JPS6045712B2 - 改良クマリン方法及びニツケルめつき浴 - Google Patents

改良クマリン方法及びニツケルめつき浴

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JPS6045712B2
JPS6045712B2 JP58053423A JP5342383A JPS6045712B2 JP S6045712 B2 JPS6045712 B2 JP S6045712B2 JP 58053423 A JP58053423 A JP 58053423A JP 5342383 A JP5342383 A JP 5342383A JP S6045712 B2 JPS6045712 B2 JP S6045712B2
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plating
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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B15/00Obtaining copper
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B15/00Obtaining copper
    • C22B15/0026Pyrometallurgy
    • C22B15/0028Smelting or converting
    • C22B15/003Bath smelting or converting
    • C22B15/0041Bath smelting or converting in converters

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は金属めつきの改良方法及ひ改良めつき浴に関し
、更に詳しくはニッケル及びニッケル合金めつきの改良
方法及び改良めつき浴に関する。
ニッケルめつき浴、殊に半光沢ニッケル浴方法では添加
剤としてクマリンを使用して優れた平滑性と延展性のあ
る輝いた皮膜を生成せしめることは公知である。また得
られる皮膜の平滑性の程度は浴中のクマリン濃度に比例
することも公知である。したがつてクマリン濃度が高い
程、平滑性が良好になる。しかし、かかる高濃度ではク
マリンの分解生成物もしくはクマリンの劣化生成物の生
成速度も大きくなるので、かかる効果の持続時間は短い
。これらの劣化生成物は、不均一で曇つた灰色部分を生
ぜしめ、引き続く光沢ニッケルめつきによつても容易に
は光沢が再生しないのて好ましくない生成物である。こ
れらの生成物は一定のクマリン濃度において得られる平
滑性を感じ、ニッケルめつきの物性の優れた点を減少せ
しめる。前述の通り、クマリンは各種の条件下で分解し
たり劣化するという事実は公知である。そこでクマリン
含有浴を用いて操作する際にはめつきに悪影響を及ぼさ
ないように、かかる劣化を常時モニターする必要がある
。かかるめつき浴の劣化をモニターする一つの方法は、
“゜T.F.指数゛として知られる試験方法であつて、
゜“T.F.゛はトリートメント●ファクター(Tre
atmentfactOr)を意味する。゜゛T.F.
指数゛は浴中に存在するクマリン劣化物の量の目安であ
る。通常、クマリン含有浴中に見い出される主な劣化物
はメリロツト酸(MeljlOticacid)である
が、他の劣化物もまた少量ではあるが存在する。
一般に、“T.F.指数゛が約0.5〜約2の範囲であ
る場合には許容範囲であるが、約5を越える場合は順調
な運転ができず、得られためつきの物性や外観が不合格
になることを示す。極端な楊合、例えば不溶性アノード
を用いた楊合などには“T.F.指数゛が1.5〜2.
咽度に小さくても生成めつき膜に悪影響を及ぼす。この
時点で活性炭による浴の回分処理をして劣化物を除去し
てやる必要が生ずる。当然のことながら、ノこの際には
プラントの操業を停止しなければならない。したがつて
生産コストが上昇するし、カーボン処理のための人件が
余分に必要となる。またクマリンを新しく添加しなけれ
ばならないが、このコストも無視できない。5 劣化生
成物を減少させるためにクマリン濃度を低減させて浴の
寿命を延長しようとする試みも行なわれてきたが、かか
るクマリン濃度の低減は通常は平滑性が犠牲になり、ま
た劣化物の蓄積に対する浴の感受性が大きくなるという
欠点がある。
Oまたアルデヒド(ホルムアルデヒド及び抱水クロラー
ルを包含する)の如き各種の添加剤を添加してクマリン
劣化物の悪影響を克服しようとする提案もなされている
。これらの添加物の使用には一定の限度があり、これら
の物質がある程度の濃度て存在するとニッケルめつきの
内部歪を増加させるばかりでなくクマリンの平滑化作用
をもまた著しく阻害する。アセチレン系化合物のエチレ
ンオキシド付加物を浴中に添加してクマロン浴に伴う困
難を解決しようとする提案もある。この技法はクマリン
使用に伴う諸問題の解決には有用であるが、効果が短時
間しか続かないという欠点がある。米国特許第3719
568号公報及び同第37955屹号公報にはプロピレ
ンオキシド付加物及びプロパンスルトン付加物を包含す
るプロパルギルアルコールの特殊なエーテル付加物を用
いてクマリン含有浴の浴寿命を延長する方法が記載せら
れている。
このことは、それ程ひんぱんに劣化物の処理を行なう必
要がないことを目的にしている。追加的な添加剤として
のブチンジオールがまたこれらの特許には記載されてい
て、望ましい平滑化を維持するのに役立つとしている。
これらの添加剤は実際には有効なのではあるが、しかし
なお2週ないし3週間毎のひん度で活性炭で回分処理し
なければならないのが実情である。更に、これらの添加
剤が存在しない場合よりも平滑性はより高く維持しうる
のてあるが、それでも平滑性は経時的に低減する傾向が
あり、特に有機性劣化物が蓄積するにつれて平滑性は著
しく減少していく。またクマリン系浴を使用する方法は
、他のニッケル浴使用の方法よりも耐久性が劣る皮膜を
与えるのが常である。
この事実ぱ“CASS゛及び゜“COrrOdkOte
゛試験の如き、めつき分野にて慣用せられる促進試験に
よつて容易に証明ができる。耐食性増大のためのアルデ
ヒド類の添加にも限度がある。クマリン及び各種の添加
剤を含有するめつき浴ならびに方法以外にも、適切な添
加剤を開発しようとする同様な努力がなされていて、オ
キシオメガスルホ炭化水素一ジーイル(yl)クマリン
が提案されており、このものは余程の高濃度を用いない
限り、単味では平滑な皮膜を生成しない。クマリン系の
浴と方法ならびにオキシオメガスルホ炭化水素−ジーイ
ル(y1)クマリン系の浴と方法に関する典型例は、米
国特許第3111466・号;同第3367854号;
同第3414491号;同第355695鰻;同第36
77913号;同第3719568号及び同第3795
5屹号中に記載せられている。本発明は前記の如きクマ
リン系の方法及び浴に適用して従来達成し得なかつたよ
うな利益と進歩性が得られるものである。更に詳しく述
べると本発明は、従来の方法よりも著しく長い操業が可
能であつて好適な平滑性と改良せられた耐食性を有する
めつき皮膜が得られるようなりマリン系めつき浴とその
方法の提供を主目的としている。この発明によれば、ク
マリン化合物とサルチル酸のようなアリールヒドロキシ
カルボン酸化合物とを含む水性で酸性のニッケルめつき
浴であつフて、これらの化合物の合計量が延展性で自己
一平滑性ニッケル皮膜を生成せしめるのに効果的な量で
含有されているめつき浴を使用して素地上にニッケルめ
つきを行なえば、クマリン系ニッケル浴の浴寿命が著し
く延長されるという予想外の事実・が判明したのである
。有用なアリールヒドロキシカルボン酸化合物には、一
般式〔ここで、 Rは−H,−CH3,又は−C2H5, Rlは−H,−CH3,−C2H5,−0CH3,−0
C2H5又はハロゲン, R2は−H,−COOH,−CH3,−C2H5,一0
CH3,−0C2H5又はハロゲンである〕にて示され
る物質ならびにこれら混合物が包含せられる。
好ましくは、この浴は更にヘキシンジオール及び/又は
一級アセチレン系アルコール及び一級アセチレン系アル
コール付加物ならびにこれらの混合物から成る群から選
んだ物質を含有する。かかる浴を利用すると優れた平滑
性を有する物性の良い皮膜が得られると同時に従来のク
マリンの濃度水準を著しく低減できる。加えて、ブチン
ジオール及び/又はホルマリンや抱水クロラールの如き
添加剤を併用すると、これらは前記した物質と共にさら
に浴寿命を延長せしめる効果を発揮する。また“CAS
S゛試験の結果からも明らかな通り、耐食性がめざまし
く改良されることが判明した。
この発明において用いるクマリンの濃度は約20〜約1
50mg/eが好ましく、さらに約50〜約90Tn9
/′が好適であつて約75mg/eが最適である。アリ
ールヒドロキシカルボン酸化合物の濃度は約0.005
〜約1.5y/′が適当で、約0.02〜約0.2f/
′が好ましく、約0.10y/eが最適である。この発
明に使用するめつき浴は一種類又は数種類のニッケル塩
を含む水性溶液である。かかる浴は塩化ニッケル及び/
又は硫酸ニッケル及びホウ酸を水に溶解して調製する。
これらの浴は通常゜゜ワットニッケル浴゛と呼ばれるこ
とが多い。硫酸ニッケル、塩化ニッケル、ギ酸ニッケル
、スルファメートニッケル、ホウフッ化ニッケルその他
ならびに水性で酸性の溶剤中に溶解したニッケル塩を使
用する他のニッケルめつき浴もまた使用できる。更に本
発明のめつき浴はまた、前記したニッケル塩と同じかも
しくは類似のタイプの一種類または数種類のコバルト塩
を含むことができる。この発明に好んで使用できるクマ
リン化合物はクマリンが最適であるが、クマリン自体以
外にも例えば、3−クロルクマリン、5−クロルクマリ
ン、6−クロルクマリン、7−クロルクマリン、8−ク
ロルクマリン、3−プロムクマリン、5−プロムクマリ
ン、6−プロムクマリン、7−プロムクマリン、8−プ
ロムクマリン、3−アセチルクマリン、5−メトキシー
クマリン、6−メトキシクマリン、7−メトキシクマリ
ン、8−メトキシクマリン、5−エトキシクマリン、6
−エトキシクマリン、7−エトキシクマリン、8−エト
キシクマリン、3−メチルクマリン、5−メチルクマリ
ン、6−メチルクマリン、7−メチルクマリン、8−メ
チルクマリン、5,6−ジメチルクマリン、5,7−ジ
メチルクマリン、5,8−ジメチルクマリン、6,7−
ジメチルクマリン、6,8−ジメチルクマリン、7,8
−ジメチルクマリン及びその他のような各種の置換クマ
リンも使用ができる。オキシオメガスルホ炭化水素−ジ
ーイル(yl)クマリン化合物もまた好適である。クマ
リン化合物の浴中濃度は約20〜約150mg/e1好
ましくは約90mg/f1最適には75m9/′である
。アリールヒドロキシカルボン酸化合物については、サ
ルチル酸〔C6H4(0H)(COOH)〕が好適であ
る。さらに、一般式〔ここで、 Rは−H,−CH3,OrCH2H5, Rlは−H,−0H,−CH3,−C2H5,−0CH
3,−0C2H5又はハロゲン,R2は−H,−COO
H,−CH3,−C2H5,一0CH3,−0C2H5
又はハロゲンである〕に相当する他のアリールヒドロキ
シカルボン酸化合物ならびにこれらの混合物もまた使用
できる。
ここで定義した如く、゜゛アリ−ルヒドロキシーカルボ
ン酸化合物゛なる用語には該当する個々の化合物の混合
物も包含せられるものとする。上記一般式において、−
0H,R1及びR2はベンゼン環のいかなる位置にあつ
てもよい。かかる物質の浴中濃度は約0.005〜約1
.5y/e1好ましくは約0.02〜約0.20q/′
、最適には約0.10q/′である。最も好ましいサル
チル酸については約0.005〜約1.5y/e1好ま
しくは約0.02〜約0.15y/e1最適には約0.
0759/eである。サルチル酸やその関連のアリール
ヒドロキシカルボン酸化合物は色相を維持、改善し延展
性を良くし内部歪を低減させる。これらのアリールヒド
ロキシカルボン酸化合物の化学構造はクマリンの典型的
な劣化生成物であるメリロツト酸(MelllOtic
acid)に類似しているので、この事実は予想外の驚
くべきことで)ある。これらの化合物はまた、クマリン
の劣化生成物を抑制し、実際上ある程度はその濃度が増
加しないように作用する。したがつてクマリンの必要量
が減少し、劣化物の量も低減することになる。さらに、
劣化物の形成が抑制されるので浴寿5命が飛躍的に向上
する。ヘキシンジオールを使用する場合の浴濃度は約3
0〜約150mg/e1好ましくは約50〜100m9
/eである。
3−ヘキシンー2,5ジオールはバスフ・ワイアンドツ
テ●コーポレーション(BASFlクWyandOtt
eCOrpOratiOn)から市販されている。
一般的に、ヘキシンジオールは平滑化を助ける。本発明
によるめつき浴及びめつき方法においては、その好まし
い実施態様においてさらに一級アセチレン系アルコール
及び一級アセチレン系アルコール付加物ならびにこれら
の混合物から成る群から選ばれた物質を約1〜約30m
9/′、好ましくは約5〜約15mg/e含有する。
かかる物質は前記の他の物質とさらにからみ合つて皮膜
の平滑性、物性及び色相を一層改善する。かかる一級ア
セチレン系アルコール中にはプロパルギルアルコール、
メチルブチンオール、1−ブチンー3−オール及び次の
一般式〔ここてn=1〜4、R及びR″はHもしくはC
H3てあり、Mは浴可溶性のカオチンである〕に相当す
る物質ならびにこれらの混合物から選択された物質が包
含され、前記の一級アセチレン系アルコール付加物の中
にはプロパルギルアルコールのエチレンオキシド付加物
及びプロパルギルアルコールのプロピレンオキシド付加
物ならびにこれらの混合物から成る群から選ばれた物質
が包含される。
かかる物質の好適な例にはプロパルギルアルコールエチ
レンオキシド(1−1〜4−1モル比)、プロパルギル
アルコールプロピレンオキシド(1−1〜4−1モル比
)、メチルブチンオールエチレンオキシド(1−1〜4
−1モル比)又はメチルブチンオールプロピレンオキシ
ド(1一1〜4−1モル比)が包含される。本発明の方
法及び浴に対して添加するのに好ましい他の物質にはブ
チンジオールならびにホルムアルデヒド、抱水クロラー
ル、グリオキサール、ピペロナール及びベンヅアルデヒ
ドの如き各種のアルデヒド類がある。
これらは必要に応じて浴性能とめつき膜物性をさらに向
上せしめるために適宜の量において浴に加える。当然で
はあるが、公知の他の市販の光沢剤及び/又は添加剤も
公知の処方によつて添加することができる。上記した添
加剤の浴濃度範囲は好ましい範囲を示しただけであつて
、多くの場合、この範囲を越えても満足な結果が得られ
るはずである。この点に関しては、これらの個々の添加
剤の添加量はその他の添加剤の添加量に依存性があるこ
とを認識する必要があ)ろう。この発明の方法に使用す
る浴を調製するには、まず所望のニッケル又はニッケル
とコバルト塩を含有する通常の水性で酸性の溶液を調製
する。
これらのめつき浴は通常約3〜約4.5の範囲以内の門
PHであつてニッケル塩を約200〜約400f/e含
有している。コバルト塩が存在する場合には、使用する
塩の種類にもよるが、通常は約10〜約100y/eの
範囲以内てある。最も好ましいめつき浴中には、また約
30〜約60y/eの範囲以内のホウl酸が含有される
。追加的に、前記してきたような濃度においてその他の
成分が含有せしめられる。浴温は公知の温度、約100
〜約150゜F(38〜660C)において操作する。
かくはんは空気かくはん、陰極揺動、機械かくはんその
他が好ましい。この発明のめつき浴によると、公知の広
い電流密度範囲、例えば一般に約2〜約150ASF(
0.2〜16A/Dイ)において半光沢のニッケルめつ
きを与えるが、典型的な平均電流密度は約10〜約6紛
の公知のめつき時間を採用して約25〜約50ASF(
5.3A/D弊)の範囲以内である。このような条件下
で操業すれば少なくとも約80%のニッケルを含んだニ
ッケル合金やニッケルからなる半光沢性で延展性のある
優れた皮膜が生成し、皮膜の平滑性も優れている。
そのうえ前記のような各種の成分や添加剤を併用すると
劣化物の生成が極端に減少し、クマリンの劣化生成物に
よる悪影響が避けられる。同時にクマリン濃度も低減で
きる。また浴寿命も延長され、優れた平滑性と物性を有
する皮膜もまた生成する。次に実施例により本発明をさ
らに詳しく説明する。
これらの実施例は単に説明の目的のためのものてあつて
、本発明はこれらのみに限定されるものではない。実施
例1 当該実施例及び次表1のために315q/′のNlSO
4●6H20,60y/e(7)NiCl2●61(2
0及び50y/e(7)H3BO3を用いて通常のワッ
トニッケルめつき浴を調製した。
塩化ニッケルの量は通常の半光沢ニッケル浴に用いられ
る約30〜50y/eの量!よりも多くした。これはク
マリン分解生成物の逆効果を強調するためにわざと行な
つたものである。上記の浴中に150mg/′のクマリ
ンも添加した。浴のPHを約4.1に調節し、液温は約
130±5゜F(54.4℃±5゜F)に維持した。こ
の浴を1リフト1ル当り約25アンペア時で電解して劣
化物を蓄積させて不合格性皮膜が生ずるようにした。1
1×6インチ(3.17×15.2cm)の一連の研摩
鋼製試験片の一端を丸めて極端な低電流密度部分もしく
は凹1所部分をつくつた。
次いで上記の浴を300cc毎に分割して、空気かくは
んを備えた一連のめつきセルに使用した。次の表1に掲
げた各種の化合物を表記の濃度においてそれぞれのめつ
きセル中に添加した。次いで上記の試験片を約40AS
F2(4.3A/Dイ)において約15分間めつきした
。浴温は温水浴を用いて前記した範囲内に維持した。各
種の添加剤を加えた場合と、添加剤を加えない標準比較
めつきセルについて得られた結果を表1に示す。
23施例2市販の一
つのクマリンニツケルめつき浴は約00m9/eのクマ
リンと同時に未知量のアセチレノ系アルコール、特にプ
ロパルギルアルコールエチレンオキシド(1−1)及び
ブチンジオールを含有していた。
この浴はまた抱水クロラールとホルムアルドヒドを合計
約150m9/e含有していた。無機塩濃度は次の通り
であつた:約77.5y/′のNi+3、約11.25
y/′のCト、約285.75f/eのNiSO4・6
1H20、約37.13q/e(17)NiCl2・6
H20及び約42.00y/f(7)H3BO3。浴の
PHは約4.1であつた。゛゜T.F.指数゛は約6.
1であり、浴は回分式カーボン処理が必要であることを
示した。上記の浴の試料を400cc用いて空気かくは
んを備えためつきセルをつくり、温水浴中に浸して約1
30′F(54℃)に維持した。
1(×6インチ(3.17×15.2cm)の研摩鋼製
試験片を約40ASF(4.3A/Dd)にて約2Cy
)3−間、この浴中でめつきした。
皮膜はは半光沢性であつて高電流密度部分には若干の曇
つた個所があつた。試験片を曲げるとき裂が生じ、皮膜
が非常にもろいことを示していた。実施例350m9/
eのサルチル酸を実施例2に記載の溶液の他の新しい試
料中に添加した。
実施例2に記載のものと同じようにめつき試験を繰り返
した。生じた皮膜は全面に亘つて半光沢性であつたが、
曲げると試験片端部に沿つて若干のき裂を生じた。実施
例450mg/eの代りに100mg/eのサルチル酸
を用いた以外は実施例3の方法を繰り返えした。
この度びの皮膜は全面に亘つて半光沢ないし輝きを有し
、この試験片を強く曲げてもき裂は肉視できなかつた。
実施例5 自動車パンパーをめつきするための四つのめつき浴から
成る装置内の半光沢性ニッケルめつき浴のそれぞれは、
約300y/eのNiSO4・6H201約40y/l
のNlCl2−61120及び約50y/′のH3BO
3!を含有する普通のワットニッケル浴に略相当するよ
うな浴組成に維持されていた。
また浴のそれぞれは約150〜約200m9/′のクマ
リン、約10〜約20m9/eのブチンジオール、約4
〜約6m9/eのプロパルギルアルコールプロピレンオ
キシド(1−・1)、及び約50〜約70m9/eの抱
水クロラールを含有するように維持された。それぞれの
浴のPHは約3.8、浴温は約125〜約135゜F(
52〜57゜C)にて操作した。約40〜50ASF(
4.3〜5.4A/Dイ)において約30〜3紛間めつ
きした。補助アノードの使用と比較的苛酷なめつき条件
であつたために、これらの浴は約5日毎に活性炭を用い
て回分処理しなければならなかつた。約3日間操業した
だけで、この半光沢皮膜は曇りを生じ不均一なものにな
つた。延展性も0.5(完全)から約0.1に低減し、
内部歪は約16000pSi(1125k9/Cll)
の引つ張り力から約25000pSi(1758k9/
al)の引つ張り力に増加した。j 上記の四つの半光
沢ニッケルメッキ浴の一つを試験浴に転化して、この浴
組成を転化以前と全く同じ通常のワットニッケル浴組成
に相当するように維持したが、ただし次のような添加剤
水準を維持した:約50〜約70m9/′のヘキシンジ
オール、約20〜約30m9/fのブチンジオール、約
6〜約9m9/eのプロパルギルアルコールエチレンオ
キシド(1−1)、約25〜約35m9/eの抱水クロ
ラール、約50〜約70m9/eのホルムアルデヒド、
約15〜約135m9/′のサルチル酸(ナトリウム塩
)及び約50〜100m9/eのクマリン。
一般的には、上記の範囲の約中間点において最適の結果
が得られる。上記の操作条件に加えて、電解質、PH及
び転換浴の温度は不変に維持した。一つの浴を転化する
にさき立つて、すべての四つの浴を活性炭処理して全部
の条件を可能な限り等しくした。この四つの浴の゜丁.
F.指数゛価は活性炭p過後、すべて約0.75であつ
た。約7週間継続した試験期間中、この転換浴に関して
次のような観察がなされた、すなわち:(1)延展性は
0.5に維持された。
(2)内部歪は約16000pSi(1125k9/C
ll)の引つ張り力から約10000pSi(1500
k9/Cll)の引つ張り力に低下した。
(3)皮膜の色相は半光沢性て輝きを維持し、あらゆる
電流密度範囲領域に亘つて均一であつた。
(4)クマリン含有量はその他の三つの浴の含有量の半
分だけに維持されたにもかかわらず、平滑性は炭素処理
直後のクマリン浴から得られたものと等しかつた。(5
) “T.F.指数゛もしくはトリートメントフアクタ
ー(TreatmentfactOr)は約0.95に
上昇しただけであつた。
その他の三つの比較浴もしくは標準浴は以前の如く速や
かではなかつたがやはり劣化した。
この事実は、試験浴が四つの浴のうちで最初に位置する
ものであるために、この最初に位置する試験浴からの品
物は引き続く通常の光沢ニッケルめつき浴中に浸すにさ
き立つて他の三つの浴中に持ち込まれるので、若干の添
加剤が試験浴からこれらの他の三つの比較浴中に持ち込
まれたためと考えられる。持ち込みによる有利性がある
にもかかわらず、その他の三つの比較浴のそれぞれはこ
の7週間の試験期間において少なくとも2回は活性炭に
よる回分処理を行なわなければならなかつた。試,験開
始後10日以内に、これらの三つの未転換の比較浴によ
る延展性は0.1に低下し、内部歪は20000PSi
の(3100k9/d)引つ張り力以上に増加し、皮膜
の色相は曇りを生じ、かつ“゜T.F.指数゛価は約2
.0〜約3.5の範囲であつて、試験浴に近い浴ほど゜
“T.F.指数゛価は低かつた。実施例6実施例5に記
載の試験が成功したので、実施例5において転換しなか
つた三つの標準浴もしくは比較浴もまた転換試験浴との
関連で実施例5中に5掲げた添加剤を加えて試験浴に転
換した。
するとすべての四つの浴はなんらの問題もなく操業しう
ることが分つた。次いで実施例5において最初に転換し
た試験浴を変化させて浴中にサルチル酸だけが存在しな
いような転換試験浴組成にした。
約2週間の操業後に、皮膜物性の低下が内視され、その
うえ外観が悪化してきた。この時点で約50mg/eの
サルチル酸を浴中に加えた。添加後は皮膜物性及び外観
が顕著に改善され、サルチル酸を添加してその濃度を維
持する限り改善効果が継続した。実施例7 クマリンの代りに150mg/′の3−クロルクマリン
を添加した以外は上記実施例1の記載に準じてニッケル
めつき浴を調製した。
浴のPHを約4.1に調整し、浴温を約130±5。F
(54をC±51F)に保つた。次いで浴を1リットル
当り約25アンペア時、電解し、この間3−クロルクマ
リンの濃度を上記した150mg/eに維持するように
これを補給した。この電解に続いて1A×6インチ(3
.17×15.2cm)の研摩鋼製丸め(ROII)試
験片を約40ASF(4.3A/Dイ)において約1紛
間めつきした。生成皮膜はぶつぶつで曇り、もろく、か
つ輝いた凹所があつた。実施例8 次いで実施例7にて用いた溶液中に100m9/eのサ
ルチル酸を添加してめつき試験を繰り返えした。
均一で半光沢性で延展性がある皮膜が生じた。実施例9 3−クロルクマリンの代りに8−メトキシクマリンを用
いて実施例7及び8を繰り返えした。
いずれの結果も、実施例7及び8にて得られた結果と同
等であつた。実施例10 3−クロルクマリンの代りに150m9/′のナトリウ
ムー7−オキシオメガスルホプロピルクマリンを用いて
実施例7を繰り返えした。
生成皮膜は全面に亘つて不均一で、曇つた半光沢であり
、良好な延性はあるが暗い凹所を有していた。この浴中
に100m9/eのサルチル酸を添加して実施例8を繰
り返えしたところ著しく均一で、半光沢で凹所の状態が
良好な延性のある皮膜が生成した。実施例11297.
98q/FONlSO4・61(20151.08ダ/
′のNlCl2・6H20及び40.5q/eの■(3
B03を用いて通常のワット型のニッケル浴を調製した
上記の浴中に150mg/eのクマリンを加え浴のPH
を約4.0に調節した。次いでこの溶液を各1リットル
容量の二つのめつき用セル中に分割して入れ、それぞれ
セルA及びセルBとした。空気かくはん下、約135゜
F(5rC)の一定浴温に維持した。セルA及ノひセル
Bとも電流密度約40ASF(4.3A/Dd)にて約
150アンペア時、電解した。電解の間、クマリンを補
給していずれのセルも上記の濃度を維持せしめたが、サ
ルチル酸はセルBだけに補給した。7 数日間の電解後
、液クロマトグラフを使つて溶液試料中のクマリン、サ
ルチル酸及びメリロツト酸の濃度を各セルについて正確
に分析した。
結果は次のようであつた: セルA
セルB9クマリン 0.085ダ/EO.
O88q/′サルチル酸 な し 0.27
5q/fメリロツト酸1.32′/′ 0.66y
/l上の結果は電解中にサルチル酸がメリロツト酸の生
成を著しく減少させることを示していた。
実施例12通常のワット型ニッケル浴から成る他の浴を
、294.23y/e(17)NlsO4・6F120
158.58g/fのNlCl2・61(20及び40
.43f/e(7)H3BO3を用いて調製した。
このNjClの濃度は実施例1において用いたものと近
似している。また100mg/fのサルヂ酸をこの浴中
に加えた。浴のPHを約4.0に調整し、浴温を約13
0゜F(54℃)に維持した。空気かくはん付きの1リ
ットル容量のめつき用セルを用いた。11×6インチ(
3.17×15.2cm)の丸めた研摩鋼製試験片を約
30ASF(3.2A/Dd)において約2紛間めつき
した。
めつき試験片は全面に亘つて平滑で灰色で延展性があり
輝いた凹所を有していた。次いでこのめつき用セル中に
900m9/eのサルチル酸を添加して全サルチル酸の
濃度が1y/fになるようにした。1)×6インチ(3
.17×15.2cm)の他の研摩鋼製丸め試験片を約
30ASF(3.2A/Dd)において約2紛間めつき
した。
PH及び浴温は変えなかつた。1g/eのサルチル酸を
含むこの浴からの試験片は全面に亘つて灰色で延展性は
あるが暗色の凹所を有するものであつた。
これらの二種類の試験片は、クマリンが存在しない場合
のサルチル酸自体では半光沢ニノツケルめつきは生成し
ないことを示していた。クマリンとの併用におけるサル
チル酸が輝きと全体の外観を向上せしめることは注目す
べきことであ実施例13約20〜約150mg/eのク
マリン化合物及び約0.005〜約1.5v/eのアリ
ールヒドロキシカルボン酸化合物を含有する浴を調製し
た。
クマリン及び上記のアリールヒドロキシカルボン酸化合
物以外にもさらに、ヘキシンジオール、及び/又は前述
した一般式に相当する物質を包含する一級アセチレン系
アルコールから成る群から選んだ物質、及び/又は一級
アセチレン系アルコールの付加物”から選んだ物質、及
び/又はかかる一級アセチレン系アルコールと一級アセ
チレン系アルコール付加物との混合物を含有する他の追
加的な浴をも調製した。前記の型の素地上にニッケルめ
つきしたところ平滑で延展性のある皮膜が生成した。ク
マリンの使用量は少量でよく、浴寿命は延長され耐食性
は改善された。上記の実施例からも明らかな通り、本発
明による方法と浴を使用することにより多くの利益が得
られることが分かる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔ここで、 Rは−H、−CH_3、又は−C_2H_5、R_1は
    −H、−OH、−CH_3、−C_2H_5、−OCH
    _3、−OC_2H_5又はハロゲン、R_2は−H、
    −COOH、−CH_3、−C_2H_5、−OCH_
    3、−OC_2H_5又はハロゲンである〕で示される
    化合物及びこれらの混合物から選択せられるアリールヒ
    ドロキシカルボン酸化合物とクマリン化合物とを含有す
    るニッケルめつき浴であつて、それらの合計量が延展性
    に優れ自己−平滑性のニッケルめつきを生成せしめるの
    に有効な量であるような水性で酸性のニッケルめつき浴
    。 2 該浴が更にヘキシンジオールを含有することを特徴
    とする特許請求の範囲第1項に記載のめつき浴。 3 該浴が更に一級アセチレン系アルコール及び一級ア
    セチレン系アルコール付加物ならびにこれらの混合物か
    ら選ばれる物質を含有することを特徴とする特許請求の
    範囲第1項に記載のめつき浴。 4 該一級アセチレン系アルコールがプロパルギルアル
    コール、メチルブチンオール、1−ブチン−3−オール
    及び次の一般式▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、and▲数式、化
    学式、表等があります▼ 〔ここで、n=1〜4、R及びR′はHもしくはCH_
    3でありMは浴可溶性カオチンである〕に相当する物質
    ならびにこれらの混合物から成る群から選ばれる物質を
    包含することを特徴とする特許請求の範囲第3項に記載
    のめつき浴。 5 該一級アセチレン系アルコールがプロパルギルアル
    コールのエチレンオキシド付加物及びプロパルギルアル
    コールのプロピレンオキシド付加物ならびにこれらの混
    合物から成る群から選ばれる物質を包含することを特徴
    とする特許請求の範囲第3項に記載のめつき浴。 6 該浴が更にブチンジオールを含有することを特徴と
    する特許請求の範囲第1項に記載のめつき浴。 7 該浴が更に抱水クロラールを含有することを特徴と
    する特許請求の範囲第1項に記載のめつき浴。 8 該浴が更にホルムアルデヒドを含有することを特徴
    とする特許請求の範囲第1項に記載のめつき浴。 9 該クマリン化合物が約20〜約150mg/lの量
    において存在することを特徴とする特許請求の範囲第1
    項に記載のめつき浴。 10 該クマリン化合物が約50〜約90mg/lの量
    において存在することを特徴とする特許請求の範囲第1
    項に記載のめつき浴。 11 該クマリン化合物が75mg/lの量において存
    在することを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
    めつき浴。 12 該アリールヒドロキシルカルボン酸化合物が約0
    .005〜約1.5g/lの量において存在することを
    特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のめつき浴。 13 該アリールヒドロキシカルボン酸化合物が約0.
    02〜約0.2g/lの量において存在することを特徴
    とする特許請求の範囲第1項に記載のめつき浴。 14 該アリールヒドロキシカルボン酸化合物が約0.
    10g/lの量において存在することを特徴とする特許
    請求の範囲第1項に記載のめつき浴。 15 次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔ここで、 Rは−H、−CH_3、又は−C_2H_5、R_1は
    −H、−OH、−CH_3、−C_2H_5、−OCH
    _3、−OC_2H_5又はハロゲン、R_2は−H、
    −COOH、−CH_3、−C_2H_5、−OCH_
    3、−OC_2H_5又はハロゲンである〕で示される
    化合物及びこれらの混合物から選択せられるアリールヒ
    ドロキシカルボン酸化合物とクマリン化合物とを含有す
    るニッケルめつき浴であつて、それらの合計量が延性に
    優れ自己−平滑性のニッケルめつきを生成せしめるのに
    有効な量であるようなめつき浴を用いて素地上にニッケ
    ルめつきを行なうことから成るニッケルめつきの生成方
    法。 16 該浴が更にヘキシンジオールを含有することを特
    徴とする特許請求の範囲第15項に記載の方法。 17 該浴が更に一級アセチレン系アルコール及び一級
    アセチレン系アルコール付加物ならびにこれらの混合物
    から選ばれる物質を含有することを特徴とする特許請求
    の範囲第15項に記載の方法。 18 該一級アセチレン系アルコールがプロパルギルア
    ルコール、メチルブチンオール、1−ブチン−3−オー
    ル及び次の一般式▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、and▲数式、化
    学式、表等があります▼、 〔ここで、n=1〜4、R及びR′はHもしくはCH_
    3でありMは浴可溶性カオチンである〕に相当する物質
    ならびにこれらの混合物から成る群から選ばれる物質を
    包含することを特徴とする特許請求の範囲第17項に記
    載の方法。 19 該一級アセチレン系アルコールがプロパルギルア
    ルコールのエチレンオキシド付加物及びプロパルギルア
    ルコールのプロピレンオキシド付加物ならびにこれらの
    混合物から成る群から選ばれる物質を包含することを特
    徴とする特許請求の範囲第17項に記載の方法。 20 該浴が更にブチンジオールを含有することを特徴
    とする特許請求の範囲第15項に記載の方法。 21 該浴が更に抱水クロラールを含有することを特徴
    とする特許請求の範囲第15項に記載の方法。 22 該浴が更にホルムアルデヒドを含有することを特
    徴とする特許請求の範囲第15項に記載の方法。 23 該クマリン化合物が約20〜約150mg/lの
    量において存在することを特徴とする特許請求の範囲第
    15項に記載の方法。 24 該クマリン化合物が約50〜約90mg/lの量
    において存在することを特徴とする特許請求の範囲第1
    5項に記載の方法。 25 該クマリン化合物が75mg/lの量において存
    在することを特徴とする特許請求の範囲第15項に記載
    の方法。 26 該アリールヒドロキシルカルボン酸化合物が約0
    .005〜約1.5g/lの量において存在することを
    特徴とする特許請求の範囲第15項に記載の方法。 27 該アリールヒドロキシカルボン酸化合物が約0.
    02〜約0.2g/lの量において存在することを特徴
    とする特許請求の範囲第15項に記載の方法。 28 該アリールヒドロキシカルボン酸化合物が約0.
    10g/lの量において存在することを特徴とする特許
    請求の範囲第15項に記載の方法。
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