JPH0516432B2 - - Google Patents
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Landscapes
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
本発明は新規な化合物である２−アルキル−
3′−ノル−オキサセフアロスポリン化合物に関す
る。さらに詳しく述べると、本発明は広範囲の抗
菌力を示し且つβ−ラクタメースに対しても分解
され難い抵抗性を示す半合成抗生物質としての次
の一般式（） 〔式中、R1は式
3′−ノル−オキサセフアロスポリン化合物に関す
る。さらに詳しく述べると、本発明は広範囲の抗
菌力を示し且つβ−ラクタメースに対しても分解
され難い抵抗性を示す半合成抗生物質としての次
の一般式（） 〔式中、R1は式
【式】（但しRaはチ
エニル基、特に２−チエニル基又は３−チエニル
基を、Rbは水素原子又はカルボキシル基を表わ
す）の基であるか、あるいはR1は次式 （但しR4は水素原子、低級アルキル基又はカ
ルボキシ低級アルキル基を表わす）で示される基
であり、R2は低級アルキル基であり、R3は水素
原子、メトキシ基又は低級アルキルチオ基であ
る〕で表わされる２−アルキル−3′−ノル−オキ
サセフアロスポリン誘導体、およびその薬学的に
許容される塩またはエステルに関する。 この発明は、先に本発明者らにより新規に合成
されたオキサセフアロスポリン核の２位にアルキ
ル基を置換基として有する化合物、すなわち２−
アルキル−１−オキサ−１−デチア−セフアロス
ポリン誘導体（特願昭57−127574号、特願昭57−
159548号明細書参照）の研究を発展させて完成さ
せたものである。 一般式（）で表わされる本発明化合物の具体
例としては、次のものがある。化合物番号 化 合 物 名 １ 7βー｛（２−チエニル）アセトアミド｝2α−
メチル−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸 ２ 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝
−2α−メチル−１−オキサデチア−３−セフ
エム−４−カルボン酸 ３ 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−カルボキシメトキシイミノア
セトアミド｝−2α−メチル−１−オキサデチア
−３−セフエム−４−カルボン酸 ４ 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2β−
メチル−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸 ５ 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝
−2β−メチル−１−オキサデチア−３−セフ
エム−４−カルボン酸 ６ 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−カルボキシメトキシイミノア
セトアミド｝−2β−メチル−１−オキサデチア
−３−セフエム−４−カルボン酸 ７ 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2α−
メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸 ８ 7β−｛２−（２−チエニル）−２−（カルボキ
シ）アセトアミド｝−2α−メチル−３−メトキ
シ−３−セフエム−４−カルボン酸 ９ 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝
−2α−メチル−３−メトキシ−１−オキサデ
チア−３−セフエム−４−カルボン酸 10 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝2β−
メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸 11 7β−｛２−（２−チエニル）−２−（カルボキ
シ）アセトアミド｝−2β−メチル−３−メトキ
シ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸 12 7β−｛（Ｚ）−２（２−アミノチアゾール−４
−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝−
2β−メチル−３−メトキシ−１−オキサデチ
ア−３−セフエム−４−カルボン酸 13 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2β−
メチル−３−メチルチオ−１−オキサデチア−
３−セフエム−４−カルボン酸 なお、上記の化合物の物性としてIR値、NMR
値は後記の実施例に示してある。また、前記の化
合物番号は後記の表１に参照される。 一般式（）で表わされる本発明化合物の製造
は、次の一般式（） 〔式中、R2は低級アルキル基であり、R3は水
素原子、メトキシ基又は低級アルキルチオ基であ
り、Ａはカルボキシル基の保護基である〕の２−
アルキル−3′−ノル−オキサセフエム化合物の７
位アミノ基を次式 R1COOH （） 〔式中、R1は式
基を、Rbは水素原子又はカルボキシル基を表わ
す）の基であるか、あるいはR1は次式 （但しR4は水素原子、低級アルキル基又はカ
ルボキシ低級アルキル基を表わす）で示される基
であり、R2は低級アルキル基であり、R3は水素
原子、メトキシ基又は低級アルキルチオ基であ
る〕で表わされる２−アルキル−3′−ノル−オキ
サセフアロスポリン誘導体、およびその薬学的に
許容される塩またはエステルに関する。 この発明は、先に本発明者らにより新規に合成
されたオキサセフアロスポリン核の２位にアルキ
ル基を置換基として有する化合物、すなわち２−
アルキル−１−オキサ−１−デチア−セフアロス
ポリン誘導体（特願昭57−127574号、特願昭57−
159548号明細書参照）の研究を発展させて完成さ
せたものである。 一般式（）で表わされる本発明化合物の具体
例としては、次のものがある。化合物番号 化 合 物 名 １ 7βー｛（２−チエニル）アセトアミド｝2α−
メチル−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸 ２ 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝
−2α−メチル−１−オキサデチア−３−セフ
エム−４−カルボン酸 ３ 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−カルボキシメトキシイミノア
セトアミド｝−2α−メチル−１−オキサデチア
−３−セフエム−４−カルボン酸 ４ 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2β−
メチル−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸 ５ 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝
−2β−メチル−１−オキサデチア−３−セフ
エム−４−カルボン酸 ６ 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−カルボキシメトキシイミノア
セトアミド｝−2β−メチル−１−オキサデチア
−３−セフエム−４−カルボン酸 ７ 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2α−
メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸 ８ 7β−｛２−（２−チエニル）−２−（カルボキ
シ）アセトアミド｝−2α−メチル−３−メトキ
シ−３−セフエム−４−カルボン酸 ９ 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝
−2α−メチル−３−メトキシ−１−オキサデ
チア−３−セフエム−４−カルボン酸 10 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝2β−
メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸 11 7β−｛２−（２−チエニル）−２−（カルボキ
シ）アセトアミド｝−2β−メチル−３−メトキ
シ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸 12 7β−｛（Ｚ）−２（２−アミノチアゾール−４
−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝−
2β−メチル−３−メトキシ−１−オキサデチ
ア−３−セフエム−４−カルボン酸 13 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2β−
メチル−３−メチルチオ−１−オキサデチア−
３−セフエム−４−カルボン酸 なお、上記の化合物の物性としてIR値、NMR
値は後記の実施例に示してある。また、前記の化
合物番号は後記の表１に参照される。 一般式（）で表わされる本発明化合物の製造
は、次の一般式（） 〔式中、R2は低級アルキル基であり、R3は水
素原子、メトキシ基又は低級アルキルチオ基であ
り、Ａはカルボキシル基の保護基である〕の２−
アルキル−3′−ノル−オキサセフエム化合物の７
位アミノ基を次式 R1COOH （） 〔式中、R1は式
【式】（但しRaはチ
エニル基、特に２−又は３−チエニル基を、Rb
は水素原子又はカルボキシル基を表わす）の基で
あるか、あるいはR1は次式 （但しR4は水素原子、低級アルキル基又はカ
ルボキシ低級アルキル基を表わし、Ｂは水素又は
アミノ保護基を表わす）で示される基である〕の
カルボン酸化合物又はこれのカルボキシル基にお
ける反応性誘導体と縮合反応させてアシル化を行
い、さらに必要ならば、その７−アシル化生成物
から残留する保護基（Ａ），（Ｂ）を常法で脱離す
ることから成る方法で実施される。化合物（）
のカルボキシ基における反応性誘導体としては例
えば酸クロライド又は活性エステル又は混合酸無
水物がある。 一般式（）の化合物の７位アミノ基と式
（）のカルボン酸化合物との縮合反応（アシル
化）は通常のβ−ラクタム化合物の合成に用いら
れる公知のアミド形成法で行うことができる。例
えば式（）のカルボン酸化合物を直接に縮合反
応させる方法としては、カルボジイミド法が好適
に用いられる。また式（）のカルボン酸の反応
性誘導体を利用する場合には、アシル化は酸ハラ
イド法、活性エステル法又は混合酸無水物法で好
適に行い得る。 このアシル化反応は通常、例えば塩化メチレ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチ
ルの如き、この反応に悪影響をおよぼさない有機
溶媒中で行われる。反応温度は特に限定されない
が、通常は冷却下ないし加温程度の緩和な条件下
で行われる。 アシル化反応終了後、そのアシル化生成物から
の脱保護は、保護基（Ａ），（Ｂ）の種類に応じ
て、公知の方法例えば酸による加水分解的解裂又
は還元的脱離などで容易に行い得る。 このようにして得られる一般式（）の本発明
化合物は、後記の表１の抗菌スペクトルに示す最
低阻止濃度（MIC）から判るように、各種の病
原菌、すなわちグラム陽性および陰性菌に対し、
強い抗菌活性があり、半合成抗生物質として有用
である。
は水素原子又はカルボキシル基を表わす）の基で
あるか、あるいはR1は次式 （但しR4は水素原子、低級アルキル基又はカ
ルボキシ低級アルキル基を表わし、Ｂは水素又は
アミノ保護基を表わす）で示される基である〕の
カルボン酸化合物又はこれのカルボキシル基にお
ける反応性誘導体と縮合反応させてアシル化を行
い、さらに必要ならば、その７−アシル化生成物
から残留する保護基（Ａ），（Ｂ）を常法で脱離す
ることから成る方法で実施される。化合物（）
のカルボキシ基における反応性誘導体としては例
えば酸クロライド又は活性エステル又は混合酸無
水物がある。 一般式（）の化合物の７位アミノ基と式
（）のカルボン酸化合物との縮合反応（アシル
化）は通常のβ−ラクタム化合物の合成に用いら
れる公知のアミド形成法で行うことができる。例
えば式（）のカルボン酸化合物を直接に縮合反
応させる方法としては、カルボジイミド法が好適
に用いられる。また式（）のカルボン酸の反応
性誘導体を利用する場合には、アシル化は酸ハラ
イド法、活性エステル法又は混合酸無水物法で好
適に行い得る。 このアシル化反応は通常、例えば塩化メチレ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチ
ルの如き、この反応に悪影響をおよぼさない有機
溶媒中で行われる。反応温度は特に限定されない
が、通常は冷却下ないし加温程度の緩和な条件下
で行われる。 アシル化反応終了後、そのアシル化生成物から
の脱保護は、保護基（Ａ），（Ｂ）の種類に応じ
て、公知の方法例えば酸による加水分解的解裂又
は還元的脱離などで容易に行い得る。 このようにして得られる一般式（）の本発明
化合物は、後記の表１の抗菌スペクトルに示す最
低阻止濃度（MIC）から判るように、各種の病
原菌、すなわちグラム陽性および陰性菌に対し、
強い抗菌活性があり、半合成抗生物質として有用
である。
【表】
【表】
一般式（）の本発明化合物は薬学的に許容し
得る塩であることができ、この塩類には、該化合
物中に存在するカルボキシル基との反応により生
成される慣用的な非毒性の塩（カルボキシレー
ト）、特に無機塩基との塩類、例えばナトリウム
塩、カリウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシ
ウム塩、マグネシウム塩、亜鉛塩のようなアルカ
リ土類金属塩があり、また、リジン、アルギニ
ン、オルニチン、ヒスチジンのような塩基性アミ
ノ酸との付加塩があり、さらに有機アミン類、そ
の他の、セフアロスポリンと通常塩を形成するよ
うな塩基性物質との付加塩がある。 また、一般式（）の本発明化合物の他の無毒
性塩としては、該化合物のアミノ基又は他の塩基
性基における塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リ
ン酸などの無機酸との付加塩があり、またトリフ
ルオル酢酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホ
ン酸、マレイン酸、酒石酸、ｐ−トルエンスルホ
ン酸のような有機カルボン酸又は有機スルホン酸
との付加塩、並びにアスパラギン酸、グルタミン
酸のような酸性アミノ酸との付加塩類があり、さ
らに分子間又は分子内塩等をあげることができ
る。 また一般式（）の本発明化合物（）はその
無毒性エステルであることができ、これらエステ
ルとしては、そのカルボキシル基における薬学的
に許容できるエステル形成基とのエステルがある
が、その中でも、代謝上不安定なエステルが好ま
しい。後者は生体内で加水分解して除去され得る
エステル形成基を有する化合物である。かゝるエ
ステル形成基の例としてはアセトキシメチル基、
ピバロイルオキシメチル基、α−エトキシカルボ
ニルオキシエチル基、フタリジル基、フエニル
基、２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イ
ル基等でありうる。 一般式（）で表わされる本発明化合物の製造
に用いた一般式（）の２−アルキル−3′−ノル
−オキサセフエム化合物の合成は、概略的に言え
ば、本発明者らによつて初めて合成された後記の
一般式（）（本出願人の出願に係る特願昭57−
159548号明細書24頁、79〜80頁参照）のアゼチジ
ノン誘導体を出発原料として用い、該化合物の環
化と、さらに所望によりオキサセフアロスポリン
核の３位置換基の変換を基本工程とする方法によ
つて行われる。その出発化合物（）の合成方法
のフローチヤートは次の通りである。 前記のフローチヤートに示した一般式（）〜
（′）の化合物において、基R′CO−は、アシル
基例えばベンゾイル基を表わし、R2は一般式
（）におけると同じ低級アルキル基を表わし、
R3は一般式（）におけると同じ水素原子、メ
トキシ基又は低級アルキルチオ基を表わし、R′3
は低級アルキル基を表わし、R5は芳香族基例え
ば置換フエニル基、好ましくは３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフエニル基を表わし、
phはフエニル基を表わし、Ａはカルボキシル保
護基を示す。 尚この明細書中、「低級アルキル」とは但し書
きのない限り炭素数１〜４のアルキルを示す。 本発明化合物（）の製法で使用される一般式
（）の出発化合物、またその製造用中間体物質
である一般式（）〜（）の各化合物におけ
るR′，R2，R3，R5及びＡについて以下に詳しく
説明する。 基R′CO−のアシル基としては、一般に芳香族
アシル基であるならばすべて使用可能である。従
つて、基R′は芳香族基、例えばアリール基、特
にフエニル基又は置換フエニル基、アリールアル
キル基、アリーロキシアルキル基、アラルキルオ
キシ基又はトリフエニルアルキル基であることが
できる。例えば基R′CO−は、好適にはベンゾイ
ル基、フエニルアセチル基、ベンジルオキシカル
ボニル基、フエノキシメチルカルボニル基又はト
リチルカルボニル基であるのがよい。 低級アルキル基（R2）はα，βの両方何れの
立体配位を取ることができ、α，βの両配位とも
にメチル基が好適である。 シツフ塩基残基R5−CH＝における基R5は一般
的には、芳香族基、特にアリール基であることが
でき、好ましくは４−ヒドロキシフエニル基であ
る。この上の置換基として、メチル、イソプロピ
ル、ｔ−ブチル等の低級アルキル基などが存在し
てもよく、その置換の位置は３，５−ジ置換が好
適である。R5は３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフエニル基であるのが好適である。 基Ａは水素原子、又はカルボキシル保護基であ
ることができ、カルボキシル保護基としては、従
来セフアロスポリン、ペニシリン類に慣用されて
いるものはすべて使用可能である。例えば、Ａは
ジフエニルメチル基、ベンジル基、ｐ−ニトロベ
ンジル基などの置換または非置換アラルキル基、
またはｔ−ブチル基、トリクロロエチル基などの
置換または非置換のアルキル基であり得る。 本発明で出発化合物として用いる一般式（）
の化合物の合成法を、前出のフローチヤート図に
ついてさらに詳しく説明する。 まず、アゼチジノン化合物（）から化合物
（）を生成する環化反応を行うのであるが、こ
の反応は化合物（）を、不活性溶媒に溶解して
加熱する方法、いわゆるウイテイヒ（Wittig）反
応により環化させる反応である。この環化反応で
は、まずアゼチジノン化合物（）の４位末端カ
ルボン酸の活性化が必要とされ、これには、例え
ば無水酢酸で活性化し反応を促進させるためにジ
メチルアセトアミド（DMA）を加えるのが好ま
しい。この環化反応の温度は40〜120℃の範囲で、
好ましくは100〜120℃の範囲である。不活性溶媒
としては、THF、ジオキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレンその他ジメトキシエタン等のエー
テル類が用いられる。この反応においては副反応
を防ぐため、窒素あるいはアルゴン気流中で行う
のが望ましい。以上の加熱処理で化合物（）が
環化され、３−アセトキシオキサセフエム化合物
（）が得られる。 さらに、この化合物（）を加水分解する。こ
れには化合物（）を含水ピリジン中に溶解する
と、アセトキシ基の加水分解により、３−ヒドロ
キシオキシセフエム化合物（）が生成する（後
記の参考例１〜２参照）。 なお他方、化合物（）の別の合成法として、
次式 （式中R2およびＡは前述の意味を表わし、ph
はフエニル基を表わす）で表わされる化合物（特
願昭57−159548号明細書96頁参照）を出発原料と
して用いる方法がある。この方法は特開昭58−
103391号明細書に記述された方法に準拠するもの
で、上記出発物質（′）のオゾン分解、炭素鎖
伸長、ジアゾ化、および環化の４工程により化合
物（）を得る方法である。この方法の実施は後
記の参考例３に記述した。 前述のように生成された化合物（）における
R2のα，βの立体配位は出発化合物（）にお
けるR2の配位が（Ｒ）−配位の場合にはα−配位
となり、また（Ｓ）−配位の場合にはβ−配位と
なる。 次に、化合物（）から化合物（−ａ），（
−ｂ）又は（−ｃ）を合成するのであるが、こ
れらの工程では、それぞれ、化合物（）のオキ
サセフアロスポリン母核の３位置換基であるヒド
ロキシル基を水素、メトキシ基又は低級アルキル
チオ基（−SR′3）に変換する反応を行う。 化合物（）の３位ヒドロキシル基を水素原子
に変換して化合物（−ａ）を生成するには、化
合物（）を不活性溶媒例えばジクロロメタン又
はクロロホルム中で還元剤例えば水素化ホウ素テ
トラエチルアンモニウム、ジボラン、水素化ホウ
素化ナトリウムと作用させることにより、オキサ
セフエム環をオキサセフアム環へ変換して化合物
（）を生成する。その後、化合物（）にトリ
エチルアミン等の塩基の存在下にスルホニル化剤
例えばメシルクロライド等を作用させると、３位
ヒドロキシル基はスルホニル化し、過剰に存在す
る塩基の作用で環の３位及び４位間の二重結合生
成と共にメタンスルホン酸が脱離し、式（−
ａ）のオキサセフエム化合物を生成する。 他方、化合物（）の３位ヒドロキシル基をメ
トキシ基に変換して化合物（−ｂ）を生成する
には、化合物（）に不活性溶媒例えば塩化メチ
レン、クロロホルム中でジアゾメタンを作用させ
る工程が行われる。 さらに、化合物（）の３位ヒドロキシル基を
低級アルキルチオ基に変換して化合物（−ｃ）
を生成するためには、先づ化合物（）を不活性
溶媒中でジフエニルホスホリルクロライドで処理
して化合物（）を生成する。その後、化合物
（）を塩基の存在下にR′3SH（R′3は前述の意味
を表わす）で表わされるメルカプタンと反応させ
ることによつて３−アルキルチオ化合物（−
ｃ）を生成する。この際、前記の不活性溶媒とし
ては例えばアセトニトリル、THF、塩化メチレ
ン、ジオキサン、酢酸エチルが用いられる。ま
た、前記の塩基として第３級アミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン、トリエチルアミンなどが好適
に用いられる。 その後、化合物（−ａ），（−ｂ）又は（
−ｃ）の７位アミノ基に結合したアシル基
（R′CO−）を切断して化合物（）を生成するの
であるが、この反応は常法にて実施できる。すな
わち、化合物（−ａ），（−ｂ）又は（−
ｃ）から化合物（）を生成する工程は、いわゆ
るイミノハライド、イミノエーテル法（特公昭41
−13862号公報参照）を適用できる。 更に化合物（）をシツフ塩基型の化合物（
）に転化する工程は芳香族アルデヒドを化合物
（）の７位アミノ基に反応させることによるシ
ツフ塩基化であつて特開昭50−50394号公報に開
示されている方法を適用できる。例えば３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンズアルデ
ヒド等の如き芳香族アルデヒドを不活性溶媒例え
ばベンゼン、塩化メチレン、酢酸エチル中で化合
物（）に脱水縮合させることにより実施でき、
これにより化合物（）が得られる。 その後、化合物（）から化合物（）を
生成する反転反応を行うのであるが、これは化合
物（）を不活性溶媒に溶解しまず酸化剤を加
え、酸化し、さらに酸化剤の除去後に直ちに還元
剤を加えることによる公知の方法で実施できる。
この際に、７位側鎖の立体配置の反転反応が起
り、化合物（）が得られる。この反応に用い
る溶媒は通常のβ−ラクタム化合物の反応に用い
られるものが用いられ、クロロホルム、塩化メチ
レン等が好ましい。酸化剤としては、二酸化マン
ガン、過酸化ニツケル、四酢酸鉛、ジクロロジシ
アノベンゾキノン（DDQ）が好適に用いられる。 還元剤としては、シアノ水素化ホウ素ナトリウ
ム（NaBH3CH）、水素化ホウ素ナトリウム
（NaBH4）、水素化ホウ素テトラエチルアンモニ
ウム（Et4NBH4）、又はトリ第３級ブトキシ水素
化アルミニウム・リチウム（Li（ｔ−BuO）3AlH）
が好適に用いられる。これら酸化、還元の一連の
反応は−20℃〜５℃の範囲で進行する。 このようにして得られた化合物（）は、次
いで、７位側鎖中のシツフ塩基部分の分解（切
断）反応に付されて一般式（′）の化合物へ導
かれる。このシツフ塩基部分の分解（切断）は公
知の方法、例えば前記特開昭50−50394号公報に
開示されている加水分解法、等により実施でき
る。 前述した一連の諸工程よりなる合成法で合成さ
れた前記一般式（′）の化合物は新規化合物で
あり、また一般式（）の本発明化合物の製造用
中間体として有用である。 以下に、本発明化合物（）の製造に使用され
る出発化合物（）の合成例を示す参考例、なら
びに本発明化合物の製造例を示す実施例により本
発明を詳述するが、本発明は何らこれらに限定さ
れるものではない。 参考例 １ (1) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−アセ
トキシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 但し、式中phはフエニル基、Meはメチル基、
Acはアセチル基を示す。以下、同様である。 次式 で示される（3R，4R）−｛（1R）−１−カルボキシ
エトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１−ジフエ
ニルメトキシカルボニル−１−トリフエニルホス
ホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オンの
17.0ｇをトルエン280mlに溶解し、無水酢酸45.6
ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド9.70ｇを加
え、窒素気流中110℃で４時間加熱攪拌する。 反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル
に溶解し、飽和重曹水、次に水で洗浄、MgSO4
で乾燥後、減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル、８：１）
で精製すると、表題の化合物の6.55ｇ（56％）を
得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1783，1723，1662 NMR（CDCl3），δppn：1.36（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），1.89（3H，ｓ），4.59（1H，ｑ，Ｊ＝7.0
Hz），5.09（1H，ｄ，Ｊ＝9.0Hz），5.15（1H，
ｓ），6.90（1H，ｓ），7.10〜7.90（15H，ｍ） (2) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−ヒド
ロキシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 前項(1)の方法で得られた化合物の7.80ｇをピリ
ジン30mlに溶解し、水7.5mlを加え、室温で２時
間攪拌する。 反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル
に溶解し、氷水を加え、PH2.0に調整後に分液す
る。有機層を飽和重曹水、次に水で洗浄、
MgSO4で乾燥後減圧濃縮し、残留物をアセトニ
トリルから結晶化すると表題化合物の3.87ｇ（54
％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1778，1665 NMR（CDCl3），δppn：1.50（3H，ｄ，Ｊ＝6.7
Hz），4.56（1H，ｑ，Ｊ＝6.9Hz），5.02（1H，
ｄ，Ｊ＝7.4Hz）5.19（1H，ｓ），6.98（1H，
ｓ），7.10〜7.80（15H，ｍ） 参考例 ２ (1) 7αーベンヅアミド−2β−メチル−３−アセ
トキシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 次式 で示される（3R，4R）−４−｛（1S）−１−カルボ
キシエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１−ジ
フエニルメトキシカルボニル−１−トリフエニル
ホスホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オン
の13.5ｇをトルエン270mlに溶解し無水酢酸36.5
ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド7.72ｇを加
え、窒素気流中110℃で４時間加熱攪拌する。 反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル
に溶解し、飽和重曹水、次に水で洗浄、MgSO4
で乾燥後減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル、８：１）
で精製すると、表題化合物の6.7ｇ（61％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1783，1722，1663 NMR（CDCl3），δppn：1.38（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz），1.88（3H，ｓ），4.50（1H，ｑ，Ｊ＝6.8
Hz），4.97（1H，ｄ，Ｊ＝0.8Hz），5.10（1H，
dd，Ｊ＝7.8，0.8Hz），6.88（1H，ｓ），7.10
〜7.90（15H，ｍ） (2) 7α−ベンヅアミド、2β−メチル−３−ヒド
ロキシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 前項(1)の方法で得られた化合物の3.50ｇをピリ
ジン17mlに懸濁し、水４mlを加え、室温で２時間
攪拌後、減圧濃縮する。 残留物を酢酸エチルに溶解し、氷水を加え、PH
3.0に調整後分液する。 有機層を飽和重曹水、次に水で洗浄し、
MgSO4で乾燥後減圧濃縮し、残留物をアセトニ
トリルで結晶化すると表題化合物の2.10ｇ（65
％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1775，1740，1662 NMR（CDCl3），δppn：1.45（3H，ｄ，Ｊ＝6.7
Hz），4.58（1H，ｑ，Ｊ＝6.7Hz），5.02（1H，
dd，Ｊ＝7.2，0.7Hz），5.06（1H，ｄ，Ｊ＝
0.7Hz），6.99（1H，ｓ），7.10〜7.80（15H，
ｍ） 参考例 ３ (1) （3R，4R）−３−ベンヅアミド−４−｛（1S）
−カルボキシエトキシ｝−アゼチジン−２−オ
ン・ナトリウム塩の製造 次式 で示される（3R，4R）−１−（１−ジフエニルメ
トキシカルボニル−２−メチルプロプ−１−エニ
ル）−３−ベンヅアミド−４−｛（1S）−１−カル
ボキシエトキシ｝アゼチジン−２−オンの3.30ｇ
をメタノール60mlに溶解し、溶液が青色になるま
で−60℃でオゾンを導通する。過剰のオゾンを除
去後、酢酸エチル180mlで希釈し、飽和NaHSO4
水溶液を加え０℃で30分間攪拌し有機層を分液す
る。 この有機層をMgSO4で乾燥後減圧濃縮し、残
留物をアセトン30mlに溶解する。 一方NaHCO3511mgを２％含水メタノール500
mlに溶解し、氷冷下上記溶液を加え30分間攪拌
し、減圧濃縮する。残留物をアセトンで粉末とす
ると表題化合物の1.70ｇ（93％）を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1765，1640，1605 NMR（DMSO−d6），δppn：1.23（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz），3.78（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz），4.60
（1H，dd，Ｊ＝8.0，0.7Hz），5.14（1H，ｄ，
Ｊ＝0.7Hz），7.30〜8.00（5H，ｍ），8.75（1H，
ｓ），9.18（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz） (2) （3R，4R）−３−ベンヅアミド−４−｛（1S）
−１−メチル−３−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル−２−オキソプロポキシ｝−アゼチ
ジン−２−オンの製造 前項(1)で得られた（3R，4R）−３−ベンヅア
ミド−４−｛（1S）−カルボキシエトキシ｝−アゼ
チジン−２−オン・ナトリウム塩の1.66ｇを無水
THF80mlに懸濁し、０℃で1N−NClジオキサン
溶液5.5mlを加え15分間攪拌後、室温でカルボニ
ルジイミダゾール900mgを加え30分間攪拌する。 反応混合物を０℃に冷却し、パラニトロベンジ
ルオキシカルボニル酢酸マグネシウムMg（O2
CCH2CO2CH2C6H5−NO2）22.76ｇを加え、５℃
で終夜攪拌し、減圧濃縮する。 残留物を酢酸エチルに溶解し、氷水を加えPH
2.0に調整後、有機層を分液し、飽和重曹水次に
水で洗浄し、MgSO4で乾燥後減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル，１：１）
で精製すると、表題化合物578mg（23％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1780，1750，1725，
1660 NMR（CDCl3），δppn：1.40（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），3.66（2H，ｓ），4.38（1H，ｑ，Ｊ＝7.0
Hz），4.72（1H，dd，Ｊ＝7.0，0.7Hz），5.12
（1H，ｄ，Ｊ＝0.7Hz），5.18（2H，ｓ），7.10
〜8.20（9H，ｍ） (3) （3R，4R）−３−ベンヅアミド−４−｛（1S）
−１−メチル−３−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル−２−オキソ−３−ジアゾプロポキ
シ｝アゼチジン−２−オンの製造 前項(2)の方法で得た（3R，4R）−３−ベンヅ
アミド−４−｛（1S）−１−メチル−３−Ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル−２−オキソプロポ
キシ｝アゼチジン、−２−オンの850mgをアセトニ
トリル70mlに溶解し、０℃でｐ−カルボキシベン
ゼンスルホニルアジド508mgを加え、10分間攪拌
後トリエチルアミン657mgを加え、室温で２時間
攪拌し、減圧濃縮する。 残留物を酢酸エチル10mlに溶解し、不溶物を
別し、液を減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル，１：１）
で精製すると、表題化合物の760mg（85％）を得
る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：2310，1765，
1710，1640 NMR（CDCl3），δppn：1.45（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），4.65（1H，dd，Ｊ＝7.0，0.7Hz），5.10
（1H，ｄ，Ｊ＝0.7Hz），5.22（1H，ｑ，Ｊ＝
7.0Hz），5.32（2H，ｓ），7.20〜8.30（9H，ｍ） (4) 7α−ベンヅアミド−2β−メチル−３−ヒド
ロキシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステルの製
造 前項(3)の方法で得られた（3R，4R）−３−ベ
ンヅアミド−４−｛（1S）−１−メチル−３−ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル−２−オキソ−
３−ジアゾプロポキシ｝アゼチジン−２−オンの
550mg、酢酸ロジウム（Rh（OCOCH3）2）10mgを
酢酸エチル100mlに溶解し、窒素気流中、60℃で
30分間加熱攪拌し、室温に冷却する。触媒を別
し、液を減圧濃縮すると表題化合物の517mg
（97％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3440，1775，1663 参考例 ４ 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−ヒドロ
キシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−
カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 で示される遊離カルボン酸の形の（3R，4R）−
１−（１−ジフエニルメトキシカルボニル−２−
メチルプロプ−１−エニル）−３−ベンヅアミド
−４−｛（1R）−１−カルボキシエトキシ｝−アゼ
チジン−２−オンを参考例３(1)，(2)，(3)，(4)と同
様に処理して参考例１(2)で得られた物質と同一の
表題化合物を得る。 参考例 ５ (1) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−ヒド
ロキシ−１−オキサデチアセフアム−４−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例１(2)で得られた化合物の3.0ｇを塩化メ
チレン2.5mlに溶解し、−20℃で水素化ホウ素テト
ラエチルアンモニウム（Et4NBH4）880mgを含む
塩化メチレン５mlを加え、20分間攪拌する。反応
混合物を氷水にあけPH3.0に調整後分液し有機層
を飽和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で乾燥後減
圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル，２：１）
で精製すると表題化合物の2.17ｇ（72％）を得
る。 IR（CHCl3）：νnax（cm-1）：1770，1665 NMR（CDCl3）：δppn：1.26（3H，ｄ，Ｊ＝6.5
Hz），3.99（1H，ｑ，Ｊ＝6.5Hz），4.18（1H，
ｄ，Ｊ＝5.8Hz），4.65（1H，ｄ，Ｊ＝5.8Hz），
5.16（1H，ｄ，Ｊ＝7.7Hz），5.30（1H，ｓ），
6.92（1H，ｓ），7.10〜7.80（15H，ｍ） (2) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−１−オキ
サデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステルの製造 前項(1)で得られた化合物の1.75ｇを塩化メチレ
ン17mlに溶解し、氷冷下トリエチルアミン0.78
ｇ、メタンスルホニルクロライド0.49ｇを加え、
同温度で１時間、更に室温で30分間攪拌し、氷水
にあける。有機層を分液し、飽和重曹水、次に水
で洗浄し、MgSO4で乾燥後、減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル，４：１）
で精製すると、表題化合物の1.31ｇ（78％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1780，1723，1662 NMR（CDCl3），δppn：1.29（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），4.67（1H，dq，Ｊ＝7.4，3.9Hz），5.05
（1H，ｓ），5.09（1H，ｄ，Ｊ＝7.4Hz），6.42
（1H，ｄ，Ｊ＝3.9Hz），6.95（1H，ｓ），7.10
〜7.80（15H，ｍ） (3) 7α−アミノ−2α−メチル−１−オキサデチ
ア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニル
メチルエステルの製造 PCl5684mgを塩化メチレン１mlに溶解し、０℃
でピリジン390mgを加え15分間攪拌する。この反
応混合物に、前項(2)で得られた7α−ベンヅアミ
ド−2α−メチル−１−オキサデチア−３−セフ
エム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステル
の772mgを含む塩化メチレン３mlを加える。この
混合物を０℃で30分間、０〜25℃で30分間攪拌
後、再び０℃に冷却し、メタノール８mlを加え、
同温度で１時間攪拌し、更に氷水10mlを加え30分
間攪拌すると、７位から脱ベンゾイルする。 この反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチ
ルに溶解し、氷水を加えPH3.0に調整後、分液す
る。有機層を飽和重曹水次に水で洗浄し、
MgSO4で乾燥後減圧濃縮し、残留物をシリカゲ
ルのカラムクロマトグラフイー（展開溶媒：トル
エン−酢酸エチル，２：１）で精製し表題化合物
の276mg（46％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1780，1725 NMR（CDCl3），δppn：1.34（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），1.74（2H，ｓ），4.06（1H，ｄ，Ｊ＝0.9
Hz），4.64（1H，dq，Ｊ＝7.0，3.9Hz），4.75
（1H，ｄ，Ｊ＝0.9Hz），4.42（1H，ｄ，Ｊ＝
3.9Hz），7.00（1H，ｓ），7.10〜7.60（10H，
ｍ） (4) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2α−メチル−１
−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボン
酸ジフエニルメチルエステルの製造 （但しMeはメチル基、ｔ−Buは第３級ブチル
基、phはフエニル基を表わす） 前項(3)の方法で得られる化合物の340mg、３，
５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンヅア
ルデヒド239mgをベンゼン50mlに溶解しDean−
Starkの装置で30分間加熱還流後減圧濃縮し、表
題化合物を得る。これは精製せずに次の反応に用
いる。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1780，1723，1675 (5) 7β−アミノ−2α−メチル−１−オキサデチ
ア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニル
メチルエステルの製造 前項(4)で得た7α−（３，５−ジ−tert−ブチル
−４−ヒドロキシベンジリデンアミノ）−2α−メ
チル−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの540mgを塩
化メチレン12mlに溶解し、氷冷下MgSO4340mg、
過酸化ニツケル340mgを加え、10分間攪拌し、
過する。液を−20℃に冷却後Et4NBH440mgを
含む塩化メチレン１mlを加え、10分間攪拌し、氷
水にあける。７位アミノ基の立体配位が反転す
る。反応混合物をPH3.0に調整後、有機層を分液
し、飽和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で乾燥し
減圧濃縮する。 残留物を酢酸エチル６mlに溶解し、ジラードＴ
試薬274mgを含むメタノール６mlを加え室温で１
時間攪拌後、酢酸エチル12mlで希釈し、水洗、
MgSO4で乾燥し、減圧濃縮する。残留物をシリ
カゲルのクロマトグラフイー（展開溶媒：トルエ
ン−酢酸エチル，２：１）で精製し表題化合物の
200mg（59％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1782，1722 NMR（CDCl3），δppn：1.38（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），1.74（2H，ｓ），4.53（1H，ｄ，Ｊ＝4.0
Hz），4.70（1H，dq，Ｊ＝7.0，3.5Hz），5.04
（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），6.51（1H，ｄ，Ｊ＝
3.5Hz），6.96（1H，ｓ），7.10〜7.60（10H，
ｍ） 実施例 １ (イ) 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2α−
メチル−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例５(5)で得られた7β−アミノ−2α−メチ
ル−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルの140mgを塩化
メチレン４mlに溶解し、氷冷下、ピリジン40mg、
（２−チエニル）アセチルクロライド70mgを加え
30分間攪拌し、氷水にあける。有機層を分液し、
飽和重曹水、次に水で洗浄、MgSO4で乾燥後、
減圧濃縮し、残留物をシリカゲルのカラムクロマ
トグラフイー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチ
ル，８：１）で精製すると、表題化合物の174mg
（92％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1792，1725，1680 NMR（CDCl3），δppn：1.30（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），3.83（2H，ｓ），4.53（1H，dq，Ｊ＝
7.0，3.5Hz），5.04（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），
5.73（1H，dd，Ｊ＝9.0，4.0Hz），6.48（1H，
ｄ，Ｊ＝3.5Hz），6.93（1H，ｓ），6.90〜7.50
（13H，ｍ） (ロ) 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2α−
メチル−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（２−チエニル）アセ
トアミド｝−2α−メチル−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエ
ステルの110mgを氷冷したアニソール0.2ml、トリ
フルオロ酢酸1.1mlの混液に加え30分間攪拌して
加水分解する。その後減圧濃縮する。残留物をイ
ソプロピルエーテル（IPE）で粉末化すると目的
の表題化合物の62mg（86％）を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1660 NMR（DMSO−d6，δppn：1.31（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），3.75（2H，ｓ）、4.74（1H，dq，Ｊ＝
7.0，3.6Hz），5.18（1H，ｄ，Ｊ＝4.1Hz），
5.55（1H，dd，Ｊ＝9.0，4.1Hz），6.51（1H，
ｄ，Ｊ＝3.6Hz），6.80〜7.80（3H，ｍ），8.84
（1H，ｄ，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 ２ (イ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシイミノアセ
トアミド｝−2α−メチル−１−オキサデチア−
３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチ
ルエステルの製造 （但し、Trはトリチル基を表わす） （Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸116mgと参考
例５(5)で得られた7β−アミノ−2α−メチル−１
−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸
ジフエニルメチルエステルの87mgとを塩化メチレ
ン４mlに溶解し、−20℃でピリジン75mg、オキシ
塩化リン50mgを加え、−20〜０℃で30分間攪拌す
る。反応混合物を酢酸エチル15mlで希釈し、水、
飽和重曹水、水で順次洗浄し、MgSO4で乾燥後
減圧濃縮する。残留物をシリカゲルのカラムクロ
マトグラフイー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチ
ル，５：１）で精製し、表題化合物の135mg（72
％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1783，1725，1680 NMR（CDCl3），δppn：1.37（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），4.05（3H，ｓ），4.65（1H，dq，Ｊ＝
6.9，3.4Hz），5.13（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），
5.81（1H，dd，Ｊ＝10，4.0Hz），6.53（1H，
ｄ，Ｊ＝3.4Hz），6.78（1H，ｓ），6.94（1H，
ｓ），7.10〜7.50（25H，ｍ） (ロ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝
−2α−メチル−１−オキサデチア−３−セフ
エム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた化合物の110mgを氷冷したア
ニソール0.2ml、トリフルオロ酢酸１mlの混液に
加え、30分間攪拌して脱保護反応を行う。その
後、IPE−ｎ−ヘキサン（１：１）の混液10mlを
加え、生成する沈殿物を取、IPEで洗うと、目
的の表題化合物の57mgを得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1782，1660 NMR（OMSO−d6），δppn：1.33（3H，ｄ，Ｊ＝
7.2Hz），3.86（3H，ｓ），4.72（1H，dq，Ｊ＝
7.2，3.6Hz），5.22（1H，ｄ，Ｊ＝3.5Hz），
5.55（1H，dd，Ｊ＝8.5，3.5Hz），6.50（1H，
ｄ，Ｊ＝3.6Hz），6.78（1H，ｓ），9.34（1H，
ｄ，Ｊ＝（8.5Hz） 実施例 ３ (イ) 7β｛（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）−２−tert−ブトキシカルボ
ニルメトキシイミノアセトアミド｝−2α−メチ
ル−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 （Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−tert−ブトキシカルボニルメト
キシイミノ酢酸の178mgと参考例５(5)で得られた
7β−アミノ−2α−メチル−１−オキサデチア−
３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの100mgとを塩化メチレン５mlに溶解し、
−20℃でピリジン86mg、オキシ塩化リン58mgを加
え、−20〜０℃で30分間攪拌する。 反応混合物を酢酸エチル20mlで希釈し、水、飽
和重曹水、水で洗浄し、MgSO4で乾燥後減圧濃
縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル（10：１））
で精製し、表題化合物の155mg（63％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1793，1730，1678 NMR（CDCl3）δppn：1.28（3H，ｄ，Ｊ＝6.9Hz），
1.34（9H，ｓ）４，61（1H，dq，Ｊ＝6.9，
3.4Hz），4.68（2H，ｓ），5.08（1H，ｄ，Ｊ＝
3.8Hz）5.76（1H，dd，Ｊ＝9.0，3.8Hz），6.44
（1H，ｄ，Ｊ＝3.4Hz），6.77（1H，ｓ），6.88
（1H，ｓ）7.10〜7.50（25H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−カルボキシメトキシイミノア
セトアミド｝−2α−メチル−１−オキサデチア
−３−セフエム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた化合物の143mgを、氷冷した
アニソール0.2ml、トリフルオロ酢酸１，５mlの
混液に加え、同温度で30分間、室温で30分間攪拌
して脱保護反応を行う。反応液にIPE−ｎ−ヘキ
サン（１：１）の混液10mlを加え、生成する沈殿
物を取、IPE洗いすると、目的の表題化合物の
77mg（89％）を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1660， NMR（DMSO−d6），δppn：1.33（3H，ｄ，Ｊ＝
6.8Hz），4.61（2H，ｓ），4.74（1H，dq，Ｊ＝
6.8，3.2Hz），5.23（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），
5.61（1H，dd，Ｊ＝8.7，4.0Hz），6.51（1H，
ｄ，Ｊ＝3.2Hz），6.85（1H，ｓ），9.21（1H，
ｄ，Ｊ＝（8.7Hz）， 参考例 ６ (1) 7α−ベンヅアミド−2β−メチル−３−ヒド
ロキシ−１−オキサデチアセフアム−４−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例２(2)の方法で得られた化合物の2.80ｇを
塩化メチレン40mlに溶解し、−20℃でEt4NBH4の
0.41ｇを含む塩化メチレン５mlを加え、10分間攪
拌する。 反応混合物を氷水にあけPH3.0に調整後、有機
層を分液し、飽和重曹水次に水で洗浄し、
MgSO4で乾燥後減圧濃縮する。 残留物を酢酸エチルから結晶化すると表題化合
物2.20ｇ（78％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3380，1773，1722，
1650 NMR（CDCl3），δppn：1.27（3H，ｄ，Ｊ＝5.7
Hz），3.67（1H，ｄ，Ｊ＝8.2Hz），3.79（1H，
ｑ，Ｊ＝5.7Hz），4.88（1H，ｄ，Ｊ＝7.6），
4.89（1H，ｄ，Ｊ＝8.2Hz），5.25（1H，ｓ），
6.90（1H，ｓ），7.10〜7.80（15H，ｍ）， (2) 7α−ベンヅアミド−2β−メチル−１−オキ
サデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステルの製造 前項(1)で得られた化合物の2.20ｇと、４−ジメ
チルアミノピリジン0.270ｇを塩化メチレン35ml
に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン1.13ｇ、メ
タンスルホニルクロライド0.62ｇを加えた後、室
温で３時間攪拌する。 反応混合物を氷水にあけ、有機層を分液し、飽
和重曹水次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮
する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル、５：１）
で精製すると表題化合物の2.07ｇ（98％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1781，1727，1665 NMR（CDCl3），δppn：1.37（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），4.43（1H，dq，Ｊ＝7.0，1.9Hz），5.00
（1H，ｄ，Ｊ＝1.0Hz），5.18（1H，dd，Ｊ＝
8.3，1.0Hz），6.15（1H，ｄ，Ｊ＝1.9Hz），
6.92（1H，ｓ），7.10〜7.90（15H，ｍ）， (3) 7α−アミノ−2β−メチル−１−オキサデチ
ア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニル
メチルエステルの製造 PCl5886mgを塩化メチレン12mlに溶解し、０℃
でピリジン504mgを加え15分間攪拌する。 この反応混合物に前項(2)で得た7α−ベンヅア
ミド−2β−メチル−１−オキサデチア−３−セ
フエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステ
ルの1000mgを含む塩化メチレン３mlを加え、０℃
で30分間、０〜25℃で30分間攪拌後、再び０℃に
冷却し、メタノール12mlを加え、同温度で１時間
攪拌し、更に氷水６mlを加え30分間攪拌する。 反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル
に溶解し、氷水を加えPH3.0に調整後分液する。 有機層を飽和重曹水次に水で洗浄し、MgSO4
で乾燥後減圧濃縮し、残留物をシリカゲルのカラ
ムクロマトグラフイー（展開溶媒：トルエン−酢
酸エチル（＝２：１））で精製し表題化合物404mg
（52％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1778，1728 NMR（CDCl3），δppn：1.37（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），１，87（2H，ｓ），4.08（1H，ｄ，Ｊ＝
1.1Hz），4.57（1H，dq，Ｊ＝6.9，1.1Hz），
4.78（1H，ｄ，Ｊ＝1.1Hz），6.25（1H，ｄ，
Ｊ＝1.9Hz），6.99（1H，ｓ），7.10〜7.60
（10H，ｍ）， (4) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2β−メチル−１
−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボン
酸ジフエニルメチルエステルの製造 前項(3)で得られた7α−アミノ−2β−メチル−
１−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボン
酸ジフエニルメチルエステルの470mgと３，５−
ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンヅアルデ
ヒド331mgをベンゼン50mlに溶解し、Dean−
Starkの装置で30分間加熱還流後、減圧濃縮し、
表題化合物を得た。精製せずに次の反応に用い
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3630，1780，1725，
1680， NMR（CDCl3），δppn：1.42（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），1.45（18H，ｓ），4.64（1H，dq，Ｊ＝
6.9，1.8Hz），4.74（1H，ｍ），5.18（1H，ｄ，
Ｊ＝0.7Hz），5.50（1H，ｓ），6.31（1H，ｄ，
Ｊ＝1.8Hz），7.00（1H，ｓ），7.10〜7.60
（10H，ｍ），7.60（2H，ｓ），8.40（1H，ｄ，
Ｊ＝1.1Hz）， (5) 7β−アミノ−2β−メチル−１−オキサデチ
ア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニル
メチルエステルの製造 前項(4)で得られた7α−（３，５−ジ−tert−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジリデンアミノ）−2β
−メチル−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの743mg
を塩化メチレン10mlに溶解し、氷冷下にMgSO4
の470mg、過酸化ニツケルの470mgを加え10分間攪
拌して過する。 液を−20℃に冷却後Et4NBH455mgを含む塩
化メチレン１mlを加え、10分間攪拌し、氷水にあ
け、PH3.0に調整後分液する。 有機層を飽和重曹水次に水で洗浄し、MgSO4
で乾燥後減圧濃縮する。 残留物を酢酸エチル10mlに溶解し、ジラードＴ
試薬504mgを含むメタノール10mlを加え、室温で
１時間攪拌する。反応混合物を酢酸エチル20mlで
希釈し、水洗後MgSO4で乾燥し減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル（＝２：
１））で精製し、表題化合物の260mg（55％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3400，1785，1723， NMR（CDCl3），δppn：1.40（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），1.87（2H，ｓ），4.45（1H，ｄ，Ｊ＝
4.0），4.60（1H，dq，Ｊ＝6.9，1.8Hz），5.03
（1H，ｄ，Ｊ＝4.0），6.35（1H，ｄ，Ｊ＝1.8
Hz），6.95（1H，ｓ），7.10〜7.60（10H，ｍ）， 実施例 ４ (イ) 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2β−
メチル−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例６(5)で得られた7β−アミノ−2β−メチ
ル−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルに対して実施例
１(イ)と同様に（２−チエニル）アセチルクロライ
ドを反応させ、表題化合物を得た。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1790，1725，1680 NMR（CDCl3），δppn：1.29（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz），3.84（2H，ｓ）4.54（1H，dq，Ｊ＝6.8，
1.7Hz），5.05（1H，ｄ，Ｊ＝3.9Hz），5.64
（1H，dd，Ｊ＝9.4，4.0Hz）6.34（1H，ｄ，
Ｊ＝1.7Hz），6.94（1H，ｓ），7.10〜7.50
（13H，ｍ）， (ロ) 7β｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2β−メ
チル−１−オキサデチア−３−セフエム−４−
カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（２−チエニル）アセ
トアミド｝−2β−メチル−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエ
ステルを実施例１(ロ)と同様に加水分解して表題の
目的化合物を得た。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1660 NMR（DMSO−d6），δppn：1.34（3H，ｄ，Ｊ＝
6.8Hz），3.76（2H，ｓ），4.63（1H，dq，Ｊ＝
6.8，1.7Hz），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝3.9Hz），
5.48（1H，dd，Ｊ＝9.3，3.9Hz），6.34（1H，
ｄ，Ｊ＝1.7Hz），6.80〜7.90（3H，ｍ），8.77
（1H，ｄ，Ｊ＝9.3Hz）， 実施例 ５ (イ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシイミノアセ
トアミド｝−2β−メチル−１−オキサデチア−
３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチ
ルエステルの製造 （Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸と参考例６
(5)で得られた7β−アミノ−2β−メチル−１−オ
キサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステルとを実施例３(イ)と同様に反
応させて表題化合物を得た。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1791，1725，1680 NMR（CDCl3），δppn：1.37（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），4.05（3H，ｓ）4.65（1H，dq，Ｊ＝6.9，
1.5Hz），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），5.73
（1H，dd，Ｊ＝9.0，4.0Hz），6.38（1H，ｄ，
Ｊ＝1.5Hz）6.81（1H，ｓ），6.94（1H，ｓ），
7.10〜7.50（25H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝
−2β−メチル−１−オキサデチア−３−セフ
エム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキ
シイミノアセトアミド｝−2β−メチル−１−オキ
サデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエ
ニルメチルエステルを実施例３(ロ)と同様に処理し
て表題の目的化合物を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1665 NMR（DMSO−d6），δppn：1.32（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz），3.87（3H，ｓ），4.65（1H，dq，Ｊ＝
7.0，1.8Hz），5.25（1H，ｄ，Ｊ＝3.9Hz），
5.48（1H，dd，Ｊ＝7.9，3.9Hz），6.34（1H，
ｄ，Ｊ＝1.8Hz），6.86（1H，ｓ），9.37（1H，
ｄ，Ｊ＝7.9Hz） 実施例 ６ (イ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−tert−ブトキシカル
ボニルメトキシイミノアセトアミド｝−2β−メ
チル−１−オキサデチア−３−セフエム−４−
カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 （Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−tert−ブトキシカルボニルメト
キシイミノ酢酸と参考例６(5)で得られた7β−ア
ミノ−2β−メチル−１−オキサデチア−３−セ
フエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステ
ルとを実施例３(イ)と同様に反応させて表題化合物
を得た。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1798，1730，1680， NMR（CDCl3），δppn：1.37（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），1.39（9H，ｓ），4.58（1H，dq，Ｊ＝
7.0，1.8Hz），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），
5.75（1H，dd，Ｊ＝9.4，4.0Hz），6.36（1H，
ｄ，Ｊ＝1.8Hz），6.83（1H，ｓ），6.93（1H，
ｓ），7.10〜7.50（25H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−カルボキシメトキシイミノア
セトアミド−2β−メチル−１−オキサデチア
−３−セフエム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−２−tert−
ブトキシカルボニルメトキシイミノアセトアミ
ド｝−2β−メチル−１−オキサデチア−３−セフ
エム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステル
を実施例３(ロ)と同様に処理して目的の表題化合物
を得た。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1660， NMR（DMSO−d6，δppn：1.31（3H，ｄ，Ｊ＝6.7
Hz），4.62（2H，ｓ）4.73（1H，dq，Ｊ＝6.7，
1.6Hz），5.23（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），5.54
（1H，dd，Ｊ＝8.5，4.0），6.34（1H，ｄ，Ｊ
＝1.6Hz），6.94（1H，ｓ）9.25（1H，ｄ，Ｊ
＝8.6Hz）， 参考例 ７ (1) 7αーベンヅアミド−2α−メチル−３−メト
キシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−
カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例１(2)の方法で得られた化合物の2.0ｇを
酢酸エチル20mlに溶解し、ジアゾメタン5mmo
を含むエーテル溶液を滴下し、30分間攪拌する。 反応混合物に酢酸0.1ml加え30分間攪拌し、飽
和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で乾燥後、減圧
濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル，８：１）
で精製すると、表題化合物の1.90ｇ（93％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1780，1720，1665， NMR（CDCl3），δppn：1.42（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），3.67（3H，ｓ），4.63（1H，ｑ，Ｊ＝7.0
Hz），5.65（1H，dd，Ｊ＝7.0，0.9Hz），5.11
（1H，ｄ，Ｊ＝0.9Hz），6.92（1H，ｓ），7.10
〜7.80（15H，ｍ）， (2) 7α−アミノ−2α−メチル−３−メトキシ−
１−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボ
ン酸ジフエニルメチルエステルの製造 PCl51.14ｇを塩化メチレン30mlに溶解し、０℃
でピリジン651mgを加え15分間攪拌する。 この反応混合物に前項(1)で得た7α−ベンヅア
ミド−2α−メチル−３−メトキシ−１−オキサ
デチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニ
ルメチルエステル1.37ｇを含む塩化メチレン15ml
を加え、０℃で30分間、０〜25℃で30分間攪拌
後、再び０℃に冷却し、メタノール30mlを加え０
℃で１時間、０〜25℃で30分間攪拌し、更に氷水
15mlを加え30分間攪拌する。 反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル
に溶解し、飽和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で
乾燥後減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル，１：１）
で精製すると、表題化合物の580mg（53％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3400，1770，1720， NMR（CDCl3），δppn：1.44（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），1.85（2H，ｓ），3.66（3H，ｓ），4.00
（1H，ｄ，Ｊ＝0.6Hz），4.56（1H，ｑ，Ｊ＝
6.9Hz），4.90（1H，ｄ，Ｊ＝0.6Hz），6.97
（1H，ｓ），7.10〜7.60（10H，ｍ）， (3) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2α−メチル−３
−メトキシ、−１−オキサデチア−３−セフエ
ム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステル
の製造 前項(2)で得られた化合物の600mgと３，５−ジ
−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンヅアルデヒ
ド391mgをベンゼン50mlに溶解し、Dean−Stark
の装置で２時間加熱還流した。その後、減圧濃縮
し、表題化合物を得た。これは精製せずに次の反
応に用いる。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1775，1720，1680， (4) 7β−アミノ−2α−メチル−３−メトキシ−
１−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボ
ン酸ジフエニルメチルエステルの製造 前項(3)で得られた7α−（３，５−ジ−tert−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジリデンアミノ）−2α
−メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエ
ステル927mgを塩化メチレン18mlに溶解し、氷冷
下にMgSO4600mgと過酸化ニツケル600mgを加え、
10分間攪拌し過する。 液を−20℃に冷却後Et4NBH465mgを含む塩
化メチレン１mlを加え10分間攪拌し、氷水にあけ
る。 反応混合物をPH3.0に調整後、有機層を分液し、
飽和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で乾燥後、減
圧濃縮する。 残留物を酢酸エチル10mlに溶解し、ジラードＴ
試薬449mgを含むメタノール10mlを加え、室温で
２時間攪拌し、酢酸エチル20mlで希釈後、水洗、
MgSO4で乾燥し減圧濃縮する。残留物をシリカ
ゲルのカラムクロマトグラフイー（展開溶媒：ト
ルエン−酢酸エチル（１：１））で精製すると、
表題化合物の294mg（49％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3400，1780，1720， NMR（CDCl3），δppn：1.49（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），1.80（2H，ｓ），3.70（3H，ｓ），4.47
（1H，ｄ，Ｊ＝3.8Hz），4.64（1H，ｑ，Ｊ＝
6.8Hz），5.14（1H，ｄ，Ｊ＝3.8Hz），6.95
（1H，ｓ），7.10〜7.60（10H，ｍ）， 実施例 ７ (イ) 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2α−
メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの製造 参考例７(4)で得られた化合物の100mgを塩化メ
チレン４mlに溶解し、氷冷下、ピリジン24mgと
（２−チエニル）アセチルクロライド48mgを加え、
30分間攪拌し、氷水にあける。 有機層を分液し、飽和重曹水次に水で洗浄し、
MgSO4で乾燥後減圧濃縮し、残留物をシリカゲ
ルのカラムクロマトグラフイー（展開溶媒：トル
エン−酢酸エチル，10：１）で精製すると、表題
化合物の123mg（94％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1790，1720，1680 NMR（CDCl3），δppn：1.44（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），3.69（3H，ｓ）3.83（2H，ｓ），4.50
（1H，ｑ，Ｊ＝6.9Hz），5.18（1H，ｄ，Ｊ＝
3.6Hz），5.66（1H，dd，Ｊ＝9.4，3.7Hz），
6.94（1H，ｓ），6.90〜7.50（13H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2α−
メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた化合物の120mgを氷冷下アニ
ソール0.2ml、トリフルオロ酢酸1.5mlの混液に加
え、30分間攪拌して加水分解する。反応液を減圧
濃縮して、その残留物をIPEで粉末化後、取
し、IPEで洗い目的の表題化合物の89mg（91％）
を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1778，1650， NMR（DMSO−d6），δppn：1.42（3H，ｄ，Ｊ＝
6.8Hz），3.72（3H，ｓ），3.74（2H，ｓ），4.77
（1H，ｑ，Ｊ＝6.8Hz），5.30（1H，ｄ，Ｊ＝
3.5Hz），5.48（1H，dd，Ｊ＝9.5，3.5Hz），
6.80〜7.40（3H，ｍ），8.85（1H，ｄ，Ｊ＝9.5
Hz）， 実施例 ８ (イ) 7β−｛（２−（２−チエニル）−２−（ジフエ
ニ
ルメトキシカルボニル）アセトアミド｝−2α−
メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの製造 ２−（２−チエニル）−２−（ジフエニルメトキ
シカルボニル）酢酸77mgと参考例７(4)で得られた
7β−アミノ−2α−メチル−３−メトキシ−１−
オキサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジ
フエニルメチルエステル80mgとを塩化メチレン３
mlに溶解し、−20℃でピリジン63mg、オキシ塩化
リン43mgを加え、−20〜０℃で30分間攪拌する。 反応混合物に酢酸エチル10mlを加え、水、飽和
重曹水、水で洗浄し、MgSO4で乾燥後減圧濃縮
する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル（20：１））
で精製すると、表題化合物108mg（75％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1790，1721，1685 NMR（CDCl3），δppn：1.41（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），3.70（3H，ｓ），4.46＋4.49（1H，ｑ，
Ｊ＝7.0Hz），4.94＋4.96（1H，ｓ），5.16（1H，
ｄ，Ｊ＝3.6Hz），5.62（1H，dd，Ｊ＝9.1，
3.6Hz），6.88（1H，ｓ），6.80〜7.50（23H，
ｍ）， (ロ) 7β−｛（２−（２−チエニル）−２−（カルボ
キ
シ）アセトアミド｝−2α−メチル−３−メトキ
シ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸の製造 前項(イ)で得られた化合物の150mgを、氷冷下に
アニソール0.2ml、トリフルオロ酢酸1.5mlの混液
に加え、30分間攪拌し、減圧濃縮する。 残留物をIPEで粉末化後、取し、IPEで洗い
目的の表題化合物の72mg（89％）を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1785，1680 実施例 ９ (イ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシイミノアセ
トアミド｝−2α−メチル−３−メトキシ−１−
オキサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸
ジフエニルメチルエステルの製造 （Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸97mgと参考
例７(4)で得られた化合物の80mgとを塩化メチレン
３mlに溶解し、−20℃でピリジン63mg、オキシ塩
化リン42mgを加え、−20〜０℃で30分間攪拌する。 反応混合物を酢酸エチル10mlで希釈し、水、飽
和重曹水、水で順次洗浄し、MgSO4で乾燥後、
減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル（５：１））
で精製すると、表題化合物104mg（64％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1793，1720，1683， NMR（CDCl3），δppn：1.46（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），3.70（3H，ｓ），4.04（2H，ｓ），4.56
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz），5.23（1H，ｄ，Ｊ＝
4.0Hz），5.70（1H，dd，Ｊ＝9.0，4.0Hz），
6.76（1H，ｓ），6.89（1H，ｓ），7.10〜7.50
（25H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝
−2α−メチル−３−メトキシ−１−オキサデ
チア−３−セフエム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキ
シイミノアセトアミド｝−2α−メチル−３−メト
キシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの730mgを、
氷冷下でアニソール0.2ml、トリフルオロ酢酸1.5
mlの混液に加え、30分間攪拌した。その後、IPE
−ｎ−ヘキサン（１：１）の混液10mlを加え、生
成する沈殿物を取し、IPE洗いすると目的の表
題化合物71mg（86％）を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1790，1670 NHR（DMSO−d6），δppn：1.43（3H，ｄ，Ｊ＝
6.9Hz）3.72（3H，ｓ）3.85（3H，ｓ），4.77
（1H，ｑ，Ｊ＝6.9Hz），5.34（1H，ｄ，Ｊ＝
4.2Hz）5.48（1H，dd，Ｊ＝8.3，4.2Hz），6.77
（1H，ｓ），9.33（1H，ｄ，Ｊ＝8.3Hz） 参考例 ８ (1) 7αーベンヅアミド−2β−メチル−３−メト
キシ−オキサデチア−３−セフエム−４−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例２(2)で得られた化合物の1.83ｇを酢酸エ
チル20mlに溶解し、ジアゾメタン5mmoを含む
エチルエーテル溶液を滴下し、30分間攪拌する。 反応混合物に酢酸0.1mlを加え、30分間攪拌後、
飽和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で乾燥し、減
圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル（８：１））
で精製すると、表題化合物1.78ｇ（95％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1770，1718，1663 NMR（CDCl3），δppn：1.43（3H，ｄ，Ｊ＝6.7
Hz），3.57（3H，ｓ）4.47（1H，ｑ，Ｊ＝6.7
Hz），4.90（1H，ｄ，Ｊ＝0.7Hz），5.04（1H，
dd，Ｊ＝7.7，0.7Hz），6.91（1H，ｓ），7.10
〜7.90（15H，ｍ）， (2) 7α−アミノ−2β−メチル−３−メトキシ−
１−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボ
ン酸ジフエニルメチルエステルの製造 PCl51.25ｇを塩化メチレン30mlに溶解し、０℃
でピリジン713mgを加え15分間攪拌する。 この反応混合物に前項(1)で得られた7α−ベン
ヅアミド−2β−メチル−３−メトキシ−１−オ
キサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステルの1.50ｇを含む塩化メチレ
ン10mlを加え、０℃で30分間、０〜25℃で30分間
攪拌後、再び０℃に冷却し、メタノ−ル30mlを加
え、０℃で30分間、０〜25℃で30分間攪拌し、更
に氷水20mlを加え30分間攪拌する。 反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル
に溶解し、飽和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で
乾燥後減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル（１：１））
で精製すると表題化合物570mg（48％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3400，1778，1727 NMR（CDCl3），δppn：1.41（3H，ｄ，Ｊ＝6.7
Hz），1.90（2H，ｓ），3.63（3H，ｓ），4.01
（1H，ｄ，Ｊ＝0.5Hz）4.49（1H，ｑ，Ｊ＝
6.7Hz），4.79（1H，ｄ，0.5Hz），6.97（1H，
ｓ），7.10〜7.60（10H，ｍ）， (3) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2β−メチル−３
−メトキシ−１−オキサデチア−３−セフエム
−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの
製造 前項(2)で得られた7α−アミノ−2β−メチル−
３−メトキシ−１−オキサデチア−３−セフエム
−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの
490mgと３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロ
キシベンヅアルデヒド320mgをベンゼン50mlに溶
解し、Dean−Starkの装置で1.5時間加熱還流後、
減圧濃縮し、表題化合物を得る。これは精製せず
に次の反応に用いる。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1775，1720，1681 (4) 7β−アミノ−2β−メチル−３−メトキシ−
１−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボ
ン酸ジフエニルメチルエステルの製造 前項(3)で得られた7α−（３，５−ジ−tert−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジリデンアミノ）−2β
−メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエ
ステルの756mgを塩化メチレン15mlに溶解し、氷
冷下、MgSO4500mgと過酸化ニツケル500mgを加
え10分間攪拌し過する。 液を−20℃に冷却後、Et4NBH4の53mgを含
む塩化メチレン１mlを加え、10分間攪拌し、氷水
にあける。 反応混合物をPH3.0に調整後、有機層を分液し、
飽和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で乾燥後、減
圧濃縮する。 残留物を酢酸エチル７mlに溶解し、ジラードＴ
試薬366mgを含むメタノール７mlを加え、室温で
２時間攪拌し、酢酸エチル14mlで希釈後、水洗
MgSO4で乾燥し減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル（１：１））
で精製すると、表題化合物250mg（51％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3400，1782，1720， NMR（CDCl3），δppn：1.45（3H，ｄ，Ｊ＝6.7
Hz），1.84（2H，ｓ），3.69（3H，ｓ），4.42
（1H，ｄ，Ｊ＝3.9Hz），4.52（1H，ｑ，Ｊ＝
6.7Hz），5.01（1H，ｄ，Ｊ＝3.9Hz），6.93
（1H，ｓ），7.10〜7.50（10H，ｍ）， 実施例 10 (イ) 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2β−
メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの製造 （２−チエニル）アセチルクロライドと参考例
８(4)で得られた7β−アミノ−2β−メチル−３−
メトキシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルを実施例
７(イ)と同様に反応させて表題化合物を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1788，1720，1680 NMR（CDCl3），δppn：1.33（3H，ｄ，Ｊ＝6.6
Hz），3.69（3H，ｓ），3.84（2H，ｓ），4.44
（1H，ｑ，Ｊ＝6.6Hz），5.03（1H，ｄ，Ｊ＝
3.6Hz），5.59（1H，dd，Ｊ＝9.5，3.6Hz），
6.94（1H，ｓ），6.80〜7.50（13H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−
2β−メチル−３−メトキシ−１−オキサデチ
ア−３−セフエム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（２−チエニル）アセ
トアミド｝−2β−メチル−３−メトキシ−１−オ
キサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステルを実施例７(ロ)と同様に脱保
護処理して、目的の表題化合物を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1660， NMR（DMSO−d6），δppn：1.35（3H，ｄ，Ｊ＝
6.7Hz），3.75（3H，ｓ），4.63（1H，ｑ，Ｊ＝
6.7Hz），5.14（1H，ｄ，Ｊ＝3.5Hz），5.39
（1H，dd，Ｊ＝8.9，3.5Hz），6.80〜7.40（3H，
ｍ），8.75（1H，ｄ，Ｊ＝8.9Hz）， 実施例 11 (イ) 7β−｛（２（２−チエニル）−２−（ジフエニ
ル
メトキシカルボニル）アセトアミド｝−2β−メ
チル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３−
セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエ
ステルの製造 ２−（２−チエニル）−２−（ジフエニルメトキ
シカルボニル）酢酸と参考例８(4)で得られた7β
−アミノ−2β−メチル−３−メトキシ−１−オ
キサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステルとを実施例８(イ)と同様に反
応させて表題化合物を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1790，1720，1690 NMR（CDCl3），δppn：1.31＋1.33（3H，ｄ，Ｊ＝
6.5Hz），3.70（3H，ｓ），4.42（1H，ｑ，Ｊ＝
6.5Hz），4.96＋5.03（1H，ｄ，Ｊ＝3.5Hz），
5.53＋5.55（1H，dd，Ｊ＝9.1，3.5Hz），6.86
（1H，ｓ），6.80〜7.60（23H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（２−（２−チエニル）−２−（カルボ
キ
シ）アセトアミド｝−2β−メチル−３−メトキ
シ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（２−（２−チエニル）
−２−（ジフエニルメトキシカルボニル）アセト
アミド｝−2β−メチル−３−メトキシ−１−オキ
サデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエ
ニルメチルエステルを実施例８(ロ)と同様に処理し
て目的の表題化合物を得た。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1782，1680， NMR（DMSO−d6），δppn：1.28＋1.37（3H，ｄ，
Ｊ＝6.8Hz），3.75（3H，ｓ），4.54＋4.60（1H，
ｑ），5.05〜5.20（2H，ｍ），5.37（1H，dd），
6.85〜7.50（3H，ｍ）， 実施例 12 (イ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシイミノアセ
トアミド｝−2β−メチル−３−メトキシ−１−
オキサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸
ジフエニルメチルエステルの製造 （Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸と参考例８
(4)で得られた7β−アミノ−2β−メチル−３−メ
トキシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−
カルボン酸ジフエニルメチルエステルとを実施例
９(イ)と同様に反応させて表題化合物を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1790，1720，1682， NMR（CDCl3），δppn：1.35（3H，ｄ，Ｊ＝6.6
Hz），3.70（3H，ｓ）4.05（3H，ｓ），4.49
（1H，ｑ，Ｊ＝6.6Hz），5.11（1H，ｄ，Ｊ＝
3.7Hz），5.63（1H，dd，Ｊ＝9.1，3.7Hz），
6.80（1H，ｓ），6.90（1H，ｓ），7.10〜7.50
（25H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝
−2β−メチル−３−メトキシ−１−オキサデ
チア−３−セフエム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキ
シイミノアセトアミド｝−2β−メチル−３−メト
キシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルを実施例９(ロ)
と同様に処理して目的の表題化合物を得た。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1785，1770， NMR（DMSO−d6），δppn：1.33（3H，ｄ，Ｊ＝
6.7Hz），3.75（3H，ｓ）3.86（3H，ｓ），4.66
（1H，ｑ，Ｊ＝6.7Hz），5.21（1H，ｄ，Ｊ＝
3.7Hz），5.43（1H，dd，Ｊ＝8.4，3.7Hz），
6.83（1H，ｓ），9.35（1H，ｄ，Ｊ＝8.2Hz）， 参考例 ９ 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−メチル
チオ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例４で得られた7α−ベンヅアミド−2αメ
チル−３−ヒドロキシ−１−オキサデチア−３−
セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエス
テル338mgをアセトニトリル７mlに溶解し、−５℃
でジイソプロピルエチルアミン0.134mlを加え10
分間攪拌後、メシルクロライド0.06mlを加え40分
間攪拌する。 更に同温度でジイソプロピルエチルアミン
0.536mlとメチルメルカプタンのベンゼン溶液
（0.28M）0.3mlを加え４時間攪拌する。 この反応混合物を酢酸エチル100mlで希釈した
後、水、0.1N塩酸、飽和重曹水、水で順次洗浄
し、MgSO4で乾燥後、有機層を減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：ベンゼン−酢酸エチル、10：１）
で精製すると表題化合物146mg（40％）を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1720 NMR（CDCl3），δppn：1.50（3H，ｄ，Ｊ＝７Hz），
2.18（3H，ｓ）4.65（1H，ｑ，Ｊ＝７Hz），
4.98（1H，ｄ，Ｊ＝７Hz），5.18（1H，ｓ），
6.90（1H，ｓ），7.10〜7.90（16H，ｍ）， 参考例 10 (1) 7α−ベンヅアミド−2β−メチル−３−メチ
ルチオ−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例２(2)で得られた7α−ベンヅアミド−2β
−メチル−３−ヒドロキシ−１−オキサデチア−
３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの338mgをアセトニトリル７mlに溶解し、
−５℃でジイソプロピルエチルアミン0.134mlを
加え10分間攪拌後、メシルクロライド0.06mlを加
え40分間攪拌する。 更に同温度でジイソプロピルエチルアミン
0.536mlとメチルメルカプタンのベンゼン溶液
（0.28M）0.3mlを加え５℃で22時間攪拌する。 この反応混合物を酢酸エチル100mlで希釈した
後、水、0.1N塩酸、飽和重曹水、水で順次洗浄
し、有機層をMgSO4で乾燥後減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：ベンゼン−酢酸エチル（＝10：
１））で精製すると、表題化合物48mg（13％）を
得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1720 NMR（CDCl3），δppn：1.55（3H，ｄ，Ｊ＝７Hz），
2.13（3H，ｓ），4.60（1H，ｑ，Ｊ＝７Hz），
4.93（1H，ｄ，Ｊ＝７Hz），5.00（1H，ｓ），
6.90（1H，ｄ，Ｊ＝７Hz），6.95（1H，ｓ），
7.10〜7.90（15H，ｍ） (2) 7α−アミノ−2β−メチル−３−メチルチオ
−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 前項(1)で得られた化合物を参考例５(3)の方法と
同様に処理して７位から脱ベンゾイルすると、表
題化合物が得られた。 (3) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2β−メチル−３
−メチルチオ−１−オキサデチア−３−セフエ
ム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステル
の製造 前項(2)で得られた化合物を参考例５(4)と同様に
３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベン
ヅアルデヒドと反応させて表題化合物を得た。 (4) 7β−アミノ−2β−メチル−３−メチルチオ
−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 前項(3)で得られた化合物を参考例５(5)と同様に
して、過酸化ニツケルと、次いでEt4NBH4と反
応させ、更に同様に後処理すると、表題化合物を
得た。 実施例 13 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2β−メ
チル−３−メチルチオ−１−オキサデチア−３−
セフエム−４−カルボン酸の製造 参考例10(4)で得られた化合物を（２−チエニ
ル）アセチルクロライドと実施例７(イ)と同様に反
応させ、得られた７位アシル化化合物を実施例７
(ロ)と同様に処理すると、目的の表題化合物が得ら
れた。
得る塩であることができ、この塩類には、該化合
物中に存在するカルボキシル基との反応により生
成される慣用的な非毒性の塩（カルボキシレー
ト）、特に無機塩基との塩類、例えばナトリウム
塩、カリウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシ
ウム塩、マグネシウム塩、亜鉛塩のようなアルカ
リ土類金属塩があり、また、リジン、アルギニ
ン、オルニチン、ヒスチジンのような塩基性アミ
ノ酸との付加塩があり、さらに有機アミン類、そ
の他の、セフアロスポリンと通常塩を形成するよ
うな塩基性物質との付加塩がある。 また、一般式（）の本発明化合物の他の無毒
性塩としては、該化合物のアミノ基又は他の塩基
性基における塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リ
ン酸などの無機酸との付加塩があり、またトリフ
ルオル酢酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホ
ン酸、マレイン酸、酒石酸、ｐ−トルエンスルホ
ン酸のような有機カルボン酸又は有機スルホン酸
との付加塩、並びにアスパラギン酸、グルタミン
酸のような酸性アミノ酸との付加塩類があり、さ
らに分子間又は分子内塩等をあげることができ
る。 また一般式（）の本発明化合物（）はその
無毒性エステルであることができ、これらエステ
ルとしては、そのカルボキシル基における薬学的
に許容できるエステル形成基とのエステルがある
が、その中でも、代謝上不安定なエステルが好ま
しい。後者は生体内で加水分解して除去され得る
エステル形成基を有する化合物である。かゝるエ
ステル形成基の例としてはアセトキシメチル基、
ピバロイルオキシメチル基、α−エトキシカルボ
ニルオキシエチル基、フタリジル基、フエニル
基、２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イ
ル基等でありうる。 一般式（）で表わされる本発明化合物の製造
に用いた一般式（）の２−アルキル−3′−ノル
−オキサセフエム化合物の合成は、概略的に言え
ば、本発明者らによつて初めて合成された後記の
一般式（）（本出願人の出願に係る特願昭57−
159548号明細書24頁、79〜80頁参照）のアゼチジ
ノン誘導体を出発原料として用い、該化合物の環
化と、さらに所望によりオキサセフアロスポリン
核の３位置換基の変換を基本工程とする方法によ
つて行われる。その出発化合物（）の合成方法
のフローチヤートは次の通りである。 前記のフローチヤートに示した一般式（）〜
（′）の化合物において、基R′CO−は、アシル
基例えばベンゾイル基を表わし、R2は一般式
（）におけると同じ低級アルキル基を表わし、
R3は一般式（）におけると同じ水素原子、メ
トキシ基又は低級アルキルチオ基を表わし、R′3
は低級アルキル基を表わし、R5は芳香族基例え
ば置換フエニル基、好ましくは３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフエニル基を表わし、
phはフエニル基を表わし、Ａはカルボキシル保
護基を示す。 尚この明細書中、「低級アルキル」とは但し書
きのない限り炭素数１〜４のアルキルを示す。 本発明化合物（）の製法で使用される一般式
（）の出発化合物、またその製造用中間体物質
である一般式（）〜（）の各化合物におけ
るR′，R2，R3，R5及びＡについて以下に詳しく
説明する。 基R′CO−のアシル基としては、一般に芳香族
アシル基であるならばすべて使用可能である。従
つて、基R′は芳香族基、例えばアリール基、特
にフエニル基又は置換フエニル基、アリールアル
キル基、アリーロキシアルキル基、アラルキルオ
キシ基又はトリフエニルアルキル基であることが
できる。例えば基R′CO−は、好適にはベンゾイ
ル基、フエニルアセチル基、ベンジルオキシカル
ボニル基、フエノキシメチルカルボニル基又はト
リチルカルボニル基であるのがよい。 低級アルキル基（R2）はα，βの両方何れの
立体配位を取ることができ、α，βの両配位とも
にメチル基が好適である。 シツフ塩基残基R5−CH＝における基R5は一般
的には、芳香族基、特にアリール基であることが
でき、好ましくは４−ヒドロキシフエニル基であ
る。この上の置換基として、メチル、イソプロピ
ル、ｔ−ブチル等の低級アルキル基などが存在し
てもよく、その置換の位置は３，５−ジ置換が好
適である。R5は３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフエニル基であるのが好適である。 基Ａは水素原子、又はカルボキシル保護基であ
ることができ、カルボキシル保護基としては、従
来セフアロスポリン、ペニシリン類に慣用されて
いるものはすべて使用可能である。例えば、Ａは
ジフエニルメチル基、ベンジル基、ｐ−ニトロベ
ンジル基などの置換または非置換アラルキル基、
またはｔ−ブチル基、トリクロロエチル基などの
置換または非置換のアルキル基であり得る。 本発明で出発化合物として用いる一般式（）
の化合物の合成法を、前出のフローチヤート図に
ついてさらに詳しく説明する。 まず、アゼチジノン化合物（）から化合物
（）を生成する環化反応を行うのであるが、こ
の反応は化合物（）を、不活性溶媒に溶解して
加熱する方法、いわゆるウイテイヒ（Wittig）反
応により環化させる反応である。この環化反応で
は、まずアゼチジノン化合物（）の４位末端カ
ルボン酸の活性化が必要とされ、これには、例え
ば無水酢酸で活性化し反応を促進させるためにジ
メチルアセトアミド（DMA）を加えるのが好ま
しい。この環化反応の温度は40〜120℃の範囲で、
好ましくは100〜120℃の範囲である。不活性溶媒
としては、THF、ジオキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレンその他ジメトキシエタン等のエー
テル類が用いられる。この反応においては副反応
を防ぐため、窒素あるいはアルゴン気流中で行う
のが望ましい。以上の加熱処理で化合物（）が
環化され、３−アセトキシオキサセフエム化合物
（）が得られる。 さらに、この化合物（）を加水分解する。こ
れには化合物（）を含水ピリジン中に溶解する
と、アセトキシ基の加水分解により、３−ヒドロ
キシオキシセフエム化合物（）が生成する（後
記の参考例１〜２参照）。 なお他方、化合物（）の別の合成法として、
次式 （式中R2およびＡは前述の意味を表わし、ph
はフエニル基を表わす）で表わされる化合物（特
願昭57−159548号明細書96頁参照）を出発原料と
して用いる方法がある。この方法は特開昭58−
103391号明細書に記述された方法に準拠するもの
で、上記出発物質（′）のオゾン分解、炭素鎖
伸長、ジアゾ化、および環化の４工程により化合
物（）を得る方法である。この方法の実施は後
記の参考例３に記述した。 前述のように生成された化合物（）における
R2のα，βの立体配位は出発化合物（）にお
けるR2の配位が（Ｒ）−配位の場合にはα−配位
となり、また（Ｓ）−配位の場合にはβ−配位と
なる。 次に、化合物（）から化合物（−ａ），（
−ｂ）又は（−ｃ）を合成するのであるが、こ
れらの工程では、それぞれ、化合物（）のオキ
サセフアロスポリン母核の３位置換基であるヒド
ロキシル基を水素、メトキシ基又は低級アルキル
チオ基（−SR′3）に変換する反応を行う。 化合物（）の３位ヒドロキシル基を水素原子
に変換して化合物（−ａ）を生成するには、化
合物（）を不活性溶媒例えばジクロロメタン又
はクロロホルム中で還元剤例えば水素化ホウ素テ
トラエチルアンモニウム、ジボラン、水素化ホウ
素化ナトリウムと作用させることにより、オキサ
セフエム環をオキサセフアム環へ変換して化合物
（）を生成する。その後、化合物（）にトリ
エチルアミン等の塩基の存在下にスルホニル化剤
例えばメシルクロライド等を作用させると、３位
ヒドロキシル基はスルホニル化し、過剰に存在す
る塩基の作用で環の３位及び４位間の二重結合生
成と共にメタンスルホン酸が脱離し、式（−
ａ）のオキサセフエム化合物を生成する。 他方、化合物（）の３位ヒドロキシル基をメ
トキシ基に変換して化合物（−ｂ）を生成する
には、化合物（）に不活性溶媒例えば塩化メチ
レン、クロロホルム中でジアゾメタンを作用させ
る工程が行われる。 さらに、化合物（）の３位ヒドロキシル基を
低級アルキルチオ基に変換して化合物（−ｃ）
を生成するためには、先づ化合物（）を不活性
溶媒中でジフエニルホスホリルクロライドで処理
して化合物（）を生成する。その後、化合物
（）を塩基の存在下にR′3SH（R′3は前述の意味
を表わす）で表わされるメルカプタンと反応させ
ることによつて３−アルキルチオ化合物（−
ｃ）を生成する。この際、前記の不活性溶媒とし
ては例えばアセトニトリル、THF、塩化メチレ
ン、ジオキサン、酢酸エチルが用いられる。ま
た、前記の塩基として第３級アミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン、トリエチルアミンなどが好適
に用いられる。 その後、化合物（−ａ），（−ｂ）又は（
−ｃ）の７位アミノ基に結合したアシル基
（R′CO−）を切断して化合物（）を生成するの
であるが、この反応は常法にて実施できる。すな
わち、化合物（−ａ），（−ｂ）又は（−
ｃ）から化合物（）を生成する工程は、いわゆ
るイミノハライド、イミノエーテル法（特公昭41
−13862号公報参照）を適用できる。 更に化合物（）をシツフ塩基型の化合物（
）に転化する工程は芳香族アルデヒドを化合物
（）の７位アミノ基に反応させることによるシ
ツフ塩基化であつて特開昭50−50394号公報に開
示されている方法を適用できる。例えば３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンズアルデ
ヒド等の如き芳香族アルデヒドを不活性溶媒例え
ばベンゼン、塩化メチレン、酢酸エチル中で化合
物（）に脱水縮合させることにより実施でき、
これにより化合物（）が得られる。 その後、化合物（）から化合物（）を
生成する反転反応を行うのであるが、これは化合
物（）を不活性溶媒に溶解しまず酸化剤を加
え、酸化し、さらに酸化剤の除去後に直ちに還元
剤を加えることによる公知の方法で実施できる。
この際に、７位側鎖の立体配置の反転反応が起
り、化合物（）が得られる。この反応に用い
る溶媒は通常のβ−ラクタム化合物の反応に用い
られるものが用いられ、クロロホルム、塩化メチ
レン等が好ましい。酸化剤としては、二酸化マン
ガン、過酸化ニツケル、四酢酸鉛、ジクロロジシ
アノベンゾキノン（DDQ）が好適に用いられる。 還元剤としては、シアノ水素化ホウ素ナトリウ
ム（NaBH3CH）、水素化ホウ素ナトリウム
（NaBH4）、水素化ホウ素テトラエチルアンモニ
ウム（Et4NBH4）、又はトリ第３級ブトキシ水素
化アルミニウム・リチウム（Li（ｔ−BuO）3AlH）
が好適に用いられる。これら酸化、還元の一連の
反応は−20℃〜５℃の範囲で進行する。 このようにして得られた化合物（）は、次
いで、７位側鎖中のシツフ塩基部分の分解（切
断）反応に付されて一般式（′）の化合物へ導
かれる。このシツフ塩基部分の分解（切断）は公
知の方法、例えば前記特開昭50−50394号公報に
開示されている加水分解法、等により実施でき
る。 前述した一連の諸工程よりなる合成法で合成さ
れた前記一般式（′）の化合物は新規化合物で
あり、また一般式（）の本発明化合物の製造用
中間体として有用である。 以下に、本発明化合物（）の製造に使用され
る出発化合物（）の合成例を示す参考例、なら
びに本発明化合物の製造例を示す実施例により本
発明を詳述するが、本発明は何らこれらに限定さ
れるものではない。 参考例 １ (1) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−アセ
トキシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 但し、式中phはフエニル基、Meはメチル基、
Acはアセチル基を示す。以下、同様である。 次式 で示される（3R，4R）−｛（1R）−１−カルボキシ
エトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１−ジフエ
ニルメトキシカルボニル−１−トリフエニルホス
ホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オンの
17.0ｇをトルエン280mlに溶解し、無水酢酸45.6
ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド9.70ｇを加
え、窒素気流中110℃で４時間加熱攪拌する。 反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル
に溶解し、飽和重曹水、次に水で洗浄、MgSO4
で乾燥後、減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル、８：１）
で精製すると、表題の化合物の6.55ｇ（56％）を
得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1783，1723，1662 NMR（CDCl3），δppn：1.36（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），1.89（3H，ｓ），4.59（1H，ｑ，Ｊ＝7.0
Hz），5.09（1H，ｄ，Ｊ＝9.0Hz），5.15（1H，
ｓ），6.90（1H，ｓ），7.10〜7.90（15H，ｍ） (2) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−ヒド
ロキシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 前項(1)の方法で得られた化合物の7.80ｇをピリ
ジン30mlに溶解し、水7.5mlを加え、室温で２時
間攪拌する。 反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル
に溶解し、氷水を加え、PH2.0に調整後に分液す
る。有機層を飽和重曹水、次に水で洗浄、
MgSO4で乾燥後減圧濃縮し、残留物をアセトニ
トリルから結晶化すると表題化合物の3.87ｇ（54
％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1778，1665 NMR（CDCl3），δppn：1.50（3H，ｄ，Ｊ＝6.7
Hz），4.56（1H，ｑ，Ｊ＝6.9Hz），5.02（1H，
ｄ，Ｊ＝7.4Hz）5.19（1H，ｓ），6.98（1H，
ｓ），7.10〜7.80（15H，ｍ） 参考例 ２ (1) 7αーベンヅアミド−2β−メチル−３−アセ
トキシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 次式 で示される（3R，4R）−４−｛（1S）−１−カルボ
キシエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１−ジ
フエニルメトキシカルボニル−１−トリフエニル
ホスホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オン
の13.5ｇをトルエン270mlに溶解し無水酢酸36.5
ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド7.72ｇを加
え、窒素気流中110℃で４時間加熱攪拌する。 反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル
に溶解し、飽和重曹水、次に水で洗浄、MgSO4
で乾燥後減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル、８：１）
で精製すると、表題化合物の6.7ｇ（61％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1783，1722，1663 NMR（CDCl3），δppn：1.38（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz），1.88（3H，ｓ），4.50（1H，ｑ，Ｊ＝6.8
Hz），4.97（1H，ｄ，Ｊ＝0.8Hz），5.10（1H，
dd，Ｊ＝7.8，0.8Hz），6.88（1H，ｓ），7.10
〜7.90（15H，ｍ） (2) 7α−ベンヅアミド、2β−メチル−３−ヒド
ロキシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 前項(1)の方法で得られた化合物の3.50ｇをピリ
ジン17mlに懸濁し、水４mlを加え、室温で２時間
攪拌後、減圧濃縮する。 残留物を酢酸エチルに溶解し、氷水を加え、PH
3.0に調整後分液する。 有機層を飽和重曹水、次に水で洗浄し、
MgSO4で乾燥後減圧濃縮し、残留物をアセトニ
トリルで結晶化すると表題化合物の2.10ｇ（65
％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1775，1740，1662 NMR（CDCl3），δppn：1.45（3H，ｄ，Ｊ＝6.7
Hz），4.58（1H，ｑ，Ｊ＝6.7Hz），5.02（1H，
dd，Ｊ＝7.2，0.7Hz），5.06（1H，ｄ，Ｊ＝
0.7Hz），6.99（1H，ｓ），7.10〜7.80（15H，
ｍ） 参考例 ３ (1) （3R，4R）−３−ベンヅアミド−４−｛（1S）
−カルボキシエトキシ｝−アゼチジン−２−オ
ン・ナトリウム塩の製造 次式 で示される（3R，4R）−１−（１−ジフエニルメ
トキシカルボニル−２−メチルプロプ−１−エニ
ル）−３−ベンヅアミド−４−｛（1S）−１−カル
ボキシエトキシ｝アゼチジン−２−オンの3.30ｇ
をメタノール60mlに溶解し、溶液が青色になるま
で−60℃でオゾンを導通する。過剰のオゾンを除
去後、酢酸エチル180mlで希釈し、飽和NaHSO4
水溶液を加え０℃で30分間攪拌し有機層を分液す
る。 この有機層をMgSO4で乾燥後減圧濃縮し、残
留物をアセトン30mlに溶解する。 一方NaHCO3511mgを２％含水メタノール500
mlに溶解し、氷冷下上記溶液を加え30分間攪拌
し、減圧濃縮する。残留物をアセトンで粉末とす
ると表題化合物の1.70ｇ（93％）を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1765，1640，1605 NMR（DMSO−d6），δppn：1.23（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz），3.78（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz），4.60
（1H，dd，Ｊ＝8.0，0.7Hz），5.14（1H，ｄ，
Ｊ＝0.7Hz），7.30〜8.00（5H，ｍ），8.75（1H，
ｓ），9.18（1H，ｄ，Ｊ＝8.0Hz） (2) （3R，4R）−３−ベンヅアミド−４−｛（1S）
−１−メチル−３−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル−２−オキソプロポキシ｝−アゼチ
ジン−２−オンの製造 前項(1)で得られた（3R，4R）−３−ベンヅア
ミド−４−｛（1S）−カルボキシエトキシ｝−アゼ
チジン−２−オン・ナトリウム塩の1.66ｇを無水
THF80mlに懸濁し、０℃で1N−NClジオキサン
溶液5.5mlを加え15分間攪拌後、室温でカルボニ
ルジイミダゾール900mgを加え30分間攪拌する。 反応混合物を０℃に冷却し、パラニトロベンジ
ルオキシカルボニル酢酸マグネシウムMg（O2
CCH2CO2CH2C6H5−NO2）22.76ｇを加え、５℃
で終夜攪拌し、減圧濃縮する。 残留物を酢酸エチルに溶解し、氷水を加えPH
2.0に調整後、有機層を分液し、飽和重曹水次に
水で洗浄し、MgSO4で乾燥後減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル，１：１）
で精製すると、表題化合物578mg（23％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1780，1750，1725，
1660 NMR（CDCl3），δppn：1.40（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），3.66（2H，ｓ），4.38（1H，ｑ，Ｊ＝7.0
Hz），4.72（1H，dd，Ｊ＝7.0，0.7Hz），5.12
（1H，ｄ，Ｊ＝0.7Hz），5.18（2H，ｓ），7.10
〜8.20（9H，ｍ） (3) （3R，4R）−３−ベンヅアミド−４−｛（1S）
−１−メチル−３−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル−２−オキソ−３−ジアゾプロポキ
シ｝アゼチジン−２−オンの製造 前項(2)の方法で得た（3R，4R）−３−ベンヅ
アミド−４−｛（1S）−１−メチル−３−Ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル−２−オキソプロポ
キシ｝アゼチジン、−２−オンの850mgをアセトニ
トリル70mlに溶解し、０℃でｐ−カルボキシベン
ゼンスルホニルアジド508mgを加え、10分間攪拌
後トリエチルアミン657mgを加え、室温で２時間
攪拌し、減圧濃縮する。 残留物を酢酸エチル10mlに溶解し、不溶物を
別し、液を減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル，１：１）
で精製すると、表題化合物の760mg（85％）を得
る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：2310，1765，
1710，1640 NMR（CDCl3），δppn：1.45（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），4.65（1H，dd，Ｊ＝7.0，0.7Hz），5.10
（1H，ｄ，Ｊ＝0.7Hz），5.22（1H，ｑ，Ｊ＝
7.0Hz），5.32（2H，ｓ），7.20〜8.30（9H，ｍ） (4) 7α−ベンヅアミド−2β−メチル−３−ヒド
ロキシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステルの製
造 前項(3)の方法で得られた（3R，4R）−３−ベ
ンヅアミド−４−｛（1S）−１−メチル−３−ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル−２−オキソ−
３−ジアゾプロポキシ｝アゼチジン−２−オンの
550mg、酢酸ロジウム（Rh（OCOCH3）2）10mgを
酢酸エチル100mlに溶解し、窒素気流中、60℃で
30分間加熱攪拌し、室温に冷却する。触媒を別
し、液を減圧濃縮すると表題化合物の517mg
（97％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3440，1775，1663 参考例 ４ 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−ヒドロ
キシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−
カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 で示される遊離カルボン酸の形の（3R，4R）−
１−（１−ジフエニルメトキシカルボニル−２−
メチルプロプ−１−エニル）−３−ベンヅアミド
−４−｛（1R）−１−カルボキシエトキシ｝−アゼ
チジン−２−オンを参考例３(1)，(2)，(3)，(4)と同
様に処理して参考例１(2)で得られた物質と同一の
表題化合物を得る。 参考例 ５ (1) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−ヒド
ロキシ−１−オキサデチアセフアム−４−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例１(2)で得られた化合物の3.0ｇを塩化メ
チレン2.5mlに溶解し、−20℃で水素化ホウ素テト
ラエチルアンモニウム（Et4NBH4）880mgを含む
塩化メチレン５mlを加え、20分間攪拌する。反応
混合物を氷水にあけPH3.0に調整後分液し有機層
を飽和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で乾燥後減
圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル，２：１）
で精製すると表題化合物の2.17ｇ（72％）を得
る。 IR（CHCl3）：νnax（cm-1）：1770，1665 NMR（CDCl3）：δppn：1.26（3H，ｄ，Ｊ＝6.5
Hz），3.99（1H，ｑ，Ｊ＝6.5Hz），4.18（1H，
ｄ，Ｊ＝5.8Hz），4.65（1H，ｄ，Ｊ＝5.8Hz），
5.16（1H，ｄ，Ｊ＝7.7Hz），5.30（1H，ｓ），
6.92（1H，ｓ），7.10〜7.80（15H，ｍ） (2) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−１−オキ
サデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステルの製造 前項(1)で得られた化合物の1.75ｇを塩化メチレ
ン17mlに溶解し、氷冷下トリエチルアミン0.78
ｇ、メタンスルホニルクロライド0.49ｇを加え、
同温度で１時間、更に室温で30分間攪拌し、氷水
にあける。有機層を分液し、飽和重曹水、次に水
で洗浄し、MgSO4で乾燥後、減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル，４：１）
で精製すると、表題化合物の1.31ｇ（78％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1780，1723，1662 NMR（CDCl3），δppn：1.29（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），4.67（1H，dq，Ｊ＝7.4，3.9Hz），5.05
（1H，ｓ），5.09（1H，ｄ，Ｊ＝7.4Hz），6.42
（1H，ｄ，Ｊ＝3.9Hz），6.95（1H，ｓ），7.10
〜7.80（15H，ｍ） (3) 7α−アミノ−2α−メチル−１−オキサデチ
ア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニル
メチルエステルの製造 PCl5684mgを塩化メチレン１mlに溶解し、０℃
でピリジン390mgを加え15分間攪拌する。この反
応混合物に、前項(2)で得られた7α−ベンヅアミ
ド−2α−メチル−１−オキサデチア−３−セフ
エム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステル
の772mgを含む塩化メチレン３mlを加える。この
混合物を０℃で30分間、０〜25℃で30分間攪拌
後、再び０℃に冷却し、メタノール８mlを加え、
同温度で１時間攪拌し、更に氷水10mlを加え30分
間攪拌すると、７位から脱ベンゾイルする。 この反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチ
ルに溶解し、氷水を加えPH3.0に調整後、分液す
る。有機層を飽和重曹水次に水で洗浄し、
MgSO4で乾燥後減圧濃縮し、残留物をシリカゲ
ルのカラムクロマトグラフイー（展開溶媒：トル
エン−酢酸エチル，２：１）で精製し表題化合物
の276mg（46％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1780，1725 NMR（CDCl3），δppn：1.34（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），1.74（2H，ｓ），4.06（1H，ｄ，Ｊ＝0.9
Hz），4.64（1H，dq，Ｊ＝7.0，3.9Hz），4.75
（1H，ｄ，Ｊ＝0.9Hz），4.42（1H，ｄ，Ｊ＝
3.9Hz），7.00（1H，ｓ），7.10〜7.60（10H，
ｍ） (4) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2α−メチル−１
−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボン
酸ジフエニルメチルエステルの製造 （但しMeはメチル基、ｔ−Buは第３級ブチル
基、phはフエニル基を表わす） 前項(3)の方法で得られる化合物の340mg、３，
５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンヅア
ルデヒド239mgをベンゼン50mlに溶解しDean−
Starkの装置で30分間加熱還流後減圧濃縮し、表
題化合物を得る。これは精製せずに次の反応に用
いる。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1780，1723，1675 (5) 7β−アミノ−2α−メチル−１−オキサデチ
ア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニル
メチルエステルの製造 前項(4)で得た7α−（３，５−ジ−tert−ブチル
−４−ヒドロキシベンジリデンアミノ）−2α−メ
チル−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの540mgを塩
化メチレン12mlに溶解し、氷冷下MgSO4340mg、
過酸化ニツケル340mgを加え、10分間攪拌し、
過する。液を−20℃に冷却後Et4NBH440mgを
含む塩化メチレン１mlを加え、10分間攪拌し、氷
水にあける。７位アミノ基の立体配位が反転す
る。反応混合物をPH3.0に調整後、有機層を分液
し、飽和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で乾燥し
減圧濃縮する。 残留物を酢酸エチル６mlに溶解し、ジラードＴ
試薬274mgを含むメタノール６mlを加え室温で１
時間攪拌後、酢酸エチル12mlで希釈し、水洗、
MgSO4で乾燥し、減圧濃縮する。残留物をシリ
カゲルのクロマトグラフイー（展開溶媒：トルエ
ン−酢酸エチル，２：１）で精製し表題化合物の
200mg（59％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1782，1722 NMR（CDCl3），δppn：1.38（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），1.74（2H，ｓ），4.53（1H，ｄ，Ｊ＝4.0
Hz），4.70（1H，dq，Ｊ＝7.0，3.5Hz），5.04
（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），6.51（1H，ｄ，Ｊ＝
3.5Hz），6.96（1H，ｓ），7.10〜7.60（10H，
ｍ） 実施例 １ (イ) 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2α−
メチル−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例５(5)で得られた7β−アミノ−2α−メチ
ル−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルの140mgを塩化
メチレン４mlに溶解し、氷冷下、ピリジン40mg、
（２−チエニル）アセチルクロライド70mgを加え
30分間攪拌し、氷水にあける。有機層を分液し、
飽和重曹水、次に水で洗浄、MgSO4で乾燥後、
減圧濃縮し、残留物をシリカゲルのカラムクロマ
トグラフイー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチ
ル，８：１）で精製すると、表題化合物の174mg
（92％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1792，1725，1680 NMR（CDCl3），δppn：1.30（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），3.83（2H，ｓ），4.53（1H，dq，Ｊ＝
7.0，3.5Hz），5.04（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），
5.73（1H，dd，Ｊ＝9.0，4.0Hz），6.48（1H，
ｄ，Ｊ＝3.5Hz），6.93（1H，ｓ），6.90〜7.50
（13H，ｍ） (ロ) 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2α−
メチル−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（２−チエニル）アセ
トアミド｝−2α−メチル−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエ
ステルの110mgを氷冷したアニソール0.2ml、トリ
フルオロ酢酸1.1mlの混液に加え30分間攪拌して
加水分解する。その後減圧濃縮する。残留物をイ
ソプロピルエーテル（IPE）で粉末化すると目的
の表題化合物の62mg（86％）を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1660 NMR（DMSO−d6，δppn：1.31（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），3.75（2H，ｓ）、4.74（1H，dq，Ｊ＝
7.0，3.6Hz），5.18（1H，ｄ，Ｊ＝4.1Hz），
5.55（1H，dd，Ｊ＝9.0，4.1Hz），6.51（1H，
ｄ，Ｊ＝3.6Hz），6.80〜7.80（3H，ｍ），8.84
（1H，ｄ，Ｊ＝9.0Hz） 実施例 ２ (イ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシイミノアセ
トアミド｝−2α−メチル−１−オキサデチア−
３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチ
ルエステルの製造 （但し、Trはトリチル基を表わす） （Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸116mgと参考
例５(5)で得られた7β−アミノ−2α−メチル−１
−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸
ジフエニルメチルエステルの87mgとを塩化メチレ
ン４mlに溶解し、−20℃でピリジン75mg、オキシ
塩化リン50mgを加え、−20〜０℃で30分間攪拌す
る。反応混合物を酢酸エチル15mlで希釈し、水、
飽和重曹水、水で順次洗浄し、MgSO4で乾燥後
減圧濃縮する。残留物をシリカゲルのカラムクロ
マトグラフイー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチ
ル，５：１）で精製し、表題化合物の135mg（72
％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1783，1725，1680 NMR（CDCl3），δppn：1.37（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），4.05（3H，ｓ），4.65（1H，dq，Ｊ＝
6.9，3.4Hz），5.13（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），
5.81（1H，dd，Ｊ＝10，4.0Hz），6.53（1H，
ｄ，Ｊ＝3.4Hz），6.78（1H，ｓ），6.94（1H，
ｓ），7.10〜7.50（25H，ｍ） (ロ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝
−2α−メチル−１−オキサデチア−３−セフ
エム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた化合物の110mgを氷冷したア
ニソール0.2ml、トリフルオロ酢酸１mlの混液に
加え、30分間攪拌して脱保護反応を行う。その
後、IPE−ｎ−ヘキサン（１：１）の混液10mlを
加え、生成する沈殿物を取、IPEで洗うと、目
的の表題化合物の57mgを得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1782，1660 NMR（OMSO−d6），δppn：1.33（3H，ｄ，Ｊ＝
7.2Hz），3.86（3H，ｓ），4.72（1H，dq，Ｊ＝
7.2，3.6Hz），5.22（1H，ｄ，Ｊ＝3.5Hz），
5.55（1H，dd，Ｊ＝8.5，3.5Hz），6.50（1H，
ｄ，Ｊ＝3.6Hz），6.78（1H，ｓ），9.34（1H，
ｄ，Ｊ＝（8.5Hz） 実施例 ３ (イ) 7β｛（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）−２−tert−ブトキシカルボ
ニルメトキシイミノアセトアミド｝−2α−メチ
ル−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 （Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−tert−ブトキシカルボニルメト
キシイミノ酢酸の178mgと参考例５(5)で得られた
7β−アミノ−2α−メチル−１−オキサデチア−
３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの100mgとを塩化メチレン５mlに溶解し、
−20℃でピリジン86mg、オキシ塩化リン58mgを加
え、−20〜０℃で30分間攪拌する。 反応混合物を酢酸エチル20mlで希釈し、水、飽
和重曹水、水で洗浄し、MgSO4で乾燥後減圧濃
縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル（10：１））
で精製し、表題化合物の155mg（63％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1793，1730，1678 NMR（CDCl3）δppn：1.28（3H，ｄ，Ｊ＝6.9Hz），
1.34（9H，ｓ）４，61（1H，dq，Ｊ＝6.9，
3.4Hz），4.68（2H，ｓ），5.08（1H，ｄ，Ｊ＝
3.8Hz）5.76（1H，dd，Ｊ＝9.0，3.8Hz），6.44
（1H，ｄ，Ｊ＝3.4Hz），6.77（1H，ｓ），6.88
（1H，ｓ）7.10〜7.50（25H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−カルボキシメトキシイミノア
セトアミド｝−2α−メチル−１−オキサデチア
−３−セフエム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた化合物の143mgを、氷冷した
アニソール0.2ml、トリフルオロ酢酸１，５mlの
混液に加え、同温度で30分間、室温で30分間攪拌
して脱保護反応を行う。反応液にIPE−ｎ−ヘキ
サン（１：１）の混液10mlを加え、生成する沈殿
物を取、IPE洗いすると、目的の表題化合物の
77mg（89％）を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1660， NMR（DMSO−d6），δppn：1.33（3H，ｄ，Ｊ＝
6.8Hz），4.61（2H，ｓ），4.74（1H，dq，Ｊ＝
6.8，3.2Hz），5.23（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），
5.61（1H，dd，Ｊ＝8.7，4.0Hz），6.51（1H，
ｄ，Ｊ＝3.2Hz），6.85（1H，ｓ），9.21（1H，
ｄ，Ｊ＝（8.7Hz）， 参考例 ６ (1) 7α−ベンヅアミド−2β−メチル−３−ヒド
ロキシ−１−オキサデチアセフアム−４−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例２(2)の方法で得られた化合物の2.80ｇを
塩化メチレン40mlに溶解し、−20℃でEt4NBH4の
0.41ｇを含む塩化メチレン５mlを加え、10分間攪
拌する。 反応混合物を氷水にあけPH3.0に調整後、有機
層を分液し、飽和重曹水次に水で洗浄し、
MgSO4で乾燥後減圧濃縮する。 残留物を酢酸エチルから結晶化すると表題化合
物2.20ｇ（78％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3380，1773，1722，
1650 NMR（CDCl3），δppn：1.27（3H，ｄ，Ｊ＝5.7
Hz），3.67（1H，ｄ，Ｊ＝8.2Hz），3.79（1H，
ｑ，Ｊ＝5.7Hz），4.88（1H，ｄ，Ｊ＝7.6），
4.89（1H，ｄ，Ｊ＝8.2Hz），5.25（1H，ｓ），
6.90（1H，ｓ），7.10〜7.80（15H，ｍ）， (2) 7α−ベンヅアミド−2β−メチル−１−オキ
サデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステルの製造 前項(1)で得られた化合物の2.20ｇと、４−ジメ
チルアミノピリジン0.270ｇを塩化メチレン35ml
に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン1.13ｇ、メ
タンスルホニルクロライド0.62ｇを加えた後、室
温で３時間攪拌する。 反応混合物を氷水にあけ、有機層を分液し、飽
和重曹水次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮
する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル、５：１）
で精製すると表題化合物の2.07ｇ（98％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1781，1727，1665 NMR（CDCl3），δppn：1.37（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），4.43（1H，dq，Ｊ＝7.0，1.9Hz），5.00
（1H，ｄ，Ｊ＝1.0Hz），5.18（1H，dd，Ｊ＝
8.3，1.0Hz），6.15（1H，ｄ，Ｊ＝1.9Hz），
6.92（1H，ｓ），7.10〜7.90（15H，ｍ）， (3) 7α−アミノ−2β−メチル−１−オキサデチ
ア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニル
メチルエステルの製造 PCl5886mgを塩化メチレン12mlに溶解し、０℃
でピリジン504mgを加え15分間攪拌する。 この反応混合物に前項(2)で得た7α−ベンヅア
ミド−2β−メチル−１−オキサデチア−３−セ
フエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステ
ルの1000mgを含む塩化メチレン３mlを加え、０℃
で30分間、０〜25℃で30分間攪拌後、再び０℃に
冷却し、メタノール12mlを加え、同温度で１時間
攪拌し、更に氷水６mlを加え30分間攪拌する。 反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル
に溶解し、氷水を加えPH3.0に調整後分液する。 有機層を飽和重曹水次に水で洗浄し、MgSO4
で乾燥後減圧濃縮し、残留物をシリカゲルのカラ
ムクロマトグラフイー（展開溶媒：トルエン−酢
酸エチル（＝２：１））で精製し表題化合物404mg
（52％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1778，1728 NMR（CDCl3），δppn：1.37（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），１，87（2H，ｓ），4.08（1H，ｄ，Ｊ＝
1.1Hz），4.57（1H，dq，Ｊ＝6.9，1.1Hz），
4.78（1H，ｄ，Ｊ＝1.1Hz），6.25（1H，ｄ，
Ｊ＝1.9Hz），6.99（1H，ｓ），7.10〜7.60
（10H，ｍ）， (4) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2β−メチル−１
−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボン
酸ジフエニルメチルエステルの製造 前項(3)で得られた7α−アミノ−2β−メチル−
１−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボン
酸ジフエニルメチルエステルの470mgと３，５−
ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンヅアルデ
ヒド331mgをベンゼン50mlに溶解し、Dean−
Starkの装置で30分間加熱還流後、減圧濃縮し、
表題化合物を得た。精製せずに次の反応に用い
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3630，1780，1725，
1680， NMR（CDCl3），δppn：1.42（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），1.45（18H，ｓ），4.64（1H，dq，Ｊ＝
6.9，1.8Hz），4.74（1H，ｍ），5.18（1H，ｄ，
Ｊ＝0.7Hz），5.50（1H，ｓ），6.31（1H，ｄ，
Ｊ＝1.8Hz），7.00（1H，ｓ），7.10〜7.60
（10H，ｍ），7.60（2H，ｓ），8.40（1H，ｄ，
Ｊ＝1.1Hz）， (5) 7β−アミノ−2β−メチル−１−オキサデチ
ア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニル
メチルエステルの製造 前項(4)で得られた7α−（３，５−ジ−tert−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジリデンアミノ）−2β
−メチル−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの743mg
を塩化メチレン10mlに溶解し、氷冷下にMgSO4
の470mg、過酸化ニツケルの470mgを加え10分間攪
拌して過する。 液を−20℃に冷却後Et4NBH455mgを含む塩
化メチレン１mlを加え、10分間攪拌し、氷水にあ
け、PH3.0に調整後分液する。 有機層を飽和重曹水次に水で洗浄し、MgSO4
で乾燥後減圧濃縮する。 残留物を酢酸エチル10mlに溶解し、ジラードＴ
試薬504mgを含むメタノール10mlを加え、室温で
１時間攪拌する。反応混合物を酢酸エチル20mlで
希釈し、水洗後MgSO4で乾燥し減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル（＝２：
１））で精製し、表題化合物の260mg（55％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3400，1785，1723， NMR（CDCl3），δppn：1.40（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），1.87（2H，ｓ），4.45（1H，ｄ，Ｊ＝
4.0），4.60（1H，dq，Ｊ＝6.9，1.8Hz），5.03
（1H，ｄ，Ｊ＝4.0），6.35（1H，ｄ，Ｊ＝1.8
Hz），6.95（1H，ｓ），7.10〜7.60（10H，ｍ）， 実施例 ４ (イ) 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2β−
メチル−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例６(5)で得られた7β−アミノ−2β−メチ
ル−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルに対して実施例
１(イ)と同様に（２−チエニル）アセチルクロライ
ドを反応させ、表題化合物を得た。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1790，1725，1680 NMR（CDCl3），δppn：1.29（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz），3.84（2H，ｓ）4.54（1H，dq，Ｊ＝6.8，
1.7Hz），5.05（1H，ｄ，Ｊ＝3.9Hz），5.64
（1H，dd，Ｊ＝9.4，4.0Hz）6.34（1H，ｄ，
Ｊ＝1.7Hz），6.94（1H，ｓ），7.10〜7.50
（13H，ｍ）， (ロ) 7β｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2β−メ
チル−１−オキサデチア−３−セフエム−４−
カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（２−チエニル）アセ
トアミド｝−2β−メチル−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエ
ステルを実施例１(ロ)と同様に加水分解して表題の
目的化合物を得た。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1660 NMR（DMSO−d6），δppn：1.34（3H，ｄ，Ｊ＝
6.8Hz），3.76（2H，ｓ），4.63（1H，dq，Ｊ＝
6.8，1.7Hz），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝3.9Hz），
5.48（1H，dd，Ｊ＝9.3，3.9Hz），6.34（1H，
ｄ，Ｊ＝1.7Hz），6.80〜7.90（3H，ｍ），8.77
（1H，ｄ，Ｊ＝9.3Hz）， 実施例 ５ (イ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシイミノアセ
トアミド｝−2β−メチル−１−オキサデチア−
３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチ
ルエステルの製造 （Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸と参考例６
(5)で得られた7β−アミノ−2β−メチル−１−オ
キサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステルとを実施例３(イ)と同様に反
応させて表題化合物を得た。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1791，1725，1680 NMR（CDCl3），δppn：1.37（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），4.05（3H，ｓ）4.65（1H，dq，Ｊ＝6.9，
1.5Hz），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），5.73
（1H，dd，Ｊ＝9.0，4.0Hz），6.38（1H，ｄ，
Ｊ＝1.5Hz）6.81（1H，ｓ），6.94（1H，ｓ），
7.10〜7.50（25H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝
−2β−メチル−１−オキサデチア−３−セフ
エム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキ
シイミノアセトアミド｝−2β−メチル−１−オキ
サデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエ
ニルメチルエステルを実施例３(ロ)と同様に処理し
て表題の目的化合物を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1665 NMR（DMSO−d6），δppn：1.32（3H，ｄ，Ｊ＝
7.0Hz），3.87（3H，ｓ），4.65（1H，dq，Ｊ＝
7.0，1.8Hz），5.25（1H，ｄ，Ｊ＝3.9Hz），
5.48（1H，dd，Ｊ＝7.9，3.9Hz），6.34（1H，
ｄ，Ｊ＝1.8Hz），6.86（1H，ｓ），9.37（1H，
ｄ，Ｊ＝7.9Hz） 実施例 ６ (イ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−tert−ブトキシカル
ボニルメトキシイミノアセトアミド｝−2β−メ
チル−１−オキサデチア−３−セフエム−４−
カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 （Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−tert−ブトキシカルボニルメト
キシイミノ酢酸と参考例６(5)で得られた7β−ア
ミノ−2β−メチル−１−オキサデチア−３−セ
フエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステ
ルとを実施例３(イ)と同様に反応させて表題化合物
を得た。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1798，1730，1680， NMR（CDCl3），δppn：1.37（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），1.39（9H，ｓ），4.58（1H，dq，Ｊ＝
7.0，1.8Hz），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），
5.75（1H，dd，Ｊ＝9.4，4.0Hz），6.36（1H，
ｄ，Ｊ＝1.8Hz），6.83（1H，ｓ），6.93（1H，
ｓ），7.10〜7.50（25H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−カルボキシメトキシイミノア
セトアミド−2β−メチル−１−オキサデチア
−３−セフエム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−２−tert−
ブトキシカルボニルメトキシイミノアセトアミ
ド｝−2β−メチル−１−オキサデチア−３−セフ
エム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステル
を実施例３(ロ)と同様に処理して目的の表題化合物
を得た。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1660， NMR（DMSO−d6，δppn：1.31（3H，ｄ，Ｊ＝6.7
Hz），4.62（2H，ｓ）4.73（1H，dq，Ｊ＝6.7，
1.6Hz），5.23（1H，ｄ，Ｊ＝4.0Hz），5.54
（1H，dd，Ｊ＝8.5，4.0），6.34（1H，ｄ，Ｊ
＝1.6Hz），6.94（1H，ｓ）9.25（1H，ｄ，Ｊ
＝8.6Hz）， 参考例 ７ (1) 7αーベンヅアミド−2α−メチル−３−メト
キシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−
カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例１(2)の方法で得られた化合物の2.0ｇを
酢酸エチル20mlに溶解し、ジアゾメタン5mmo
を含むエーテル溶液を滴下し、30分間攪拌する。 反応混合物に酢酸0.1ml加え30分間攪拌し、飽
和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で乾燥後、減圧
濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル，８：１）
で精製すると、表題化合物の1.90ｇ（93％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1780，1720，1665， NMR（CDCl3），δppn：1.42（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），3.67（3H，ｓ），4.63（1H，ｑ，Ｊ＝7.0
Hz），5.65（1H，dd，Ｊ＝7.0，0.9Hz），5.11
（1H，ｄ，Ｊ＝0.9Hz），6.92（1H，ｓ），7.10
〜7.80（15H，ｍ）， (2) 7α−アミノ−2α−メチル−３−メトキシ−
１−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボ
ン酸ジフエニルメチルエステルの製造 PCl51.14ｇを塩化メチレン30mlに溶解し、０℃
でピリジン651mgを加え15分間攪拌する。 この反応混合物に前項(1)で得た7α−ベンヅア
ミド−2α−メチル−３−メトキシ−１−オキサ
デチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニ
ルメチルエステル1.37ｇを含む塩化メチレン15ml
を加え、０℃で30分間、０〜25℃で30分間攪拌
後、再び０℃に冷却し、メタノール30mlを加え０
℃で１時間、０〜25℃で30分間攪拌し、更に氷水
15mlを加え30分間攪拌する。 反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル
に溶解し、飽和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で
乾燥後減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル，１：１）
で精製すると、表題化合物の580mg（53％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3400，1770，1720， NMR（CDCl3），δppn：1.44（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），1.85（2H，ｓ），3.66（3H，ｓ），4.00
（1H，ｄ，Ｊ＝0.6Hz），4.56（1H，ｑ，Ｊ＝
6.9Hz），4.90（1H，ｄ，Ｊ＝0.6Hz），6.97
（1H，ｓ），7.10〜7.60（10H，ｍ）， (3) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2α−メチル−３
−メトキシ、−１−オキサデチア−３−セフエ
ム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステル
の製造 前項(2)で得られた化合物の600mgと３，５−ジ
−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンヅアルデヒ
ド391mgをベンゼン50mlに溶解し、Dean−Stark
の装置で２時間加熱還流した。その後、減圧濃縮
し、表題化合物を得た。これは精製せずに次の反
応に用いる。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1775，1720，1680， (4) 7β−アミノ−2α−メチル−３−メトキシ−
１−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボ
ン酸ジフエニルメチルエステルの製造 前項(3)で得られた7α−（３，５−ジ−tert−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジリデンアミノ）−2α
−メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエ
ステル927mgを塩化メチレン18mlに溶解し、氷冷
下にMgSO4600mgと過酸化ニツケル600mgを加え、
10分間攪拌し過する。 液を−20℃に冷却後Et4NBH465mgを含む塩
化メチレン１mlを加え10分間攪拌し、氷水にあけ
る。 反応混合物をPH3.0に調整後、有機層を分液し、
飽和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で乾燥後、減
圧濃縮する。 残留物を酢酸エチル10mlに溶解し、ジラードＴ
試薬449mgを含むメタノール10mlを加え、室温で
２時間攪拌し、酢酸エチル20mlで希釈後、水洗、
MgSO4で乾燥し減圧濃縮する。残留物をシリカ
ゲルのカラムクロマトグラフイー（展開溶媒：ト
ルエン−酢酸エチル（１：１））で精製すると、
表題化合物の294mg（49％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3400，1780，1720， NMR（CDCl3），δppn：1.49（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），1.80（2H，ｓ），3.70（3H，ｓ），4.47
（1H，ｄ，Ｊ＝3.8Hz），4.64（1H，ｑ，Ｊ＝
6.8Hz），5.14（1H，ｄ，Ｊ＝3.8Hz），6.95
（1H，ｓ），7.10〜7.60（10H，ｍ）， 実施例 ７ (イ) 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2α−
メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの製造 参考例７(4)で得られた化合物の100mgを塩化メ
チレン４mlに溶解し、氷冷下、ピリジン24mgと
（２−チエニル）アセチルクロライド48mgを加え、
30分間攪拌し、氷水にあける。 有機層を分液し、飽和重曹水次に水で洗浄し、
MgSO4で乾燥後減圧濃縮し、残留物をシリカゲ
ルのカラムクロマトグラフイー（展開溶媒：トル
エン−酢酸エチル，10：１）で精製すると、表題
化合物の123mg（94％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1790，1720，1680 NMR（CDCl3），δppn：1.44（3H，ｄ，Ｊ＝6.9
Hz），3.69（3H，ｓ）3.83（2H，ｓ），4.50
（1H，ｑ，Ｊ＝6.9Hz），5.18（1H，ｄ，Ｊ＝
3.6Hz），5.66（1H，dd，Ｊ＝9.4，3.7Hz），
6.94（1H，ｓ），6.90〜7.50（13H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2α−
メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた化合物の120mgを氷冷下アニ
ソール0.2ml、トリフルオロ酢酸1.5mlの混液に加
え、30分間攪拌して加水分解する。反応液を減圧
濃縮して、その残留物をIPEで粉末化後、取
し、IPEで洗い目的の表題化合物の89mg（91％）
を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1778，1650， NMR（DMSO−d6），δppn：1.42（3H，ｄ，Ｊ＝
6.8Hz），3.72（3H，ｓ），3.74（2H，ｓ），4.77
（1H，ｑ，Ｊ＝6.8Hz），5.30（1H，ｄ，Ｊ＝
3.5Hz），5.48（1H，dd，Ｊ＝9.5，3.5Hz），
6.80〜7.40（3H，ｍ），8.85（1H，ｄ，Ｊ＝9.5
Hz）， 実施例 ８ (イ) 7β−｛（２−（２−チエニル）−２−（ジフエ
ニ
ルメトキシカルボニル）アセトアミド｝−2α−
メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの製造 ２−（２−チエニル）−２−（ジフエニルメトキ
シカルボニル）酢酸77mgと参考例７(4)で得られた
7β−アミノ−2α−メチル−３−メトキシ−１−
オキサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジ
フエニルメチルエステル80mgとを塩化メチレン３
mlに溶解し、−20℃でピリジン63mg、オキシ塩化
リン43mgを加え、−20〜０℃で30分間攪拌する。 反応混合物に酢酸エチル10mlを加え、水、飽和
重曹水、水で洗浄し、MgSO4で乾燥後減圧濃縮
する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル（20：１））
で精製すると、表題化合物108mg（75％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1790，1721，1685 NMR（CDCl3），δppn：1.41（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），3.70（3H，ｓ），4.46＋4.49（1H，ｑ，
Ｊ＝7.0Hz），4.94＋4.96（1H，ｓ），5.16（1H，
ｄ，Ｊ＝3.6Hz），5.62（1H，dd，Ｊ＝9.1，
3.6Hz），6.88（1H，ｓ），6.80〜7.50（23H，
ｍ）， (ロ) 7β−｛（２−（２−チエニル）−２−（カルボ
キ
シ）アセトアミド｝−2α−メチル−３−メトキ
シ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸の製造 前項(イ)で得られた化合物の150mgを、氷冷下に
アニソール0.2ml、トリフルオロ酢酸1.5mlの混液
に加え、30分間攪拌し、減圧濃縮する。 残留物をIPEで粉末化後、取し、IPEで洗い
目的の表題化合物の72mg（89％）を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1785，1680 実施例 ９ (イ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシイミノアセ
トアミド｝−2α−メチル−３−メトキシ−１−
オキサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸
ジフエニルメチルエステルの製造 （Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸97mgと参考
例７(4)で得られた化合物の80mgとを塩化メチレン
３mlに溶解し、−20℃でピリジン63mg、オキシ塩
化リン42mgを加え、−20〜０℃で30分間攪拌する。 反応混合物を酢酸エチル10mlで希釈し、水、飽
和重曹水、水で順次洗浄し、MgSO4で乾燥後、
減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル（５：１））
で精製すると、表題化合物104mg（64％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1793，1720，1683， NMR（CDCl3），δppn：1.46（3H，ｄ，Ｊ＝7.0
Hz），3.70（3H，ｓ），4.04（2H，ｓ），4.56
（1H，ｑ，Ｊ＝7.0Hz），5.23（1H，ｄ，Ｊ＝
4.0Hz），5.70（1H，dd，Ｊ＝9.0，4.0Hz），
6.76（1H，ｓ），6.89（1H，ｓ），7.10〜7.50
（25H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝
−2α−メチル−３−メトキシ−１−オキサデ
チア−３−セフエム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキ
シイミノアセトアミド｝−2α−メチル−３−メト
キシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの730mgを、
氷冷下でアニソール0.2ml、トリフルオロ酢酸1.5
mlの混液に加え、30分間攪拌した。その後、IPE
−ｎ−ヘキサン（１：１）の混液10mlを加え、生
成する沈殿物を取し、IPE洗いすると目的の表
題化合物71mg（86％）を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1790，1670 NHR（DMSO−d6），δppn：1.43（3H，ｄ，Ｊ＝
6.9Hz）3.72（3H，ｓ）3.85（3H，ｓ），4.77
（1H，ｑ，Ｊ＝6.9Hz），5.34（1H，ｄ，Ｊ＝
4.2Hz）5.48（1H，dd，Ｊ＝8.3，4.2Hz），6.77
（1H，ｓ），9.33（1H，ｄ，Ｊ＝8.3Hz） 参考例 ８ (1) 7αーベンヅアミド−2β−メチル−３−メト
キシ−オキサデチア−３−セフエム−４−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例２(2)で得られた化合物の1.83ｇを酢酸エ
チル20mlに溶解し、ジアゾメタン5mmoを含む
エチルエーテル溶液を滴下し、30分間攪拌する。 反応混合物に酢酸0.1mlを加え、30分間攪拌後、
飽和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で乾燥し、減
圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル（８：１））
で精製すると、表題化合物1.78ｇ（95％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1770，1718，1663 NMR（CDCl3），δppn：1.43（3H，ｄ，Ｊ＝6.7
Hz），3.57（3H，ｓ）4.47（1H，ｑ，Ｊ＝6.7
Hz），4.90（1H，ｄ，Ｊ＝0.7Hz），5.04（1H，
dd，Ｊ＝7.7，0.7Hz），6.91（1H，ｓ），7.10
〜7.90（15H，ｍ）， (2) 7α−アミノ−2β−メチル−３−メトキシ−
１−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボ
ン酸ジフエニルメチルエステルの製造 PCl51.25ｇを塩化メチレン30mlに溶解し、０℃
でピリジン713mgを加え15分間攪拌する。 この反応混合物に前項(1)で得られた7α−ベン
ヅアミド−2β−メチル−３−メトキシ−１−オ
キサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステルの1.50ｇを含む塩化メチレ
ン10mlを加え、０℃で30分間、０〜25℃で30分間
攪拌後、再び０℃に冷却し、メタノ−ル30mlを加
え、０℃で30分間、０〜25℃で30分間攪拌し、更
に氷水20mlを加え30分間攪拌する。 反応混合物を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル
に溶解し、飽和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で
乾燥後減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル（１：１））
で精製すると表題化合物570mg（48％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3400，1778，1727 NMR（CDCl3），δppn：1.41（3H，ｄ，Ｊ＝6.7
Hz），1.90（2H，ｓ），3.63（3H，ｓ），4.01
（1H，ｄ，Ｊ＝0.5Hz）4.49（1H，ｑ，Ｊ＝
6.7Hz），4.79（1H，ｄ，0.5Hz），6.97（1H，
ｓ），7.10〜7.60（10H，ｍ）， (3) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2β−メチル−３
−メトキシ−１−オキサデチア−３−セフエム
−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの
製造 前項(2)で得られた7α−アミノ−2β−メチル−
３−メトキシ−１−オキサデチア−３−セフエム
−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの
490mgと３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロ
キシベンヅアルデヒド320mgをベンゼン50mlに溶
解し、Dean−Starkの装置で1.5時間加熱還流後、
減圧濃縮し、表題化合物を得る。これは精製せず
に次の反応に用いる。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1775，1720，1681 (4) 7β−アミノ−2β−メチル−３−メトキシ−
１−オキサデチア−３−セフエム−４−カルボ
ン酸ジフエニルメチルエステルの製造 前項(3)で得られた7α−（３，５−ジ−tert−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジリデンアミノ）−2β
−メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエ
ステルの756mgを塩化メチレン15mlに溶解し、氷
冷下、MgSO4500mgと過酸化ニツケル500mgを加
え10分間攪拌し過する。 液を−20℃に冷却後、Et4NBH4の53mgを含
む塩化メチレン１mlを加え、10分間攪拌し、氷水
にあける。 反応混合物をPH3.0に調整後、有機層を分液し、
飽和重曹水次に水で洗浄、MgSO4で乾燥後、減
圧濃縮する。 残留物を酢酸エチル７mlに溶解し、ジラードＴ
試薬366mgを含むメタノール７mlを加え、室温で
２時間攪拌し、酢酸エチル14mlで希釈後、水洗
MgSO4で乾燥し減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：トルエン−酢酸エチル（１：１））
で精製すると、表題化合物250mg（51％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：3400，1782，1720， NMR（CDCl3），δppn：1.45（3H，ｄ，Ｊ＝6.7
Hz），1.84（2H，ｓ），3.69（3H，ｓ），4.42
（1H，ｄ，Ｊ＝3.9Hz），4.52（1H，ｑ，Ｊ＝
6.7Hz），5.01（1H，ｄ，Ｊ＝3.9Hz），6.93
（1H，ｓ），7.10〜7.50（10H，ｍ）， 実施例 10 (イ) 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2β−
メチル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの製造 （２−チエニル）アセチルクロライドと参考例
８(4)で得られた7β−アミノ−2β−メチル−３−
メトキシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルを実施例
７(イ)と同様に反応させて表題化合物を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1788，1720，1680 NMR（CDCl3），δppn：1.33（3H，ｄ，Ｊ＝6.6
Hz），3.69（3H，ｓ），3.84（2H，ｓ），4.44
（1H，ｑ，Ｊ＝6.6Hz），5.03（1H，ｄ，Ｊ＝
3.6Hz），5.59（1H，dd，Ｊ＝9.5，3.6Hz），
6.94（1H，ｓ），6.80〜7.50（13H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−
2β−メチル−３−メトキシ−１−オキサデチ
ア−３−セフエム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（２−チエニル）アセ
トアミド｝−2β−メチル−３−メトキシ−１−オ
キサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステルを実施例７(ロ)と同様に脱保
護処理して、目的の表題化合物を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1660， NMR（DMSO−d6），δppn：1.35（3H，ｄ，Ｊ＝
6.7Hz），3.75（3H，ｓ），4.63（1H，ｑ，Ｊ＝
6.7Hz），5.14（1H，ｄ，Ｊ＝3.5Hz），5.39
（1H，dd，Ｊ＝8.9，3.5Hz），6.80〜7.40（3H，
ｍ），8.75（1H，ｄ，Ｊ＝8.9Hz）， 実施例 11 (イ) 7β−｛（２（２−チエニル）−２−（ジフエニ
ル
メトキシカルボニル）アセトアミド｝−2β−メ
チル−３−メトキシ−１−オキサデチア−３−
セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエ
ステルの製造 ２−（２−チエニル）−２−（ジフエニルメトキ
シカルボニル）酢酸と参考例８(4)で得られた7β
−アミノ−2β−メチル−３−メトキシ−１−オ
キサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステルとを実施例８(イ)と同様に反
応させて表題化合物を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1790，1720，1690 NMR（CDCl3），δppn：1.31＋1.33（3H，ｄ，Ｊ＝
6.5Hz），3.70（3H，ｓ），4.42（1H，ｑ，Ｊ＝
6.5Hz），4.96＋5.03（1H，ｄ，Ｊ＝3.5Hz），
5.53＋5.55（1H，dd，Ｊ＝9.1，3.5Hz），6.86
（1H，ｓ），6.80〜7.60（23H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（２−（２−チエニル）−２−（カルボ
キ
シ）アセトアミド｝−2β−メチル−３−メトキ
シ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（２−（２−チエニル）
−２−（ジフエニルメトキシカルボニル）アセト
アミド｝−2β−メチル−３−メトキシ−１−オキ
サデチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエ
ニルメチルエステルを実施例８(ロ)と同様に処理し
て目的の表題化合物を得た。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1782，1680， NMR（DMSO−d6），δppn：1.28＋1.37（3H，ｄ，
Ｊ＝6.8Hz），3.75（3H，ｓ），4.54＋4.60（1H，
ｑ），5.05〜5.20（2H，ｍ），5.37（1H，dd），
6.85〜7.50（3H，ｍ）， 実施例 12 (イ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシイミノアセ
トアミド｝−2β−メチル−３−メトキシ−１−
オキサデチア−３−セフエム−４−カルボン酸
ジフエニルメチルエステルの製造 （Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノ酢酸と参考例８
(4)で得られた7β−アミノ−2β−メチル−３−メ
トキシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−
カルボン酸ジフエニルメチルエステルとを実施例
９(イ)と同様に反応させて表題化合物を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1790，1720，1682， NMR（CDCl3），δppn：1.35（3H，ｄ，Ｊ＝6.6
Hz），3.70（3H，ｓ）4.05（3H，ｓ），4.49
（1H，ｑ，Ｊ＝6.6Hz），5.11（1H，ｄ，Ｊ＝
3.7Hz），5.63（1H，dd，Ｊ＝9.1，3.7Hz），
6.80（1H，ｓ），6.90（1H，ｓ），7.10〜7.50
（25H，ｍ）， (ロ) 7β−｛（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝
−2β−メチル−３−メトキシ−１−オキサデ
チア−３−セフエム−４−カルボン酸の製造 前項(イ)で得られた7β−｛（Ｚ）−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−２−メトキ
シイミノアセトアミド｝−2β−メチル−３−メト
キシ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルを実施例９(ロ)
と同様に処理して目的の表題化合物を得た。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1785，1770， NMR（DMSO−d6），δppn：1.33（3H，ｄ，Ｊ＝
6.7Hz），3.75（3H，ｓ）3.86（3H，ｓ），4.66
（1H，ｑ，Ｊ＝6.7Hz），5.21（1H，ｄ，Ｊ＝
3.7Hz），5.43（1H，dd，Ｊ＝8.4，3.7Hz），
6.83（1H，ｓ），9.35（1H，ｄ，Ｊ＝8.2Hz）， 参考例 ９ 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−メチル
チオ−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例４で得られた7α−ベンヅアミド−2αメ
チル−３−ヒドロキシ−１−オキサデチア−３−
セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエス
テル338mgをアセトニトリル７mlに溶解し、−５℃
でジイソプロピルエチルアミン0.134mlを加え10
分間攪拌後、メシルクロライド0.06mlを加え40分
間攪拌する。 更に同温度でジイソプロピルエチルアミン
0.536mlとメチルメルカプタンのベンゼン溶液
（0.28M）0.3mlを加え４時間攪拌する。 この反応混合物を酢酸エチル100mlで希釈した
後、水、0.1N塩酸、飽和重曹水、水で順次洗浄
し、MgSO4で乾燥後、有機層を減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：ベンゼン−酢酸エチル、10：１）
で精製すると表題化合物146mg（40％）を得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1720 NMR（CDCl3），δppn：1.50（3H，ｄ，Ｊ＝７Hz），
2.18（3H，ｓ）4.65（1H，ｑ，Ｊ＝７Hz），
4.98（1H，ｄ，Ｊ＝７Hz），5.18（1H，ｓ），
6.90（1H，ｓ），7.10〜7.90（16H，ｍ）， 参考例 10 (1) 7α−ベンヅアミド−2β−メチル−３−メチ
ルチオ−１−オキサデチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 参考例２(2)で得られた7α−ベンヅアミド−2β
−メチル−３−ヒドロキシ−１−オキサデチア−
３−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの338mgをアセトニトリル７mlに溶解し、
−５℃でジイソプロピルエチルアミン0.134mlを
加え10分間攪拌後、メシルクロライド0.06mlを加
え40分間攪拌する。 更に同温度でジイソプロピルエチルアミン
0.536mlとメチルメルカプタンのベンゼン溶液
（0.28M）0.3mlを加え５℃で22時間攪拌する。 この反応混合物を酢酸エチル100mlで希釈した
後、水、0.1N塩酸、飽和重曹水、水で順次洗浄
し、有機層をMgSO4で乾燥後減圧濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒：ベンゼン−酢酸エチル（＝10：
１））で精製すると、表題化合物48mg（13％）を
得る。 IR（ヌジヨール），νnax（cm-1）：1780，1720 NMR（CDCl3），δppn：1.55（3H，ｄ，Ｊ＝７Hz），
2.13（3H，ｓ），4.60（1H，ｑ，Ｊ＝７Hz），
4.93（1H，ｄ，Ｊ＝７Hz），5.00（1H，ｓ），
6.90（1H，ｄ，Ｊ＝７Hz），6.95（1H，ｓ），
7.10〜7.90（15H，ｍ） (2) 7α−アミノ−2β−メチル−３−メチルチオ
−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 前項(1)で得られた化合物を参考例５(3)の方法と
同様に処理して７位から脱ベンゾイルすると、表
題化合物が得られた。 (3) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2β−メチル−３
−メチルチオ−１−オキサデチア−３−セフエ
ム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステル
の製造 前項(2)で得られた化合物を参考例５(4)と同様に
３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベン
ヅアルデヒドと反応させて表題化合物を得た。 (4) 7β−アミノ−2β−メチル−３−メチルチオ
−１−オキサデチア−３−セフエム−４−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルの製造 前項(3)で得られた化合物を参考例５(5)と同様に
して、過酸化ニツケルと、次いでEt4NBH4と反
応させ、更に同様に後処理すると、表題化合物を
得た。 実施例 13 7β−｛（２−チエニル）アセトアミド｝−2β−メ
チル−３−メチルチオ−１−オキサデチア−３−
セフエム−４−カルボン酸の製造 参考例10(4)で得られた化合物を（２−チエニ
ル）アセチルクロライドと実施例７(イ)と同様に反
応させ、得られた７位アシル化化合物を実施例７
(ロ)と同様に処理すると、目的の表題化合物が得ら
れた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（） 〔式中、R1は【式】（但しRaはチエ ニル基を、Rbは水素原子又はカルボキシル基を
表わす）の基であるか、あるいはR1は次式 （但しR4は水素原子、低級アルキル基又はカ
ルボキシ低級アルキル基を表わす）で示される基
であり、R2は低級アルキル基であり、R3は水素
原子、メトキシ基又は低級アルキルチオ基であ
る〕で表わされる２−アルキル−3′−ノル−オキ
サセフアロスポリン誘導体、及びその薬学的に許
容できる塩又はエステル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58213182A JPS60105682A (ja) | 1983-11-15 | 1983-11-15 | ２−アルキル−３′−ノル−オキサセフアロスポリン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58213182A JPS60105682A (ja) | 1983-11-15 | 1983-11-15 | ２−アルキル−３′−ノル−オキサセフアロスポリン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60105682A JPS60105682A (ja) | 1985-06-11 |
| JPH0516432B2 true JPH0516432B2 (ja) | 1993-03-04 |
Family
ID=16634898
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58213182A Granted JPS60105682A (ja) | 1983-11-15 | 1983-11-15 | ２−アルキル−３′−ノル−オキサセフアロスポリン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60105682A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5688786A (en) * | 1994-04-01 | 1997-11-18 | Microcide Pharmaceuticals, Inc. | β-lactam antibiotics |
-
1983
- 1983-11-15 JP JP58213182A patent/JPS60105682A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60105682A (ja) | 1985-06-11 |
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