JPS6045560A - β―ラクタム化合物類の製造法 - Google Patents
β―ラクタム化合物類の製造法Info
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- JPS6045560A JPS6045560A JP59060505A JP6050584A JPS6045560A JP S6045560 A JPS6045560 A JP S6045560A JP 59060505 A JP59060505 A JP 59060505A JP 6050584 A JP6050584 A JP 6050584A JP S6045560 A JPS6045560 A JP S6045560A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な単環性β−ラクタムの製造方法およびそ
の製造過程において使用される中間物に関する。特に、
既知の方法によりIN−非向換アセチジノンまたは0−
硫酸化へ一ヒドロキソ 2−アゼチジノンへと変換され
得る中間物であるNヒドロキシ−2アゼチジノンの製造
法に関する。
の製造過程において使用される中間物に関する。特に、
既知の方法によりIN−非向換アセチジノンまたは0−
硫酸化へ一ヒドロキソ 2−アゼチジノンへと変換され
得る中間物であるNヒドロキシ−2アゼチジノンの製造
法に関する。
β−ラクタマーゼ阻害剤クラフラン酸、抗生物質ペネム
およびカルバペネム、また単環性ノカルジシンおよびモ
ノバクタム等の最近の発見と構造解明は研究者達にβ−
ラクタム系抗生物質の構造活性相関を再考させるに至ら
しめた。その結果、単環性β−ラクタムについての合成
的および酵素的関連研究が新たに強調されることになっ
た。本発明は、ノカルンシン、モノバクタムおよび新し
い〇−硫酸化N−ヒドロキシー2−アゼチジノン抗生物
質を包含する単環性β−ラクタム製造のだめの重要な中
間物であるヘーヒドロキシー2−アゼチシ/ンの簡便で
経済的に実用性のある製造法を提供するものである。
およびカルバペネム、また単環性ノカルジシンおよびモ
ノバクタム等の最近の発見と構造解明は研究者達にβ−
ラクタム系抗生物質の構造活性相関を再考させるに至ら
しめた。その結果、単環性β−ラクタムについての合成
的および酵素的関連研究が新たに強調されることになっ
た。本発明は、ノカルンシン、モノバクタムおよび新し
い〇−硫酸化N−ヒドロキシー2−アゼチジノン抗生物
質を包含する単環性β−ラクタム製造のだめの重要な中
間物であるヘーヒドロキシー2−アゼチシ/ンの簡便で
経済的に実用性のある製造法を提供するものである。
一般に、β−置換エステルはヒドロキシルアミンと反応
して〇−非置換ヒドロキサム酸を与えることができる。
して〇−非置換ヒドロキサム酸を与えることができる。
そのヒドロキサム酸はアンル化または硫酸化され、0−
アシルまたはO−スルホヒドロキサム酸エステルを生成
し、これらは環化して1−アシルオキシーまたは1−ス
ルホオキシ−2−アゼチジノンとなる。N−アシルオキ
シアゼチジノンは加溶媒分解に付されヘ−ヒドロキシ−
2−アゼチジノンを与える。好ましくは、アミノ保護β
−置換−α−アミノ酸エステルは有用な中間物であるヘ
ーヒドロキシー3−保護アミノ−2−アゼチジノンへと
変換される。0−スルホヘヒドロキシアゼチジノンもま
た抗生物質への中間物として有用である。
アシルまたはO−スルホヒドロキサム酸エステルを生成
し、これらは環化して1−アシルオキシーまたは1−ス
ルホオキシ−2−アゼチジノンとなる。N−アシルオキ
シアゼチジノンは加溶媒分解に付されヘ−ヒドロキシ−
2−アゼチジノンを与える。好ましくは、アミノ保護β
−置換−α−アミノ酸エステルは有用な中間物であるヘ
ーヒドロキシー3−保護アミノ−2−アゼチジノンへと
変換される。0−スルホヘヒドロキシアゼチジノンもま
た抗生物質への中間物として有用である。
N−ヒドロキシアゼチンノンは、既知の方法により、ノ
カルジシン型の抗生物質、モノバクタム、〇−硫酸化ア
ゼチジノン、ペネムおよびカルバペネム化合物へと変換
され得る。
カルジシン型の抗生物質、モノバクタム、〇−硫酸化ア
ゼチジノン、ペネムおよびカルバペネム化合物へと変換
され得る。
本発明により、式(IV):
し式中、kはアミノ、保護されたアミノ基、水素、C〜
Cアルキル、C1〜C4アルコキシカルホニ4 ル、カルボキン、保護されたカルボキシまたはヒドロキ
シ、ハロゲン、メトキシ、アミノ、保護されたアミン、
保護されたカルボキシもしくはシア八こより置換された
61〜C4アルキルであり R1ハ水M、C,〜C4ア
ルキル、C3〜c4アルコキンカルボニル、保護された
カルボキシ、カルボキン、フェニル、置換フェニル(i
ll換基はC1〜C4アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン
、01〜C4アルコキシ、アミン、保護されたアミン、
カルボキン、保護されたカルボキシまたはシアノ)また
は置換01〜C4アルキル(IIIMはヒドロキシ、ハ
ロゲン、メトキシ、アミノ、保護されたアミノ、カルホ
キ/、保護されたカルボキシまたはシアン)であって、
Zは水素、アシル基または式−5o3−M+で示される
スルホ基であり、M はアルカリ金属陽イオンまたはト
リーもしくはテトラ置換アンモニウムイオンである。l
て示される化合物またはその刊加塩の(a)式(川): R−CH−CI−f−、R’ (ill)CONH−0
−Z 〔式中、1(、R1は式((■)に対して上に定義した
ものてあり、ZはアシルまたはSυ’M−1であって、
Y 7jXヒドロキシ、ブロモまたはクロロである。〕
で示される化合物を閉環してZかアシルまたはSO3M
”−である式(rv )の化合物とすること、(b)z
か水素である式(IV)の化合物をアシル化するかまた
はピリジン−503て処理してlか水素以外のものであ
る式(IV )の化合物とすること、または(c)Zか
ピパロイル以外のアシルである式(IV )の化合物を
加溶媒分解の条件に付しZか水素である式(IV )の
化合物とすること、および(d)必要ならは荏在するい
かなる保護基をも除去し、その伺加塩を形成することを
特徴とする製造法を提供する。
Cアルキル、C1〜C4アルコキシカルホニ4 ル、カルボキン、保護されたカルボキシまたはヒドロキ
シ、ハロゲン、メトキシ、アミノ、保護されたアミン、
保護されたカルボキシもしくはシア八こより置換された
61〜C4アルキルであり R1ハ水M、C,〜C4ア
ルキル、C3〜c4アルコキンカルボニル、保護された
カルボキシ、カルボキン、フェニル、置換フェニル(i
ll換基はC1〜C4アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン
、01〜C4アルコキシ、アミン、保護されたアミン、
カルボキン、保護されたカルボキシまたはシアノ)また
は置換01〜C4アルキル(IIIMはヒドロキシ、ハ
ロゲン、メトキシ、アミノ、保護されたアミノ、カルホ
キ/、保護されたカルボキシまたはシアン)であって、
Zは水素、アシル基または式−5o3−M+で示される
スルホ基であり、M はアルカリ金属陽イオンまたはト
リーもしくはテトラ置換アンモニウムイオンである。l
て示される化合物またはその刊加塩の(a)式(川): R−CH−CI−f−、R’ (ill)CONH−0
−Z 〔式中、1(、R1は式((■)に対して上に定義した
ものてあり、ZはアシルまたはSυ’M−1であって、
Y 7jXヒドロキシ、ブロモまたはクロロである。〕
で示される化合物を閉環してZかアシルまたはSO3M
”−である式(rv )の化合物とすること、(b)z
か水素である式(IV)の化合物をアシル化するかまた
はピリジン−503て処理してlか水素以外のものであ
る式(IV )の化合物とすること、または(c)Zか
ピパロイル以外のアシルである式(IV )の化合物を
加溶媒分解の条件に付しZか水素である式(IV )の
化合物とすること、および(d)必要ならは荏在するい
かなる保護基をも除去し、その伺加塩を形成することを
特徴とする製造法を提供する。
て表わされるβ−置換酸エステルをヒドロキシルで表わ
されるヒドロキサム酸洒導体を生成する。
されるヒドロキサム酸洒導体を生成する。
そのヒドロキサム酸(2)はカルホン酸の活性化された
誘導体またはピリジン=503を用いてアて表わされる
O−アノルヒドロキザム酸エステルまたは0−スルホヒ
ドロキサム酸エステルを与える。
誘導体またはピリジン=503を用いてアて表わされる
O−アノルヒドロキザム酸エステルまたは0−スルホヒ
ドロキサム酸エステルを与える。
〔式中、Zはアシル基またはスルホ基を表わし、Yはヒ
ドロキシ、クロロまたはブロモである。〕〕0−アンま
たはO−スルホヒドロキサム酸エステルは次いで式(4
)で示されるO−アシルN−ヒドロキシアセチジノンま
たはO−スルホIN−ヒドロキソアゼチジノンへと環化
される。■がヒドロキシである場合、環化はアゾジカル
ボン酸ジアルキルエステルおよびトリフェニルホスフィ
ン、トリフェニルホスファイト、ジフェニルフェニルホ
スホナートとフェニルンフェニルホスフイノエートから
選択される有機リン化合物を用いて行われる。Yかクロ
ロまたはブロモである場合、環化は塩基を用いて行われ
る。
ドロキシ、クロロまたはブロモである。〕〕0−アンま
たはO−スルホヒドロキサム酸エステルは次いで式(4
)で示されるO−アシルN−ヒドロキシアセチジノンま
たはO−スルホIN−ヒドロキソアゼチジノンへと環化
される。■がヒドロキシである場合、環化はアゾジカル
ボン酸ジアルキルエステルおよびトリフェニルホスフィ
ン、トリフェニルホスファイト、ジフェニルフェニルホ
スホナートとフェニルンフェニルホスフイノエートから
選択される有機リン化合物を用いて行われる。Yかクロ
ロまたはブロモである場合、環化は塩基を用いて行われ
る。
式1〜3において、lζは保護されたアミン基、水素、
C1〜C4アルキル、01〜C4アルコキシカルボニル
、保護されたカルボキシまたはヒドロキシ、ハロゲン、
メトキシ、保護されたアミノ、保護されたカルボキシも
しくはシアノにより置換されたC1〜C4アルキルであ
る。
C1〜C4アルキル、01〜C4アルコキシカルボニル
、保護されたカルボキシまたはヒドロキシ、ハロゲン、
メトキシ、保護されたアミノ、保護されたカルボキシも
しくはシアノにより置換されたC1〜C4アルキルであ
る。
k は水素、61〜C4アルキル、01〜C4アルコキ
シカルボニル、保護されたカルボキシ、フェニルマタハ
01〜C4アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、C7〜C
4アルコキシ、保護されたアミン、保護されたカルボキ
シもしくはンア/により画側された置換フェニルである
か、またはR1はヒI・ロギシ、ハロゲン、メトキシ、
保護されたアミン、保護されたカルボキシもしくはシア
ノにより置換されたC4〜C4アルキルを表わす。
シカルボニル、保護されたカルボキシ、フェニルマタハ
01〜C4アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、C7〜C
4アルコキシ、保護されたアミン、保護されたカルボキ
シもしくはンア/により画側された置換フェニルである
か、またはR1はヒI・ロギシ、ハロゲン、メトキシ、
保護されたアミン、保護されたカルボキシもしくはシア
ノにより置換されたC4〜C4アルキルを表わす。
k2はC,−C4−7−ルキルまたはカルボキンの保護
基を表わし、Zは、1(3かC1〜C1oアルキル、0
2〜C10アルケニル、C2〜C1oアルキニル、フェ
ニル、置換フェニル(装置m基はC4〜C4アルキル、
01〜C4アルコキシ、ハロゲンまたはニトロ)マたは
置換Cl−01oアルキル(置換基はハロゲン、C1〜
C4アルコキシカルボニル、C3〜C4アルキルスルホ
ニル、ニトロ、C1〜C4アルコキシ、フェニルまたは
上に定義された置換フェニル)であるR3−C−で示さ
れるアシル基を表わすか、またはZは、M かアルカリ
金属陽イオン、ピリジニウム、アンモニウムまたはトリ
ーもしくはテトラ置換アンモニウムイオンである式−5
o3M+で表わされるスルホ基である。
基を表わし、Zは、1(3かC1〜C1oアルキル、0
2〜C10アルケニル、C2〜C1oアルキニル、フェ
ニル、置換フェニル(装置m基はC4〜C4アルキル、
01〜C4アルコキシ、ハロゲンまたはニトロ)マたは
置換Cl−01oアルキル(置換基はハロゲン、C1〜
C4アルコキシカルボニル、C3〜C4アルキルスルホ
ニル、ニトロ、C1〜C4アルコキシ、フェニルまたは
上に定義された置換フェニル)であるR3−C−で示さ
れるアシル基を表わすか、またはZは、M かアルカリ
金属陽イオン、ピリジニウム、アンモニウムまたはトリ
ーもしくはテトラ置換アンモニウムイオンである式−5
o3M+で表わされるスルホ基である。
「保護されたカルボキシ」は、必要な反応か完了した後
に容易に除去できる基によりふさがれるかまたは保護さ
れたカルボキシ基を指す。そのような基は、酸性で反応
性のあるカルボキシ基を一時的に保護または封鎖するた
めにβ−ラクタムの技術分野において一般に用いられる
よく知られた慣用的なカルボキシ保護基である。これら
の保護基は、カルボキン基が分子内の他の部位または池
の官能基の反応に関与するのを妨けるように働く。
に容易に除去できる基によりふさがれるかまたは保護さ
れたカルボキシ基を指す。そのような基は、酸性で反応
性のあるカルボキシ基を一時的に保護または封鎖するた
めにβ−ラクタムの技術分野において一般に用いられる
よく知られた慣用的なカルボキシ保護基である。これら
の保護基は、カルボキン基が分子内の他の部位または池
の官能基の反応に関与するのを妨けるように働く。
例えば、0−アシルヒドロキサム酸エステルを7′シル
化する間、kまたはR,のカルボキン基は保護されるこ
とが望ましい。そのような保護基の例はt−ブチル、ト
リハロエチル(例エバ’2,2.2−トリクロロエチル
)、2−ヨードエチル、アリル、ベンジル、P−メトキ
シベンジル、P−ニトロベンジルまたはジフェニルメチ
ルである。当業者には、ProtecLive Gro
ups in OrganicCh em i s t
ry McO+n i e紬、Plenum Pre
ss 、” ニューヨーク(1973/4)またはl’
rotect ivc Groupsin Organ
ic 5ynthesis、Greene著、 Job
nwiley & 5ons 、ニューヨーク(198
1年)に記述されているような他の許容される保護基は
自明である。
化する間、kまたはR,のカルボキン基は保護されるこ
とが望ましい。そのような保護基の例はt−ブチル、ト
リハロエチル(例エバ’2,2.2−トリクロロエチル
)、2−ヨードエチル、アリル、ベンジル、P−メトキ
シベンジル、P−ニトロベンジルまたはジフェニルメチ
ルである。当業者には、ProtecLive Gro
ups in OrganicCh em i s t
ry McO+n i e紬、Plenum Pre
ss 、” ニューヨーク(1973/4)またはl’
rotect ivc Groupsin Organ
ic 5ynthesis、Greene著、 Job
nwiley & 5ons 、ニューヨーク(198
1年)に記述されているような他の許容される保護基は
自明である。
上の式においてM がトリまたはテトラ置換アンモニウ
ムイオン(z=so3y″−)である場合、斗 M はトリエチルアンモニウムもしくはトリフチルアン
モニウムのようなトリー(61〜C4アルキル)アンモ
ニウムイオン、またはテトラ−n−ブチルアンモニウム
のようなテトラ(01〜C4アルキル)アンモニウムイ
オン、またはベンジルトリエチルアンモニウムのような
ジーもしくはトリアルキルベンジルアンモニウムイオン
であってヨイ。
ムイオン(z=so3y″−)である場合、斗 M はトリエチルアンモニウムもしくはトリフチルアン
モニウムのようなトリー(61〜C4アルキル)アンモ
ニウムイオン、またはテトラ−n−ブチルアンモニウム
のようなテトラ(01〜C4アルキル)アンモニウムイ
オン、またはベンジルトリエチルアンモニウムのような
ジーもしくはトリアルキルベンジルアンモニウムイオン
であってヨイ。
0−アシルヒドロキサム酸エステル(3,Z=ニアシル
は、カルボン酸であるに3C00Flの活性化誘導体を
用いて、ヒドロキサム酸(2)をアシル化することによ
り製造される。アシル化において分用なカルボン酸の活
性化された誘導体は酸無水物および酸ハロゲン化物を包
含する。酸ハロゲン化物、例えば酸塩化物および酸臭化
物は、第三アミンであるトリエチルアミンまたはへ、ヘ
ージエナルアニリンのような酸結合剤の(r在Tでアシ
ル化ニ用いられる。好ましくは、0−アシルヒドロキサ
ム酸エステル(3)は酸無水物を用いて製造される。
は、カルボン酸であるに3C00Flの活性化誘導体を
用いて、ヒドロキサム酸(2)をアシル化することによ
り製造される。アシル化において分用なカルボン酸の活
性化された誘導体は酸無水物および酸ハロゲン化物を包
含する。酸ハロゲン化物、例えば酸塩化物および酸臭化
物は、第三アミンであるトリエチルアミンまたはへ、ヘ
ージエナルアニリンのような酸結合剤の(r在Tでアシ
ル化ニ用いられる。好ましくは、0−アシルヒドロキサ
ム酸エステル(3)は酸無水物を用いて製造される。
アシル化に用いることのてきるR3C0OHのカルボン
酸の例は酢酸プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、
カプロン酸、ペラルゴン酸、アクリル酸、ヒニル酢酸、
プロピオール酸、トリメチル酢酸、メトキン酢酸、メト
キシプロピオン酸、安息香酸、アニス酸、P−ニトロ安
息香酸、3−メトキシ安息香酸、P−クロロ安息香酸、
トルイル酸、フェニル酢酸、4−フェニル酪酸、クロト
ン酸、ブチノン酸(butynoic acid )ま
たはヘキシノン酸(hexynoic acid )で
ある。
酸の例は酢酸プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、
カプロン酸、ペラルゴン酸、アクリル酸、ヒニル酢酸、
プロピオール酸、トリメチル酢酸、メトキン酢酸、メト
キシプロピオン酸、安息香酸、アニス酸、P−ニトロ安
息香酸、3−メトキシ安息香酸、P−クロロ安息香酸、
トルイル酸、フェニル酢酸、4−フェニル酪酸、クロト
ン酸、ブチノン酸(butynoic acid )ま
たはヘキシノン酸(hexynoic acid )で
ある。
好ましいカルボン酸は低級アルキルカルボン酸、特に酢
酸である。もう一つの好ましい酸は安息香酸または置換
された安息香酸である。
酸である。もう一つの好ましい酸は安息香酸または置換
された安息香酸である。
0−スルホヒドロキサム酸エステル(式3.Z−so3
M )はヒドロキサム酸(2)およびピリジン−三酸
化イオウ錯体を用いて製造される。その反応は、不活性
溶媒、好ましくはピリジン中でヒドロキサム酸とピリジ
ン−8O3錯体とを混合することにより行われる。その
ピリジ/ S 03錯体は市販品から入手てきるかまた
は必要量の二酸化イオウを過剰のピリジンに溶かすこと
によっ−C製造できる。次いてその錯体の溶液を、不活
性溶媒に溶かしたヒドロキサム酸の溶液に加える。代り
の方法として、ピリジンまたはピリジンを含む不を重性
溶媒に溶かしたヒドロキサム酸の溶液に三酸化イオウを
加えることもできる。
M )はヒドロキサム酸(2)およびピリジン−三酸
化イオウ錯体を用いて製造される。その反応は、不活性
溶媒、好ましくはピリジン中でヒドロキサム酸とピリジ
ン−8O3錯体とを混合することにより行われる。その
ピリジ/ S 03錯体は市販品から入手てきるかまた
は必要量の二酸化イオウを過剰のピリジンに溶かすこと
によっ−C製造できる。次いてその錯体の溶液を、不活
性溶媒に溶かしたヒドロキサム酸の溶液に加える。代り
の方法として、ピリジンまたはピリジンを含む不を重性
溶媒に溶かしたヒドロキサム酸の溶液に三酸化イオウを
加えることもできる。
アシル化またはO−スルホ形成は、不活性溶媒中室温で
、ヒドロキサム酸(2)と過剰のアシル化剤またはピリ
ジン−503錯体を用いて行われる。その反応は約15
℃と約45℃の間の温度でよく進行し、約20℃から約
25℃で都合の好い速度で進む。
、ヒドロキサム酸(2)と過剰のアシル化剤またはピリ
ジン−503錯体を用いて行われる。その反応は約15
℃と約45℃の間の温度でよく進行し、約20℃から約
25℃で都合の好い速度で進む。
酸R3−C00Hの酸ハロゲン化物、酸無水物または活
性エステルは化学量論の過剰量加えられ、アシル化過程
を最も実用的に行うためには、一般に2ないし3倍過剰
量が望ましい。
性エステルは化学量論の過剰量加えられ、アシル化過程
を最も実用的に行うためには、一般に2ないし3倍過剰
量が望ましい。
本過程に有用な不活性溶媒は、例えはメチルアルコール
、エチルアルコール、テトラヒドロフラン、アセトニト
リル、塩化メチレンまたはヒドロキサム酸(2)とアシ
ル化剤が少くとも部分的に9溶な他の一般的な溶媒を包
含する。
、エチルアルコール、テトラヒドロフラン、アセトニト
リル、塩化メチレンまたはヒドロキサム酸(2)とアシ
ル化剤が少くとも部分的に9溶な他の一般的な溶媒を包
含する。
アシル化またはO−スルホ形成の進行度は、薄層クロマ
トクラフィーを用いるかまたは反応混合物の少量につい
ての塩化第二鉄呈色反応を用いて追跡できる。ヒドロキ
サム酸(2)は反応して塩化第二鉄に対し陽性試験結果
(一般に赤色)を示すのに対し、アシル誘導体は反応し
ない。従って、反応完結時にはその試験は陰性である。
トクラフィーを用いるかまたは反応混合物の少量につい
ての塩化第二鉄呈色反応を用いて追跡できる。ヒドロキ
サム酸(2)は反応して塩化第二鉄に対し陽性試験結果
(一般に赤色)を示すのに対し、アシル誘導体は反応し
ない。従って、反応完結時にはその試験は陰性である。
0−アシル誘導体(Z−アシル)が、環化に先立って早
くも加溶媒分解を受けるのを防ぐために、アシル化反応
混合物は素早く後処理する。その生成物(3)は慣用法
により容易に単離される。あるそのような手法において
、反応混合物は炭酸ナトリウムもしくはカリウムの稀釈
水溶液と酢酸エチルのような打機溶媒の混合物中に注か
れる。その生成物を、塩化メチレンまたは酢酸エチルの
ような有機溶媒と混合された弱塩基水溶液中で採取し、
その混合物はpH4〜5へと酸性化される。
くも加溶媒分解を受けるのを防ぐために、アシル化反応
混合物は素早く後処理する。その生成物(3)は慣用法
により容易に単離される。あるそのような手法において
、反応混合物は炭酸ナトリウムもしくはカリウムの稀釈
水溶液と酢酸エチルのような打機溶媒の混合物中に注か
れる。その生成物を、塩化メチレンまたは酢酸エチルの
ような有機溶媒と混合された弱塩基水溶液中で採取し、
その混合物はpH4〜5へと酸性化される。
生成物は自機層中に抽出し、これを分離し、洗白)、乾
燥そして溶媒除去して0−アシル生成物(3)を得る。
燥そして溶媒除去して0−アシル生成物(3)を得る。
YがOHである(3)の2−アセチジノン〔β−ラクタ
ム(4)〕への環化は、アゾジカルボン酸ジアルキル(
D AAD )およびトリフェニルホスフィン(’rp
p)、トリフェニルホスファイト、ジフェニルフェニル
ホスホナート〔φ−P(0φ)2〕、フェニルジフェニ
ルホスフィノエートC(φ)2p−oφ〕から選択され
る有機リン化合物を用いるか、または7[’ P P−
四塩化炭素−トリエチルアミンを用いて行われる。その
環化の段階は、実質的に無水の条件下、アセトニトリル
またはテトラヒドロフランのような不活性溶媒中で約1
5℃と約40℃の間の温度で、好ましくは約20℃から
約25℃で行われる。最良の結果を得るために、反応は
、窒素またはアルゴンのような乾燥した不活性気体の気
流中で行われる。リン化合物およびアゾジカルボン酸ジ
アルキルは各々、化合物(3)に対し100モルパーセ
ント過剰に用いられる。
ム(4)〕への環化は、アゾジカルボン酸ジアルキル(
D AAD )およびトリフェニルホスフィン(’rp
p)、トリフェニルホスファイト、ジフェニルフェニル
ホスホナート〔φ−P(0φ)2〕、フェニルジフェニ
ルホスフィノエートC(φ)2p−oφ〕から選択され
る有機リン化合物を用いるか、または7[’ P P−
四塩化炭素−トリエチルアミンを用いて行われる。その
環化の段階は、実質的に無水の条件下、アセトニトリル
またはテトラヒドロフランのような不活性溶媒中で約1
5℃と約40℃の間の温度で、好ましくは約20℃から
約25℃で行われる。最良の結果を得るために、反応は
、窒素またはアルゴンのような乾燥した不活性気体の気
流中で行われる。リン化合物およびアゾジカルボン酸ジ
アルキルは各々、化合物(3)に対し100モルパーセ
ント過剰に用いられる。
好ましいアゾジカルボン酸ジアルキルはアゾジカルボン
酸ジイソプロピルである。アゾジカルボン酸ジエチルも
環化においてよく機能するか、ジイソプロピル試薬の方
か低価格であることから大規模の製造にはこの方が好ま
しい。好ましいリン化合物は1Ppである。
酸ジイソプロピルである。アゾジカルボン酸ジエチルも
環化においてよく機能するか、ジイソプロピル試薬の方
か低価格であることから大規模の製造にはこの方が好ま
しい。好ましいリン化合物は1Ppである。
別法として、(3)から(4)への環化はトリフェニル
ホスフィン、四塩化炭素およびトリエチ# 7 ミ/
(’l’ P P CCl 4T k−A ) ’fr
:用いて行われる。試薬の各々の成分は0−アシルまた
はO−スJ’ホm導体(3)に対して100モルパーセ
ント過剰に用いられる。
ホスフィン、四塩化炭素およびトリエチ# 7 ミ/
(’l’ P P CCl 4T k−A ) ’fr
:用いて行われる。試薬の各々の成分は0−アシルまた
はO−スJ’ホm導体(3)に対して100モルパーセ
ント過剰に用いられる。
N−アシルオキシ−またはへ−(0−スルホ)−2−ア
ゼチジノン(4)は反応混合物から回収され、クロマト
グラフィーまたは再結晶により精製し得る。
ゼチジノン(4)は反応混合物から回収され、クロマト
グラフィーまたは再結晶により精製し得る。
その反応は’l’ I’ P −D A A l)試薬
を用い−C次のように行われる。0−アシ/l/または
0−スルホヒドロキサム酸エステノV(3)をテトラヒ
ドロフランのような不活性乾燥溶媒に溶かし、その溶液
を大気中の湿気から保護しなから、’l’ P PとI
) A A I)を加える。代りに、0−アシルもしく
はO−スルホヒドロキサム酸エステル(3)またはそれ
らの無水溶液を、1”P l’およびD A A IJ
の乾燥溶成に加えてもよい。混合物を室温で攪拌し、4
層クロマドクラフィーにより追跡する。反応か完結した
ならば、混合物を蒸発により濃縮し、β−ラクタム生成
物を含むその濃縮物または残留物をクロマトグラフィー
により精製する。
を用い−C次のように行われる。0−アシ/l/または
0−スルホヒドロキサム酸エステノV(3)をテトラヒ
ドロフランのような不活性乾燥溶媒に溶かし、その溶液
を大気中の湿気から保護しなから、’l’ P PとI
) A A I)を加える。代りに、0−アシルもしく
はO−スルホヒドロキサム酸エステル(3)またはそれ
らの無水溶液を、1”P l’およびD A A IJ
の乾燥溶成に加えてもよい。混合物を室温で攪拌し、4
層クロマドクラフィーにより追跡する。反応か完結した
ならば、混合物を蒸発により濃縮し、β−ラクタム生成
物を含むその濃縮物または残留物をクロマトグラフィー
により精製する。
TPl)−CCI4−’l”EA試薬による(3)の環
化は次のように行われる。化合物(3)とCCl4の無
水溶液をつ(り大気中の湿気から保護する。゛「P l
)およびT’ E Aを加え、反応混合物を攪拌または
振盪して激しくかきまぜる。反応は薄層クロマトクラフ
ィーにより追跡され、反応完結時、生成物(4)は回収
され、クロマトクラフィーまたは再結晶により精製され
る。例えは、環化か完丁した時、反応混合物は蒸発によ
り濃縮され、生成物を含むその濃縮物はシリカゲルのク
ロマトグラフにかけられる。
化は次のように行われる。化合物(3)とCCl4の無
水溶液をつ(り大気中の湿気から保護する。゛「P l
)およびT’ E Aを加え、反応混合物を攪拌または
振盪して激しくかきまぜる。反応は薄層クロマトクラフ
ィーにより追跡され、反応完結時、生成物(4)は回収
され、クロマトクラフィーまたは再結晶により精製され
る。例えは、環化か完丁した時、反応混合物は蒸発によ
り濃縮され、生成物を含むその濃縮物はシリカゲルのク
ロマトグラフにかけられる。
kがアンルアミツ基であるO−アシルまたは0−スルホ
ヒドロキサム酸エステル(3)のN−アシルオキソまた
はヘ−スルホオキシ−2−アゼチジノンへの環化は好ま
しくはl’PP−DAAI)試薬を用いて行われる。し
かしなから、アミノ保護基が、エトキソカルボニルまた
はヘンシルオキシ力ルポニルのようなカルバメート形成
型である場合は、好ましい環化試薬は1’ P P −
CCI4−1’ EAである。
ヒドロキサム酸エステル(3)のN−アシルオキソまた
はヘ−スルホオキシ−2−アゼチジノンへの環化は好ま
しくはl’PP−DAAI)試薬を用いて行われる。し
かしなから、アミノ保護基が、エトキソカルボニルまた
はヘンシルオキシ力ルポニルのようなカルバメート形成
型である場合は、好ましい環化試薬は1’ P P −
CCI4−1’ EAである。
Yかヒドロキシ以外のものである時、0−アシルまたは
0−スルホヒドロキサム酸(3)のβ−ラクタム(4)
への環化は有機または無機塩基を用いて行われる。例え
は、環化は水素化ナトリウム、リチウム/イソプロピル
アミドやリチウムジアルキルアミドのようfJリチウム
アルキルアミドまたは炭酸リチウム、ナトリウムもしく
はカリウムのようなアルカリ金属炭酸塩を用い−C行わ
れる。
0−スルホヒドロキサム酸(3)のβ−ラクタム(4)
への環化は有機または無機塩基を用いて行われる。例え
は、環化は水素化ナトリウム、リチウム/イソプロピル
アミドやリチウムジアルキルアミドのようfJリチウム
アルキルアミドまたは炭酸リチウム、ナトリウムもしく
はカリウムのようなアルカリ金属炭酸塩を用い−C行わ
れる。
環化は無水の条件下、約−15−Cと約25”C(7)
間の温1斐で、リチウムジアルキルアミドまたは水素化
すトリウムを用いて行われる。塩基かアルカリ金属炭酸
塩である場合は、幾分高い温度(例えば約15℃と約4
0℃の間の温度)を用いるとよい。
間の温1斐で、リチウムジアルキルアミドまたは水素化
すトリウムを用いて行われる。塩基かアルカリ金属炭酸
塩である場合は、幾分高い温度(例えば約15℃と約4
0℃の間の温度)を用いるとよい。
0−アシルまたは0−スルホヒドロキサム酸エステル(
3)0)N−H水素か酸性であるため、環化は直ちに起
る。
3)0)N−H水素か酸性であるため、環化は直ちに起
る。
本製造法の例においては、ヘ−フタロイルβ−クロロア
ラニンメチルエステルをヒドロキシルアミンと反応させ
、ヒドロキサム酸を無水酢酸てアノル化して、kかフタ
ルイミドで、Yがクロロ、R1か水素てあってZがアセ
チルである式(3)により表わされる化合物を生成する
。次いで〇−アセチルヒドロキサム酸エステルを乾燥テ
トラヒドロフラン中でリチウムジイソプロピルアミドで
処理して、相当する置換されたO−アセチルN−ヒドロ
キシアゼチジノン(4)とする。別法として、0−アセ
チルヒドロキサム酸エステルの−1” H)溶液を乾燥
炭酸ナトリウムと振盪することによっても環化を達成し
てもよい。
ラニンメチルエステルをヒドロキシルアミンと反応させ
、ヒドロキサム酸を無水酢酸てアノル化して、kかフタ
ルイミドで、Yがクロロ、R1か水素てあってZがアセ
チルである式(3)により表わされる化合物を生成する
。次いで〇−アセチルヒドロキサム酸エステルを乾燥テ
トラヒドロフラン中でリチウムジイソプロピルアミドで
処理して、相当する置換されたO−アセチルN−ヒドロ
キシアゼチジノン(4)とする。別法として、0−アセ
チルヒドロキサム酸エステルの−1” H)溶液を乾燥
炭酸ナトリウムと振盪することによっても環化を達成し
てもよい。
本発明の製造法でつくられるN−スルホオキシ−2−ア
ゼチジノン(4,Z=SO3M)は、アメリカ合衆国特
許番号4,337,197に開示されたような抗生物質
の製造に有用である。N−アシルオキシアゼチジノン(
4、Z=COR3) は、本発明で提供する後続の製法
によりN−ヒドロキシアゼチジノンへと変換される。こ
のN−ヒドロキシ中間物は、モノバクタムおよびメカル
ジシンの製造に有用である。
ゼチジノン(4,Z=SO3M)は、アメリカ合衆国特
許番号4,337,197に開示されたような抗生物質
の製造に有用である。N−アシルオキシアゼチジノン(
4、Z=COR3) は、本発明で提供する後続の製法
によりN−ヒドロキシアゼチジノンへと変換される。こ
のN−ヒドロキシ中間物は、モノバクタムおよびメカル
ジシンの製造に有用である。
本発明の製造法に従って、ヘ−アシルオキシ−=2−ア
ゼチジノン(4)は温和な加溶媒分解の条件に付され、
式(5)で示されるN−ヒドロキシ−2−アセチジノン
を与える。
ゼチジノン(4)は温和な加溶媒分解の条件に付され、
式(5)で示されるN−ヒドロキシ−2−アセチジノン
を与える。
加溶媒分解は、例えは炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリ
ウム水溶液、酢酸アンモニウム水溶液、炭酸アンモニウ
ム水tB液、ジメチルスルホキッドおよび炭酸ナトリウ
ムもしくは炭酸カリウム水溶液を用いるような種々の温
和な加溶媒分解条件の下で行い得る。水と混じり合う有
機溶媒もまた上記の水溶液と共に用い得る。例えは、メ
チルアルコール、エチルアルコール、テトラヒドロフラ
ン、DMACまたはl) M FかN〜ルアシルオキシ
2〜アゼチンノン(4)を溶は易くするために用いられ
る。約3ないし5%濃度の炭酸ナトリウム水溶液とメチ
ルアルコールの混合物は便利な加溶媒分解用媒体である
。もう−っの便利な加溶媒分解系は酢酸アンモニウム水
溶液(約5%)およびメチルアルコールまたはテトラヒ
ドロフランから成る。
ウム水溶液、酢酸アンモニウム水溶液、炭酸アンモニウ
ム水tB液、ジメチルスルホキッドおよび炭酸ナトリウ
ムもしくは炭酸カリウム水溶液を用いるような種々の温
和な加溶媒分解条件の下で行い得る。水と混じり合う有
機溶媒もまた上記の水溶液と共に用い得る。例えは、メ
チルアルコール、エチルアルコール、テトラヒドロフラ
ン、DMACまたはl) M FかN〜ルアシルオキシ
2〜アゼチンノン(4)を溶は易くするために用いられ
る。約3ないし5%濃度の炭酸ナトリウム水溶液とメチ
ルアルコールの混合物は便利な加溶媒分解用媒体である
。もう−っの便利な加溶媒分解系は酢酸アンモニウム水
溶液(約5%)およびメチルアルコールまたはテトラヒ
ドロフランから成る。
一般に、加溶媒分解は水性有機溶媒混合物中、pH約8
ないし約10の間で行われる。
ないし約10の間で行われる。
加溶媒分解は約0℃と約45℃の間の温度、好ましくは
約0 ’Cないし約20’Cて行われる。加溶媒分解は
便宜的に、N=アシルオキシ−2−アセチジノンの溶液
または)V濁液へ激しく攪き混ぜなから固体の炭酸ナト
リウムを加えることによって行われる。加溶媒分解の進
行度は薄層クロマトクラフィーによって追跡することか
できる。加溶媒分解混合物のpHを約5に調整し、生成
物を水と混じり合わない酢酸エチルのような有機溶媒で
抽出することによってN−ヒドロキシ−2−アセチジノ
ンか回収される。その抽出液は洗浄、乾燥および溶媒除
去されN−ヒドロキシ−2−アゼチジノンを与える。生
成物は、必要ならば、再結晶によりさらに純粋にするこ
とかできる。
約0 ’Cないし約20’Cて行われる。加溶媒分解は
便宜的に、N=アシルオキシ−2−アセチジノンの溶液
または)V濁液へ激しく攪き混ぜなから固体の炭酸ナト
リウムを加えることによって行われる。加溶媒分解の進
行度は薄層クロマトクラフィーによって追跡することか
できる。加溶媒分解混合物のpHを約5に調整し、生成
物を水と混じり合わない酢酸エチルのような有機溶媒で
抽出することによってN−ヒドロキシ−2−アセチジノ
ンか回収される。その抽出液は洗浄、乾燥および溶媒除
去されN−ヒドロキシ−2−アゼチジノンを与える。生
成物は、必要ならば、再結晶によりさらに純粋にするこ
とかできる。
加溶媒分解反応を行い、N−ヒドロキシ生成物(5)を
回収するにあたって、ヘ−ヒドロキシ−2−アセチジノ
ンはJ’、Hirose ら、 l1eterocyc
les。
回収するにあたって、ヘ−ヒドロキシ−2−アセチジノ
ンはJ’、Hirose ら、 l1eterocyc
les。
1982年、19巻、1019頁に記述されているよう
に熱転位を受け易いことから、生成物を絶対に加熱しな
いように注意する必要がある。
に熱転位を受け易いことから、生成物を絶対に加熱しな
いように注意する必要がある。
本発明の完全なる工程が次の反応開式に例証されている
。
。
2
■
本発明の好ましい具体的内容において、上式中のl(は
保護されたアミン基である。保護されたアミ7基■(の
保護基は、その反応過程の条件下で安定ないかなる慣用
的なアミノ保護基であってもよし)。例えは、その保護
基はカルボン酸から誘導されるアシル基(アミド生成)
であるか、またはアミ7基とカルバメートを生成する基
であってよい。
保護されたアミン基である。保護されたアミ7基■(の
保護基は、その反応過程の条件下で安定ないかなる慣用
的なアミノ保護基であってもよし)。例えは、その保護
基はカルボン酸から誘導されるアシル基(アミド生成)
であるか、またはアミ7基とカルバメートを生成する基
であってよい。
アシル保護基に関しては、アシル基はアミノ基の一時的
な保護の目的で選択してもよく、または、IN−ヒドロ
キシ−2−アゼチジノン(5)または0−スルホN−ヒ
ドロキシアゼチンノンから製造される究極的なβ−ラク
タム抗生物質またはβ−ラクタマーセ阻害剤の望ましい
側鎖であるとの理由から選択してもよい。適当なアシル
基の例は、ホルミル、アセナルおよびプロピオニルのよ
うなC1〜C4アルカノイル、ベンゾイルおよび置換ベ
ンソイル(例えば4〜メチルベンゾイル、2.4−ジメ
ナルベンソイルと4−(−メチルベンソイルのような低
級アルキル置換ヘンジイル、4−クロロベンンイル、a
、4−ジクロロベンゾイル、3フロモベンゾイルと4−
フルオロベンソイルのよウナハロベンゾイル、4−メト
キノベンゾイル、3−エトキシベンゾイルと2.6−ン
メトキシベンゾイルのよ・うな低級アルコキシ置換ベン
ゾイル)、アリールアルカノイル(例えはフェニルアセ
チルおよび4−メチルフェニルアセナル、4−メトキソ
フェニルアセチル、2.4−ンメl−4ンフエニルアセ
チル、3.4−ジクロロフェニルアセチル、3−ブロモ
フェニルアセチル、2−フルオロフェニルアセチル、4
−シアノフェニルアセチルと4−ヒドロキシフェニルア
セナルのような置換フエニ/l/ 7 セ−f−ル)、
α−置換アリールアルカノイル基(例エハマンヂロイル
、フェニルクリシノヘマロニルおよびそれらのフェニル
環]−て低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、フ
ァンまたはヒドロキシ置換されたものおよびそれらのα
−アミ/、α−ヒドロキシとα−カルボキシ基か、本発
明の製造過程で適当に保護されたもの)、アリールオキ
ジアルカノイルおよびアリールチオアルカノイル(例エ
バフェノキシアセチル、4−クロロフェノキシアセチル
、フェニルメル力プトアセチノペ3.4−ジクロロフェ
ニルメルカプトアセチルと4〜フルオロフエニルメルカ
プトアセチル)、ヘテロアリールアルカノイル基(例え
ばチェニルアセチル、フリルアセチル、チアゾリルアセ
チル、オキサシリルアセチル、1,3.4−チアジアゾ
リルアセチル、1,3.4−オキサジアゾリルアセチル
、1゜2.4−チアジアゾリルアセチル、1,2.4−
オキサジアゾリルアセチルおよびそれらのへテロ環がア
ミノ、ヒドロキシ、ハロゲンまたはメチルにより置換さ
れたもの)、またはα−置換へテロアリール(例えはア
セチルα−炭素がアミン、ヒドロキシ、カルボキシまた
はアルコキシイミノ基により置換された上に述べたよう
なヘテロアセチル基で、それらのアミノ、ヒドロキシと
カルボキシ基か本発明の製造過程て適当に保護されてい
るもの)である。
な保護の目的で選択してもよく、または、IN−ヒドロ
キシ−2−アゼチジノン(5)または0−スルホN−ヒ
ドロキシアゼチンノンから製造される究極的なβ−ラク
タム抗生物質またはβ−ラクタマーセ阻害剤の望ましい
側鎖であるとの理由から選択してもよい。適当なアシル
基の例は、ホルミル、アセナルおよびプロピオニルのよ
うなC1〜C4アルカノイル、ベンゾイルおよび置換ベ
ンソイル(例えば4〜メチルベンゾイル、2.4−ジメ
ナルベンソイルと4−(−メチルベンソイルのような低
級アルキル置換ヘンジイル、4−クロロベンンイル、a
、4−ジクロロベンゾイル、3フロモベンゾイルと4−
フルオロベンソイルのよウナハロベンゾイル、4−メト
キノベンゾイル、3−エトキシベンゾイルと2.6−ン
メトキシベンゾイルのよ・うな低級アルコキシ置換ベン
ゾイル)、アリールアルカノイル(例えはフェニルアセ
チルおよび4−メチルフェニルアセナル、4−メトキソ
フェニルアセチル、2.4−ンメl−4ンフエニルアセ
チル、3.4−ジクロロフェニルアセチル、3−ブロモ
フェニルアセチル、2−フルオロフェニルアセチル、4
−シアノフェニルアセチルと4−ヒドロキシフェニルア
セナルのような置換フエニ/l/ 7 セ−f−ル)、
α−置換アリールアルカノイル基(例エハマンヂロイル
、フェニルクリシノヘマロニルおよびそれらのフェニル
環]−て低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、フ
ァンまたはヒドロキシ置換されたものおよびそれらのα
−アミ/、α−ヒドロキシとα−カルボキシ基か、本発
明の製造過程で適当に保護されたもの)、アリールオキ
ジアルカノイルおよびアリールチオアルカノイル(例エ
バフェノキシアセチル、4−クロロフェノキシアセチル
、フェニルメル力プトアセチノペ3.4−ジクロロフェ
ニルメルカプトアセチルと4〜フルオロフエニルメルカ
プトアセチル)、ヘテロアリールアルカノイル基(例え
ばチェニルアセチル、フリルアセチル、チアゾリルアセ
チル、オキサシリルアセチル、1,3.4−チアジアゾ
リルアセチル、1,3.4−オキサジアゾリルアセチル
、1゜2.4−チアジアゾリルアセチル、1,2.4−
オキサジアゾリルアセチルおよびそれらのへテロ環がア
ミノ、ヒドロキシ、ハロゲンまたはメチルにより置換さ
れたもの)、またはα−置換へテロアリール(例えはア
セチルα−炭素がアミン、ヒドロキシ、カルボキシまた
はアルコキシイミノ基により置換された上に述べたよう
なヘテロアセチル基で、それらのアミノ、ヒドロキシと
カルボキシ基か本発明の製造過程て適当に保護されてい
るもの)である。
保護基はジカルボン酸からもまた誘導できる。
例えば、艮はフタルイミド基、コハク酸イミド基または
他のジアシルアミド保護基であってよい。
他のジアシルアミド保護基であってよい。
特に好ましいアミノ保護基はいわゆる「Ox」保護基、
下に示される4、5−ジフェニル−4−オキサゾリン−
2−オン基であって、これはアミ7基および1,2−ジ
フェニルヒニレンカーボネートを用いてツ<られる(
J、C,5heehanら、J、Org。
下に示される4、5−ジフェニル−4−オキサゾリン−
2−オン基であって、これはアミ7基および1,2−ジ
フェニルヒニレンカーボネートを用いてツ<られる(
J、C,5heehanら、J、Org。
CThem、、 18巻、17号、3034−3040
頁(1973年)〕。
頁(1973年)〕。
アミノ基にの保護基がカルバメート形成保護基である場
合、そのような基の例は次の式:%式% 〔式中、R5は61〜C5アルキル、ハロ置換アルキル
、C−Cアルケニル、C3〜C6シクロアル5 キル、アダマンチル、ジフェニルメチル、ベンジルまた
はメトキシ、メチル、ハロゲンもしくはニトロにより置
換された置換ベンジルであるか、またはR5は式 %式% (式中、k6 とに7はそれぞれ水素またはC1〜Cア
ルキルであるか、−緒になって05〜C7シクロアルキ
ル基を形成する。)で表わされる第三アルキニル基であ
る。〕で示される。そのようなカルバメート形成保護基
の例は、メトキシカルボニル、エトキンカルボニル、イ
ソブチルオキシカルボニル、【−ブチルオキシカルボニ
ル、【−アミルオキシカルボニル、2,2.2−)リク
ロロエトキシ力ルボニル、アリルオキシ力ルポニル、シ
クロペンチルオキシカルボニル、シクロへキンルオキシ
力ルボニル、アダマンチルオキシカルボニル、ヘンシル
オキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル、P−ニトロベンジル、tt−ジカルボニル、ジフ
ェニルメトキシカルボニル、ジメチルエチニルカルビニ
ルオキシカルボニル、ジエチルエチニルカルビニルオキ
シカルボニル、メチルエチルエチニル力ルビニルオキシ
カルボニル、1−エチニルシクロペンナルオキシ力ルポ
ニルおよび1−エチニルシクロへキンルオキシ力ルポニ
ルである。
合、そのような基の例は次の式:%式% 〔式中、R5は61〜C5アルキル、ハロ置換アルキル
、C−Cアルケニル、C3〜C6シクロアル5 キル、アダマンチル、ジフェニルメチル、ベンジルまた
はメトキシ、メチル、ハロゲンもしくはニトロにより置
換された置換ベンジルであるか、またはR5は式 %式% (式中、k6 とに7はそれぞれ水素またはC1〜Cア
ルキルであるか、−緒になって05〜C7シクロアルキ
ル基を形成する。)で表わされる第三アルキニル基であ
る。〕で示される。そのようなカルバメート形成保護基
の例は、メトキシカルボニル、エトキンカルボニル、イ
ソブチルオキシカルボニル、【−ブチルオキシカルボニ
ル、【−アミルオキシカルボニル、2,2.2−)リク
ロロエトキシ力ルボニル、アリルオキシ力ルポニル、シ
クロペンチルオキシカルボニル、シクロへキンルオキシ
力ルボニル、アダマンチルオキシカルボニル、ヘンシル
オキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル、P−ニトロベンジル、tt−ジカルボニル、ジフ
ェニルメトキシカルボニル、ジメチルエチニルカルビニ
ルオキシカルボニル、ジエチルエチニルカルビニルオキ
シカルボニル、メチルエチルエチニル力ルビニルオキシ
カルボニル、1−エチニルシクロペンナルオキシ力ルポ
ニルおよび1−エチニルシクロへキンルオキシ力ルポニ
ルである。
この発明のための好ましいアミノ保護基はカルバメート
形成基である。特に好ましい基はに5かベンジルまたは
置換ベンジルである基である。
形成基である。特に好ましい基はに5かベンジルまたは
置換ベンジルである基である。
モノカルボン酸を用いて生成するアシル保護基はそれほ
ど好ましくない。というのは、そのような基は環化の過
程でβ−ラクタム環生成と拮抗してオキサゾリン副生成
物を与える傾向があるからである。そのような副生成物
は、k′がアンルー基の有機残基てあり、tか上に定義
されたものであるkがアシルアミノ基である場合式(4
)により表わされるN−アシルオキシ−3−(保護アミ
ノ)−2−アゼチジノンの例は、N−アセトキシ−3−
ホルムアミド−2−アゼチジノン、ヘ−ベンゾイルオキ
ジ−3−アセチルアミノ−2−アゼチジノン、N−アセ
トキシ−3−フェニルアセチルアミ/−4−メチル−2
−アゼチジノン、ヘ−アセトキン−3−フェニルアセチ
ルアミノ−4−メチル−2−アゼチジノン、ヘ−ピバロ
イルオキシ−3−フェノキンアセチルアミ7−2−アゼ
チジノン、ヘ−ペンゾイルオキシ−3−フェニルアセチ
ルアミン−4−エトキシカルボニル−2−アセデジノン
、N−(4−クロロヘンジイルオキシ)−3−(2−チ
ェニルアセナルアミン)−2−アセチジノン、【\−7
チリルオキシー3−アセチルアミノ−2−アセチジノン
、N−スルホオキシ−3−フェニルアセチルアミノ−4
−ノナルー2−アゼチジノン、ヘ−クロロアセトキシ−
3−フェノキシアセナルアミノ−2−アセチジノン、N
−メトキンアセトキシ−3−ベンゾイルアミ/−4−メ
チル−2−アゼナジノン、N−プロピオツキシー3−(
2,6−ジメトキンベンゾイルアミノ)−2−アセチジ
ノン、ヘーアセトキシー3(P−メチルベンゾイルアミ
ノ)−2−アゼナジノン、N−フェニルアセトキン−3
−フェノキシアセナルアミノ−4−エチル−2−アゼチ
ジノンおよびN−アセトキシ−3−C2−(2−アミノ
チアソール−4−イル)−2−メトキシイミノアセ1−
アミド〕−3−メナルー2−アゼチジノンである。
ど好ましくない。というのは、そのような基は環化の過
程でβ−ラクタム環生成と拮抗してオキサゾリン副生成
物を与える傾向があるからである。そのような副生成物
は、k′がアンルー基の有機残基てあり、tか上に定義
されたものであるkがアシルアミノ基である場合式(4
)により表わされるN−アシルオキシ−3−(保護アミ
ノ)−2−アゼチジノンの例は、N−アセトキシ−3−
ホルムアミド−2−アゼチジノン、ヘ−ベンゾイルオキ
ジ−3−アセチルアミノ−2−アゼチジノン、N−アセ
トキシ−3−フェニルアセチルアミ/−4−メチル−2
−アゼチジノン、ヘ−アセトキン−3−フェニルアセチ
ルアミノ−4−メチル−2−アゼチジノン、ヘ−ピバロ
イルオキシ−3−フェノキンアセチルアミ7−2−アゼ
チジノン、ヘ−ペンゾイルオキシ−3−フェニルアセチ
ルアミン−4−エトキシカルボニル−2−アセデジノン
、N−(4−クロロヘンジイルオキシ)−3−(2−チ
ェニルアセナルアミン)−2−アセチジノン、【\−7
チリルオキシー3−アセチルアミノ−2−アセチジノン
、N−スルホオキシ−3−フェニルアセチルアミノ−4
−ノナルー2−アゼチジノン、ヘ−クロロアセトキシ−
3−フェノキシアセナルアミノ−2−アセチジノン、N
−メトキンアセトキシ−3−ベンゾイルアミ/−4−メ
チル−2−アゼナジノン、N−プロピオツキシー3−(
2,6−ジメトキンベンゾイルアミノ)−2−アセチジ
ノン、ヘーアセトキシー3(P−メチルベンゾイルアミ
ノ)−2−アゼナジノン、N−フェニルアセトキン−3
−フェノキシアセナルアミノ−4−エチル−2−アゼチ
ジノンおよびN−アセトキシ−3−C2−(2−アミノ
チアソール−4−イル)−2−メトキシイミノアセ1−
アミド〕−3−メナルー2−アゼチジノンである。
艮が、ジカルボン酸を用いてつくられる保護されたアミ
ノである化合物の例は、ヘ−アセトキノ−3=フタルイ
ミド−3−エチル−2−アセナシノンおよびヘ−アセト
キシー3−スクシンイミド−2−アゼチジノンである。
ノである化合物の例は、ヘ−アセトキノ−3=フタルイ
ミド−3−エチル−2−アセナシノンおよびヘ−アセト
キシー3−スクシンイミド−2−アゼチジノンである。
kかOx基であるN−アシルオキシ−2−アゼチジノン
の例は、N−アセトキン−3−(4,5−ジフェニル−
4−オキサゾリン−2−オン−3−イル)−2−アセチ
ジノン、N−ヘンゾイルオ千シー3−(4,5−ジフェ
ニル−4−オキサゾリン−2−オン−3−イル)−3−
メチル−2−アセチジノンおよびN−アセトキシ−3−
(4,5−ジフェニル−4−オキサゾリン−2−オン−
3−イル)−3−カルボキシ−2−アゼチジノンである
。kかカルバメートアミノ保護基である場合、化合物(
4)の例はN−アセトキシ−3−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−2−アゼチジノン、N−ベンゾイルオキシ
−3−(ρ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ)
−4−(p−二トロペンジルオキシ力ルボニル)−2−
アゼチンノン、ヘ−スルホオキシ−3−(第三ブチルオ
キシカルボニルアミノ)−2−アセチジノン、N−アセ
トキシ−3−シクロへキシルオキシカルボニルアミノ−
2−アゼチジノン、N−アセトキシ−3−(ジメチルエ
チニル力ルビニルオキシ力ルポニルアミノ)−2−アゼ
チジノンおよびN−アセトキシ−3−アダマンチルオキ
シカルボニルアミノ−4−フェニル−2−アゼチジノン
である。
の例は、N−アセトキン−3−(4,5−ジフェニル−
4−オキサゾリン−2−オン−3−イル)−2−アセチ
ジノン、N−ヘンゾイルオ千シー3−(4,5−ジフェ
ニル−4−オキサゾリン−2−オン−3−イル)−3−
メチル−2−アセチジノンおよびN−アセトキシ−3−
(4,5−ジフェニル−4−オキサゾリン−2−オン−
3−イル)−3−カルボキシ−2−アゼチジノンである
。kかカルバメートアミノ保護基である場合、化合物(
4)の例はN−アセトキシ−3−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−2−アゼチジノン、N−ベンゾイルオキシ
−3−(ρ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ)
−4−(p−二トロペンジルオキシ力ルボニル)−2−
アゼチンノン、ヘ−スルホオキシ−3−(第三ブチルオ
キシカルボニルアミノ)−2−アセチジノン、N−アセ
トキシ−3−シクロへキシルオキシカルボニルアミノ−
2−アゼチジノン、N−アセトキシ−3−(ジメチルエ
チニル力ルビニルオキシ力ルポニルアミノ)−2−アゼ
チジノンおよびN−アセトキシ−3−アダマンチルオキ
シカルボニルアミノ−4−フェニル−2−アゼチジノン
である。
本発明の好ましい具体的内容において、N−ベンジルオ
キシカルボニル−L−セリンメチルエステルをヒドロキ
シルアミンと反応させヒドロキサム酸を生成し、そのヒ
ドロキサム酸を無水酢酸と反応させてO−アセナル−N
−ベンジルオキシカルボ: /L7− L−セリンヒド
ロキザメートとする。
キシカルボニル−L−セリンメチルエステルをヒドロキ
シルアミンと反応させヒドロキサム酸を生成し、そのヒ
ドロキサム酸を無水酢酸と反応させてO−アセナル−N
−ベンジルオキシカルボ: /L7− L−セリンヒド
ロキザメートとする。
その0−アセチル誘導体をトリフェニルホスフィン、四
塩化炭素およびトリエチルアミンと反応させヘ−アセト
キシー3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−アゼ
チジノンC式(4)、R=Cb z R=HZ=COC
H)を与える。2−アセI I + 3 チジノンのへ−アセトキシ基の、炭酸ナトリウムを用い
てのメチルアルコール水溶液中での加溶媒分解はN−ヒ
ドロキシ−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−
アセチジノン(式5.R=Cb z 、 R1=H)を
供給する。
塩化炭素およびトリエチルアミンと反応させヘ−アセト
キシー3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−アゼ
チジノンC式(4)、R=Cb z R=HZ=COC
H)を与える。2−アセI I + 3 チジノンのへ−アセトキシ基の、炭酸ナトリウムを用い
てのメチルアルコール水溶液中での加溶媒分解はN−ヒ
ドロキシ−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−
アセチジノン(式5.R=Cb z 、 R1=H)を
供給する。
もう一つの好ましい具体的内容において、N−Cbz
−L−スレオニンメチルエステルはヒドロキサム酸へと
変換され、そのヒドロキサム酸は無水酢酸によりアシル
化される。そしてその0−アセチルヒドロキサム酸エス
テルはTP P −CCI4−1’ E A により環
化されてN−アセトキン−3−Cbz−アミノ−4−メ
チル−2−アセチジノンを与える。N−アセトキン−β
−ラクタムのアセチル基の加溶媒分解によりN−ヒドロ
キシ−3−cbz−アミノ−4−メチル−2−アゼチジ
ノンを生成する。
−L−スレオニンメチルエステルはヒドロキサム酸へと
変換され、そのヒドロキサム酸は無水酢酸によりアシル
化される。そしてその0−アセチルヒドロキサム酸エス
テルはTP P −CCI4−1’ E A により環
化されてN−アセトキン−3−Cbz−アミノ−4−メ
チル−2−アセチジノンを与える。N−アセトキン−β
−ラクタムのアセチル基の加溶媒分解によりN−ヒドロ
キシ−3−cbz−アミノ−4−メチル−2−アゼチジ
ノンを生成する。
製造法において用いるのに好ましい0−アシルヒドロキ
サム酸エステルは式(3) C式中、Rはベンジルオキシカルボニルアミノ、置換ベ
ンジルオキシカルボニルアミノまたは4,5−ジフェニ
ル−4−オキサゾリン−2−オン−3−イルてあり、k
は水素、メチル、C1〜C4アルコキンカルボニルま
たは保護されたカルボキンであって、Zはアセチルまた
はベンゾイルである。
サム酸エステルは式(3) C式中、Rはベンジルオキシカルボニルアミノ、置換ベ
ンジルオキシカルボニルアミノまたは4,5−ジフェニ
ル−4−オキサゾリン−2−オン−3−イルてあり、k
は水素、メチル、C1〜C4アルコキンカルボニルま
たは保護されたカルボキンであって、Zはアセチルまた
はベンゾイルである。
〕により表わされる。
上に指示した立体配置を有する好ましい0−アシルヒド
ロキサム酸エステルは、アミノ酸類のし一セリン、L−
スレオニンとβ−ヒドロキシアスパラギン酸を用い、前
に記述した手法と必要なら封鎖基を用いて製造される。
ロキサム酸エステルは、アミノ酸類のし一セリン、L−
スレオニンとβ−ヒドロキシアスパラギン酸を用い、前
に記述した手法と必要なら封鎖基を用いて製造される。
本発明の製造法により供給される1%1−ヒドロキソ−
2−アゼチジノン(5)は既知の抗生物質化合物への有
用な中間物である。例えば、kかアシルアミノ基である
N−ヒドロキシ化合物(5)はピリジノ、S03 と反
応して、アメリカ合尿国特許番号4,337,197に
開示され、一般式り式中、koは、本明細書に記述され
ている側鎖のアンル部を形成するために用いられるカル
ボン酸の残基である。Jて表わされるJ\−ヒドロキシ
−0−硫酸化−2−アセチジノンを5える。
2−アゼチジノン(5)は既知の抗生物質化合物への有
用な中間物である。例えば、kかアシルアミノ基である
N−ヒドロキシ化合物(5)はピリジノ、S03 と反
応して、アメリカ合尿国特許番号4,337,197に
開示され、一般式り式中、koは、本明細書に記述され
ている側鎖のアンル部を形成するために用いられるカル
ボン酸の残基である。Jて表わされるJ\−ヒドロキシ
−0−硫酸化−2−アセチジノンを5える。
上に述へたN−ヒドロキシ−0−硫酸化−2アゼチジノ
ノは、lかスルホ基である中間物(:))の環化によっ
てもまた直接得られる。例えは、Ox保gスレオニンメ
チルエステルはヒドロキサム酸へと変換され、後者はピ
リノン−5O3錯体と反応して式: て表わされるOx保護0−スルホヒドロキサム酸エステ
ルを生成する。そのヒドロキサム酸エステル(まl’P
Pおよびアゾジカルボン酸ジイソプロピルにより環化し
て次の式で表わされるβ−ラクタムを与える。
ノは、lかスルホ基である中間物(:))の環化によっ
てもまた直接得られる。例えは、Ox保gスレオニンメ
チルエステルはヒドロキサム酸へと変換され、後者はピ
リノン−5O3錯体と反応して式: て表わされるOx保護0−スルホヒドロキサム酸エステ
ルを生成する。そのヒドロキサム酸エステル(まl’P
Pおよびアゾジカルボン酸ジイソプロピルにより環化し
て次の式で表わされるβ−ラクタムを与える。
5%Pd1C上での接触還元lこよるOx保護基の除去
および再アシル化により望ましい3−アシルアミノ−へ
−ヒドロキシ−〇−スルホー2−アゼチジノンが生成す
る。別法として、N−ヒドロキシ−2−アセチジノン(
5)は、P、G、 Ma t t ingl yとM、
J、 Miller、 J−Org、 Chem、 、
45巻、410頁(1980年)の方法により、三塩
化チタンで還元されへ一非置換アゼチジノンとし得る。
および再アシル化により望ましい3−アシルアミノ−へ
−ヒドロキシ−〇−スルホー2−アゼチジノンが生成す
る。別法として、N−ヒドロキシ−2−アセチジノン(
5)は、P、G、 Ma t t ingl yとM、
J、 Miller、 J−Org、 Chem、 、
45巻、410頁(1980年)の方法により、三塩
化チタンで還元されへ一非置換アゼチジノンとし得る。
得られたN−非@換アゼチジノンは、P、G、 Ma
ttingl yとM、J、Mi l1er 、 J、
Org、 Chem、、 45巻+、 1557頁(1
981年)に記述されているように、/カルシシン抗生
物質へと変換することかでき、また代りに、1981年
9月23日に発行されたイキリス特許出願第2,071
,65 OAに記述されていて表わされるモノバクタム
様抗生物質へと置換てきる。
ttingl yとM、J、Mi l1er 、 J、
Org、 Chem、、 45巻+、 1557頁(1
981年)に記述されているように、/カルシシン抗生
物質へと変換することかでき、また代りに、1981年
9月23日に発行されたイキリス特許出願第2,071
,65 OAに記述されていて表わされるモノバクタム
様抗生物質へと置換てきる。
本発明の好ましい製造過程はカルバメート保護アミ7基
またはOx保保護アミノ基音用いており、Zはアセチル
またはベンソイルである。その過程が完了した後で、β
−ラクタム(4)は本発明の過程により加溶媒分解に付
され、保護基か除去されて、β−ラクタム核か両性イオ
ン型である式:により表わされるヘーヒドロキシーβ−
ラクタム骨核化合物を与える。また代りの方法として、
アミ/保護カルバメート基、例えはCbz基は、0−ア
シル基の加溶媒分解に先立って、5%パラジウム−炭素
上での水素化により除去されN−アラルオキシー3−ア
ミノ−2−アセチンノンを与える。nij述の3−アミ
ノ−β−ラクタム化合物は、望ましいカルボン酸の活性
化誘導体を用いてアシル化され抗生物質化合物またはそ
の中間物を生成する。同様にして、3−保護アミノ−0
−スルホN−ヒトロキンアセチジノベZ−503−M+
)の保護基も除去され、3−アミノ骨核化合物を望まし
いカルボン酸でアシル化することができる。
またはOx保保護アミノ基音用いており、Zはアセチル
またはベンソイルである。その過程が完了した後で、β
−ラクタム(4)は本発明の過程により加溶媒分解に付
され、保護基か除去されて、β−ラクタム核か両性イオ
ン型である式:により表わされるヘーヒドロキシーβ−
ラクタム骨核化合物を与える。また代りの方法として、
アミ/保護カルバメート基、例えはCbz基は、0−ア
シル基の加溶媒分解に先立って、5%パラジウム−炭素
上での水素化により除去されN−アラルオキシー3−ア
ミノ−2−アセチンノンを与える。nij述の3−アミ
ノ−β−ラクタム化合物は、望ましいカルボン酸の活性
化誘導体を用いてアシル化され抗生物質化合物またはそ
の中間物を生成する。同様にして、3−保護アミノ−0
−スルホN−ヒトロキンアセチジノベZ−503−M+
)の保護基も除去され、3−アミノ骨核化合物を望まし
いカルボン酸でアシル化することができる。
上に述べたように、kか保護されたアミン基である本発
明の製造過程において、その保護基は環化段階後のいか
なる段階でも除去することができ、アミノ基は望ましい
カルボン酸てアノル化することかてきる。β−ラクタム
のアミン基をアシル化する非常に有用で便利な方法は、
3−ペンジルオ牛ン力ルポニルアミノーまたは3−置換
ベンジルオキシカルボニルアミノ−N−アシルオキシ−
2−アセチンノンを、望ましい側鎖を形成する酸の無水
物の存在ドて接解還元することから成る。例えば、N−
アセトキン−3−(Cb z−アミン)−2−アセチン
ノンを、フェニル酢酸無水物を含む不活性溶媒中て担体
についたパラジウム触媒の存在下、水素で還元すると、
一段階でIN−アセトキン−3−フェニルアセチルアミ
ノ−2−アセチンノンを与える。この方法は、生成物の
望ましいアノルアミノ部かそれ自体、上に述べた水素化
分解の条件下で還元される基を含まない3−アミ/−β
−ラクタム化合物のアノル化に応用可能である。酸は無
水物として使い得るか、その酸の例は、酢酸、安息香酸
、2,6−シメトキン安息香酸、フェノキン酢酸または
チオフェン−2−酢酸である。
明の製造過程において、その保護基は環化段階後のいか
なる段階でも除去することができ、アミノ基は望ましい
カルボン酸てアノル化することかてきる。β−ラクタム
のアミン基をアシル化する非常に有用で便利な方法は、
3−ペンジルオ牛ン力ルポニルアミノーまたは3−置換
ベンジルオキシカルボニルアミノ−N−アシルオキシ−
2−アセチンノンを、望ましい側鎖を形成する酸の無水
物の存在ドて接解還元することから成る。例えば、N−
アセトキン−3−(Cb z−アミン)−2−アセチン
ノンを、フェニル酢酸無水物を含む不活性溶媒中て担体
についたパラジウム触媒の存在下、水素で還元すると、
一段階でIN−アセトキン−3−フェニルアセチルアミ
ノ−2−アセチンノンを与える。この方法は、生成物の
望ましいアノルアミノ部かそれ自体、上に述べた水素化
分解の条件下で還元される基を含まない3−アミ/−β
−ラクタム化合物のアノル化に応用可能である。酸は無
水物として使い得るか、その酸の例は、酢酸、安息香酸
、2,6−シメトキン安息香酸、フェノキン酢酸または
チオフェン−2−酢酸である。
本発明で提供する製造法は、非環状のO−アシルヒドロ
ギサム酸エステルの生成と環化に特徴がある。本発明に
先立って、ヒドロキサム酸エステルを経由するノカルジ
シン〔1市【口nglγ トMillerJ−Org、
Chem、 、 46巻、1557頁(1981年)
〕およびモノハククムCI’1oydら、 J、Org
、 CI+cm、。
ギサム酸エステルの生成と環化に特徴がある。本発明に
先立って、ヒドロキサム酸エステルを経由するノカルジ
シン〔1市【口nglγ トMillerJ−Org、
Chem、 、 46巻、1557頁(1981年)
〕およびモノハククムCI’1oydら、 J、Org
、 CI+cm、。
47巻、176頁(1982年)とCimarusti
ら。
ら。
J、Org、 Chem、 47巻、179頁(198
2年)〕合成への研究法は、0−ベンジル−ヒドロキシ
ルアミンのような0−置換ヒドロキシルアミンの製造と
その使用を必要としていた。〇−置置換ヒドロフノルア
ミンβ−ヒドロキシ酸との縮合はカルボジイミドの使用
を必要とし、その〇−−換ヒドロキサム酸エステルの環
化は、水性媒体中、調整されたP1]で最も効率的であ
るから、高価な水溶性のカルボジイミドの使用か必要で
あった。その」二、多段階のクロマトグラフィーが用い
られた。
2年)〕合成への研究法は、0−ベンジル−ヒドロキシ
ルアミンのような0−置換ヒドロキシルアミンの製造と
その使用を必要としていた。〇−置置換ヒドロフノルア
ミンβ−ヒドロキシ酸との縮合はカルボジイミドの使用
を必要とし、その〇−−換ヒドロキサム酸エステルの環
化は、水性媒体中、調整されたP1]で最も効率的であ
るから、高価な水溶性のカルボジイミドの使用か必要で
あった。その」二、多段階のクロマトグラフィーが用い
られた。
本製造法は、簡便で直接的なヒドロキサム酸の生成、そ
の容易なアシル化および穏やかな条件下での0−アシル
誘導体のβ−ラクタムへの環化を特徴とする。さらに、
N−アシルオキシーアゼチジノン(4)は、本発明の製
法による容易な加水分解によって直ちに有用な1N−ヒ
ドロキシ−2アゼチジノン(5)へと置換される。
の容易なアシル化および穏やかな条件下での0−アシル
誘導体のβ−ラクタムへの環化を特徴とする。さらに、
N−アシルオキシーアゼチジノン(4)は、本発明の製
法による容易な加水分解によって直ちに有用な1N−ヒ
ドロキシ−2アゼチジノン(5)へと置換される。
本発明のざらに特徴的なことは、前述の製造法によりつ
くられ、式(6): 〔式中、k′はアミノ、保護されたアミノ、水素、C−
Cアルキル、C1+04アルコキシカルホニ4 ル、保護されたカルボキン、カルボキシまたはヒドロキ
シ、ハロゲン、メトキン、アミン、保護されたアミノ、
カルホ干)、イ呆護されtこカルボキシもしくはファン
により置換された01〜C4アルキルであり、R+、は
水素、01〜(4アルキル、01〜C4アルコキンカル
ボニル、保護されたカルボキシ、カルボキノ、フエニノ
ペC3〜C4アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、01〜
C4アルコキン、アミノ、保護されたアミノ、カルボキ
シ、1呆穫されたカルボキシもしくはシアノにより置換
されたフェニルであるか、またはl(+、はヒドロキシ
、〕10ゲン、メトキシ、アミノ、保護されたアミノ、
カルボキン、保護されたカルボキノもしくは777によ
り置換された01〜C4アルキルであって、k3は01
〜C1oアルキル、C2−010”ルケニル、C2〜C
1oアルキニル、フェニル、置換フェニル(置換xハc
、〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、ハロゲンま
たはニトロ)または置換01〜C1oアルキル(置換基
はハロゲン、カルボキシ、C3〜C4アルコキシカルボ
ニル、C1〜C4アルキルスルホニル、ニトロ、01〜
C4アルフキシ、アミノ、フェニルまたは上に定義され
たような置換フェニル)である。〕により表わされる化
合物を提供することである。
くられ、式(6): 〔式中、k′はアミノ、保護されたアミノ、水素、C−
Cアルキル、C1+04アルコキシカルホニ4 ル、保護されたカルボキン、カルボキシまたはヒドロキ
シ、ハロゲン、メトキン、アミン、保護されたアミノ、
カルホ干)、イ呆護されtこカルボキシもしくはファン
により置換された01〜C4アルキルであり、R+、は
水素、01〜(4アルキル、01〜C4アルコキンカル
ボニル、保護されたカルボキシ、カルボキノ、フエニノ
ペC3〜C4アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、01〜
C4アルコキン、アミノ、保護されたアミノ、カルボキ
シ、1呆穫されたカルボキシもしくはシアノにより置換
されたフェニルであるか、またはl(+、はヒドロキシ
、〕10ゲン、メトキシ、アミノ、保護されたアミノ、
カルボキン、保護されたカルボキノもしくは777によ
り置換された01〜C4アルキルであって、k3は01
〜C1oアルキル、C2−010”ルケニル、C2〜C
1oアルキニル、フェニル、置換フェニル(置換xハc
、〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、ハロゲンま
たはニトロ)または置換01〜C1oアルキル(置換基
はハロゲン、カルボキシ、C3〜C4アルコキシカルボ
ニル、C1〜C4アルキルスルホニル、ニトロ、01〜
C4アルフキシ、アミノ、フェニルまたは上に定義され
たような置換フェニル)である。〕により表わされる化
合物を提供することである。
式(6)の定義において用いられる用語は式(4月こ対
して以前に定義したものと同し意味をもっている。従っ
て、「保護されたアミノ」は、アシル部分がカルボン酸
から誘導されるアシルアミノ基およびジアシルアミノ基
を指す。「保護されたアミノ」は、アミン基の一時的な
保護または封鎖のために慣用的に使用される保護基によ
り置換されたアミ7基をも包含する。
して以前に定義したものと同し意味をもっている。従っ
て、「保護されたアミノ」は、アシル部分がカルボン酸
から誘導されるアシルアミノ基およびジアシルアミノ基
を指す。「保護されたアミノ」は、アミン基の一時的な
保護または封鎖のために慣用的に使用される保護基によ
り置換されたアミ7基をも包含する。
好ましい保護されたアミノ基には、K5が以前に定義さ
れたものと同じ意味をもつ式:%式% により表わされる。さらに好ましい保護されたアリ により表わされるジフェニルオキサジノノ基(OX)で
ある。
れたものと同じ意味をもつ式:%式% により表わされる。さらに好ましい保護されたアリ により表わされるジフェニルオキサジノノ基(OX)で
ある。
kかアシルアミノである場合、好ましい保護されたアミ
ノ基Rは、次のようなアシル基類〔式中、a L a’
は独立に水素、ハロゲン、ヒドロキシ、C,−、C4ア
ルキル、01〜C4アルコキシまたはシアンであり、k
8はフェニル、チェニル、フリル、チアゾリル、オキサ
シリル、1.3.4−チアジアゾリル、1.3.4−オ
キサジアゾリル、l、2゜4−チアジアゾリル、1,2
.4−オキサジアゾリルおよびアミノ、ヒドロキシ、ハ
ロゲンもシ<ハメチルにより置換されたそれらのへテロ
環類であり、見は水素、アミノ、ヒドロキシ、カルボキ
シまたはメチルであって、R9は01〜C4アルキル、
カルボキシメチル、1−もしくは2−カルボキシエチル
または2−カルボキシブロブ−2−イルである。〕で置
換されたアミ7基を包含する。
ノ基Rは、次のようなアシル基類〔式中、a L a’
は独立に水素、ハロゲン、ヒドロキシ、C,−、C4ア
ルキル、01〜C4アルコキシまたはシアンであり、k
8はフェニル、チェニル、フリル、チアゾリル、オキサ
シリル、1.3.4−チアジアゾリル、1.3.4−オ
キサジアゾリル、l、2゜4−チアジアゾリル、1,2
.4−オキサジアゾリルおよびアミノ、ヒドロキシ、ハ
ロゲンもシ<ハメチルにより置換されたそれらのへテロ
環類であり、見は水素、アミノ、ヒドロキシ、カルボキ
シまたはメチルであって、R9は01〜C4アルキル、
カルボキシメチル、1−もしくは2−カルボキシエチル
または2−カルボキシブロブ−2−イルである。〕で置
換されたアミ7基を包含する。
kかジアシルアミ/基である場合、保護されたアミ/基
にの例はフタルイミドおよびコハク酸イミドを含む。
にの例はフタルイミドおよびコハク酸イミドを含む。
kかペンジルオ千ジカルボニルアミノ、P〜ニトロベン
ンルオキシ力ルポニルアミノ、【−ブチルオキシカルボ
ニルアミノまたは4,5−ジフェニル−4−オキサゾリ
ン−2−オン−3−イル基であり、k3かメチル、フェ
ニルまたは置換フェニルであって、k か水素、C1〜
C4アルキル、カルボキン、保護されたカルボキシまた
はC1−C4アルコキシカルボニルである場合、好まし
い化合物は式(6)によって表わされる。
ンルオキシ力ルポニルアミノ、【−ブチルオキシカルボ
ニルアミノまたは4,5−ジフェニル−4−オキサゾリ
ン−2−オン−3−イル基であり、k3かメチル、フェ
ニルまたは置換フェニルであって、k か水素、C1〜
C4アルキル、カルボキン、保護されたカルボキシまた
はC1−C4アルコキシカルボニルである場合、好まし
い化合物は式(6)によって表わされる。
遊離のアミ7基が存在する式(6)で表わされる化合物
は、有機および無機酸と付加塩を形成する。そしてその
ような塩は本発明中に包含される。
は、有機および無機酸と付加塩を形成する。そしてその
ような塩は本発明中に包含される。
そのような塩を生成するのに適当な酸は、塩酸、臭化水
素酸、硫酸、リン酸のような鉱酸、酢酸、プロピオン酸
、クロロ酢酸、安息香酸、トルイル酸、クエン酸、酒石
酸のようなカルボン酸、およびメタンスルホン酸、ベン
ゼンスルホン酸、トルエンスルポン酸、ナフタレンスル
ホン酸のようなH機スルホン酸を含む。
素酸、硫酸、リン酸のような鉱酸、酢酸、プロピオン酸
、クロロ酢酸、安息香酸、トルイル酸、クエン酸、酒石
酸のようなカルボン酸、およびメタンスルホン酸、ベン
ゼンスルホン酸、トルエンスルポン酸、ナフタレンスル
ホン酸のようなH機スルホン酸を含む。
同様に、式(6>中に遊離のカルボキン基か存在する場
合、その化合物はアルカリ金属、アンモニウムまたはア
ミン塩のような塩の形であってもよい。
合、その化合物はアルカリ金属、アンモニウムまたはア
ミン塩のような塩の形であってもよい。
式(6)により表わされる好ましい化合物の例はN−ア
セトキシ−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−
アゼチジノン、N−アセトキシ−3−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−4−メチル−2−アゼチジノン、N−
アセトキシ−3−(4,5−ジフェニル−4−オキサゾ
リン−2−オン−3−イル)−2−アゼチジノン、ヘ−
アセトキシー3−アミノ−2−アゼチジノン、N−アセ
トキシ−3−アミノ−4−メチル−2−アゼチジノン、
ヘーベンゾイルオキシー3−アミノ−2−アゼチジノン
、N−アセトキシ−3−フェニルアセチルアミン−2−
アゼチジノン、N−アセトキシ−3−フェノキシアセチ
ルアミノ−2−アゼチジノン、N−アセトキシ−3−(
2,6−ジメトキンベンゾイルアミノ)−2−アゼチジ
ノン、N−アセトキシ−3−’(2−チェニルアセチル
アミン)−2−アゼチジノン、N−アセトキシ−3−〔
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−シン−2−
メトキシイミノアセチルアミノ〕−2−アゼチジノンお
よびN−ベンゾイルオキシ−3−〔2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)−シン−2−メトキシイミノアセ
チルアミノ〕−4−メチル−2−アゼチジノンである。
セトキシ−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−
アゼチジノン、N−アセトキシ−3−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−4−メチル−2−アゼチジノン、N−
アセトキシ−3−(4,5−ジフェニル−4−オキサゾ
リン−2−オン−3−イル)−2−アゼチジノン、ヘ−
アセトキシー3−アミノ−2−アゼチジノン、N−アセ
トキシ−3−アミノ−4−メチル−2−アゼチジノン、
ヘーベンゾイルオキシー3−アミノ−2−アゼチジノン
、N−アセトキシ−3−フェニルアセチルアミン−2−
アゼチジノン、N−アセトキシ−3−フェノキシアセチ
ルアミノ−2−アゼチジノン、N−アセトキシ−3−(
2,6−ジメトキンベンゾイルアミノ)−2−アゼチジ
ノン、N−アセトキシ−3−’(2−チェニルアセチル
アミン)−2−アゼチジノン、N−アセトキシ−3−〔
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−シン−2−
メトキシイミノアセチルアミノ〕−2−アゼチジノンお
よびN−ベンゾイルオキシ−3−〔2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)−シン−2−メトキシイミノアセ
チルアミノ〕−4−メチル−2−アゼチジノンである。
本発明をさらに例証するために次のようす範囲を限定す
るものではない実施例を提供する。実施例中、すヘテノ
融点はThoma s −Hoove r融点装置で測
定され、補正はしていない。赤外線スペクトル(Ik)
はPerkin−Elmer 7271)分光器で記録
した。H核磁気共鳴(NMR)スペクトルには、ppm
(δ)で報告され、d−クロロホルム中てテトラメナル
シランを標準とし、Va r i an Is M−3
90、XL−100またはNi colet N B
3QQ分光器を用いて記録した。質量(Mass)スペ
クトルはA E I 5cientific Appa
ratus 9 Q 2 またはDupont D P
102分光器により記録した。
るものではない実施例を提供する。実施例中、すヘテノ
融点はThoma s −Hoove r融点装置で測
定され、補正はしていない。赤外線スペクトル(Ik)
はPerkin−Elmer 7271)分光器で記録
した。H核磁気共鳴(NMR)スペクトルには、ppm
(δ)で報告され、d−クロロホルム中てテトラメナル
シランを標準とし、Va r i an Is M−3
90、XL−100またはNi colet N B
3QQ分光器を用いて記録した。質量(Mass)スペ
クトルはA E I 5cientific Appa
ratus 9 Q 2 またはDupont D P
102分光器により記録した。
実施例−1
0−アセチル−α−N−Cbz−L−セリンヒドロキサ
メート α−N−Cbz−L−セリンメチルエステル127g(
約5 nunole )をメチルアルコールl Qml
に溶かし、水浴で冷却した。別々のフラスコに、ヒドロ
キシルアミン・塩酸塩400NIC5,76mmole
)と水酸化カリウム017gを各々メチルアルコール
10dに温めて溶かした。両方の溶液を室温に戻し、水
酸化カリウム溶液をヒドロキシルアミン・塩酸塩の溶液
に加えた。混合すると直ちに塩化カリウムの沈澱を生ず
る。その懸濁液を、冷却したセリンメチルエステルの溶
液に攪拌しなから加えた。5分後に反応混合物の一滴を
取り出し、1%塩化第二鉄水溶液に加えた。直ちに暗赤
色と呈し、ヒドロキサム酸エステルが生成していること
を示した。20分後、薄層クロマトグラフィー(シリカ
ゲル上、酢酸エチル月こよると、少量の出発原料か残存
していた。反応を通算で45分間行った後、無水酢酸1
mlを加えた。10分後、反応混合物は塩化第二鉄に
対しまた陽性であったので、無水酢酸01−を追加した
。塩化第二鉄試躾はその直後に陰性となった。反応混合
物を直ちに、5%炭酸ナトリウム20III/および酢
酸エチル59m1を含む分液ロートに注ぎ、水層を取っ
た。
メート α−N−Cbz−L−セリンメチルエステル127g(
約5 nunole )をメチルアルコールl Qml
に溶かし、水浴で冷却した。別々のフラスコに、ヒドロ
キシルアミン・塩酸塩400NIC5,76mmole
)と水酸化カリウム017gを各々メチルアルコール
10dに温めて溶かした。両方の溶液を室温に戻し、水
酸化カリウム溶液をヒドロキシルアミン・塩酸塩の溶液
に加えた。混合すると直ちに塩化カリウムの沈澱を生ず
る。その懸濁液を、冷却したセリンメチルエステルの溶
液に攪拌しなから加えた。5分後に反応混合物の一滴を
取り出し、1%塩化第二鉄水溶液に加えた。直ちに暗赤
色と呈し、ヒドロキサム酸エステルが生成していること
を示した。20分後、薄層クロマトグラフィー(シリカ
ゲル上、酢酸エチル月こよると、少量の出発原料か残存
していた。反応を通算で45分間行った後、無水酢酸1
mlを加えた。10分後、反応混合物は塩化第二鉄に
対しまた陽性であったので、無水酢酸01−を追加した
。塩化第二鉄試躾はその直後に陰性となった。反応混合
物を直ちに、5%炭酸ナトリウム20III/および酢
酸エチル59m1を含む分液ロートに注ぎ、水層を取っ
た。
有機層を5%炭酸ナトリウム15ffi/で2回抽出し
た。水層部をまとめ、塩化メチレン25IIIlを含む
分液ロートに入れ、かき混ぜながら6N塩酸を滴下して
加え約pH4〜5へと酸性化した。二層を分離し、水層
を塩化メチレン各々25m1で3回抽出した。塩化メチ
レン層をまとめ、食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾
燥し、r過後、溶媒除去してO−アセチ/l/−a −
1’J−Cbz−L−セリンヒドロキサメート915■
(63%)を白色固体として得た。酢酸エチル−ヘキサ
ンから再結晶して融点約120〜1216C(110〜
119℃で半融するように見えた)の分析用試料を得た
。
た。水層部をまとめ、塩化メチレン25IIIlを含む
分液ロートに入れ、かき混ぜながら6N塩酸を滴下して
加え約pH4〜5へと酸性化した。二層を分離し、水層
を塩化メチレン各々25m1で3回抽出した。塩化メチ
レン層をまとめ、食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾
燥し、r過後、溶媒除去してO−アセチ/l/−a −
1’J−Cbz−L−セリンヒドロキサメート915■
(63%)を白色固体として得た。酢酸エチル−ヘキサ
ンから再結晶して融点約120〜1216C(110〜
119℃で半融するように見えた)の分析用試料を得た
。
IR(KBr): 170(1# +(幅広い)’HN
MR(9QMHz) + 2.15 (S 、3H)。
MR(9QMHz) + 2.15 (S 、3H)。
3、5〜4. l (rn 、 3 H、OH+ CI
I2 ) 、 4 :35 (”、IH)、5.1(S
、2H)、6.1(brd。
I2 ) 、 4 :35 (”、IH)、5.1(S
、2H)、6.1(brd。
NH)、7.33(s 、5H)
元素分析(%I CI 3”1606N2 として):
計算値:C,52,70,H,5,44;へ、9.45
.測定値:C,52,56,H,5,71,へ、9.5
1実施例−2 N−アセトキシ−3−(Cbz−アミン)−2=アゼチ
ンノン 実施例−1に記述したようにして得たセリンO−アセチ
ルヒドロキサメートl、 l 34 Q (4nono
le)を、四塩化炭素1 mlを含む乾燥アセトニトリ
ル30meiこ溶かし、この溶液にトリフェニルホスフ
ィン(’1’ P l’ 、 4.2 mmole )
おヨびトリエチルアミン(4,4m+nole )を同
時に加えた。反応混合物を乾燥管を用いなから室温で攪
拌し、薄層クロマトクラフィー(シリカゲル上で酢酸エ
チル、生成物のR(値は約0.6)により追跡した。8
時間後、1” l’ P (R(値約07)かほとんど
消費されたので、反応混合物をa絹して2〜3mlの容
附とした。
計算値:C,52,70,H,5,44;へ、9.45
.測定値:C,52,56,H,5,71,へ、9.5
1実施例−2 N−アセトキシ−3−(Cbz−アミン)−2=アゼチ
ンノン 実施例−1に記述したようにして得たセリンO−アセチ
ルヒドロキサメートl、 l 34 Q (4nono
le)を、四塩化炭素1 mlを含む乾燥アセトニトリ
ル30meiこ溶かし、この溶液にトリフェニルホスフ
ィン(’1’ P l’ 、 4.2 mmole )
おヨびトリエチルアミン(4,4m+nole )を同
時に加えた。反応混合物を乾燥管を用いなから室温で攪
拌し、薄層クロマトクラフィー(シリカゲル上で酢酸エ
チル、生成物のR(値は約0.6)により追跡した。8
時間後、1” l’ P (R(値約07)かほとんど
消費されたので、反応混合物をa絹して2〜3mlの容
附とした。
濃縮物をシリカゲル(40〜63μ)の少ないMi c
hae l −Mi l l e r カラムrコかけ
、酢酸エチル−ヘキサンを用い30m1/minの速度
で溶出した。
hae l −Mi l l e r カラムrコかけ
、酢酸エチル−ヘキサンを用い30m1/minの速度
で溶出した。
目的物を含む数個のUVi性画分を得た。その両分をま
とめ、蒸発乾固してヘ−アセトキン−3−(Cbz−ア
ミノ)−2−アゼチジ/ン734ダ(66%)を白色固
体として得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して融
点約130〜約131℃の分析用試料を得た。
とめ、蒸発乾固してヘ−アセトキン−3−(Cbz−ア
ミノ)−2−アゼチジ/ン734ダ(66%)を白色固
体として得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して融
点約130〜約131℃の分析用試料を得た。
JR(KBr):3350(幅広い)、1820゜17
1Qon ’ ’HNMR(9QMHz ) : 2.13 (s 、
’3+−1)。
1Qon ’ ’HNMR(9QMHz ) : 2.13 (s 、
’3+−1)。
3.53(dd 、IH)、3.95(dd 、−見【
。
。
LH)、48(m、IH)、5.1(S 、2tl)。
5.7(d、N1−1)および7.33(S、51()
元素分析(%、 C,31−1,4N20.とじて):
計算値:C,56,11;H,5,07;N、10.0
6゜測定値:C,55,86;H,5,21、へ、10
.04実施例−3 N−ヒドロキシ−3−(CI) Z −アミノ)−2ア
ゼチジノン 実施例−2に記述されたようにして得た1\ アセトキ
シアゼチジノン13 g mg (0,5mmole
)をメチルアルコール−水(容積化2:1)8m/に)
′[υ濁し冷却(0℃)して、激しく攪拌しながらこれ
に固体の炭酸ナトリウム1351117/ (1,25
mmole)を加えた。15分後、反応混合物の一部を
取り、薄層クロマトグラフィー(シリカゲル上、酢酸エ
チル)により分析した。クロマトグラム上には二つの点
があり、出発原料(J値0.6)および生成物(Rr値
02〜0.3)であった。30〜45分後にはTLCク
ロマトグラム上に出発原料はもはや検出されなかったの
で、1.ON塩酸を用いて反応混合物のpHを5に調整
した。その混合物を新しい酢酸エチルに各々25mgで
4回抽出した。
元素分析(%、 C,31−1,4N20.とじて):
計算値:C,56,11;H,5,07;N、10.0
6゜測定値:C,55,86;H,5,21、へ、10
.04実施例−3 N−ヒドロキシ−3−(CI) Z −アミノ)−2ア
ゼチジノン 実施例−2に記述されたようにして得た1\ アセトキ
シアゼチジノン13 g mg (0,5mmole
)をメチルアルコール−水(容積化2:1)8m/に)
′[υ濁し冷却(0℃)して、激しく攪拌しながらこれ
に固体の炭酸ナトリウム1351117/ (1,25
mmole)を加えた。15分後、反応混合物の一部を
取り、薄層クロマトグラフィー(シリカゲル上、酢酸エ
チル)により分析した。クロマトグラム上には二つの点
があり、出発原料(J値0.6)および生成物(Rr値
02〜0.3)であった。30〜45分後にはTLCク
ロマトグラム上に出発原料はもはや検出されなかったの
で、1.ON塩酸を用いて反応混合物のpHを5に調整
した。その混合物を新しい酢酸エチルに各々25mgで
4回抽出した。
抽出液をまとめ、食塩水で洗浄、硫酸マグネシウム上で
乾燥した後、濾過および蒸発乾固してN−ヒドロキシ−
3−(Cbz−アミノ)−2−アゼチジノン101m9
c 85.6%)を融点149〜150 ”C(分解)
の白色固体として得た。
乾燥した後、濾過および蒸発乾固してN−ヒドロキシ−
3−(Cbz−アミノ)−2−アゼチジノン101m9
c 85.6%)を融点149〜150 ”C(分解)
の白色固体として得た。
ll(xBr):3250(幅広い)、+780゜17
40および1700c1n ’ ’HNMR(9QMI4z 、 7、セトンーD6中)
:3.3(dd 、IH)、3.64(−見り、II(
)。
40および1700c1n ’ ’HNMR(9QMI4z 、 7、セトンーD6中)
:3.3(dd 、IH)、3.64(−見り、II(
)。
4.50(m、IH)、4.97(S 、2H)、6.
97 (m 、 l f4 )および7.33(S、5
H)’ HN M R(90M Hz 、 D MS
OD 6中) : 3゜35(dd 、IH)、3.7
(−見t、IH)、45 (m 、IH)、’5.1(
S 、2H)、7.4(S 。
97 (m 、 l f4 )および7.33(S、5
H)’ HN M R(90M Hz 、 D MS
OD 6中) : 3゜35(dd 、IH)、3.7
(−見t、IH)、45 (m 、IH)、’5.1(
S 、2H)、7.4(S 。
5H)、8.05(br、d、NH)およIJ”10.
3(br、OH) 元素分析(%I CIIH12N204として):計算
値”+55.92;’+5.12;”+1185、測定
値:C、55,89;H、5,34;l’l 、 11
.67 実施例−4 α−N−フェニルアセチル−1−−セリンヒドロキサム
酸 ヒドロキシルアミン・塩酸塩2.03 i/ (29,
2mmole )をメチルアルコールlQm(!に溶か
し、これに水酸化カリウム3.3gをメチルアルコール
15m1に溶かして加えると直ちに懸濁液を生成(KC
1沈澱)した。その懸濁液を水浴で冷却した後、N−フ
ェニルアセチル−α−セリンメチルエステル4.529
(19,5mmole )をメチル7 /L/ :l
−/L。
3(br、OH) 元素分析(%I CIIH12N204として):計算
値”+55.92;’+5.12;”+1185、測定
値:C、55,89;H、5,34;l’l 、 11
.67 実施例−4 α−N−フェニルアセチル−1−−セリンヒドロキサム
酸 ヒドロキシルアミン・塩酸塩2.03 i/ (29,
2mmole )をメチルアルコールlQm(!に溶か
し、これに水酸化カリウム3.3gをメチルアルコール
15m1に溶かして加えると直ちに懸濁液を生成(KC
1沈澱)した。その懸濁液を水浴で冷却した後、N−フ
ェニルアセチル−α−セリンメチルエステル4.529
(19,5mmole )をメチル7 /L/ :l
−/L。
3Qmlに溶かした冷溶液に攪拌しながら加えた。
1時間半後、反応混合物を濾過し、蒸発して濃縮し容量
・を25mgとした。その濃縮物を水10m1で稀釈し
、次いで6N塩酸を用いてpH3へと酸性化した。酸性
化した混合物を水浴で冷却するとα−N−フェニルアセ
チル−し−セリンヒドロキサム酸か結晶化した。その生
成物をエチルアルコール−ジエチルエーテルから再結晶
して融点約169.5から約171℃(分解)の分析的
に純粋な生成物306g(67%)を得た。
・を25mgとした。その濃縮物を水10m1で稀釈し
、次いで6N塩酸を用いてpH3へと酸性化した。酸性
化した混合物を水浴で冷却するとα−N−フェニルアセ
チル−し−セリンヒドロキサム酸か結晶化した。その生
成物をエチルアルコール−ジエチルエーテルから再結晶
して融点約169.5から約171℃(分解)の分析的
に純粋な生成物306g(67%)を得た。
”’(KBr) : 3205.163Qc1n’’H
NMR(90MHz 、 CDCl3+CD30D):
3.61(S、2H)、3.74(d、2H)、438
(m、IH)および7.32(s 、5l−1)元素分
析(%”11H14N204として):計算値:C,5
5,46;[1,5,92;へ、11.76゜測定値:
C、55,37、H、6,10:N 、11.78実施
例−5 0−ベンゾイル−α−I\−フェニルアセチルセリンヒ
ドロキサメート 実施例−4に記述したようにして製造したセリンヒドロ
キサム酸0.497 f (2,09mmole )を
、トリエチルアミ70.32 ml (2,3+nmo
le )を含むメチルアルコール35m1に溶かし、こ
の溶液に室温で攪拌しなから塩化ベンソイル0.242
m(!(2゜□ 65 mmole )を滴下して加え
た。10分後、反応混合物は陰性の塩化第二鉄試験結果
を示したので、酢酸エチル125+++4!と水2(J
ulを含む分岐ロートへと注いだ。二層を分離し、有機
層を水10m1で1度洗浄、硫酸マグネシウム上で乾燥
し、r過後、溶媒を除去して乾固して0−ペンソイル−
α−N−フェニルアセチルセリンヒドロキサメートを白
色固体として得た。その白色固体を酢酸エチル−ヘキサ
ンから再結晶して、融点約137から約139℃の生成
物0.62817(88%)を得た。
NMR(90MHz 、 CDCl3+CD30D):
3.61(S、2H)、3.74(d、2H)、438
(m、IH)および7.32(s 、5l−1)元素分
析(%”11H14N204として):計算値:C,5
5,46;[1,5,92;へ、11.76゜測定値:
C、55,37、H、6,10:N 、11.78実施
例−5 0−ベンゾイル−α−I\−フェニルアセチルセリンヒ
ドロキサメート 実施例−4に記述したようにして製造したセリンヒドロ
キサム酸0.497 f (2,09mmole )を
、トリエチルアミ70.32 ml (2,3+nmo
le )を含むメチルアルコール35m1に溶かし、こ
の溶液に室温で攪拌しなから塩化ベンソイル0.242
m(!(2゜□ 65 mmole )を滴下して加え
た。10分後、反応混合物は陰性の塩化第二鉄試験結果
を示したので、酢酸エチル125+++4!と水2(J
ulを含む分岐ロートへと注いだ。二層を分離し、有機
層を水10m1で1度洗浄、硫酸マグネシウム上で乾燥
し、r過後、溶媒を除去して乾固して0−ペンソイル−
α−N−フェニルアセチルセリンヒドロキサメートを白
色固体として得た。その白色固体を酢酸エチル−ヘキサ
ンから再結晶して、融点約137から約139℃の生成
物0.62817(88%)を得た。
1k(KBr):1760,164QC+++−’’F
I NMR(CDCl3+CD300 ) : 3.6
6 (S。
I NMR(CDCl3+CD300 ) : 3.6
6 (S。
2H)、3.89(d 、2H)、4.65(IH,部
分的にOHにより隠される) 、7.34(s 、5H
)、7.63(m、3H)および8.14 (m 、
21+)実施例−6 N−ベンゾイルオキシ−3−(フェニルアセチルアミン
)−2−アゼチジノン 実施例−5に記述されたようにして製造した〇−ベンゾ
イルセリンヒドロキサメート0.31g(0、3g m
mole )、トリフェニルホスフィン0.269 (
0,99nonole )およびジアゾジカルボン酸ジ
イソプロピル0.193m/をテトラヒドロフラン25
m1に溶かし、その溶液を窒素気流下、室温で1時間攪
拌した。反応混合物を蒸発乾固して黄色浦を得た。その
浦をノリ力ゲルのクロマトグラフにかけ、酢酸エチル−
ヘキサン(容積比で1=1)で溶出して、N−ベンゾイ
ルオキシ−3−(フェニルアセナルアミノ)−2−アゼ
チジノンおよびオキサンリンであるO−ヘンシイルー2
−ベンジルオキサソリノー4−ヒドロキサメートを1=
5の割合で65%の収率て得た。目的とするアゼチジノ
ン生成物を酢酸エナルーヘキサンから再結晶して、融点
約1275から約130℃の純粋1.f生成物を6%の
収率て得た。
分的にOHにより隠される) 、7.34(s 、5H
)、7.63(m、3H)および8.14 (m 、
21+)実施例−6 N−ベンゾイルオキシ−3−(フェニルアセチルアミン
)−2−アゼチジノン 実施例−5に記述されたようにして製造した〇−ベンゾ
イルセリンヒドロキサメート0.31g(0、3g m
mole )、トリフェニルホスフィン0.269 (
0,99nonole )およびジアゾジカルボン酸ジ
イソプロピル0.193m/をテトラヒドロフラン25
m1に溶かし、その溶液を窒素気流下、室温で1時間攪
拌した。反応混合物を蒸発乾固して黄色浦を得た。その
浦をノリ力ゲルのクロマトグラフにかけ、酢酸エチル−
ヘキサン(容積比で1=1)で溶出して、N−ベンゾイ
ルオキシ−3−(フェニルアセナルアミノ)−2−アゼ
チジノンおよびオキサンリンであるO−ヘンシイルー2
−ベンジルオキサソリノー4−ヒドロキサメートを1=
5の割合で65%の収率て得た。目的とするアゼチジノ
ン生成物を酢酸エナルーヘキサンから再結晶して、融点
約1275から約130℃の純粋1.f生成物を6%の
収率て得た。
IR(KBr):1795.1760およヒ’ 165
0’ HN M R(CD CI 3) : 3.65
(s 、 2 H) 、372(m、IH)、4.1
5(m、11()、5.15(m、IH)、6.10(
m、IH)および726−8.04(m、LH) 実施例−7 N−ヒドロキシ−3−フェニルアセトアミド 2−アゼ
チジノン 実施例−6で得たIN−ベンゾイルオキシ−3−(フェ
ニルアセチルアミ/)−2−アゼチジノンを、実施例−
3で述べた条件に従ってメチルアルコール水浴液中で炭
酸ナトリウムを用い加溶媒分解に付し、融点138から
140 ℃(分解) 、1)I(−65の表題の生成物
を得た。
0’ HN M R(CD CI 3) : 3.65
(s 、 2 H) 、372(m、IH)、4.1
5(m、11()、5.15(m、IH)、6.10(
m、IH)および726−8.04(m、LH) 実施例−7 N−ヒドロキシ−3−フェニルアセトアミド 2−アゼ
チジノン 実施例−6で得たIN−ベンゾイルオキシ−3−(フェ
ニルアセチルアミ/)−2−アゼチジノンを、実施例−
3で述べた条件に従ってメチルアルコール水浴液中で炭
酸ナトリウムを用い加溶媒分解に付し、融点138から
140 ℃(分解) 、1)I(−65の表題の生成物
を得た。
JR(+(Br):3230.3050.2800(す
ヘテ幅広い)、1770 、1655on ’IHNM
R(DMSO−d6):δ328(dd 。
ヘテ幅広い)、1770 、1655on ’IHNM
R(DMSO−d6):δ328(dd 。
IH)、3.46(S 、2l−1)、3.7(−見(
、IH,J=5Hz ) 、4.7 (m、1tl)
、 7.32(S 、5H)、8.85(br、d 、
NH)、10.22(br、s 、OH) 実施例−8 N−アセトキン−3−(Cbz−アミノ)−2−アセチ
ジノンのへ一アセトキシー3−(フェニルアセチルアミ
ノ)−2−アゼチジノンへの一段階での変換 実施例−2に記述されたようにして製造したN−アセト
キシ−3−(Cbz−アミン)−2−アセチツノ728
nry(0,1mmole )を酢酸エチル8mlに溶
かし、この溶液に窒素気流下で5%パラジウム−炭素2
5りおよび無水フェニル酢酸25.5mg (Q、 l
mmole)を加えた。溶液を攪拌しながら室温で2
時間、水素をゆつ(りと通した。触媒を濾過し、酢酸〒
チル2Qmlで洗浄した。P液と洗浄液を合わせ、5%
炭酸水素ナトリウム25m1で抽出してフェニル酢酸を
除去した。有機層を食塩水20aeて洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥後、濾過、溶媒除去してN−アセトキ
シ−3−(フェニルアセチルアミン)−2−アゼチジノ
ン25〜を白色固体として得た。その白色固体を酢酸エ
チル−ヘキサンから再結晶して融点約147から約14
9℃の純粋な生成物を得た。R(値しソリ力ケル上、酢
酸エチル−へキサン(容Butで8°2))−0,5゜ ’HNMR(CDCl2): 2.10(S、31()
、356Cbr、S、3H)、3.96(−見り、1l
−1)。
、IH,J=5Hz ) 、4.7 (m、1tl)
、 7.32(S 、5H)、8.85(br、d 、
NH)、10.22(br、s 、OH) 実施例−8 N−アセトキン−3−(Cbz−アミノ)−2−アセチ
ジノンのへ一アセトキシー3−(フェニルアセチルアミ
ノ)−2−アゼチジノンへの一段階での変換 実施例−2に記述されたようにして製造したN−アセト
キシ−3−(Cbz−アミン)−2−アセチツノ728
nry(0,1mmole )を酢酸エチル8mlに溶
かし、この溶液に窒素気流下で5%パラジウム−炭素2
5りおよび無水フェニル酢酸25.5mg (Q、 l
mmole)を加えた。溶液を攪拌しながら室温で2
時間、水素をゆつ(りと通した。触媒を濾過し、酢酸〒
チル2Qmlで洗浄した。P液と洗浄液を合わせ、5%
炭酸水素ナトリウム25m1で抽出してフェニル酢酸を
除去した。有機層を食塩水20aeて洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥後、濾過、溶媒除去してN−アセトキ
シ−3−(フェニルアセチルアミン)−2−アゼチジノ
ン25〜を白色固体として得た。その白色固体を酢酸エ
チル−ヘキサンから再結晶して融点約147から約14
9℃の純粋な生成物を得た。R(値しソリ力ケル上、酢
酸エチル−へキサン(容Butで8°2))−0,5゜ ’HNMR(CDCl2): 2.10(S、31()
、356Cbr、S、3H)、3.96(−見り、1l
−1)。
4.92(m、1)i)、5.92(br、d 、NH
)および7.33(S、5)() マススペクトル(FIJ):m/e 263 (M−1
−1)実施例−9 3−(Cbz−アミノ)−2−アゼチジノン実施例−3
に記述したようにして製造したヘーヒドロキン−3−(
Cbz −アミノ)−2−アゼチジノン118 ml
(0,5mmole)をテトラヒドロフラン10m1+
こ溶かし、マクネチックスクーラー、ビユレットおよび
pH電極を装備したフラスコ中でpH7iこて水IQm
lを加えた。溶液を璽素気流Fに置き20%三塩化チタ
ン溶液Q8mlを注入器から滴下して加えた。T IC
+ 3を加える間、必要に応じてビユレットから3.O
N水酸化ナトリウムを加え、反応混合物のpHを7に保
った。試薬を付加した後、反応混合物を室温で2時間攪
拌した。
)および7.33(S、5)() マススペクトル(FIJ):m/e 263 (M−1
−1)実施例−9 3−(Cbz−アミノ)−2−アゼチジノン実施例−3
に記述したようにして製造したヘーヒドロキン−3−(
Cbz −アミノ)−2−アゼチジノン118 ml
(0,5mmole)をテトラヒドロフラン10m1+
こ溶かし、マクネチックスクーラー、ビユレットおよび
pH電極を装備したフラスコ中でpH7iこて水IQm
lを加えた。溶液を璽素気流Fに置き20%三塩化チタ
ン溶液Q8mlを注入器から滴下して加えた。T IC
+ 3を加える間、必要に応じてビユレットから3.O
N水酸化ナトリウムを加え、反応混合物のpHを7に保
った。試薬を付加した後、反応混合物を室温で2時間攪
拌した。
反応混合物のpHを8.0に調整し−C分液ロートに注
き、酢酸エチル各々2 ’5 mで3回抽出した。酢酸
エチル溶液をまとめ、食塩水IQmlで洗浄、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、濾過後、蒸発乾固した。残留物を
酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して3−(Cbz −
アミノ)−2−アゼチジノン69 ml (60%)を
融点約160から約161℃の白色固体として得た。
き、酢酸エチル各々2 ’5 mで3回抽出した。酢酸
エチル溶液をまとめ、食塩水IQmlで洗浄、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、濾過後、蒸発乾固した。残留物を
酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して3−(Cbz −
アミノ)−2−アゼチジノン69 ml (60%)を
融点約160から約161℃の白色固体として得た。
1)1コ (KBr): 1740 、 1700(:
II+ ’HNMR(7セト7−d6):2.85(+
n、l−1)。
II+ ’HNMR(7セト7−d6):2.85(+
n、l−1)。
3.23(dd 、111)、3.46(−見’+LH
)+48(m、l11)、5.07(S 、2H)、7
.0(m、1f−1)、7.36(S 、5H)実施例
−10 2−オキシー3− (Cbz −アミノ)−1−アゼチ
ジニルサルフェート・テトラ−n−メチルアンモニウム
塩 ピリジン・S 032001ny(0125”” 01
e)を含むピリジン2ml +こN−ヒドロキシ−3−
(CI)z−アミノ)−2−アセナシノン(実施例−3
のようにして製造) 100 m(/ (0,423l
T1m01e)を加え、その愁濁欣を室温で6時間攪拌
した。ピリノンを蒸発して除き、残留物を0.5 M
IJノン二水素カリウム50m1+こ溶かした。その溶
液を酢酸エチルに各々20罰で3回洗苧し、ir溶な有
機不純物を除去した。硫酸水素テトラブチルアンモニウ
ム1081ng(0,317mmole)を加え、塩化
メチレン各々60m1で4回抽出した。抽出液を合わせ
、硫酸マク不シウム上で乾燥、濾過し、溶媒除去して表
題の化合物150 Hrg(70%)を密な浦として得
た。
)+48(m、l11)、5.07(S 、2H)、7
.0(m、1f−1)、7.36(S 、5H)実施例
−10 2−オキシー3− (Cbz −アミノ)−1−アゼチ
ジニルサルフェート・テトラ−n−メチルアンモニウム
塩 ピリジン・S 032001ny(0125”” 01
e)を含むピリジン2ml +こN−ヒドロキシ−3−
(CI)z−アミノ)−2−アセナシノン(実施例−3
のようにして製造) 100 m(/ (0,423l
T1m01e)を加え、その愁濁欣を室温で6時間攪拌
した。ピリノンを蒸発して除き、残留物を0.5 M
IJノン二水素カリウム50m1+こ溶かした。その溶
液を酢酸エチルに各々20罰で3回洗苧し、ir溶な有
機不純物を除去した。硫酸水素テトラブチルアンモニウ
ム1081ng(0,317mmole)を加え、塩化
メチレン各々60m1で4回抽出した。抽出液を合わせ
、硫酸マク不シウム上で乾燥、濾過し、溶媒除去して表
題の化合物150 Hrg(70%)を密な浦として得
た。
IHNへ4R(CI)C13) : (m 、 12I
4) 、 1.53(m、161−1)、3.23(m
、811)、3.74(ad、t■−t)、4.1(−
見1 、11−1 ) 、 4.76(In、IH)、
5.1(s 、2l−1)、6.17(1)r。
4) 、 1.53(m、161−1)、3.23(m
、811)、3.74(ad、t■−t)、4.1(−
見1 、11−1 ) 、 4.76(In、IH)、
5.1(s 、2l−1)、6.17(1)r。
d、lH)および7.4(S、511)実施例−11
3−アミノ−IN−ヒドロキシ 2−アゼチジノンN−
ヒドロキシ−3−(CI)Z −アミノ)−2−アゼナ
シ/ 7236 III (1m1noIe)をテトラ
ヒドロフラン−水(L:1)15+++eに溶かし、こ
の溶液に窒素をかけた後、5%パラジウム−炭素15
〃Tf/を加えた。その懸濁液中へ水素をバブルしなが
ら蚕7MAで1時間通ずと、還元混合物の薄層クロマト
グラフィーの分析ではUV活性な点は存在しなかった。
ヒドロキシ−3−(CI)Z −アミノ)−2−アゼナ
シ/ 7236 III (1m1noIe)をテトラ
ヒドロフラン−水(L:1)15+++eに溶かし、こ
の溶液に窒素をかけた後、5%パラジウム−炭素15
〃Tf/を加えた。その懸濁液中へ水素をバブルしなが
ら蚕7MAで1時間通ずと、還元混合物の薄層クロマト
グラフィーの分析ではUV活性な点は存在しなかった。
触媒を濾過して除き、P液を蒸発して1’ HI・を除
去した。水性の濃縮物を凍結乾燥して3−アミノ−N−
ヒドロキシ−2−アゼチジノン99 〃19 (99%
)を約250℃以上で分解づる白色固体として得た。そ
の生成物はメチルアルコール中ての塩化第二鉄試験に陽
性であり、ニンヒドリンに対しても陽性であった。滴定
から1)l(値は52および7.2であった。
去した。水性の濃縮物を凍結乾燥して3−アミノ−N−
ヒドロキシ−2−アゼチジノン99 〃19 (99%
)を約250℃以上で分解づる白色固体として得た。そ
の生成物はメチルアルコール中ての塩化第二鉄試験に陽
性であり、ニンヒドリンに対しても陽性であった。滴定
から1)l(値は52および7.2であった。
IR(KBr)=3550(幅広い)、1740゜16
40on” ’HNMR(1)20): 3,5 (dd 、LH)
、3.87(−見t、lH)および4.27(m、IH
)実施例−12 2−、tキ7 3−フェニルアセチルアミノ−1−アゼ
チジニルサルフエ−1・・テトラ−■−ブチルアンモニ
ウム塩 N−フェニルアセナルセリンヒドロキサメート0.31
757i7(1,3321111mO1e)を約8++
+/の乾燥ピリジンに溶かし、その溶液を4Aのモレキ
ュラーシーブ約Q、 5 mlと共に攪拌した。ピリジ
ン、 so3錯体O623416Q (1,47121
nnlO1e)を加え、混合物を窒素ドて24時間撹拌
した。反応混合物を溶媒除去して非環状の0−硫酸化ヒ
トロキサム酸エステルを黄色油として得た。その浦を大
過剰の0.5 M IJノン酸二水素カリウム中注き、
その溶液を酢酸エチルで一友洗浄した。次いて硫酸水素
テトラ−n−ブチルアンモニウム(1,5当量)を攪拌
しなから加え、水層を塩化メチレンで抽出した。抽出液
を乾燥、溶媒除去して非環状のO−硫酸化ヒドロキサメ
ート・テトラ−・ローフチルアンモニウム塩を得り。
40on” ’HNMR(1)20): 3,5 (dd 、LH)
、3.87(−見t、lH)および4.27(m、IH
)実施例−12 2−、tキ7 3−フェニルアセチルアミノ−1−アゼ
チジニルサルフエ−1・・テトラ−■−ブチルアンモニ
ウム塩 N−フェニルアセナルセリンヒドロキサメート0.31
757i7(1,3321111mO1e)を約8++
+/の乾燥ピリジンに溶かし、その溶液を4Aのモレキ
ュラーシーブ約Q、 5 mlと共に攪拌した。ピリジ
ン、 so3錯体O623416Q (1,47121
nnlO1e)を加え、混合物を窒素ドて24時間撹拌
した。反応混合物を溶媒除去して非環状の0−硫酸化ヒ
トロキサム酸エステルを黄色油として得た。その浦を大
過剰の0.5 M IJノン酸二水素カリウム中注き、
その溶液を酢酸エチルで一友洗浄した。次いて硫酸水素
テトラ−n−ブチルアンモニウム(1,5当量)を攪拌
しなから加え、水層を塩化メチレンで抽出した。抽出液
を乾燥、溶媒除去して非環状のO−硫酸化ヒドロキサメ
ート・テトラ−・ローフチルアンモニウム塩を得り。
その非環状テトラ−n−ブチルアンモニウム塩はアセト
ニトリルまたはT Hl”中、無水の条件下て’l’
111’−アゾジカルボン酸ジエチルにより環化されて
表題の化合物を与える。
ニトリルまたはT Hl”中、無水の条件下て’l’
111’−アゾジカルボン酸ジエチルにより環化されて
表題の化合物を与える。
実施例−13
ヘ−フェニルアセチルセリンヒドロキサメート・0−ス
ルホカリウム塩 N−フェニルアセチルセリンヒドロキサメート0.31
75g(1,3321mmole)を乾燥ピリジン約8
mlに溶かし、その溶液を4Aのモレキュラーシーブで
約Q、5 mlと攪拌した。ピリジン・SO3錯体(1
1当量)を加え、混合物を窒素の下で24時間撹拌した
。反応混合物を溶媒除去したか、黄色の油として得た生
成物はエタノールまたはアセトニトリルから結晶化しな
かった。その浦を水層2m1jこ溶かし、その溶液をI
) o w e xスルホン酸樹脂(1(型)を通し、
水で溶出した。UV活性の画分をまとめ、凍結乾燥して
生成物0.36984g(78%)を黄褐色粉末として
得た。融点=130℃以上で分解 IR: 1650.1500.1220〜1240゜1
11UC+n’ NMR(1)MSO−d6)::3,3Q(m、2+1
)。
ルホカリウム塩 N−フェニルアセチルセリンヒドロキサメート0.31
75g(1,3321mmole)を乾燥ピリジン約8
mlに溶かし、その溶液を4Aのモレキュラーシーブで
約Q、5 mlと攪拌した。ピリジン・SO3錯体(1
1当量)を加え、混合物を窒素の下で24時間撹拌した
。反応混合物を溶媒除去したか、黄色の油として得た生
成物はエタノールまたはアセトニトリルから結晶化しな
かった。その浦を水層2m1jこ溶かし、その溶液をI
) o w e xスルホン酸樹脂(1(型)を通し、
水で溶出した。UV活性の画分をまとめ、凍結乾燥して
生成物0.36984g(78%)を黄褐色粉末として
得た。融点=130℃以上で分解 IR: 1650.1500.1220〜1240゜1
11UC+n’ NMR(1)MSO−d6)::3,3Q(m、2+1
)。
3.50(S 、211)、3.89(rrl、LH)
、4.34(01,III)、7.30(S 、5■1
)および828(m、1)1)
、4.34(01,III)、7.30(S 、5■1
)および828(m、1)1)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)式(IV): 〔式中、kはアミノ、保護されたアミン基、水素、01
〜C4アルキル、C3〜C4アルコキンカルボニル、カ
ルボキシ、保護されたカルボキンまたはヒドロキシ、ハ
ロゲン、メトキシ、アミ7、保護されたアミノ、保護さ
れたカルボキンもしくはシアノにより置換された01〜
C4アルキルであり R1は水素、C1〜C4アルキル
、61〜C4アルコキシカルボニノペ保護されたカルボ
キシ、カルボキシ、フェニル、置換フェニル(置侯基は
C1〜C4アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、C1〜C
4アルコキン、アミノ、保護されたアミノ、カルボキン
、保護されたカルボキシまたはシアノ)またはfftj
m C1〜C4アルキル(kmMはヒドロキシ、ハロ
ゲン、メトキシ、アミノ、保護されたアミノ、カルボキ
シ、保護されたカルボキシまたはシアノ)でありて、Z
は水素、アシル基または式−5o3−M」 のスルホ基
であってM はアルカリ金属陽イオンまたはトリーもし
くはテトラ置換アンモニウムイオンである。〕で示され
る化合物またはその(=1加塩の(a、)式CIll
) 〔式中、R,R’ は式([V )に対して上条こ定義
したものであり、lはアシルまたはS03〜I てあっ
て、Yはヒドロキシ、ブロモまたはクロロである。〕の
化合物を閉環してlかアシルまたは503−M″である
式(IV )の化合物とすること、(1))Zが水素で
ある式(IV )の化合物をアシル化するかまたはピリ
ジン−503で処理してlか水素以外のものである式(
1v)の化合物と1−ること、または(c)Zがピバロ
イル以外のアシルである式(1■)の化合物を加溶媒分
解の条件【こ付しZか水素である式(1v)の化合物と
すること、および(d)必要ならば、存在するいかなる
保護基をも除去し、その付加塩を形成することを特徴と
する製造法。 (2)Yかヒドロキソである場合トリフェニルホスフィ
ン、四塩化炭素およびトリエチルアミンを用いるかまた
はアゾジカルボン酸ジアルキルおよび有機リン化合物を
用いて閉環を達成するかまたはYかヒドロキシ以外のも
のである場合式(■)の化合物を塩基と反応させて閉環
を達成する特許請求の範囲第1項記載の製造法。 (3)有機リン化合物をトリフェニルホスフィン、トリ
フェニルホスファイト、ジフェニルフェニルホスホナー
トまたはフェニルジフェニルホスフィ/エートから選択
する特許請求の範囲第1項または第2項記載の製造法。 (4)塩基と水素化ナトリウム、リチウムジアルキルア
ミドまたはアルカリ金属炭酸塩から選択する特許請求の
範囲第1項または第2項記載の製(5)kかアシルアミ
7基である特許請求の範囲第1項から第4項のいずれか
一項に記載の製造法。 (6)アシルアミ7基がフタルイミド、コハク酸イミド
または吹の式: 〔式中、aとa′は独立に水素、ハロゲン、ヒドロキシ
、C−Cアルキル、C1〜C4アルコキ7ま4 たはシアノであり、■(8はフェニル、チェニル、フリ
ル、チアゾリル、オキサシリル、1,3.4−チアジア
ゾリル、1.3.4−オキサンアゾリル、1,2゜4−
チアンアゾリル、1.2.4−オキサジアゾリルおよび
アミノ、ヒドロキシ、ハロゲンまたはメチルにより置換
されたこれらのへテロ環であり、見は水素、アミノ、ヒ
ドロキシ、カルボキシまたはメチルてあつc、 R9は
C1〜C4アルキル、カルボキシメチル、1−もしくは
2−カルボキシエチルまたは2=カルボキップロプー2
−イルである。 〕で示される基の一つから選択される特許請求の範囲第
5項記載の製造法。 (7)Iζが式: %式% 0式中、R5はC1〜C5アルキル、ハロ置(奥アルキ
ル、C3〜し5アルケニル、C3〜C6シクロアルキル
、アダマンチル、ジフェニルメチル、ベンジル、置換ベ
ンジル(置m&はメトキシ、メチル、ハロゲンまたはニ
トロ)、 6 H−C−=に−C− 瓢 (式中、R6とに7は、それぞれ独立に61〜C3アル
キルであるか、−緒になって05〜C7ンクロアルキル
基を形成する。)により表わされる第三アルキニル基ま
たは て示される保護されたアミ7基である特許請求の範囲第
1項から第4項のいずれか一項に記載の製造法。 (8)式(1v)で示される化合物のlが式(■1)R
3CO(Jll (Vll) 〔式中、R3はCl−010アルキル、c2−c、。 アルケニル、C2〜CIoアルキニル、フエニノヘー換
フェニル(置換基はC−G アルキル、(1〜(44 アルコキシ、ハロゲンまたはニトロ)または1la01
〜C1oアルキル(置換基はハロゲン、カルボキシ、保
護されたカルボキシ、C1〜C4アルコキシカルボニル
、C]〜C4アルコキシスルホニル、ニトロ、61〜C
4アルコキシ、アミノ、保護されたアミノ、フェニルま
たは上に定義した置換フェニル)である。〕で示される
酸またはその活性化誘導体から誘導される特許請求の範
囲第1項から第7項のいずれか一項に記載の製造法。 (9)ZがC1〜C4アルカノイル、ベンゾイルまたは
置換されたベンゾイルである特許請求の範囲第8項記載
の製造法。 (10)Zがアセチルまたはベンゾイルである特許請求
の範囲第9項記載の製造法。 (11)−0−Zか−OS 03N (n−ブチル)4
である特許請求の範囲第1項から第7項のいずれか一項
薔こ記載の製造法。 (12)式(■): C式中、技はアミノ、保護されたアミン基、水素、C−
Cアルキル、01〜C4アルコキン力ルボニ4 ル、保護されたカルボキシ、カルボキシまたはヒドロキ
シ、ハロゲン、メトキシ、保護されたアミノ、アミン、
保護されたカルボキン、カルボキシもしくはシアノによ
って置換された01〜C4アルキルであり、R,は水素
、Cl−C4アルキル〜C4アルコキシカルボニル、保
護されたカル、I(キシ、カルボキシ、フェニル、置換
フェニル(置換JIC,〜C4アルキル、ヒドロキシ、
〕λロゲン、01〜C4アルコキシ、アミノ、保護され
たアミ/、カルボキシ、保護されたカルボキシまたはン
ア/)または置換01〜C4アルキル(置換基はヒドロ
キシ、ハロゲン、メトキン、アミン、保護されたアミノ
、カルボキシ、保護されたカルボキノまたはシアノ)で
あって、R3は01〜C10アルキル、C〜C アルケ
ニル、C2〜C10アルキニル、フエ 10 ニル、置換フェニル(置換基はC1〜C4アルキル、C
1〜C4アルコキシ、ハロゲンまたはニトロ)または置
換C1−C1oアルキル(置換基は)λロゲン、カルボ
キシ、01〜C4アルコキシカルボニル、C1〜C4ア
ルキルスルホニル、ニトロ、C1〜C4アルコキシ、ア
ミノ、フェニルまたは上に定義された置換フェニル)で
ある。〕で示される化合物またはその付加塩。 (13)保護されたアミ7基が式: %式% 〔式中、R5はC1〜C5アルキル、ハロ置換アルキル
、C−C アルケニル、03〜C6シクロアル5 キル、アダマンチル、ジフェニルメチル、ベンジル、置
換ベンジル(置換基はメトキシ、メチル、ハロゲンまた
はニトロ)または式: %式% (式中、R6 とに7は、それぞれ独立に01〜C13
アルキルであるか、−緒になって65〜C7シクロアル
キル環を形成する。)で示される第三アルキニルカルビ
ニル基である。〕である特許請求の範囲第12項の化合
物。 (14)R5かジフェニルメチル、ベンジル、置換ベン
ジルまたは61〜C5アルキルである特許請求の範囲第
13項の化合物。 (15)R3かメチル、フェニルまたは置換フェニルで
あり、klが水素、01〜C4アルキル、カルボキシ、
C1〜C4アルコキシカルボニルまたは保護されたカル
ボキシである特許請求の範囲第14項の化合物。 (16)式: で示される特許請求の範囲第12項の化合物。 (17)Rかアミノ、R3かメチル、フェニルまたは置
換フェニルであり、k,が水素、メチル、C,〜04ア
ルコキシカルボニルまたは保護されたカルボキシである
特許請求の範囲第12項の化合物またはその付加塩。 (18)Rか式: て示されるアソルアミ7基である特許請求の範囲第12
項の化合物。 (1g)R3かメチル、フェニルまたは置換フェニルで
あり、lζ1か水素、C1〜C4アルキル、カルボキシ
または保護されたカルボキシである特許請求の範囲第1
8項の化合物。 (20)式: て示される特許請求の範囲第12項の化合物。 (21)式: で示される特許請求の範囲第12項の化合物。 (22)保護されたアミノ基か式: を有し、R3かメチル、フェニルまたは置換フェニルで
ある特許請求の範囲第12項の化合物。 (23)式: て示される特許請求の範囲第12項の化合物。
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