と組合せて
もよい。
ここに通常の遮蔽剤とは、一般に最大吸収が約290〜
340nmの間にある有機化合物として理解される。こ
の遮蔽性は多くの有機化合物に特徴的であるから、種々
の種類からの化合物(このうち2,3については後述す
る)を本発明の光遮蔽剤に混入しうる。そのような化合
物の例は以下の通りである:1 エステル、例えばp−
アミノ安息香酸エチル、プロピル、ブチル及びイソブチ
ル、p−ジメチルアミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸
グリセリル及びp−ジメチルアミノ安息香酸アミルを含
むp−アミノ安息香酸の誘導体。
2例えばp−メトキゾ桂皮酸2−エトキシエチル、p−
メトキシ桂皮酸エチルヘキシル、p−メトキシ桂皮酸エ
ステル混合物及び桂皮酸エステル混合物の如ぎ桂皮酸の
誘導体。
3 ジベンザルヒドラジン類。
4例えば2−フェニルベンズイミダゾールー5−スルホ
ン酸の如き2−フェニルベンズイミダゾールの誘導体。
5例えばサリチル酸メチルエステル、サリチル酸ホモメ
ンチルエステル及びサリチル酸フェニルエステルの如き
サリチル酸の誘導体。6例えば4−フェニルベンゾフェ
ノン、4−フェニルベンゾフェノンー2−カルボン酸イ
ソオクチル及び5−クロルー2−ヒドロキシベンゾフェ
ノンの如きベンゾフェノンの誘導体。
7例えば7−ヒドロキシクマリン、β−ウムベリフエロ
ンアクチツクアシツド(β一Wn回1jfer0nea
ctjcacid)及び6,7−ジヒドロキシクマリン
の如きクマリンの誘導体。
8例えばジカロイルトリオレエートの如き没食子酸の誘
導体。
9 テヒドロ酢酸(3−アセチルー6−メチルー1,2
−ピランー2,4−ジオン。
10例えば8−エトキシキノリンー5−スルホン酸ナト
リウムの如きキノリンの誘導体。
11例えばアンスラニル酸メチルの如きアンスラニル酸
の誘導体。
12ヒドロキシフェニルベンズトリアゾール。
更にアデニンもしくはグアニンの如きプリン誘導体又は
シトシンもしくはウラシルの如きピリミジン誘導体も本
発明の光遮蔽剤中に存在しうる。更に抗炎症性物質(例
えばパントテン酸もしくはパントテン酸エステル、フエ
ニルブタゾン、アズレン、アズレン誘導体又はカモミレ
抽出物(CamOmileextract)の如きアズ
レン含有物質)も本発明の遮蔽剤中に存在しうる。従つ
て上記の記述から、本発明は前述の光遮蔽剤を皮膚に施
用することから成る有害光線に対して保護する方法を含
むことが理解されよう。
4−ピリドキシン酸、4−ピリドキシン酸ラクトン及び
4−ピリドキシン酸ラクトン3−メチルエーテルを除い
て式1の化合物は新規である。
従つて、本発明はさらに、一般式〔式中、nが1を表わ
す場合、R1″は水素、ア,ルキル、アルカリ金属、ア
ンモニウム又は1個もしくはそれ以上アルキルもしくは
ヒドロキシアルキル基で置換されたアンモニウムを表わ
し、R2″はヒドロキシメチル又はアルコキシメチルを
表わしそしてR3″は水素を表わすか(但しR1″が水
二素を表わす場合にはR2″はヒドロキシメチルを表わ
さないものとする)、或いはR1″及びR2″は一緒に
なつてメチレン基を表わしそしてR3はエチルを表わし
;nが2を表わす場合、R1″はアルカリ土類金属を表
わし、R2″はヒドロキシメチル又は一アルコキシメチ
ルを表わしそしてR3は水素を表わす〕の新規な化合物
及びその酸付加塩に関する。
式■の化合物及びその酸付加塩は、本発明に従えば、次
の方法で製造される; Janが1を示
し、R1″及びR3″が共に水素を表わしそしてR2″
がアルコキシメチルを表わす式■の化合物を製造するに
際し、一般式〔式中、R2″はアルコキシメチルを表わ
す〕の化合物を酸化して対応する酸にするか、Bnが1
を表わす場合にはR1″がアルカリ金属、アンモニウム
又は1個もしくはそれ以上のアルキルもしくはヒドロキ
シアルキルで置換されたアンモニウムを表わし、R2″
がヒドロキシメチル又はアルコキシメチルを表わしそし
てR3″が水素を表わし、nが2を表わす場合にはR1
″がアルカリ土類金属を表わし、R2″がヒドロキシメ
チル又はアルコキシメチルを表わしそしてR3″が水素
を表わす式■の化合物を製造するに際し、一般式〔式中
、R2″はヒドロキシメチル又はアルコキシメチルを表
わす〕の酸を一般式 〔式中、R1″はアルカリ金属、アンモニウム又は1個
もしくはそれ以上のアルキルもしくはヒドロキシアルキ
ル基で置換されたアンモニウムを表わし且つmは1を示
すか、或いはR1″をアルカリ土類金属を表わし且つm
は2を示す〕の塩基て処理するか、nが1を示し、R1
″がアルキルを表わし、R2″がヒドロキシメ享ル又は
アルコキシメチルを表わしそしてR3″が水素を表わす
式■の化合物を製造するのに際し、R2″がヒドロキシ
メチル又はアルコキシメチルを表わす式■の酸又はその
塩を一般式〔式中、Xは弗素、塩素、臭素、沃素又はp
−トルエンスルホン酸エステルを表わしそしてR1″は
アルキルを表わす〕の化合物と反応させるか或いは、 1R1″及びR2″が一緒になつてメチレン基を表わし
そしてR3″がエチルを表わす式■の化合物を製造する
に際し、4−ピリドキシン酸ラクトンをジアゾエタンと
反応させ、そして所望により、得られる式■の化合物を
その酸付加塩へ転換する。
上記方法の具体例aにおいて、式■の化合物は対応する
酸へ酸化される。
式■の化合物は新規であり、下記式 に従つて式■の公知の化合物から製造することができる
酸化は通常の方法、例えばピリドキシンからの4−ピリ
ドキシン酸の製造に対するAm.Chem.SOc.辺
,3434(1948)の方法と類似の方法に従つて行
なうことができる。
上記の方法の具体例b)において、式■の酸は普通の方
法に従い当量の塩基で塩に変えられる。
R2″がアルコキシメチルを表わす式■の酸は新規であ
り、前記具体例a)に記載の如くして得ることができる
。上記の方法の具体例c)においては、式■の酸又はそ
の塩を式■の化合物と反応させる。
反応は好ましくはシメチルホルムアミド(DMF)の如
き不活性有機溶媒を用いることにより室温で塩基性条件
下に行なわれる。上記の方法の具体例d)においては、
4−ピリドキシン酸ラクトンをジアゾエタンと反応させ
る。
反応は好ましくは例えばメタノールの如き不活性有機溶
媒中においてジアゾエタンのエーテル溶液を添加するこ
とによつて行なわれる。この反応はO〜20゜Cの温度
に有利に行なわれる。次の実施例は本発明を例示するも
のである。参考例1D.Hey1,J.Amer.Ch
em.S0c.?,3434(1948)に従つて製造
される4−ピリドキシン酸7.32y(40ミリモル)
を、新しく調製した△水酸化ナトリウム溶液20mL(
40ミリモル)中に溶解した。
続いて得られた溶液をエタノールで稀釈し、回転蒸発機
で実質的に濃縮し、水を共沸蒸留によつて除去した。こ
の溶液を最後に酢酸エチルで処理して結晶化させた。こ
の結果無色のナトリウム塩4.96yを最初の結晶とし
て得、一方ノリツト(NOrit)での脱色後の母液か
ら無色のナトリウム塩を更に2.11g得た。
この方法で得られたナトリウム塩7.07fは水和物と
して存在していた。メタノール中においてナトリウムメ
チレートを塩基として用いることにより無水4−ピリド
キシン酸ナトリウムを直接得た;融点250〜252′
C(分解)。この塩は水に非常によく溶解し、エタノー
ルに溶解し、酢酸エチルに溶解しにくかつた。参考例2 参考例1で製造したピリドキシン酸のナトリウム塩1.
10y(5ミリモル)を室温でジメチルホルムアミド1
5m1中に溶解し、攪拌しながら沃化メチル784mg
(5ミリモル)で滴々に処理した。
数分後微細な結晶の分離が始まつた。添加の完了後、混
合物を室温で更に2時間攪拌し、次いて結晶を吸引淵過
した。また冷却することにより沖液から更に結晶を分離
した。粗生成物をメタノール/水から再結晶させること
により、4−ピリドキシン酸メチルの弱黄色結晶875
m9を得た;融点256゜C(分解)。同様の方法に従
い、ピリドキシン酸のナトリウ)ム塩を沃化n−ヘキシ
ルと80℃で4時間反応させ且つ反応混合物を水/クロ
ロホルムで処理することにより、クロロホルム/ヘキサ
ンから4−ピリドキシン酸n−ヘキシルを得た;融点1
54〜155゜C0夕実施例1 メタノール20m1中ナトリウムメチレー日.18g(
22ミリモル)を用い且つ還流下に加熱することにより
3−0−4−0−イソプロピリデンピリドキシン〔ダブ
リユー コリトニク(W.θKOrytnik)及びエ
ム・イカワ(M.Ikawa),MethOdsOfE
旧YrT]010gy,第x■巻、第A部、第527頁
、アカデミツク●ブレス(AcademicPress
)出版(1970)により製造〕4.185V(20ミ
リモル)をナトリウム塩に転換し、メタノールの除去後
に得られる結晶塩を室温及び0.01T0rrで乾燥し
た。
このようにして得た塩をジメチルホルムアミド50mL
に溶解し、攪拌しながら沃化セチル8.426y(22
ミリモル)で滴々に処理した。添加の完了後、混合物を
夜通し(b時間)室温て攪拌した。続いてこの混合物を
水及びベンゼンで処理し、有機相を硫酸ナトリウムで乾
燥した。次いで蒸発させた有機相をベンゼン/酢酸エチ
ル(1:1)のシリカゲルクロマトグラフィーで処理す
ることにより、純粋な3−0−4−0−イソプロピリデ
ンー5−(0−セチル)−ピリドキシン2.56yを無
色の結晶形で得た。これをジオキサン10m1及び1N
塩酸10m1の混合物中て90分間還流下に加熱するこ
とにより5−(0−セチル)−ピリドキシン塩酸塩に転
換した。エタノール/エーテルからの再結晶後、融点1
20〜127Cの塩酸塩2.59を得た。この遊離の塩
基(融点91〜92′C)をクロロホルム中において室
温で3時間二酸化マンガンで酸化することにより、5−
(0−セチル)−ピリドキサール(融点48.5〜49
.5℃)を殆んど定量的冫に得た。5−(0−セチル)
−ピリドキサール1.0yをメタノール性水酸化カリウ
ム(無水メタノール80m1中水酸化カリウム1.0q
)に溶解し、活性二酸化マンガン7.0yと共に室温で
6日間攪拌した。
230%過酸化水素5TtLを添加することにより、溶
解したマンガン塩を二酸化マンガンに酸化した。
この熱時混合物をすぐに沖過し、分離した二酸化マンガ
ンをメタノール性水酸化カリムで洗浄した。次いで黄色
の沖液を1N塩酸でPH4に酸性にする5ことにより、
先す生成した酸を好適に分離させた。O℃で3吟間放置
した後、混合物をグラスフィルターで沖過し、白黄色残
渣を水、エタノール及びエーテルで連続的に洗浄した。
この生成物をエタノール性水酸化カリウム(1%)に溶
解し、3続いて1N塩酸で沈殿させることにより、5一
(0−セチル)−4−ピリドキシン酸から最後の痕跡量
のアルデヒドを除去した。純粋な酸の収量は0.41J
に相当した。酸の融点は250゜C(分解)であつた。
4f実施例4無水
メタノール5m1中で1時間5−(0−セチル)−4−
ピリドキシン酸102m9(0.25ミリモル)をナト
リウムメチレート13.5mg(0.25ミリモル)と
一緒に還流下に沸とうさせた。
回転蒸発機で溶媒を蒸発させた後、黄色の5−(0−セ
チル)−4−ピリドキシン酸ナトリウムを夜通し高真空
下に乾燥した。収量は70m9に相当した。参考例3ク
リーム 脂肪相:エマルゲード(Emul?De) 1000
NI(飽和脂肪族アルコー ルグリコールエーテル) 0.5yラネツテ
(12nette) 0(セチルステアリルアルコー ル) 0.2gセチオー
ル(CetiOl) HE(脂肪酸エステル)
3.0yワセリン(白色) 5.0yソ
フチサン 水素化南京豆脂肪 4.0yエマルギン
(Emulgin) C7OO(飽和脂肪族アルコール ポリグリコールエーテル) 4.0yデヒ
マルス(Dehymuls) E(高分子脂肪族エステ
ルの混 合物) 1.0ダ 香
料 0.5y水相性:ダウイシ
ル(DOwicil) 200〔1−(3−クロルアリ ル)−3,5,7−トリアザー 1−アゾニアーアダマンタンク ロリド〕 0.3g4−ピ
リドキシン酸ナトリウム 5y水
58.8qゆつくりと攪拌しながら45〜50℃
で脂肪相の種々の成分を一緒に溶融することによつてク
リームを製造した。
4−ピリドキシン酸ナトリウム5y及びダウイシル20
0の0.3yを冷水58.5m1に溶解し、得られた溶
液を45〜50℃に加熱し、連続的に攪拌しながら脂肪
相と混合した。
この混合物を室温に冷却しながら更に3時間攪拌した。
最後に得られたクリームのPH値をアスコルビン酸で6
に調節した。参考例4 クリーム 脂肪相:エマルゲード1000NI (飽和脂肪族アルコールポリグ りコールエーテル) 2.5q5セチル
アルコール 1.09ワセリン(白色)
2.0y水素化南京豆脂肪 2.
09 グリセリンモノステアレート 1.5yソフチサン1
00(硬質脂肪) 2.0y1cクレモフオア(Cr
emOphOr) 0(エチレンオキシドのアルキ ル又はアシル置換重付加生成 物) 1.0yエマルギン
C7OO(飽和脂肪族 1! アルコールポリグ
リコールエー テル) 1.
0yセチオールHE(脂肪族エステ ル)
1.0y水相性:ピリドキシン酸ナト
リウム 6.0y2( トリス緩衝溶液、1%(ク
エン 酸でPH8.lに調節) 20m
tカーボポール(CarbOpOl) 9401水中1
%(トリスでPH8 に調節) 54.092.脂肪相を
水性相中へ80′Cで混入した。
次の溶液を50′Cで導入した: 香 料 0.2Vパンチル
(Pantyl) 0.59タウイシル20
0〔1−(3−ク 3 ロルアリル)−3,5,
7−ト りアザー1−アゾニアーアダマ ンタントリクロリド〕 0.3y水
2.0y参考例53 クリーム 脂肪相:ピリドキシン酸 5.0qトリエ
タノールアミン 8.15ダ プロピレングリ
コール 6.0yアムフイゾル(,AITlph
iSOl) 3.55y4ステアリン酸
1.29セチルアルコール 1.2V デルチルエクストラ (DeItylextra) (ミリステアリン酸イソプロ ピル) 3.0Vアラキス油(
ArachisOiI) 1.2yジエチレングリ
コールモノステアレート 1.2qラ
ントロール(LlntrOl) (精製ラノリン) 3.55yPCL一液
体(分岐鎖脂肪酸エステル)
0.1y=水中2%カーボポール 50.09ダ
ウイシル O・2y水
15.65q]ンニエマルゲード(Em
ul?De) 1000NI(飽和脂肪族アルコー ルポリグリコールエーテル) 0.5yラネツテ(
Llnette)0(セチルステアリルアルコー ル) 0.1qセチオール(
CetiOl) 1(E(脂肪族エステル) 1.5yワセリン
(白色) 2.5qソフチサン 水素化南京豆脂肪 4.0y エマルギン(Emulgin) C7OO(飽和脂肪族アルコール ポリグリコールエーテル) 4.0yデヒマルス
(Dehymuls)E(高分子脂肪族エステルの混 合物) 1.0y香 料
0.5f:ダウイシル(DOwic
il) 200〔1−(3−クロルアリ ル)−3,5,7−トリアザー 1−アゾニアーアダマンタンク ロリド〕 0.7y4−ピリド
キシン酸ナトリウム3.0yデヒマルス
0.5y エマルギンC7OO2.Oy 水 71.0ダローシヨンは
脂肪相の種々の成分を一緒に45〜50゜Cで溶融する
ことによつて製造した。
エマルギンC7OOの2.0q及びデヒマルスEO.5
yを水35mtに800Cで溶解した。同時に4−ピリ
ドキシン酸ナトリウム3y及びダウイシル200の0.
4qを冷水36mtに溶解した。これら2つの水溶液を
併せ、連続的に攪拌しながら脂肪相と混合した。この混
合物を室温に冷却しながら更に3時間攪拌した。最後に
得られ存ローシヨンのPH値をアスコルビン酸で6に調
節した。参考例7 ゲル 組成:カーボポール940(高分子量のア クリル酸重
合物) 1.29トリエタノールアミン
2.5gダウイシル
0.15y4−ピリドキシン酸ナトリウム 4.0ダ
水 92.15mL2
ゲルはカーボポール940の1.2ダを700Cに加熱
した水85m1に完全に溶解することによつて製造した
続いてこの溶液にトリエタノールアミン2.5q及びタ
ウイシル200の0.15yを添加した。最後にこの混
合物を水7.15m1中4−ピリドキシン酸ナ2トリウ
ムの溶液4.0qと一緒に室温で混合した。得られたゲ
ルはPH7.2を有した。参考例8 ゲル 参考例4に記載と同様の方法に従い次の組成の3ゲルを
製造した:カーボポール9401.2q トリエタノールアミン 2.5yダウイ
シル2000・15g4−ピリドキシン酸ナトリウム
6.0y3水
90.15TfLt参考例9ゲル ピリドキシン酸ナトリウム 6.0qトリス
0.3y4クエン酸
0.075yダウイシル2000.3q
水 33.325y上述の溶
液を、カーボポール9401.8y トリス 3.6f水
54.6fb)らなるカ
ーボポールゲル609中に導入した。
このゲルのPHは8.0に相当した。なお、本発明の主
な態様及び関連事項を要約すれば以下の通りである。
1 一般式 〔式中、nが1を表わす場合、R1″は水素、アルキ
ル、アルカリ金属、アンモニウム又は1個もしくはそれ
以上のアルキルもしくはヒドロキシアルキル基で置換さ
れたアンモニウムを表わし、R2″はヒドロキシメチル
又はアルコキシメチルを表わし、そしてR3″は水素を
表わし(但しR1″が水素を表わす場合、R2″はヒド
ロキシメチルを表わさないものとする)、或いはR1″
及びR2″は一緒になつてメチレン基を表わし且つR3
″はエチルを表わし;そしてnが2を表わす場合、R1
″はアルカリ土類金属を表わし、R2″はヒドロキシメ
チル又はアルコキシメチルを表わし且つR3″は水素を
表わす〕の化合物及びその酸付加塩を製造するに当り、
(a)nが1を表わし、R1″及びR3゛がそれぞれ水
素を表わしそしてR2″がアルコキシメチルを表わす式
■の化合物を製造するために、一般式 〔式中、R2
″はアルコキシメチルを表わ す〕 の化合物を酸
化して対応する酸にするか、(b)nが1を表わす場合
にR1″がアルカリ金 属、アンモニウム又は1個も
しくはそれ以上のアルキルもしくはヒドロキシアルキル
で置換されたアンモニウムを表わし、R2″がヒドロキ
シメチル又はアルコキシメチルを表わし且つR3″が水
素を表わし、そしてnが2を表わす場合にR1″がアル
カリ土類金属を表わ.し、R2″がヒドロキシメチル又
はアルコキシメチルを表わし且つR3″が水素を表わす
式■の化合物を製造するために、一般式 〔式中、R2
″はヒドロキシメチル又はアルlコキシメチルを表わす
〕の酸を一般式 〔式中、R1″はアルカリ金属、アンモニウム又は1
個もしくはそれ以上のアルキルもしくはヒドロキシアル
キル基で置換されたアンモニウムを表わしそしてmは1
を示すか或いはR1″はアルカリ土類金属を表わしそし
てmは2を示す〕の塩基で処理するか、 (c)nが1を示し、R1″がアルキルを表わし、R2
″がヒドロキシメチル又はアルコキシメチルを表わしそ
してR3″が水素を表わす式■の化合物を製造するため
に、R2″が上記の意味を有する式■の酸又はその塩を
一般式 〔式中、Xは弗素、塩素、臭素、沃素又はp−
トルエンスルホン酸エステルを表わしそしてR1″はア
ルキルを表わす〕の化合物と反応させるか、或いは (d)R1″及びR2″が一緒になつてメチレン基を表
わしそしてR3″がエチルを表わす式■の化合物を製造
するために、4−ピリドキシン酸ラクトンをジアゾエタ
ンと反応させ、そして所望により、得られた式■の化合
物を酸付加塩に転換することを特徴とする前記式■の化
合物及びその酸付加塩の製造方法。
24−ピリドキシン酸を水酸化ナトリウムで処理する際
の上記態様1による4−ピリドキシン酸ナトリウムの製
造方法。
4−ピリドキシン酸ナトリウムを沃化メチルと反応させ
る際の上記態様1による4−ピリドキシン酸メチルの製
造方法。
4−ピリドキシン酸ナトリウムを沃化n−ヘキシルと反
応させる際の上記態様1による4ーピリドキシン酸n−
ヘキシルの製造方法。
)5−(イ)−セチル)−4−ピリドキシンを酸化する
際の上記態様1にる5−(0−セチル)一4−ピリドキ
シン酸の製造方法。
3必須活性成分として一般式 〔式中、nが1を表わす場合、R1″は水素、アルキル
、アルカリ金属、アンモニウム又は1個もしくはそれ以
上のアルキルもしくはヒドロキシアルキル基で置換され
たアンモニウムを表わし、R2はヒドロキシメチル又は
アルコキシメチルを表わしそしてR3は水素を表わすか
、或いはR1及びR2は一緒になつてメチレン基を表わ
しそしてR3は水素、メチル又はエチルを表わし;nが
2を表わす場合、R1はアルカリ土類金属を表わし、R
2はヒドロキシメチル又はアルコキシメチルを表わしそ
してR3は水素を表わす〕の化合物の1種もしくはそれ
以上及び/又はその酸付加塩の1種もしくはそれ以上、
並びに適合する化粧品基剤を含有する光遮蔽剤を皮膚に
旋用することを特徴とする皮膚を有害な光線に対して保
護する方法。
7該光遮蔽剤が式1の化合物の1種又はそれ以上を25
重量%まで含有する上記態様6の方法。
8該光遮蔽剤が式1の化合物の1種又はそれ以上を2〜
6重量%含有する上記態様6又は7の方法。
9該光遮蔽剤が必須活性成分としてもつぱら式Iの化合
物の1種又はそれ以上を含有する上記態様6〜8のいず
れかの方法。
10該光遮蔽剤が290〜340nmの間に最大吸収を
有する有機化合物の1種又はそれ以上をも含有する上記
態様6〜8のいずれかの方法。
11該光遮蔽剤が抗炎症物質をも含有する上記態様6〜
10のいずれかの方法。
12該光遮蔽剤が、nが1を示しそしてR1が水素、ア
ルカリ金属又はアルキルもしくはヒドロキシアルキル基
で置換されたアンモニウムを表わし、R2がヒドロキシ
メチル又はアルコキシメチルを表わしそしてR3が水素
を表わす式1の化合物を含有する上記態様6〜11のい
ずれかの方法。
13該光遮蔽剤が、nが2を示しそしてR1がアルカリ
土類金属を表わし、R2がヒドロキシメチル又はアルコ
キシメチルを表わしそしてR3lが水素を表わす式1の
化合物を含有する上記態様6〜11のいずれかの方法。
14該光遮蔽剤が4−ピリドキシン酸を含有する上記態
様6〜12のいずれかの方法。15該光遮蔽剤が4−ピ
リドキシン酸ナトリウム2(を含有する上記態様6〜1
2のいずれかの方法。
16該光遮蔽剤が4−ピリドキシン酸カリウムを含有す
る上記態様6〜12のいずれかの方法。
17該光遮蔽剤が4−ピリドキシン酸トリエタノールア
ンモニウムを含有する上記態様6〜12の2!いずれか
の方法。
18該光遮蔽剤が5−(イ)−セチル)−4−ピリドキ
シン酸を含有する上記態様6〜12のいずれかの方法。
19該光遮蔽剤が4−ピリドキシン酸メチルを含3(有
する上記態様6〜11のいずれかの方法。20該光遮蔽
剤が4−ピリドキシン酸n−ヘキシルを含有する上記態
様6〜12のいずれかの方法。
21該光遮蔽剤が4−ピリドキシン酸ラクトン塩3?酸
塩を含有する上記態様6〜11のいずれかの方法。
22該光遮蔽剤4−ピリドキシン酸ラクトン3ーメチル
エーテルを含有する上記態様6〜11のいずれかの方法
4t23該光遮蔽剤が5
−(イ)−セチル)−4−ピリドキシン酸ナトリウムを
含有する上記態様6〜11のいずれかの方法。24該光
遮蔽剤がトリス(ヒドロキシメチル)アミノ−メタンー
4−ピリドキシネートを含有する上記態様6〜11のい
ずれかの方法。
25上記態様6の記載の式1の化合物の1種もしくはそ
れ以上及び/又はその酸付加塩の1種もしくはそれ以上
並びに所望により290〜340nmの間口最大吸収を
有する別の有機化合物の1種もしくはそれ以上及ひ/又
は抗炎症性物質を適合しうる化粧品基剤と混合すること
から成る上記態様5〜24のいずれかに記載した光遮蔽
剤の製造方法。
26必須活性成分として一般式 〔式中、nが1を表わす場合、R,は水素、アルキル、
アルカリ金属、アンモニウム又は1個もしくはそれ以上
のアルキルもしくはヒドロキシアルキル基で置換された
アンモニウムを表わし、R2はヒドロキシメチル又はア
ルコキシメチルを表わしそしてR3は水素を表わし、或
いはR1及びR2は一緒になつてメチレン基を表わしそ
してR3は水素、メチル又はエチルを表わし;nが2を
表わす場合、R1はアルカリ土類金属を表わし、R2は
ヒドロキシメチル又はアルコキシメチルを表わしそして
R3は水素を表わす〕の化合物の1種もしくはそれ以上
及び/又はその酸付加塩の1種もしくはそれ以上、並び
に適合する化粧品基剤を含有することを特徴とする光遮
蔽剤。
レ7該光遮蔽剤が式1の化合物の1種又はそれ以上を2
5重量%まで含有する上記態様26の光遮蔽剤。
・8該光遮蔽剤が式1の化合物の1種又はそれ以上を2
〜6重量%含有する上記態様26又は27の光遮蔽剤。
;9該光遮蔽剤が必須活性成分としてもつぱら式Iの化
合物の1種又はそれ以上を含有する上記態様26〜28
の光遮蔽剤。30該光遮蔽剤が290〜340r1mの
間に最大吸収を有する別の有機化合物の1種又はそれ以
上も含有する上記態様26〜28のいずれかの光遮蔽剤
31該光遮蔽剤が抗炎症性物質をも含有する上記態様2
6〜30のいずれかの光遮蔽剤。
32該光遮蔽剤が、nが1を示しそしてR1が水素、ア
ルカリ金属又はアルキルもしくはヒドロキシアルキル基
で置換されたアンモニウムを表わし、R2がヒドロキシ
メチル又はアルコキシメチルを表わしそしてR3が水素
を表わす式1の化合物を含有する上記態様26〜31の
いずれかの光遮蔽剤。
33該光遮蔽剤が、nが2を示しそしてR1がアルカリ
土類金属を表わし、R2がヒドロキシメチル又はアルコ
キシメチルを表わしそしてR3が水素を表わす式1の化
合物を含有する上記態様26〜31のいずれかの光遮蔽
剤。
34該光遮蔽剤が4−ピリドキシン酸を含有する上記態
様26〜32のいずれかの光遮蔽剤。
35該光遮蔽剤が4−ピリドキシン酸ナトリウムを含有
する上記態様26〜32のいずれかの光遮蔽剤。
36該光遮蔽剤が4−ピリドキシン酸カリウムを含有す
る上記態様26〜32のいずれかの光遮蔽剤。
37該光遮蔽剤が4−ピリドキシン酸トリエタノールア
ンモニウムを含有する上記態様26〜32のいずれかの
光遮蔽剤。
38該光遮蔽剤が5−(イ)−セチル)−4−ピリドキ
シン酸を含有するアンモニウム態様26〜32のいずれ
かの光遮蔽剤。
39該光遮蔽剤が4−ピリドキシン酸メチルを含有する
上記態様26〜32のいずれかの光遮蔽剤。
40該光遮蔽剤が4−ピリドキシン酸n−ヘキシルを含
有する上記態様26〜32のいずれかの光遮蔽剤。
41該光遮蔽剤が4−ピリドキシン酸ラクトン塩酸塩を
含有する上記態様26〜32のいずれかの光遮蔽剤。
42該光遮蔽剤が4−ピリドキシン酸ラクトン3ーメチ
ルエーテルを含有する上記態様26〜32のいずれかの
光遮蔽剤。
43該光遮蔽剤が5−(イ)−セチル)−4−ピリドキ
シン酸ナトリウムを含有する上記態様26〜32のいず
れかの光遮蔽剤。
44該光遮蔽剤がトリス(ヒドロキシメチル)アミノ−
メタンー4−ピリドキシネートを含有する上記態様26
〜32のいずれかの光遮蔽剤。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III)〔式中、R
    _2′はアルコキシメチルを表わす〕の化合物を酸化し
    て対応する酸にし、そして所望により、得られる化合物
    を酸付加塩に変えることを特徴とする一般式▲数式、化
    学式、表等があります▼(IIa)〔式中、R_2′は上
    記の意味を有する〕の化合物及びその酸付加塩の製造方
    法。 2 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV)〔式中、R_
    2′はアルコキシメチルを表わす〕の酸を一般式R_1
    ′(OH)_m(V) 〔式中、R_1′はアルカリ金属、アンモニウム又は1
    個もしくはそれ以上のアルキルもしくはヒドロキシアル
    キル基で置換されたアンモニウムを表わし、そしてmは
    1を示すか或いはR_1′はアルカリ土類金属を表わし
    そしてmは2を示す〕の塩基で処理し、次いで生ずる塩
    溶液をエタノールで希釈した後水を共沸的に除去し、酢
    酸エチルで処理して生成する化合物を結晶化させ、そし
    て所望により、得られる化合物を酸付加塩に変えること
    を特徴とする一般式▲数式、化学式、表等があります▼
    (IIb)〔式中、nが1を表わす場合にはR_1′はア
    ルカリ金属、アンモニウム又は1個もしくはそれ以上の
    アルキルもしくはヒドロキシアルキルで置換されたアン
    モニウムを表わし且つR_2′はアルコキシメチルを表
    わし、そしてnが2を表わす場合、R_1′はアルカリ
    土類金属を表わし且つR_2′はアルコキシメチルを表
    わす〕の化合物及びその酸付加塩の製造方法。
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