JPS58181886A - 改良クマリン方法及びニツケルめつき浴 - Google Patents

改良クマリン方法及びニツケルめつき浴

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JPS58181886A
JPS58181886A JP58053423A JP5342383A JPS58181886A JP S58181886 A JPS58181886 A JP S58181886A JP 58053423 A JP58053423 A JP 58053423A JP 5342383 A JP5342383 A JP 5342383A JP S58181886 A JPS58181886 A JP S58181886A
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    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B15/00Obtaining copper
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B15/00Obtaining copper
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 き浴に関し、更に拝しくけニッケル及びニッケル合金め
っきの改良方法及び改良めっき浴に関する。
ニッケルめっき浴、殊に半光沢ニッケル浴方法では添加
剤としてクマリンを使用して優れた平滑性と延展性のあ
る輝いた皮膜を生成せしめることは公知である。また得
られる皮膜の平滑性の程度は浴中のクマリン濃度に比例
することも公知である。
したがってクマリン濃度が高い程、平滑性が良好になる
。しかし、かかる高濃度ではクマリンの分解生成物もし
くはクマリンの劣化生成物の生成速度も大きくなるので
、かかる効果の持続時間は短い。これらの劣化生成物は
、不均一で曇った灰色部分を生ぜしめ、引き続く光沢ニ
ッケルめつきKよっても容易には光沢が再生しないので
好ましくない生成物である。これらの生成物は一定のク
マリン濃度において得られる平滑性を感じ、ニッケルめ
っきの物性の優れた点を減少せしめる。
前述の通り、クマリンは各種の条件下で分解したり劣化
するという事実は公知である。そこでクマリン含有浴を
用いて操作する際KUめつきに悪影響を及ぼさないよう
に、かかる劣化を常時モニターする必要がある。かかる
めっき浴の劣化をモニターする一つの方法は、’ T、
F、指数′として知られる試験方法であって、’T、F
、’ij)リートメント・ファクター(treatme
nt factor )を意味する。
ゝT、F、指数′は浴中に存在するクマリン劣化物の量
の目安である。通常、クマリン含有浴中に見い出される
主な劣化物はメリロット酸(meliloticaoi
d )であるが、他の劣化物もまた少量ではあるが存在
する。一般K、’ T、F、指数′が約05〜約2の範
囲である場合には許容範囲であるが、約5を越える場合
はll[llな運転ができず、得られためつきの物性や
外観か不合格になることを示す。極端な場合、例えば不
溶性アノードを用いた場合などKは’ T、F、指数′
が1.5〜20程度に小さくても生成めっき膜に悪影響
を及ぼす。この時点で活性炭による浴の回分処理をして
劣化物を除去してやる必要が生ずる。当然のことながら
、この際にはブランドの操業を停止しなければならない
。したがって生産コストが上昇するし、カーボン処理の
ための人件が余分に必要となる。またクマリンを新しく
添加しなければならないが、このコストも無視できない
劣化生成物を減少きせるためにクマリン濃度を低減させ
て浴の寿命を延長しようとする試みも行なわれてきたが
、かかるクマリン濃度の低減は通常は平滑性が犠牲にな
り、また劣化物の蓄積罠対する浴の感受性が大きくなる
という欠点がある。
またアルデヒド(ホルムアルデヒド及び抱水クロラール
を包含する)の如き各種の添加剤を添加してクマリン劣
化物の悪影響を克服しようとする提案もなされている。
これらの添加剤の使用には一定の限度があり、これらの
物質がある程度の濃度で存在するとニッケルめっきの内
部歪を増加させるばかりでなくクマリンの平滑化作用を
奄また著しく阻害する。アセチレン系化合物のエチレン
オキシド付加物を浴中に添加してクマロン浴に伴う困難
を解決しようとする提案もある。この技法はクマリン便
用に伴う諸問題の解決には有用であるか、効果が短時間
しか続かないという欠点がある。
米国特許第3,719,568号公報及び同第3,79
5.592号公報にはプロパンスルン付加物及びプロパ
ンスルトン付加物を包含するグロパルギルアルコールの
特殊なエーテル付加物を用いてクマリン含有浴の浴寿命
を延長する方法力I己載せられている。
このことは、それ程ひんばんに劣化物の処理を行なう必
要かないことを目的にしている。追加的な添加剤として
のブチンジオールがまたこれらの特許には記載されてい
て、望ましい平滑化を維持するのに役立つとしている。
これらの添加剤は実際には有効なのではあるが、しかし
なお2週ないし3週間毎のひん度で活性炭で回分処理し
なければならないのが実情である。更に、これらの添加
剤が存在しない場合よりも平滑性はより高く維持しうる
のであるが、それでも平滑性は経時的に低減する傾向が
あり、特に有機性劣化物が蓄積するにつれて平滑性は着
しく減少していく。
またクマリン系浴を使用する方法は、他のニッケル浴使
用の方法よりも耐食性が劣る皮膜を与えるのが常である
。この事実は’ C1AS8 ’及び’ 0orrod
−kOt6 ’試験の如き、めっき分野にて慣用せられ
る促進試験によって容易に証明ができる。耐食性増大の
ためのアルデヒド類の添加にも限度がある。
クマリン及び各種の添加剤を含有するめっき浴ならびに
方法以外にも、適切な添加剤を開発しようとする同様な
努力がなされていて、オキシオメガスルホ炭化水素−ジ
ーイル(yl)クマリンが提案されており、このものは
金相の高濃度を用いない限り、単味では平滑な皮膜を生
成しない。クマリン系の浴と方法ならびにオキシオメガ
スルホ炭化水素−ジーイル(yl)クマリン系の浴と方
法に関する典型例は、米国特許第3.111,466号
;同第3,367,854号;同第3,414,491
号−同第3,556,959号:同第3,677゜91
3号;同第3,719.568号及び同第3,795,
592号中に記載せられている。
本発明は前記の如きクマリン系の方法及び浴に適用して
従来達成し得なかったような利益と進歩性が得られるも
のである。更KNL <述べると本発明は、従来の方法
よりも著しく長い操業が可能であって好適な平滑性と改
良せられた耐食性を有するめっき皮膜が得られるような
りマリン系めっき浴とその方法の提供を主目的にしてい
る。
この発明によれば、クマリン化合物とサルチル酸のよう
なアリールヒドロキンカルボン酸化合物とを含む水性で
酸性のニッケルめっき浴であって、これらの化合物の合
計量が延展性で自己−平滑性ニッケル皮膜を生成せしめ
るのに効果的な量で含有されているめっき浴を使用して
素地上にニッケルめっきを行なえば、クマリン系ニッケ
ル浴の浴寿命が著しく延長されるという予想外の事実が
判明L タOテある。有用なアリールヒドロキンカルボ
ン酸化合物KFi、一般式 にて示きれる物質ならびにこれらの混合物か包含せられ
る。好ましくは、この浴は更にヘキンンジオール及び/
又は−級アセチレン系アルコール及び−級アセチレン系
アルコール付加物ならびKこれらの混合物から成る群か
ら選んだ物質を含有する。かかる浴を利用すると優れた
平滑性を有する物性の良い皮膜が得られると同時に従来
のクマリンの濃度水準を着しく低減できる。加えて、ブ
チンジオール及び/又はホルマリンや抱水クロラールの
如き添加剤を併用すると、これらは前記した物質と共に
さらに浴寿命を延長せしめる効果を発揮する。
また’ 0ABS ’  試験の結果からも明らかな通
り、耐食性かめざましく改良されることが判明した。
この発明において用いるクマリンの濃度は約20〜約1
50ダ/lが好ましく、さらKは約50〜約90暫′t
が好適であって約75ダ/lが最適である。アリールヒ
ドロキシカルボン酸化合物の濃度は約0.005〜約1
.5i1/lが適当で、約o02〜約02g/lカ好ま
しく、約0.10jl/lが最適である。
この発明に使用するめっき浴に一種類又は数種類のニッ
ケル塩を含む水性溶液である。かがる浴は塩化ニッケル
及び/又#′i硫酸ニッケル及びポウ酸を水圧溶解して
調製する。これらの浴は通常1ワツトニツケル浴′と呼
ばれることが多い。硫酸ニッケル、塩化ニッケル、ギ酸
ニッケル、スルファメートニッケル、ホウ7ツ化ニツケ
ルその他ならびに水性で酸性の溶剤中に溶解したニッケ
ル塩を使用する他のニッケルめっき浴もまた使用できる
更に本発明のめっき浴はまた、前記したニッケル塩と同
じかもしくは類似のタイプの一種類または数種類のコバ
ルト塩を含むことができる。
この発明に好んで使用できるクマリン化合物はクマリン
が最適であるが、クマリン自体以外にも例えば、3−ク
ロルクマリン、5−クロルクマリン、6−クロルクマリ
ン、7−クロルクマリン、8−クロルクマリン、3−ブ
ロムクマリン、5−ブロムクマリン、6−ブロムクマリ
ン、7−ブロムクマリン、8−7’ロムクマリン、3−
アセチルクマリン、5−メトキン−クマリン、6−メト
キンクマリン、7−メトキンクマリン、8−メトキンク
マリン、5−エトキンクマリン、6−エトキンクマリン
、7−エトキンクマリン、8−エトキンクマリン、3−
メチルクマリン、5−メチルクマリン、6−メチルクマ
リン、7−メチルクマリン、8−メチルクマリン、5.
6−ジメチルクマリン、5.7−ジメチルクマリン、5
.8−ジメチルクマリン、6,7−ジメチルクマリン、
6.8−ジメチルクマリン、7.8−ジメチルクマリン
及びその他のような各種の置換クマリンも使用ができる
。オキ7オメガスルホ炭化水素−ジーイル(yl)クマ
リン化合物もまた好適である。クマリン化合物の浴中濃
度は約20〜約150虻t、好ましくは約90Me/l
、最適には75キ/lである。
アリールヒドロキシカルボン酸化合物については、サル
チル酸(C,H4(OH)(OOOH) ) カ好適で
ある。
さらに、一般式 罠相当する他のアリールヒドロキシカルボン酸化合物な
らびにこれらの混合物もまた使用できる。
ここで定義した如く、′アリールヒドロキンーカルボン
酸化合物1なる用語には該当する個々の化合物の混合物
も包含せられるものとする。上記一般式において、−O
H,、R,及びR1はベンゼン環のいかなる位置にあっ
てもよい。かかる物質の浴中濃度は約0.005〜約1
.sl/l、好ましくは約0.02〜約0.201/l
、最適には約0.1011/lである。最も好ましいサ
ルチル酸については約0.005〜約1.511/l、
好ましくは約0.02〜約0.15.9/l、最適には
約0.0751/lでnる。サルチル酸やその関連のア
リールヒドロキシカルボン酸化合物は色相帖維持、改善
し延展性を良くし内部歪を低減させる!これらのアリー
ルヒドロキシカルボン酸化合物の化学構造はクマリンの
典型的な劣化生成物であるメリロット酸(melilo
tic acid )に類似しているので、この事実は
予想外の驚くべきことである。これらの化合物はまた、
クマリンの劣化生成物を抑制し、実際上ある程度はその
濃度が増加しないように作用する。したがってクマリン
の必要量が減少し、劣化物の量も低減するととKなる。
さらK、劣化物の形成が抑制されるので浴寿命が飛躍的
に向上する。
ヘキシンジオールを使用する場合の浴濃度は約30〜約
150w/l、好ましくは約50〜xoov/lである
。3−ヘキシン−2,5ジオールはバスフ・ワイアンド
ツテ・コーポレーション(5Asr wymndott
eOorporatlon )から市販されている。
一般的K、ヘキシンジオールは平滑化を助ける。
本発明によるめっき浴及びめっき方法においては、その
好ましい実施態様においてさらに一層アセチレン系アル
コール及び−級アセチレン系アルコール付加物ならびK
これらの混合物から成る群から選ばれた物質を約1〜約
301t、好ましくは約5〜約I5#/を含有する。か
かる物質は前記の他の物質とさらKからみ合って皮膜の
平滑性、物性及び色相を一層改善する。かかる−級アセ
チレン系アルコール中tcdプロパルギルアルコール、
メチルブチンオール、1−ブチン−3−オール及び次の
一般式 %式% に相当する物質ならびにこれらの混合−物から選択され
た物質が包含され。前記の一層アセチレン系アルコール
付加物の中にはプロパルギルアルコールのエチレンオキ
シド付加物及びプロパルギルアルコールのプロピレンオ
キシド付加物ならびKこれらの混合物から成る群から選
ばれた物質が包含される。かかる物質の好適な例にはプ
ロパルギルアルコールエチレンオキシド(1−1〜4−
1モル比)、7’ロパルギルアルコールプロピレンオキ
シド(1−1〜4−1モル比)、メチルブチンオールエ
チレンオキシド(171〜4−1 モル比)又はメチル
ブチンオールプロピレンオキシド(1−1〜4−1モル
比)が包含される。
本発明の方法及び浴に対して添加するのに好ましい他の
物質にはブチンジオールならびにホルムアルデヒド、抱
水クロラール、グリオキサール、ピペロナール及びペン
ヅアルデヒドの如き各種のアルデヒド類がある。これら
は必要に応じて浴性能とめつき膜物性をさらに向上せし
めるために適宜の量において浴に加える。当然ではある
が、公知の他の市販の光沢剤及び/又は添加剤も公知の
処方によって添加することができる。上記した添加剤の
浴濃度範囲は好ましい範囲を示しただけであって、多く
の場合、この範囲を越えても満足な結果が得られるはず
である。この点に関しては、これらの個々の添加剤の添
加1はその他の添加剤の添加量に依存性があることを認
識する必要があろう。
この発明の方法に使用する浴を調製するには、まず所望
のニッケル又はニッケルとコバルト塩を含有する通常の
水性で酸性の浴液を調製する。これらのめつき浴は通常
約3〜約45の範囲以内のpHであってニッケル塩を約
200〜約4001//を含有している。コバルト塩が
存在する場合には、使用する塩の種類にもよるが、通常
は約10〜約100&/l (D範囲以内である。最も
好ましいめっき浴中には、また約30〜約601/lの
範囲以内のホウ酸が含有される。追加的に、前記してき
たような濃度においてその他の成分か含有せしめられる
浴温は公知の温度、約100〜約150″F(38〜6
6℃)において操作する。かくはんは空気かくはん、陽
極揺動、機械かくはんその他が好ましい。
この発明のめつき浴によると、公知の広い電流密度範囲
、例えば一般に約2〜約15OASF (0,2〜16
A/Dwl )において半光沢のニッケルめっきを与え
るか、典型的な平均電流密度は約10〜約60分の公知
のめつき時間を採用して約25〜約50人8F(5,3
A/Dぜ)の範囲以内でおる。
このような条件下で操業すれば少なくとも約80チのニ
ッケルを含んだニッケル合金やニッケルからなる半光沢
性で延展性のある優れた皮膜が生成し、皮膜の平滑性も
優れている。そのうえ前記のような各種の成分や添加剤
を併用すると劣化物の生成が極端に減少し、クマリンの
劣化生成物による悪影響が避けられる。同時にクマリン
濃度も低減できる。また浴寿命も延長され、優れた平滑
性と物性を有する皮膜もまた生成する。
次に実施例により本発明をさらに絆しく説明する。これ
らの実施例は単に説明の目的のためのものであつ工、本
発明はこれらのみに限定されるものではない。
実施例 1 当該実施例及び次表1のためK 3151/lのN15
O,・6H,0、6011/lのNi04・6H30及
びs Oji/lのH,BO,を用いて通常のワットニ
ッケルめっき浴を1e製した。
塩化ニッケルの量は通常の半光沢ニッケル浴に用いられ
る約30〜5011/lの量よりも多くした。これはク
マリン分解生成物の逆効果を強調するためにわざと行な
ったものである。上記の浴中に150!/lのクマリン
も添加した。浴のpHを約4】Ky4節し、液温は約1
30±5″F (54,4℃±5″F)に維持した。
この浴を1リットル当り約25アンペア時で電解して劣
−化物を蓄積させて不合格性皮膜が生ずるようKした。
1%×6インチ(3,17X 15.2  )の一連の
研摩鋼製試験片の一端を丸めて極端な低電流密度部分本
しくは凹所部分をつくった。次いで上記の浴を300 
a:毎に分割して、空気かくはんを備えた一連のめつき
セルに使用した。次の表1に掲げた各種の化合物を表記
の濃度においてそれぞれのめつきセル中に添加した。次
いで上記の試験片を約40ASF C4,3A/DI1
1’ )において約15分間めっきした。
浴温は温水浴を用いて前記した範囲内に維持した。
各種の添加剤を加えた場合と、添加剤を加えない標準比
較めっきセルについて得られた結果を表1に示す。
表  1 4   サルチル酸   19/143と同じ。
キン安息香酸 表1(つづき) 10    フタル酸   200 i/l  蔦9と
同じ。
12     L−酒石酸  200 WI   A1
1と1m]じ。
アルデヒド 14     ベンズアルデヒド 150*/l  4
1と同じ。
15     力fコ−#   200 Q/l  ム
1より若干良い。
ロキン女恩IFff 表1(つづき) 実施例 2 市販の一つのクマリンニッケルめっき浴は約100■/
lのクマリンと同時に未知量のアセチレン系アルコール
、特にプロパルギルアルコールエチレンオキ7ド(1−
1)及びブチンジオールを含有していた。この浴はまた
抱水クロラールとホルムアルデヒドを合計約150Q/
を含有していた。無機塩濃度は次の通りであった:約7
7.51/lのN1■、約11.251/lのct−1
約285.7511/lのNi804・6H,O。
約37.131/lのNiC1,−68,O及び約42
.001//l (7) H,BO,。
浴のpHは約41であった。’ T、F、指数′は約6
1であり、浴は回分式カーボン処理が必要であることを
示した。
上記の浴の試料を400cc用い又空気かくはんを備え
ためつきセルをつ<b、温水浴中に浸して約130”P
(54℃)K維持した。1% X6インチ(3,17x
15.2” )の研摩鋼製試験片を約4OASF(4,
3A/DIII′)にて約20分間、この浴中でめっき
した。皮IIKは半光沢性であって高電流密度部分には
若干の健っだ個所があった。試験片を曲げるとき裂が生
じ、皮膜が非常にもろいことを示していた。
実施例 3 50811/lのサルチル酸を実施例2KQピ載の溶液
の他の新しい試料中に添加した。実施例2に記載のもの
と同じようKめつき試験を繰り返した。生じた皮膜は全
面に亘って半光沢性であったか、曲げると試験片端部に
沿って若干のき裂を生じた。
実施例 4 sow/Lの代りに1ooq、’zのサルチル酸を用い
た以外は実施例3の方法を繰り返えした。この度びの皮
膜は全面に亘って半光沢ないし輝きを有し、この試験片
を強く曲げてもき裂は肉視できなかつた。
実施例 5 自動車バンパーをめっきするための四つのめっき浴から
成る装置内の半光沢性ニッケルめっき浴のそれぞれは、
約3001/lのN15O,・6H,O、約40i1/
1(7) NIGt、 ・6H,O及び約501/lの
H,BO,を含有する普通のワットニッケル浴に略相当
するような浴組成に維持されていた。また浴のそれぞれ
は約150〜約200q/lツクマリン、約10〜約2
01Q/lのブチンジオール、約4〜約6W/lのプロ
パルギルアルコールプロピレンオキシド(1−1)、及
び約50〜約70W/lの抱水クロラールを含有するよ
うに維持された。それぞれの浴のpHは約38、浴温は
約125〜約1357 (52〜57℃LKて操作した
。約40〜50ASF (4,3〜5.4A/D11′
) において約30〜35分間めっきした。補助アノー
ドの使用と比較的苛酷なめっき条件であったために、こ
れらの浴は約5日毎に活性炭を用いて回分処理しなけれ
ばならなかった。
約3日間操業しただけで、この半光沢皮膜は曇りを生じ
不均一なものKなった。延展性も0.5 (完全)から
約0.1 K低減し、内部歪は約16,0OOpsi 
(1125#/aりの引つ張シカから約25.0OOp
si (17581w/i )の引っ張り力に増加した
上記の四つの半光沢ニッケルメッキ浴の−っを試験浴に
転化して、この浴組成を転化以酌と全く同じ通常のワラ
)ニッケル浴組成に相当するように維持したか、ただし
次のような添加剤水準を維持した:約50〜約70q/
lのヘキンンジオール、約20〜約30RI/lのブチ
ンジオール、約6〜約9q/Lのグロパルギルアルコー
ルエチレンオキンド(1−1)、約25〜約35ダ/l
の抱水クロラール、約50〜約7ow/lのホルム、ア
ルデヒド、約15〜約135Wtのサルチル酸(す) 
IJウム塩)及び約50〜100ダ/lのクマリン。一
般的KFi、上記の範囲の約中間点において最適の結果
が得られる。
上記の操作条件に加えて、電解質、pH及び転換浴の温
度は不変に維持した。一つの浴を転化するKさき立って
、すべての四つの浴を活性炭処理して全部の条件を可能
な限り等しくした。この四つの浴の’ T、F、指数′
価は活性炭f通抜、すべて約075であった。
約7週間継続した試験期間中、この転換浴に関して次の
ような観察かなされた、すなわち:(1)  延展性は
05に維持された。
(2)内部歪は約16,0QOpsi (1125ゆ/
−)の引っ張り力から約10,0OOpai (155
0kp/aj )の引っ張り力に低下した。
(3)皮膜の色相は半光沢性で輝きを維持し、あらゆる
電流密度範囲領域に亘って均一であった。
(4)  クマリン含有量はその他の三つの浴の含有量
の半分だけに維持されたにもかかわらず、平滑性は炭素
処理直後のクマリン浴から得られたものと等しかった。
(5)  ’T、F、指数′ もしくはトリートメント
ファクター(treatment factor )は
約9.95に上昇しただけであった。
その他の三つの比較浴もしくは標準浴は以的の如く速や
かではなかったがやはシ劣化した。この事実は、試験浴
が四つの浴のうちで最初に位置するものであるために、
この最初に位置する試験浴からの品物は引き続く通常の
光沢二ソクルめっき浴中に浸すにさき立って他の三つの
浴中に持ち込まれるので、若干の添加剤が試験浴からこ
れらの他の三つの比較浴中に持ち込まれたためと考えら
れる。持ち込みによる有利性があるにもかかわらず、そ
の他の三つの比較浴のそれぞれはこの7週間の試験期間
において少なくとも2回は活性炭による回分処理を行な
わなければならなかった。試験開始後10日以内に、こ
れらの三つの未転換の比較浴による延展性は01に低下
し、内部歪は20゜000 psiの(3100M/f
f1)引っ張り力以上に増加し、皮膜の色相は曇シを生
じ、かつ゛TF、指数′価は約2.θ〜約3.5の範囲
であって、試験浴に近い浴はど″″T、F、指数′価は
低かった。
実施例 6 実施例5に記載の試験が成功したので、実施例5におい
て転換しなかった三つの標準浴もしくは比較浴もまた転
換試験浴との関連で実施例5中に掲げた添加剤を加えて
試験浴に転換した。するとすべての四つの浴はなんらの
問題もな(操業しうろことが分った。
次いで実施例5において最初に転換した試験浴を変化さ
せて浴中にサルチル酸だけが存在しないような転換試験
浴組成にした。約2週間の操業後に、皮膜物性の低下が
肉視され、そのうえ外観が悪化してきた。この時点で約
50W/lのサルチル酸を浴中に加えた。添加後は皮膜
物性及び外観が顕著に改善され、サルチル酸を添加して
その濃度を維持する限り改善効果が継続した。
実施例 7 クマリンの代、り K 15011/4の3−クロルク
マリンを添加した以外は上記実施例1の記載に準じてニ
ッケルめっき浴を調製した。浴のpHを約4.11C調
整し、浴温を約130±57 (54℃±5″F)に保
った。
次いで浴を1リットル当り約25アンペア時、電解し、
この間3−クロルクマリンの濃度を上記した150q/
IK維持するよ54これを補給した。この電解に続い工
1y4×6インチ(3,17X 15.2am)の研摩
鋼製丸め(ron)試験片を約4OASF (4,3A
/DIIIl) Kおいて約15分間めっき■、た。生
成皮膜はぷつぷつで曇り、もろく、かつ輝いた凹所があ
った。
実施例 8 次いで実施例7にて用いた溶液中に100q/lのサル
チル酸を添加してめっき試験を繰り返えした。
均一で半光沢性で延展性がある皮膜が生じた。
実施例 9 3−クロルクマリンの代りに8−メトキシクマリンを用
いて実施例7及び8を繰り返えした。いずれの結果も、
実施例7及び8にて得られた結果と同等であった。
実施例 1゜ 3−クロルクマリンの代りKI50I9/lのナトリウ
ム−7−オキシオメガスルホプロピルクマリンを用いて
実施例7を繰り返えした。生成皮膜は全面に亘って不均
一で、曇った半光沢であり、良好な延性はあるが暗い凹
所な有していた。この浴中K 100IIII/lのサ
ルチル酸を添加して実施例8を繰夛返したところ著しく
均一で、半光沢で凹所の状態が良好な延性のある皮膜が
生成した。
実施例 11 297.9811/lのNi80.・6H,0、51,
081/lのN10t、 ・6H,0及ヒ40511/
lのH8BO,を用いて通常のワット型のニッケル浴を
v4裂した。上記の浴中K 150q/lのクマリンを
加え浴のpHを約toVCai1節した。次いでこの溶
液を各1リツトル容量の二つのめっき用セル中に分割し
て入れ、それぞれセル人及びセルBとした。空気かくは
ん下、約135″F(57℃)の一定浴温に維持した。
セルA及びセルBとも電流密度約4OASF (43A
/allIl) K 1約15oアンヘア時、電解した
。電解の間、クマリンを補給していずれのセルも上記の
濃度を維持せしめたが、サルチル酸はセルBだけに補給
した。
数日間の電解後、液クロ1トゲラフを使って溶液試料中
のクマリン、サルチル酸及びメリロット酸の濃度を各セ
ルについて正確に分析した。結果は次のようであった: セルA    セルB クマリン0.0851/L   O,0881/Lサル
チル酸   な し    0.2759/lメリロツ
ト酸   1.32 1/l    O,6611/を
上の結果は電解中にサルチル酸がメリロット酸の生成を
著しく減少させることを示していた。
実施例 12 通常のワット瀝ニッケル浴から成る他の浴を、294.
2311/lのN180.・6H,0,58,5811
/lのNユat、・6H,O及び40.431/lのH
lBO,を用いて調製した。このNiC2の濃度は実施
例Iにおいて用いたものと近似している。また100q
/lのサルチル酸をこの浴中に加えた。浴のpHを約4
.0に11i[i整し、浴温を約130″F(54℃)
K維持した。空気かくはん何部の1リツトル容tのめっ
き用セルを用いた。13(x6インチ(3,17X 1
5.2”)の丸めた研摩鋼製試験片を約3OASF(3
,2ム/Dj)において約20分間めっきした。めっき
試験片は全面に亘って平滑で灰色で延展性があり輝いた
凹所な有していた。次いでこのめっき用セル′中K 9
00■/lのサルチル酸を添加して全サルチル酸の濃度
が111/lKなるようにした。ly4×6インチ(3
,17X 15.2”)の他の研摩鋼製丸め試験片を約
3−OA8F (3,2A/Ih/) において約20
分間めっきした。
pH及び浴温は変えなかった。19/lのサルチル酸を
含むこの浴からの試験片は全面に亘って灰色で延展性は
あるが暗色の凹所な有するものであった。
これらの二種類の試験片は、クマリンが存在しない場合
のサルチル酸自体では半光沢ニッケルめっきは生成しな
いことを示していた。クマリンとの併用におけるサルチ
ル酸が輝きと全体の外観を向上せしめることは注目すべ
きことである。
実施例 13 約20〜約150 wlのクマリン化合物及び約0.0
05〜約1.511/lのアリールヒドロキシカルボン
酸化合物を含有する浴をv4裂した。クマリン及び上記
のアリールヒドロキシカルボン酸化合物以外にもさらK
、ヘキシンジオール、及び/又は紡述した一般式に相当
する物質を包含する一層アセチレン系アルコールから成
る群から選んだ物質、及び/又は−級アセチレン系アル
コールの付加物から選んだ物質、及び/又はかかる−級
アセチレンアルコールと一層アセチレン系アルコール付
加物との混合物を含有する他の追加的な浴をもmMした
。前記の型の素地上にニッケルめっきしたところ平滑で
延展性のある皮膜が生成した。クマリンの使用量は少量
でよく、浴寿命は延長され耐食性は改善された。
上記の実施例からも明らかな通り、本発明による方法と
浴を使用することにより多くの利益が得られることが分
かる。従来の浴よりもはるかに寿命が長いクマリン系の
めつき浴が提供できる。さらに劣化物の生成量も減少す
る。延性及び皮膜物性も優れたものが得られる。’ C
ASS ’試験結果によれば耐食性か改善されることも
分かる。
この発明の精神と範囲に反することなしに、広範に異な
る実施態様を構成することができることは明白なので、
この発明に添付フレイムにおいて限定した以外は、その
特定の実施態様に制約されるものではない。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (11次の一般式 で示される化合物及びこれらの混合物から選択せられる
    アリールヒドロキシカルボン酸化合物とクマリン化合物
    とを含有するニッケルめっき浴であって、それらの合計
    量が延展性に優れ自己−平滑性のニッケルめっきを生成
    せしめるのに有効な量であるような水性で酸性のニッケ
    ルめっき浴。 (2)該浴が更にヘキ7ンジオールを含有することを特
    徴とする特許請求の範囲第1項に記載のめりき浴。 (3)蚊浴か更に一級アセチレン系アルコール及び−級
    アセチレン系アルコール付加物ならびKこれらの混合物
    から選ばれる物質を含有することを特徴とする特許請求
    の範囲第1項に記載のめつき浴。 (4)該−級アセチレン系アルコールがプロパルギルア
    ルコール、メチルブチンオール、1−7’チン−3−オ
    ール及び次の一般式 %式% に相当する物質ならびKこれらの混合物から成る群から
    選ばれる物質を包含することを特徴とする特許請求の範
    囲第3項に記載のめっき浴。 (5)  該−級アセチレン系アルコールがプロパルギ
    ルアルコールのエチレンオキンド付加物及びプロパルギ
    ルアルコールのプロピレンオキンド付加物ならびKこれ
    らの混合物から成る解から選ばれる物質を包含すること
    を特徴とする特許請求の範囲第3項VCI!Ii2載の
    めつき浴。 (6)鉄浴が更にブチンジオールを含有することを特徴
    とする特許請求の範囲第1項に記載のめっき浴。 (力 鉄浴が更に抱水クロラールを含有することを特徴
    とする特1?’Fff求の範囲第1項に記載のめっき浴
    。 (8)鉄浴が更にホルムアルデヒドを含有することを特
    徴とする特許請求の範囲第1項に記載のめっき浴。 (9)該クマリン化合物が約20〜約150q/lの量
    において存在することを特徴とする特#!f#il!求
    の範囲第1項に記載のめつき浴。 ql  該クマリン化合物か約50〜約90■/lの量
    において存在することを特徴とする%!Ffd求の範囲
    第1項に記載のめつき浴。 OD  該クマリン化合物が754/lの普において存
    在することを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
    めつき浴。 O3該アリールヒドロキンルカルボン酸化合物か約00
    05〜約151//lの量において存在することを%微
    とする特許請求の範囲第1項に記載のめつき浴。 03該アリ一ルヒドロキシカルボン酸化合物が約002
    〜約0.211/lの量において存在することを特徴と
    する特許請求の範囲第1項に記載のめつき浴。 O41該アリールヒドロキシカルボン酸化合物が約0J
    O9/lの量において存在することを特徴とする特許請
    求の範囲第1項に記載のめつき浴。 (19クマリン化合物とサルチル酸とが延展性に優れ、
    自己−平滑性のニッケル皮膜を生ずるのに効果的な合計
    量におい工存在する水性で酸性のニッケルめっき浴。 al19Mサルチル酸か約0.005〜約1.511/
    lのliiにおいて存在することを特徴とする請求 15項に&l2載のめつき浴。 (17+  該サルチル酸か約0.0 2〜約0.15
    97tの董において存在することを%徽とする%ltf
    ′#f#求の範囲第15項に記載のめつき浴。 α8 #サルチル酸が約0.0 7 5 Fi/tの量
    において存在することを特徴とする%!FF請求の範囲
    第15項に記載のめつき浴。 ■ 次の一般式 で示される化合物及びこれらの混合物から選択せられる
    アリールヒドロキシカルボン酸化合物とクマリン化合物
    とを含有するニッケルめっき浴であって、それらの合計
    量が延性に優れ自己−平滑性のニッケルめっきを生成せ
    しめるのに有効な量であるようなめつき浴を用いて素地
    上にニッケルめっきを行なうことから成るニッケルめっ
    きの生成方法。 ■ 鉄浴が更にヘキンンジオールを含有することを特徴
    とする特許請求の範囲第19項に記載の方法。 Cυ 鉄浴が更に一級アセチレン系アルコール及び一級
    アセチレン系アルコール付加物ならびにこれらの混合物
    から選ばれる物質を含有することを特徴とする特許請求
    の範囲第19項に記載の方法。 ■ 該一級アセチレン系アルコールがプロパルギルアル
    コール、メチルブチンオール、1−ブチンー3−オール
    及び次の一般式 CHai+ C−C(QC,H4)、OH。 R′ 蓼 OHw+ O−C(QC,H6)、OH、and) a′ CH薊0− C(CH,)n808M 。 R′ に相当する物質ならびKこれらの混合物から成る群から
    選ばれる物質を包含することを特徴とする特許請求の範
    囲第21項に記載の方法。 (ハ)該−級アセチレン系アルコールがプロパルギルア
    ルコールのエチレンオキンド付加物及びプロパルギルア
    ルコールのプロピレンオキンド付加物ならびKこれらの
    混合物から成る群から選ばれる物質を包含することを特
    徴とする%ff請求の範囲第21項に記載の方法。 (2)鉄浴が更にブチンジオールを含有することを特徴
    とする特許請求の範囲第19項に記載の方法。 (ハ)鉄浴が更に抱水クロラールを含有することを特徴
    とする特許請求の範囲第19項に記載の方法。 (至)鉄浴が更にホルムアルデヒドを含有することを特
    徴とする特許請求の範囲第19項に記載の方法。 額 該クマリン化合物が約20〜約1501+9/lO
    量において存在することを特徴とする%FFFd求の範
    囲@19項に記載の方法。 @ 該クマリン化合物か約50〜約90W/lの量にお
    いて存在することを特徴とする特許請求の範囲第19項
    に記載の方法。 (ハ)該クマリン化合物が75w/Lの量におい工存在
    することをtVf徴とする特許請求の範囲第19項に記
    載の方法。 ■ 該アリールヒドロキンカルボン酸化合物が約o、o
     o s〜約1.51//lの量において存在すること
    を特徴とする特許請求の範囲第19項に記載の方法。 θB 該アリールヒドロキンカルボン酸化合物か約0.
    02〜約0.211/lの量において存在することを特
    徴とする特許請求の範囲第19項KMピ畝の方法。 Gz#アリールヒドロキンカルボン酸化合物が約0.1
    0p、/zO量において存在することを特徴とする特許
    請求の範囲第19項に記載の方法。 (至) クマリン化合物とサルチル酸とが延展性に優れ
    、自己−平滑性のニッケル皮膜を生ずるのに効果的な合
    計量において存在するめつき浴を用いて素地上にニッケ
    ルめっきを行なうことから成るニッケルめっきの生成方
    法。 (ロ)該サルチル酸が約0.005〜約1.511/l
    のitにおいて存在することを特徴とする%1FFil
    f求の範囲第33項に記載の方法。 (至)該サルチル酸が約002〜約0.1!M/4の量
    において存在することを特徴とする特許請求の範囲第3
    3項に記載■方法。 C1[G  該サルチル酸か約0.075i1/lの蓋
    において存在することを特徴とする特許請求の範囲第3
    3項に記載の方法。
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4699696A (en) * 1986-04-15 1987-10-13 Omi International Corporation Zinc-nickel alloy electrolyte and process
JP2684707B2 (ja) * 1988-09-27 1997-12-03 松下電器産業株式会社 ペースト式カドミウム負極
US5313773A (en) * 1992-06-24 1994-05-24 A. B. Carter, Inc. Coatings for spinning applications and rings and travelers coated therewith
US6143160A (en) * 1998-09-18 2000-11-07 Pavco, Inc. Method for improving the macro throwing power for chloride zinc electroplating baths
US6468672B1 (en) * 2000-06-29 2002-10-22 Lacks Enterprises, Inc. Decorative chrome electroplate on plastics
US6911068B2 (en) * 2001-10-02 2005-06-28 Shipley Company, L.L.C. Plating bath and method for depositing a metal layer on a substrate
GB0202187D0 (en) * 2002-01-31 2002-03-20 Rowett Res Inst "Inhibitors"
US20030178314A1 (en) * 2002-03-21 2003-09-25 United States Steel Corporation Stainless steel electrolytic coating
CN100487166C (zh) * 2004-06-07 2009-05-13 比亚迪股份有限公司 泡沫镍的制作方法
US20110114498A1 (en) * 2009-11-18 2011-05-19 Tremmel Robert A Semi-Bright Nickel Plating Bath and Method of Using Same
US20110155582A1 (en) 2009-11-18 2011-06-30 Tremmel Robert A Semi-Bright Nickel Plating Bath and Method of Using Same
CN102953094B (zh) * 2011-08-26 2015-05-13 比亚迪股份有限公司 一种半光亮镍电镀液添加剂、半光亮镍电镀液和半光亮镍电镀方法
CN103484901A (zh) * 2013-09-27 2014-01-01 昆山纯柏精密五金有限公司 一种五金件的镀镍工艺
FR3079242B1 (fr) * 2018-03-20 2020-04-10 Aveni Procede d'electrodeposition de cobalt

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3111466A (en) * 1959-03-11 1963-11-19 Hanson Van Winkle Munning Co Electrodeposition of nickel
GB892904A (en) * 1960-09-20 1962-04-04 Guy Villette Process for obtaining bright ductile nickel deposits
GB1060753A (en) * 1963-07-01 1967-03-08 M & T Chemicals Inc Improvements in or relating to high speed bright nickel electroplating
GB1114615A (en) * 1965-03-26 1968-05-22 Harshaw Chem Corp Electrodeposition of nickel
DE1521028C3 (de) * 1966-02-25 1980-06-19 Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen Saures galvanisches Nickelbad
US3711384A (en) * 1971-01-20 1973-01-16 D Lyde Electrodeposition of nickel

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IT8348009A0 (it) 1983-03-28
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DE3310881A1 (de) 1983-09-29
ES521065A0 (es) 1984-05-16
AU1277983A (en) 1983-10-06
MX159383A (es) 1989-05-22
PT76437B (en) 1985-12-09
FR2524009A1 (fr) 1983-09-30
SE8301471D0 (sv) 1983-03-17
ZA831863B (en) 1984-04-25
NO831116L (no) 1983-09-30
BE896311A (fr) 1983-09-29
CA1223545A (en) 1987-06-30

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