JPH0321021B2 - - Google Patents
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Classifications
-
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
本発明はスルホン類の製造法に関する。更に詳
しくは本発明は、一般式 R1−SO2−R2 (1) 〔式中R1はアリール基又はアルキル基を示す。
R2はアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、
シアノアルキル基、ハロアルキル基又はアルコキ
シカルボニルアルキル基を示す。〕 で表わされるスルホン類の製造法に関する。 上記一般式(1)で表わされるスルホン類は、種々
の有機薬品の製造原料として重要な化合物であ
る。 従来、上記一般式(1)で表わされるスルホン類の
製造法としては、例えばツバンブルクらの方法
〔G.E.Veentra，B.Zwaneburg，Synthesis，519
（1975）〕が知られている。この方法は、スルフイ
ン酸ナトリウムとテトラブチルアンモニウムブロ
マイドとを反応させてスルフイン酸テトラブチル
アンモニウムを得、次いでこれにハロゲン化アル
キルを反応させて目的とするスルホン類を製造す
る方法である。しかしながら、この方法では、ス
ルフイン酸テトラブチルアンモニウムの合成に煩
雑な操作を必要とし、しかもスルフイン酸をテト
ラブチルアンモニウムブロマイドに対して２倍量
使用することが必須とされている。そのために反
応終了後未反応のスルフイン酸ナトリウムを反応
混合物から回収する必要があるが、スルフイン酸
ナトリウムの回収は困難である。また上記方法の
改良法としてマネスカルキらの方法〔F.
Manescalchi，M.Orena，D.Savoia，Synthesis，
445（1979）〕が知られている。この方法はテトラ
ブチルアンモニウムブロマイドの代りにアニオン
交換樹脂であるアンバーリストＡ−26を用いる方
法である。しかしながら、この方法においてもス
ルフイン酸型アンバーリストＡ−26の合成に煩雑
な操作を必要とする。このように今日までに知ら
れているスルホン類の製造法はいずれも工業的製
造法として満足できるものではない。 本発明者らは斯かる現状に鑑みスルホン類の工
業的製造法を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、
下記一般式(2)で表わされるスルフイン酸塩と下記
一般式(3)で表わされるハロゲン化合物とを下記一
般式(4)で表わされる化合物の存在下に反応させる
場合に限り本発明の所期の目的を達成できること
を見い出した。本発明は斯かる知見に基づいて完
成されたものである。 即ち本発明は、一般式 R1SO2M・nH2O (2) 〔式中R1はアリール基又はアルキル基を示す。
Ｍはアルカリ金属原子を示す。ｎは０又は１〜４
の整数を示す。〕 で表わされるスルフイン酸塩と一般式 R2X (3) 〔式中R2はアルキル基、アルケニル基、アラ
ルキル基、シアノアルキル基、ハロアルキル基又
はアルコキシカルボニルアルキル基を示す。Ｘは
ハロゲン原子を示す。〕 で表わされるハロゲン化合物とを反応させて一般
式 R1−SO2−R2 (1) 〔式中R1及びR2は前記に同じ。〕 で表わされるスルホン類を製造するに当り、反応
系内に一般式 R3O（C2H4O）l（C3H6O）nR4 (4) 〔式中R3及びR4は同一または相異なつて水素
原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基ま
たはアラルキル基を、ｌは４以上の整数を、ｍは
０または１以上の整数をそれぞれ示す。〕 で表わされる化合物を存在させることを特徴とす
るスルホン類の製造法に係る。 本発明の方法によれば、合成に煩雑な操作を必
要とするスルフイン酸テトラブチルアンモニウム
やスルフイン酸型アンバーリストＡ−26の使用は
全く不必要であり、そのため作業性は極めて良好
であり、しかも目的とするスルホン類を蒸留、再
結晶等の簡便な操作により反応混合物から好純
度、好収率で単離することができる。それ故本発
明の法方はスルホン類の工業的な製造法として極
めて好適な方法であると言うことができる。 本発明において出発原料として用いられる一般
式(2)のスルフイン酸塩はいずれも公知の化合物で
ある。一般式(2)においてR1で示されるアリール
基としてはフエニル、４−メチルフエニル、２，
４−ジメチルフエニル、２，４，６−トリメチル
フエニル、ｐ−メトキシフエニル、ｐ−クロロフ
エニル、α−ナフチル、β−ナフチル基等を例示
でき、アルキル基としてはメチル、エチル、ｎ−
プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチ
ル、tert−ブチル基等を例示できる。一般式(2)の
スルフイン酸塩の具体例としてはベンゼンスルフ
イン酸ナトリウム（カリウム）、ｐ−トルエンス
ルフイン酸ナトリウム（カリウム）、２，４−ジ
メチルベンゼンスルフイン酸ナトリウム（カリウ
ム）、２，４，６−トリメチルベンゼンスルフイ
ン酸ナトリウム（カリウム）、ｐ−メトキシベン
ゼンスルフイン酸ナトリウム（カリウム）、ｐ−
クロロベンゼンスルフイン酸ナトリウム（カリウ
ム）、α−ナフタレンスルフイン酸ナトリウム
（カリウム）、β−ナフタレンスルフイン酸ナトリ
ウム（カリウム）、メタンスルフイン酸ナトリウ
ム（カリウム）、エタンスルフイン酸ナトリウム
（カリウム）、ｎ−プロパンスルフイン酸ナトリウ
ム（カリウム）、ｎ−ブタンスルフイン酸ナトリ
ウム（カリウム）等やこれらの水和物等を挙げる
ことができる。 本発明において他の一方の出発原料として用い
られる一般式(3)のハロゲン化合物はいずれも公知
の化合物である。一般式(3)においてR2で示され
るアルキル基としてはメチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、
tert−ブチル、ｎ−アミル、イソアミル、ｎ−ヘ
キシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニ
ル、ｎ−デシル、ｎ−ラウリル基等を例示でき、
アルケニル基としてはアリル、メタアリル、クロ
チル基等を例示でき、アラルキル基としてはベン
ジル、２−フエニルエチル、３−フエニルプロピ
ル基等を例示でき、シアノアルキル基としてはシ
アノメチル、２−シアノエチル、３−シアノプロ
ピル、−シアノブチル基等を例示でき、ハロアル
キル基としてはクロロメチル、２−クロロエチ
ル、３−クロロプロピル、４−クロロブチル、ブ
ロモメチル、２−ブロモエチル、３−ブロモプロ
ピル、４−ブロモブチル、ヨードメチル、２−ヨ
ードエチル、３−ヨードプロピル、４−ヨードブ
チル基等を例示でき、アルコキシカルボニルアル
キル基としてはメトキシカルボニルメチル、メト
キシカルボニルエチル、メトキシカルボニルプロ
ピル、エトキシカルボニルメチル、エトキシカル
ボニルエチル、エトキシカルボニルプロピル、プ
ロポキシカルボニルメチル、ポロポキシカルボニ
ルエチル、プロポキシカルボニルプロピル、ブト
キシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルエチ
ル、ブトキシカルボニルプロピル基等を例示でき
る。またＸで示されるハロゲン原子としては塩素
原子、臭素原子、沃素原子等を例示できる。一般
式(3)のハロゲン化合物の具体例としては塩化メチ
ル、塩化エチル、塩化ｎ−プロピル、塩化イソプ
ロピル、塩化ｎ−ブチル、塩化ｎ−アミル、塩化
ｎ−ヘキシル、塩化ｎ−ヘプチル、塩化ｎ−オク
チル、塩化ｎ−ノニル、塩化ｎ−デシル、塩化ｎ
−ラウリル、塩化アリル、塩化メタアリル、塩化
クロチル、塩化ベンジル、塩化−２−フエニルエ
チル、塩化３−フエニルプロピル、塩化シアノメ
チル、塩化−２−シアノエチル、塩化−３−シア
ノプロピル、塩化−４−シアノブチル、ジクロロ
メタン、１，２−ジクロロエタン、１，３−ジク
ロロプロパン、１，４−ジクロロブタン、塩化メ
トキシカルボニルメチル、塩化メトキシカルボニ
ルエチル、塩化メトキシカルボニルプロピル、塩
化エトキシカルボニルメチル、塩化エトキシカル
ボニルエチル、塩化エトキシカルボニルプロピル
等を挙げることができる。 本発明において、一般式(2)のスルフイン酸塩と
一般式(3)のハロゲン化合物との使用割合としては
特に限定されず広い範囲内から適宜選択すること
ができるが、通常前者に対して後者を約等モル〜
２倍モル、好ましくは等モル〜1.5倍モル用いる
のがよい。 本発明においては反応系内に一般式(4)で表わさ
れる化合物を存在させることを必須とする。一般
式(4)に於てR3及びR4で示されるアルキル基には
メチル、エチル、ｎ−プロピル、iso−プロピル、
ｎ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−アミル、iso−
アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オク
チル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ラウリル、
ｎ−セチル、ｎ−ステアリル基等が、アルケニル
基にはｎ−オレイル基等が、アリール基にはフエ
ニル、ｎ−オクチルフエニル、ｎ−ノニルフエニ
ル、ナフチル基等が、またアラルキル基にはベン
ジル、２−フエニルエチル、３−フエニルプロピ
ル基等がそれぞれ包含される。一般式(4)で表わさ
れる化合物としては具体的にはポリエチレングリ
コール−200，−300，−400，−600，−1000，−1500，
−1540，−2000，−4000，−6000，−20000、オキシ
プロピレンオキシエチレンブロツク共重合物−
2000，−3000，−4000，−8000，−10000〔商標：花王
アトラス(株)製のエマルゲンppシリーズ150，230，
250及び290；三洋化成工業(株)製のニユーポール
pEシリーズ61，62，64，68，74，75，78及び
88；松本油脂製薬(株)製のアクチノールｐシリーズ
1050，2040，2060，2085及び3035〕、これらのモ
ノまたはジメチルエーテル、モノまたはジエチル
エーテル、モノまたはジプロピルエーテル、モノ
またはジブチルエーテル、モノまたはジペンチル
エーテル、モノまたはジヘキシルエーテル、モノ
またはジヘプチルエーテル、モノまたはジオクチ
ルエーテル、モノまたはジノニルエーテル、モノ
またはジデシルエーテル、モノラウリルエーテ
ル、モノセチルエーテル、モノステアリルエーテ
ル、モノオレイルエーテル、モノオクチルフエニ
ルエーテル、モノノニルフエニルエーテル、モノ
フエニルエーテル、モノナフチルエーテル、モノ
ベンジルエーテル、モノフエニルエチルエーテ
ル、ラウリルメチルエーテル、ラウリルエチルエ
ーテル、ラウリルプロピルエーテル、ラウリルブ
チルエーテル、セチルメチルエーテル、セチルエ
チルエーテル、セチルプロピルエーテル、セチル
ブチルエーテル、ステアリルメチルエーテル、ス
テアリルエチルエーテル、ステアリルプロピルエ
ーテル、ステアリルブチルエーテル、オレイルメ
チルエーテル、オレイルエチルエーテル、オレイ
ルプロピルエーテル、オレイルブチルエーテル、
オクチルフエニル・メチルエーテル、オクチルフ
エニル・エチルエーテル、オクチルフエニル・プ
ロピルエーテル、オクチルフエニル・ブチルエー
テル、ノニルフエニル・メチルエーテル、ノニル
フエニル・エチルエーテル、ノニルフエニル・プ
ロピルエーテル、ノニルフエニル・ブチルエーテ
ル、ジフエニルエーテル、ジナフチルエーテル、
ジベンジルエーテル、ジフエニルエチルエーテル
等を例示できる。これらのうちでポリエチレング
リコール（PEG）−400−ジメチルエーテル、
PEG−400−ジエチルエーテル、PEG−400−ジ
−ｎ−プロピルエーテル、PEG−400−ジ−ｎ−
ブチルエーテル、PEG−600−ジメチルエーテ
ル、PEG−600−ジエチルエーテル、PEG−600
−ジ−ｎ−プロピルエーテル、PEG−600−ジ−
ｎ−ブチルエーテル、PEG−1000−ジメチルエ
ーテル、PEG−1000−ジエチルエーテル、PEG
−1000−ジ−ｎ−ブチルエーテル、PEG−400、
PEG−600及びPEG−1000が特に好適である。反
応系内に存在させるべき一般式(4)の化合物の量と
しては特に限定されないが、一般式(2)のスルフイ
ン酸塩１モルに対し通常0.01〜２モル、好ましく
は0.01〜１モル程度存在させればよい。 本発明の反応は、一般に有機溶媒中にて行なわ
れる。有機溶媒としては例えばメタノール、エタ
ノール、プロパノール、ブタノール等のアルコー
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類等を挙げることができる。これらのう
ちでアルコール類が好適である。 また本発明では上記一般式(4)の化合物を溶媒と
して兼用することもできる。上記反応は室温下又
は加熱下のいずれでも行なわれるが、通常室温〜
70℃付近、好ましくは室温〜60℃にて好適に反応
が進行する。反応時間は一般に１〜９時間程度で
ある。 斯くして生成する本発明の目的化合物は慣用の
分離手段、例えば蒸留、再結晶等により反応混合
物から容易に単離、精製される。以下に実施例を
挙げる。 実施例 １ ｐ−トルエンスルフイン酸ナトリウム・１水和
物9.8ｇ（0.05モル）、臭化ブチル10.3ｇ（0.075モ
ル）及びPEG−400 20mlを60℃にて３時間撹拌
した。冷却後反応液に200mlの水を加え、ベンゼ
ンで抽出した（20ml×３）。ベンゼン層を充分に
水洗した後乾燥し、ベンゼンを留去した後減圧単
蒸留してｎ−ブチルｐ−トリルスルホン9.5ｇを
得た（収率90％）。 実施例 ２ ｐ−トルエンスルフイン酸ナトリウム・１水和
物9.8ｇ（0.05モル）、塩化ベンジル9.5ｇ（0.075
モル）及びPEG−400 40mlを60℃にて２時間撹
拌した。冷却後反応液を300mlの水中に投入し、
折出した結晶を集めて水洗し、エタノールで再結
晶してベンジルｐ−トリルスルホン11.7ｇを得た
（収率94％）。 実施例 ３〜17 ｐ−トルエンスルフイン酸ナトリウム・１水和
物0.05モル及び下記第１表に記載の一般式(3)の化
合物0.075モルを用い、下記第１表記載の条件下
に反応させる以外は実施例１又は２と同様にして
日的とするスルホン類を得た。
しくは本発明は、一般式 R1−SO2−R2 (1) 〔式中R1はアリール基又はアルキル基を示す。
R2はアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、
シアノアルキル基、ハロアルキル基又はアルコキ
シカルボニルアルキル基を示す。〕 で表わされるスルホン類の製造法に関する。 上記一般式(1)で表わされるスルホン類は、種々
の有機薬品の製造原料として重要な化合物であ
る。 従来、上記一般式(1)で表わされるスルホン類の
製造法としては、例えばツバンブルクらの方法
〔G.E.Veentra，B.Zwaneburg，Synthesis，519
（1975）〕が知られている。この方法は、スルフイ
ン酸ナトリウムとテトラブチルアンモニウムブロ
マイドとを反応させてスルフイン酸テトラブチル
アンモニウムを得、次いでこれにハロゲン化アル
キルを反応させて目的とするスルホン類を製造す
る方法である。しかしながら、この方法では、ス
ルフイン酸テトラブチルアンモニウムの合成に煩
雑な操作を必要とし、しかもスルフイン酸をテト
ラブチルアンモニウムブロマイドに対して２倍量
使用することが必須とされている。そのために反
応終了後未反応のスルフイン酸ナトリウムを反応
混合物から回収する必要があるが、スルフイン酸
ナトリウムの回収は困難である。また上記方法の
改良法としてマネスカルキらの方法〔F.
Manescalchi，M.Orena，D.Savoia，Synthesis，
445（1979）〕が知られている。この方法はテトラ
ブチルアンモニウムブロマイドの代りにアニオン
交換樹脂であるアンバーリストＡ−26を用いる方
法である。しかしながら、この方法においてもス
ルフイン酸型アンバーリストＡ−26の合成に煩雑
な操作を必要とする。このように今日までに知ら
れているスルホン類の製造法はいずれも工業的製
造法として満足できるものではない。 本発明者らは斯かる現状に鑑みスルホン類の工
業的製造法を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、
下記一般式(2)で表わされるスルフイン酸塩と下記
一般式(3)で表わされるハロゲン化合物とを下記一
般式(4)で表わされる化合物の存在下に反応させる
場合に限り本発明の所期の目的を達成できること
を見い出した。本発明は斯かる知見に基づいて完
成されたものである。 即ち本発明は、一般式 R1SO2M・nH2O (2) 〔式中R1はアリール基又はアルキル基を示す。
Ｍはアルカリ金属原子を示す。ｎは０又は１〜４
の整数を示す。〕 で表わされるスルフイン酸塩と一般式 R2X (3) 〔式中R2はアルキル基、アルケニル基、アラ
ルキル基、シアノアルキル基、ハロアルキル基又
はアルコキシカルボニルアルキル基を示す。Ｘは
ハロゲン原子を示す。〕 で表わされるハロゲン化合物とを反応させて一般
式 R1−SO2−R2 (1) 〔式中R1及びR2は前記に同じ。〕 で表わされるスルホン類を製造するに当り、反応
系内に一般式 R3O（C2H4O）l（C3H6O）nR4 (4) 〔式中R3及びR4は同一または相異なつて水素
原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基ま
たはアラルキル基を、ｌは４以上の整数を、ｍは
０または１以上の整数をそれぞれ示す。〕 で表わされる化合物を存在させることを特徴とす
るスルホン類の製造法に係る。 本発明の方法によれば、合成に煩雑な操作を必
要とするスルフイン酸テトラブチルアンモニウム
やスルフイン酸型アンバーリストＡ−26の使用は
全く不必要であり、そのため作業性は極めて良好
であり、しかも目的とするスルホン類を蒸留、再
結晶等の簡便な操作により反応混合物から好純
度、好収率で単離することができる。それ故本発
明の法方はスルホン類の工業的な製造法として極
めて好適な方法であると言うことができる。 本発明において出発原料として用いられる一般
式(2)のスルフイン酸塩はいずれも公知の化合物で
ある。一般式(2)においてR1で示されるアリール
基としてはフエニル、４−メチルフエニル、２，
４−ジメチルフエニル、２，４，６−トリメチル
フエニル、ｐ−メトキシフエニル、ｐ−クロロフ
エニル、α−ナフチル、β−ナフチル基等を例示
でき、アルキル基としてはメチル、エチル、ｎ−
プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチ
ル、tert−ブチル基等を例示できる。一般式(2)の
スルフイン酸塩の具体例としてはベンゼンスルフ
イン酸ナトリウム（カリウム）、ｐ−トルエンス
ルフイン酸ナトリウム（カリウム）、２，４−ジ
メチルベンゼンスルフイン酸ナトリウム（カリウ
ム）、２，４，６−トリメチルベンゼンスルフイ
ン酸ナトリウム（カリウム）、ｐ−メトキシベン
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クロロベンゼンスルフイン酸ナトリウム（カリウ
ム）、α−ナフタレンスルフイン酸ナトリウム
（カリウム）、β−ナフタレンスルフイン酸ナトリ
ウム（カリウム）、メタンスルフイン酸ナトリウ
ム（カリウム）、エタンスルフイン酸ナトリウム
（カリウム）、ｎ−プロパンスルフイン酸ナトリウ
ム（カリウム）、ｎ−ブタンスルフイン酸ナトリ
ウム（カリウム）等やこれらの水和物等を挙げる
ことができる。 本発明において他の一方の出発原料として用い
られる一般式(3)のハロゲン化合物はいずれも公知
の化合物である。一般式(3)においてR2で示され
るアルキル基としてはメチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、
tert−ブチル、ｎ−アミル、イソアミル、ｎ−ヘ
キシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニ
ル、ｎ−デシル、ｎ−ラウリル基等を例示でき、
アルケニル基としてはアリル、メタアリル、クロ
チル基等を例示でき、アラルキル基としてはベン
ジル、２−フエニルエチル、３−フエニルプロピ
ル基等を例示でき、シアノアルキル基としてはシ
アノメチル、２−シアノエチル、３−シアノプロ
ピル、−シアノブチル基等を例示でき、ハロアル
キル基としてはクロロメチル、２−クロロエチ
ル、３−クロロプロピル、４−クロロブチル、ブ
ロモメチル、２−ブロモエチル、３−ブロモプロ
ピル、４−ブロモブチル、ヨードメチル、２−ヨ
ードエチル、３−ヨードプロピル、４−ヨードブ
チル基等を例示でき、アルコキシカルボニルアル
キル基としてはメトキシカルボニルメチル、メト
キシカルボニルエチル、メトキシカルボニルプロ
ピル、エトキシカルボニルメチル、エトキシカル
ボニルエチル、エトキシカルボニルプロピル、プ
ロポキシカルボニルメチル、ポロポキシカルボニ
ルエチル、プロポキシカルボニルプロピル、ブト
キシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルエチ
ル、ブトキシカルボニルプロピル基等を例示でき
る。またＸで示されるハロゲン原子としては塩素
原子、臭素原子、沃素原子等を例示できる。一般
式(3)のハロゲン化合物の具体例としては塩化メチ
ル、塩化エチル、塩化ｎ−プロピル、塩化イソプ
ロピル、塩化ｎ−ブチル、塩化ｎ−アミル、塩化
ｎ−ヘキシル、塩化ｎ−ヘプチル、塩化ｎ−オク
チル、塩化ｎ−ノニル、塩化ｎ−デシル、塩化ｎ
−ラウリル、塩化アリル、塩化メタアリル、塩化
クロチル、塩化ベンジル、塩化−２−フエニルエ
チル、塩化３−フエニルプロピル、塩化シアノメ
チル、塩化−２−シアノエチル、塩化−３−シア
ノプロピル、塩化−４−シアノブチル、ジクロロ
メタン、１，２−ジクロロエタン、１，３−ジク
ロロプロパン、１，４−ジクロロブタン、塩化メ
トキシカルボニルメチル、塩化メトキシカルボニ
ルエチル、塩化メトキシカルボニルプロピル、塩
化エトキシカルボニルメチル、塩化エトキシカル
ボニルエチル、塩化エトキシカルボニルプロピル
等を挙げることができる。 本発明において、一般式(2)のスルフイン酸塩と
一般式(3)のハロゲン化合物との使用割合としては
特に限定されず広い範囲内から適宜選択すること
ができるが、通常前者に対して後者を約等モル〜
２倍モル、好ましくは等モル〜1.5倍モル用いる
のがよい。 本発明においては反応系内に一般式(4)で表わさ
れる化合物を存在させることを必須とする。一般
式(4)に於てR3及びR4で示されるアルキル基には
メチル、エチル、ｎ−プロピル、iso−プロピル、
ｎ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−アミル、iso−
アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オク
チル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ラウリル、
ｎ−セチル、ｎ−ステアリル基等が、アルケニル
基にはｎ−オレイル基等が、アリール基にはフエ
ニル、ｎ−オクチルフエニル、ｎ−ノニルフエニ
ル、ナフチル基等が、またアラルキル基にはベン
ジル、２−フエニルエチル、３−フエニルプロピ
ル基等がそれぞれ包含される。一般式(4)で表わさ
れる化合物としては具体的にはポリエチレングリ
コール−200，−300，−400，−600，−1000，−1500，
−1540，−2000，−4000，−6000，−20000、オキシ
プロピレンオキシエチレンブロツク共重合物−
2000，−3000，−4000，−8000，−10000〔商標：花王
アトラス(株)製のエマルゲンppシリーズ150，230，
250及び290；三洋化成工業(株)製のニユーポール
pEシリーズ61，62，64，68，74，75，78及び
88；松本油脂製薬(株)製のアクチノールｐシリーズ
1050，2040，2060，2085及び3035〕、これらのモ
ノまたはジメチルエーテル、モノまたはジエチル
エーテル、モノまたはジプロピルエーテル、モノ
またはジブチルエーテル、モノまたはジペンチル
エーテル、モノまたはジヘキシルエーテル、モノ
またはジヘプチルエーテル、モノまたはジオクチ
ルエーテル、モノまたはジノニルエーテル、モノ
またはジデシルエーテル、モノラウリルエーテ
ル、モノセチルエーテル、モノステアリルエーテ
ル、モノオレイルエーテル、モノオクチルフエニ
ルエーテル、モノノニルフエニルエーテル、モノ
フエニルエーテル、モノナフチルエーテル、モノ
ベンジルエーテル、モノフエニルエチルエーテ
ル、ラウリルメチルエーテル、ラウリルエチルエ
ーテル、ラウリルプロピルエーテル、ラウリルブ
チルエーテル、セチルメチルエーテル、セチルエ
チルエーテル、セチルプロピルエーテル、セチル
ブチルエーテル、ステアリルメチルエーテル、ス
テアリルエチルエーテル、ステアリルプロピルエ
ーテル、ステアリルブチルエーテル、オレイルメ
チルエーテル、オレイルエチルエーテル、オレイ
ルプロピルエーテル、オレイルブチルエーテル、
オクチルフエニル・メチルエーテル、オクチルフ
エニル・エチルエーテル、オクチルフエニル・プ
ロピルエーテル、オクチルフエニル・ブチルエー
テル、ノニルフエニル・メチルエーテル、ノニル
フエニル・エチルエーテル、ノニルフエニル・プ
ロピルエーテル、ノニルフエニル・ブチルエーテ
ル、ジフエニルエーテル、ジナフチルエーテル、
ジベンジルエーテル、ジフエニルエチルエーテル
等を例示できる。これらのうちでポリエチレング
リコール（PEG）−400−ジメチルエーテル、
PEG−400−ジエチルエーテル、PEG−400−ジ
−ｎ−プロピルエーテル、PEG−400−ジ−ｎ−
ブチルエーテル、PEG−600−ジメチルエーテ
ル、PEG−600−ジエチルエーテル、PEG−600
−ジ−ｎ−プロピルエーテル、PEG−600−ジ−
ｎ−ブチルエーテル、PEG−1000−ジメチルエ
ーテル、PEG−1000−ジエチルエーテル、PEG
−1000−ジ−ｎ−ブチルエーテル、PEG−400、
PEG−600及びPEG−1000が特に好適である。反
応系内に存在させるべき一般式(4)の化合物の量と
しては特に限定されないが、一般式(2)のスルフイ
ン酸塩１モルに対し通常0.01〜２モル、好ましく
は0.01〜１モル程度存在させればよい。 本発明の反応は、一般に有機溶媒中にて行なわ
れる。有機溶媒としては例えばメタノール、エタ
ノール、プロパノール、ブタノール等のアルコー
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類等を挙げることができる。これらのう
ちでアルコール類が好適である。 また本発明では上記一般式(4)の化合物を溶媒と
して兼用することもできる。上記反応は室温下又
は加熱下のいずれでも行なわれるが、通常室温〜
70℃付近、好ましくは室温〜60℃にて好適に反応
が進行する。反応時間は一般に１〜９時間程度で
ある。 斯くして生成する本発明の目的化合物は慣用の
分離手段、例えば蒸留、再結晶等により反応混合
物から容易に単離、精製される。以下に実施例を
挙げる。 実施例 １ ｐ−トルエンスルフイン酸ナトリウム・１水和
物9.8ｇ（0.05モル）、臭化ブチル10.3ｇ（0.075モ
ル）及びPEG−400 20mlを60℃にて３時間撹拌
した。冷却後反応液に200mlの水を加え、ベンゼ
ンで抽出した（20ml×３）。ベンゼン層を充分に
水洗した後乾燥し、ベンゼンを留去した後減圧単
蒸留してｎ−ブチルｐ−トリルスルホン9.5ｇを
得た（収率90％）。 実施例 ２ ｐ−トルエンスルフイン酸ナトリウム・１水和
物9.8ｇ（0.05モル）、塩化ベンジル9.5ｇ（0.075
モル）及びPEG−400 40mlを60℃にて２時間撹
拌した。冷却後反応液を300mlの水中に投入し、
折出した結晶を集めて水洗し、エタノールで再結
晶してベンジルｐ−トリルスルホン11.7ｇを得た
（収率94％）。 実施例 ３〜17 ｐ−トルエンスルフイン酸ナトリウム・１水和
物0.05モル及び下記第１表に記載の一般式(3)の化
合物0.075モルを用い、下記第１表記載の条件下
に反応させる以外は実施例１又は２と同様にして
日的とするスルホン類を得た。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 R1SO2M・nH2O 〔式中R1はアリール基又はアルキル基を示す。
Ｍはアルカリ金属原子を示す。ｎは０又は１〜４
の整数を示す。〕 で表わされるスルフイン酸塩と一般式 R2X 〔式中R2はアルキル基、アルケニル基、アラ
ルキル基、シアノアルキル基、ハロアルキル基又
はアルコキシカルボニルアルキル基を示す。Ｘは
ハロゲン原子を示す。〕 で表わされるハロゲン化合物とを反応させて一般
式 R1−SO2−R2 〔式中R1及びR2は前記に同じ。〕 で表わされるスルホン類を製造するに当り、反応
系内に一般式 R3O（C2H4O）l（C3H6O）nR4 〔式中R3及びR4は同一または相異なつて水素
原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基ま
たはアラルキル基を、ｌは４以上の整数を、ｍは
０または１以上の整数をそれぞれ示す。〕 で表わされる化合物を存在させることを特徴とす
るスルホン類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57153309A JPS5942359A (ja) | 1982-09-01 | 1982-09-01 | スルホン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57153309A JPS5942359A (ja) | 1982-09-01 | 1982-09-01 | スルホン類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5942359A JPS5942359A (ja) | 1984-03-08 |
| JPH0321021B2 true JPH0321021B2 (ja) | 1991-03-20 |
Family
ID=15559664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57153309A Granted JPS5942359A (ja) | 1982-09-01 | 1982-09-01 | スルホン類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5942359A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2558275B2 (ja) * | 1987-04-06 | 1996-11-27 | 株式会社クラレ | ゲラニルフエニルスルホンの製造方法 |
| JP2553075B2 (ja) * | 1987-04-06 | 1996-11-13 | 株式会社クラレ | シクロゲラニルフエニルスルホンの製造方法 |
| JPH0532612A (ja) * | 1990-10-19 | 1993-02-09 | Nissan Chem Ind Ltd | ４−アルキルスルホニル−２−クロロ−ｍ−キシレンの製法 |
| WO2002074762A1 (fr) * | 2001-03-15 | 2002-09-26 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Procede relatif a l'elaboration de derive sulfone |
| CN104185621B (zh) * | 2012-02-27 | 2016-09-07 | 欧拉泰克工业有限责任公司 | 用于制备3-甲磺酰基丙腈的方法 |
-
1982
- 1982-09-01 JP JP57153309A patent/JPS5942359A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5942359A (ja) | 1984-03-08 |
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