JPS6044311B2 - ウラシル誘導体の製法 - Google Patents
ウラシル誘導体の製法Info
- Publication number
- JPS6044311B2 JPS6044311B2 JP2312576A JP2312576A JPS6044311B2 JP S6044311 B2 JPS6044311 B2 JP S6044311B2 JP 2312576 A JP2312576 A JP 2312576A JP 2312576 A JP2312576 A JP 2312576A JP S6044311 B2 JPS6044311 B2 JP S6044311B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- bis
- proton
- furanidyl
- fluorouracil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、5一置換又は未置換ウラシルのN1一(2″
−フラニジル)誘導体を簡単でしかも高収率に製造する
ための新規な方法に関するものである。
−フラニジル)誘導体を簡単でしかも高収率に製造する
ための新規な方法に関するものである。
置換されたピリミジン化合物、例えばN1一(2″−フ
ラニジル)−5−フルオロウラシルは、ピリミジンきつ
抗作用をもつ制ガン剤として知られており、5−フルオ
ロウラシルと比較して毒性が低く、特に経口投与によつ
ても各種固形ガンに効果を示すという利点を有している
。
ラニジル)−5−フルオロウラシルは、ピリミジンきつ
抗作用をもつ制ガン剤として知られており、5−フルオ
ロウラシルと比較して毒性が低く、特に経口投与によつ
ても各種固形ガンに効果を示すという利点を有している
。
5一置換ウラシルのN1−(2″−フラニジル)誘導体
、例えばN1−(2″−フラニジル)−5−フルオロウ
ラシルの製造方法としては、これまで5−フルオロウラ
シルのビス−トリメチルシリル誘導体を無水溶媒中、反
応温度−60℃ないし40℃で、2−クロロチトラヒド
ロフランを反応させてN1−(2″−フラニジル)−5
−フルオロウラシルを−得る方法が知られている(特公
昭49−105■号公報)。
、例えばN1−(2″−フラニジル)−5−フルオロウ
ラシルの製造方法としては、これまで5−フルオロウラ
シルのビス−トリメチルシリル誘導体を無水溶媒中、反
応温度−60℃ないし40℃で、2−クロロチトラヒド
ロフランを反応させてN1−(2″−フラニジル)−5
−フルオロウラシルを−得る方法が知られている(特公
昭49−105■号公報)。
しかしながら、この方法に用いる2−クロロテトラヒド
ロフランは、不安定な化合物で、容易に分解するため反
応を低温て行う必要があり、また保存が効かないため、
使用の都度2・3−ジヒドロフランから調製しなければ
ならないという欠点がある。
ロフランは、不安定な化合物で、容易に分解するため反
応を低温て行う必要があり、また保存が効かないため、
使用の都度2・3−ジヒドロフランから調製しなければ
ならないという欠点がある。
また、この2−クロロテトラヒドロフランが過剰に存在
すると、その分解生成物特に塩化水素により、もう一つ
の原料である2・4−ビス(トリメチルシリル)−5−
フルオロウラシル及び生成したN1−(2″−フラニジ
ル)−5−フルオロウラシルが分解を受け、収率を低下
させるという欠点もある。本発明者らは、これら従来法
のもつ欠点を克服し、簡単にかつ、高収率て5一置換又
は未置換ウラシルのN1−(2″−フラニジル)誘導体
を製造するための方法を開発すべく鋭意研究を重ねた結
果、2・4−ビス(トリアルキルスタニル)−5−置換
又は未置換ウラシルと2・3−ジヒドロフランを出発原
料とし、両者を無溶媒又は有機溶媒中、プロトン供給源
及び各種触媒存在下で反応させることにより極めて容易
に、かつ高収率で目的化合物を得ることを見出し、この
知見に基づいて本発明をなすに至つた。すなわち本発明
は一般式 (式中のRアルキル基、Xは水素原子、ハロゲン原子、
メチル基又はトリハロメチル基である)で表わされる5
一置換又は未置換ウラシルの2・4−ビス(トリアルキ
ルスタニル)誘導体と式で示される2・3−ジヒドロフ
ランとを、無溶媒又は有機溶媒中、プロト7供給源及び
各種触媒の存在下で反応させることを特徴とする一般式
(式中のXは前記と同じ意味をもつ)で表わされる5一
置換又は未置換ウラシルのN1−(2″−フラニジル)
誘導体の製法を提供するものである。
すると、その分解生成物特に塩化水素により、もう一つ
の原料である2・4−ビス(トリメチルシリル)−5−
フルオロウラシル及び生成したN1−(2″−フラニジ
ル)−5−フルオロウラシルが分解を受け、収率を低下
させるという欠点もある。本発明者らは、これら従来法
のもつ欠点を克服し、簡単にかつ、高収率て5一置換又
は未置換ウラシルのN1−(2″−フラニジル)誘導体
を製造するための方法を開発すべく鋭意研究を重ねた結
果、2・4−ビス(トリアルキルスタニル)−5−置換
又は未置換ウラシルと2・3−ジヒドロフランを出発原
料とし、両者を無溶媒又は有機溶媒中、プロトン供給源
及び各種触媒存在下で反応させることにより極めて容易
に、かつ高収率で目的化合物を得ることを見出し、この
知見に基づいて本発明をなすに至つた。すなわち本発明
は一般式 (式中のRアルキル基、Xは水素原子、ハロゲン原子、
メチル基又はトリハロメチル基である)で表わされる5
一置換又は未置換ウラシルの2・4−ビス(トリアルキ
ルスタニル)誘導体と式で示される2・3−ジヒドロフ
ランとを、無溶媒又は有機溶媒中、プロト7供給源及び
各種触媒の存在下で反応させることを特徴とする一般式
(式中のXは前記と同じ意味をもつ)で表わされる5一
置換又は未置換ウラシルのN1−(2″−フラニジル)
誘導体の製法を提供するものである。
本発明において出発原料として用いられる前記一般式(
1)の化合物は、5一置換又は未置換ウラシルにトリア
ルキルスタニルオキシドを反応させる公知の方法により
容易に製造することができる。また、2・3−ジヒドロ
フランは市販品そのまま、もしくは必要に応じ精製して
使用することができる。この2●3−ジヒドロフランの
使用量は相当広範囲で変えることができるが、収率、経
済性を考慮すれは、一般式(1)の化合物1モルに対し
、1.0〜1。8モル用いるのが望ましい。
1)の化合物は、5一置換又は未置換ウラシルにトリア
ルキルスタニルオキシドを反応させる公知の方法により
容易に製造することができる。また、2・3−ジヒドロ
フランは市販品そのまま、もしくは必要に応じ精製して
使用することができる。この2●3−ジヒドロフランの
使用量は相当広範囲で変えることができるが、収率、経
済性を考慮すれは、一般式(1)の化合物1モルに対し
、1.0〜1。8モル用いるのが望ましい。
本発明に用いられる触媒として、ルイス酸、ハロゲン分
子、アルカリ金属ヨウ化物、有機酸をあげることができ
、特にルイス酸、ハロゲン分子、アルカリ金属ヨウ化物
が良い。本発明に用いるルイス酸は相当広範囲で使用す
ることができるが、例として塩化第二スズ、塩化アルミ
ニウム、四塩化チタン、四塩化ケイ素、五塩化アンチモ
ン、三フッ化ホウ素などをあげることができる。
子、アルカリ金属ヨウ化物、有機酸をあげることができ
、特にルイス酸、ハロゲン分子、アルカリ金属ヨウ化物
が良い。本発明に用いるルイス酸は相当広範囲で使用す
ることができるが、例として塩化第二スズ、塩化アルミ
ニウム、四塩化チタン、四塩化ケイ素、五塩化アンチモ
ン、三フッ化ホウ素などをあげることができる。
前記したルイス酸の使用量は相当広範囲にわたり変えら
れ、特に限定されるものではないが、前記一般式(1)
の化合物に対し、1〜15モル%で特によい結果を与え
る。本発明に用いるハロゲン分子としては、塩素、臭素
、ヨウ素をあげることができ、特にヨウ素がよい結果を
与える。
れ、特に限定されるものではないが、前記一般式(1)
の化合物に対し、1〜15モル%で特によい結果を与え
る。本発明に用いるハロゲン分子としては、塩素、臭素
、ヨウ素をあげることができ、特にヨウ素がよい結果を
与える。
使用されるハロゲン分子の量は特に限定されるものでは
ないが、前記一般式(1)の化合物に対し18モル%以
下で使用するのが望ましい。本発明に用いるアルカリ金
属ヨウ化物としてヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、
ヨウ化カリウムがあるが、特にヨウ化リチウム、ヨウ化
ナトリウムが好ましい。
ないが、前記一般式(1)の化合物に対し18モル%以
下で使用するのが望ましい。本発明に用いるアルカリ金
属ヨウ化物としてヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、
ヨウ化カリウムがあるが、特にヨウ化リチウム、ヨウ化
ナトリウムが好ましい。
使用されるアルカリ金属ヨウ化物の量は特に限定される
ものではないが、前記一般式(1)の化合物に対して2
0モル%以下で使用するのが望ましい。本発明に用いる
有機酸としては、酢酸、プロピオン酸等の低級脂肪酸及
びそのハロゲン化誘導体、メタンスルホン酸、トルエン
スルホン酸等の有機スルホン酸類がよく用いられる。
ものではないが、前記一般式(1)の化合物に対して2
0モル%以下で使用するのが望ましい。本発明に用いる
有機酸としては、酢酸、プロピオン酸等の低級脂肪酸及
びそのハロゲン化誘導体、メタンスルホン酸、トルエン
スルホン酸等の有機スルホン酸類がよく用いられる。
使用される有機酸触媒の量は特に限定されるものではな
いが、前記一般式(1)の化合物に対して0.1〜30
モル%の使用が望ましい。本発明においては、使用する
溶媒中に含まれる水分がプロトン供給物質として作用す
るため、必ずしもプロトン供給物質を人為的に添加する
必要は無いが、通常プロトン供給物質を適当量添加する
ことにより目的物の生成率は向上する。
いが、前記一般式(1)の化合物に対して0.1〜30
モル%の使用が望ましい。本発明においては、使用する
溶媒中に含まれる水分がプロトン供給物質として作用す
るため、必ずしもプロトン供給物質を人為的に添加する
必要は無いが、通常プロトン供給物質を適当量添加する
ことにより目的物の生成率は向上する。
又無溶媒下の反応においてはプロトン供給物質を加えた
方が反応が好適に進行する。このようなプロトン供給物
質としては、プロトンを放出しやすいものなら何でも使
用することができるが、水、メチルアルコール、エチル
アルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールの
ようなアルコール類、酢酸、プロピオン酸のような低級
脂肪酸類等が特に望ましい。当然のことながら触媒とし
て低級脂肪酸及びそのハロゲン化誘導体を使用する場合
、プロトン供給物質を新たに添加する必要はない。添加
するプロトン供給物質の量は使用する溶媒の含水率、反
応温度、プロト7供給物質の種類等により左右されるが
、通常前記一般式(1)の化合物に基き0.1〜2.0
モル、好ましくは0.5〜1.0モルである。本発明に
用いられる反応温度は使用する触媒の種類及び量により
大きく異なるが、−20℃〜190℃の範囲で行うのが
好ましく。
方が反応が好適に進行する。このようなプロトン供給物
質としては、プロトンを放出しやすいものなら何でも使
用することができるが、水、メチルアルコール、エチル
アルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールの
ようなアルコール類、酢酸、プロピオン酸のような低級
脂肪酸類等が特に望ましい。当然のことながら触媒とし
て低級脂肪酸及びそのハロゲン化誘導体を使用する場合
、プロトン供給物質を新たに添加する必要はない。添加
するプロトン供給物質の量は使用する溶媒の含水率、反
応温度、プロト7供給物質の種類等により左右されるが
、通常前記一般式(1)の化合物に基き0.1〜2.0
モル、好ましくは0.5〜1.0モルである。本発明に
用いられる反応温度は使用する触媒の種類及び量により
大きく異なるが、−20℃〜190℃の範囲で行うのが
好ましく。
又触媒としてアルカリ金属ヨウ化物を用いる場合は比較
的高温領域で行うのが好ましい。本発明に用いられる反
応時間は他の反応条件、例えば触媒の種類、量、プロト
ン供給物質の種類、特に反応温度により大きく左右され
一概に規定することはできない。
的高温領域で行うのが好ましい。本発明に用いられる反
応時間は他の反応条件、例えば触媒の種類、量、プロト
ン供給物質の種類、特に反応温度により大きく左右され
一概に規定することはできない。
一例をあげれば、ルイス酸として塩化アルミニウムを、
前記一般式(1)の化合物1当量に対し5%当量使用し
、プロトン供給物質として水を使用した場合、室温で1
2時間、60℃で6時間、8(代)で3時間程度が好適
である。本発明の実施に際して溶媒は特に必要ではない
が、多くの場合溶媒を用いた方がよい結果を与える。
前記一般式(1)の化合物1当量に対し5%当量使用し
、プロトン供給物質として水を使用した場合、室温で1
2時間、60℃で6時間、8(代)で3時間程度が好適
である。本発明の実施に際して溶媒は特に必要ではない
が、多くの場合溶媒を用いた方がよい結果を与える。
使用される溶媒としては、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシドなど非プロトン性極
性溶媒、酢酸エチルなどのエステル類、ジクロルエタン
、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類、ベンゼン
、トルエンなどの芳香族炭化水素類があげられる。この
ようにして得られた、反応生成物のパターンは極めてク
リアーなものであり、主生成物のN1−(2″−フラニ
ジル)体の外、少量の未反応原料のウラシル誘導体が含
まれているに過ぎない。
ルムアミド、ジメチルスルホキシドなど非プロトン性極
性溶媒、酢酸エチルなどのエステル類、ジクロルエタン
、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類、ベンゼン
、トルエンなどの芳香族炭化水素類があげられる。この
ようにして得られた、反応生成物のパターンは極めてク
リアーなものであり、主生成物のN1−(2″−フラニ
ジル)体の外、少量の未反応原料のウラシル誘導体が含
まれているに過ぎない。
この反応液は、例えば、必要ならば中和し、溶媒を留去
し、残留分に水とジクロルメタン、クロロホルムなどの
有機溶媒を加え完溶した後、有機溶媒層を分取すれば、
N1−(′!!′−フラニジル)−5−置換又は未置換
ウラシルが選択的に抽出することができる。また若干残
つた原料は水層に移り容易に回収するこ.とができる。
以下実施例によつて本発明をさらに詳細に説明するが本
発明の範囲はこれに限定されるものでは”ない。
し、残留分に水とジクロルメタン、クロロホルムなどの
有機溶媒を加え完溶した後、有機溶媒層を分取すれば、
N1−(′!!′−フラニジル)−5−置換又は未置換
ウラシルが選択的に抽出することができる。また若干残
つた原料は水層に移り容易に回収するこ.とができる。
以下実施例によつて本発明をさらに詳細に説明するが本
発明の範囲はこれに限定されるものでは”ない。
なお、実施例中の目的物の生成率(反応率)は次の条件
の高圧ろ紙電気泳動により分析し、計算した。
の高圧ろ紙電気泳動により分析し、計算した。
バツフアーニPHlO.5ホウ酸バッファー電圧:4K
V電流:1mAIcmwid市 時間:70−8吟 ろ紙:東洋ろ紙NO.5lA 実施例1 2・4−ビス(トリメチルスタニル)−5−フルオロウ
ラシル91yと2・3−ジヒドロフラン16y及び無水
塩化アルミニウム1.4fを、水1.8m1を含むアセ
トニトリル0.5eに溶かし、油溶温度60℃で約3時
間加熱かきまぜる。
V電流:1mAIcmwid市 時間:70−8吟 ろ紙:東洋ろ紙NO.5lA 実施例1 2・4−ビス(トリメチルスタニル)−5−フルオロウ
ラシル91yと2・3−ジヒドロフラン16y及び無水
塩化アルミニウム1.4fを、水1.8m1を含むアセ
トニトリル0.5eに溶かし、油溶温度60℃で約3時
間加熱かきまぜる。
反応後1N−カセイソーダで中和しアセトニトリルを減
圧留去、残留分に水0.2fとジクロルメタン1eを加
え、かきまぜながら完全に溶解させる。ジクロルメタン
層を分取し、水層よりシクロルメタンで2回抽出する。
ジクロルメタン層を合わせ無水硫酸ナトリウムで乾燥後
濃縮し、得られた残留分(反応率78%)をエチルアル
コールより再結晶し、さらに母液より再結晶し、計28
y(7)N1−(2″−フラニジル)−5−フルオロウ
ラシルを得る。収率70%〔2・4−ビス(トリメチル
スタニル)−5−フルオロウラシルに基き計算〕。融点
163〜1650λ=PLk,272TrLμ(ε=8
.940)元素分析値(C8H9O3Fとして)実施例
2 実施例1において水1.8m1の代わりにt−ブチルア
ルコール9.5mtを用いる以外は全く同様にして(反
応率72%)、N1−(2″−フラニジル)−5−フル
オロウラシル26.4yを得る。
圧留去、残留分に水0.2fとジクロルメタン1eを加
え、かきまぜながら完全に溶解させる。ジクロルメタン
層を分取し、水層よりシクロルメタンで2回抽出する。
ジクロルメタン層を合わせ無水硫酸ナトリウムで乾燥後
濃縮し、得られた残留分(反応率78%)をエチルアル
コールより再結晶し、さらに母液より再結晶し、計28
y(7)N1−(2″−フラニジル)−5−フルオロウ
ラシルを得る。収率70%〔2・4−ビス(トリメチル
スタニル)−5−フルオロウラシルに基き計算〕。融点
163〜1650λ=PLk,272TrLμ(ε=8
.940)元素分析値(C8H9O3Fとして)実施例
2 実施例1において水1.8m1の代わりにt−ブチルア
ルコール9.5mtを用いる以外は全く同様にして(反
応率72%)、N1−(2″−フラニジル)−5−フル
オロウラシル26.4yを得る。
収率66%。融点164.5〜1666。実施例3
2●4−ビス(トリメチルスタニル)−5−フルオロウ
ラシル45.5yと2・3−ジヒドロフラン7.7y及
びヨウ化ナトリウム1.1yを、水0.6m1を含むア
セトニトリル0.25eに溶解し加圧反応釜中、150
℃で11時間かきまぜる(反応率72%)。
ラシル45.5yと2・3−ジヒドロフラン7.7y及
びヨウ化ナトリウム1.1yを、水0.6m1を含むア
セトニトリル0.25eに溶解し加圧反応釜中、150
℃で11時間かきまぜる(反応率72%)。
反応終了後減圧下に溶温50℃以下でアセトニトリルを
留去し、残留物に0.15eの水とジクロルメタン0.
75′を加え残留物を完溶させる。得られたジクロルメ
タン層を分取し、水層をさらにジクロルメタンで2回抽
出する。得られたジクロルメタン抽出液を合わせ、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮する。得られた残留物を
エチルアルコールより再結晶を行い白色結晶を得、更に
母液より同様再結晶を行い、計12.0V(7)N1−
(′2′−フラニジル)−5−フルオロウラシルを得る
。収率60%。融点166〜166.5℃。実施例4 2・4−ビス(トリメチルスタニル)−5−フルオロウ
ラシル91yと2・3−ジヒドロフラン16y及びヨウ
素2.3yを、水1.8Tn1を含むアセトニトリル0
.3eに溶かし、油浴温度80℃で4時間加熱かきまぜ
る。
留去し、残留物に0.15eの水とジクロルメタン0.
75′を加え残留物を完溶させる。得られたジクロルメ
タン層を分取し、水層をさらにジクロルメタンで2回抽
出する。得られたジクロルメタン抽出液を合わせ、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮する。得られた残留物を
エチルアルコールより再結晶を行い白色結晶を得、更に
母液より同様再結晶を行い、計12.0V(7)N1−
(′2′−フラニジル)−5−フルオロウラシルを得る
。収率60%。融点166〜166.5℃。実施例4 2・4−ビス(トリメチルスタニル)−5−フルオロウ
ラシル91yと2・3−ジヒドロフラン16y及びヨウ
素2.3yを、水1.8Tn1を含むアセトニトリル0
.3eに溶かし、油浴温度80℃で4時間加熱かきまぜ
る。
反応終了後1N−カセイソーダで中和した後減圧下、浴
温45℃でアセトニトリルを留去し、残留物に、水0.
2eとジクロルメタン1eを加え完溶させる。ジクロル
メタン層を分取し、水層はさらにジクロルメタンで2回
抽出する。得られた抽出液を合わせ、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後濃縮し、得られた残留分(反応率72%)を
エチルアルコールより再結晶を行い、さらに母液より再
結晶を行い、合わせてN1−(77−フラニジル)−5
−フルオロウラシル25.7Vを得る。収率64%。融
点166.5〜168℃。実施例5 2●4−ビス(トリメチルスタニル)−5−フルオロウ
ムシル91f!の代わりに、2●4−ビス(トリメチル
スタニル)ウラシル84yを使用する他は実施例4と全
く同様にして反応及び後処理を行い(反応率79%)N
1−(2′−フラニジル)ウラシル26.7yを得る。
温45℃でアセトニトリルを留去し、残留物に、水0.
2eとジクロルメタン1eを加え完溶させる。ジクロル
メタン層を分取し、水層はさらにジクロルメタンで2回
抽出する。得られた抽出液を合わせ、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後濃縮し、得られた残留分(反応率72%)を
エチルアルコールより再結晶を行い、さらに母液より再
結晶を行い、合わせてN1−(77−フラニジル)−5
−フルオロウラシル25.7Vを得る。収率64%。融
点166.5〜168℃。実施例5 2●4−ビス(トリメチルスタニル)−5−フルオロウ
ムシル91f!の代わりに、2●4−ビス(トリメチル
スタニル)ウラシル84yを使用する他は実施例4と全
く同様にして反応及び後処理を行い(反応率79%)N
1−(2′−フラニジル)ウラシル26.7yを得る。
収率74%。融点104〜105.5℃。元素分析値(
C8HlON2O3として)実施例6 2●4−ビス(トリメチルスタニル)−5−フルオロウ
ラシル91yの代わりに、2・4−ビス(トリメチルス
タニル)−5−トリフルオロメチルウラシル101yを
使用する他は実施例1と全く同様にして反応及び後処理
を行い(反応率69%)、N1−(7−フラニジル)−
5−トリフルオロメチルウラシル31.5qを得る。
C8HlON2O3として)実施例6 2●4−ビス(トリメチルスタニル)−5−フルオロウ
ラシル91yの代わりに、2・4−ビス(トリメチルス
タニル)−5−トリフルオロメチルウラシル101yを
使用する他は実施例1と全く同様にして反応及び後処理
を行い(反応率69%)、N1−(7−フラニジル)−
5−トリフルオロメチルウラシル31.5qを得る。
収率63%。融点207〜208.5℃。元素分析値(
C9H9N2O3F3として)実測値(%)43.53
7.5011.38計算値(%)43.217.631
1.20実施例7反応溶媒としてアセトニトリル0.5
eの代りにジメチルホルムアミド0.5′を使用するこ
とを除き実施例6と全く同様にして反応及び後処理を行
い(反応率63%)、N1−(2″−フラニジル)−5
−トリフルオロメチル25.1yを得る。
C9H9N2O3F3として)実測値(%)43.53
7.5011.38計算値(%)43.217.631
1.20実施例7反応溶媒としてアセトニトリル0.5
eの代りにジメチルホルムアミド0.5′を使用するこ
とを除き実施例6と全く同様にして反応及び後処理を行
い(反応率63%)、N1−(2″−フラニジル)−5
−トリフルオロメチル25.1yを得る。
収率50%。融点207〜208ルC0実施例8
2●4−ビス(トリメチルスタニル)−5−フルオロウ
ラシル45.5yと2・3−ジヒドロフラン7.7y及
び酢酸5.3yをアセトニトリル0.25′に溶解し、
150℃において3時間かきまぜる(反応率67%)。
ラシル45.5yと2・3−ジヒドロフラン7.7y及
び酢酸5.3yをアセトニトリル0.25′に溶解し、
150℃において3時間かきまぜる(反応率67%)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRはアルキル基、Xは水素原子、ハロゲン原子
、メチル基又はトリハロメチル基である)で表わされる
2・4−ビス(トリアルキルスタニル)−ピリミジン誘
導体と、2・3−ジヒドロフランとを、プロトン供給物
質及び触媒の存在下で反応させることを特徴とする、一
般式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のXは前記と同じ意味をもつ) で表わされるウラシル誘導体の製法。 2 2・4−ビス(トリアルキルスタニル)−ピリミジ
ン誘導体が2・4−ビス(トリメチルスタニル)−ウラ
シル又はその5−置換体である特許請求の範囲第1項記
載の方法。 3 プロトン供給物質が水である特許請求の範囲第1項
記載の方法。 4 プロトン供給物質がアルコール及び有機酸の中から
選ばれた有機溶媒である特許請求の範囲第1項記載の方
法。 5 触媒がルイス酸、ハロゲン、アルカリ金属ヨウ化物
及び有機酸の中から選ばれた化合物である特許請求の範
囲第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2312576A JPS6044311B2 (ja) | 1976-03-05 | 1976-03-05 | ウラシル誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2312576A JPS6044311B2 (ja) | 1976-03-05 | 1976-03-05 | ウラシル誘導体の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS52108986A JPS52108986A (en) | 1977-09-12 |
JPS6044311B2 true JPS6044311B2 (ja) | 1985-10-02 |
Family
ID=12101782
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2312576A Expired JPS6044311B2 (ja) | 1976-03-05 | 1976-03-05 | ウラシル誘導体の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6044311B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6225416U (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-16 | ||
JPH01172222U (ja) * | 1988-05-26 | 1989-12-06 |
-
1976
- 1976-03-05 JP JP2312576A patent/JPS6044311B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6225416U (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-16 | ||
JPH01172222U (ja) * | 1988-05-26 | 1989-12-06 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS52108986A (en) | 1977-09-12 |
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