JPH0321021B2 - - Google Patents

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JPH0321021B2
JPH0321021B2 JP57153309A JP15330982A JPH0321021B2 JP H0321021 B2 JPH0321021 B2 JP H0321021B2 JP 57153309 A JP57153309 A JP 57153309A JP 15330982 A JP15330982 A JP 15330982A JP H0321021 B2 JPH0321021 B2 JP H0321021B2
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JP
Japan
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ether
general formula
chloride
represented
sodium
Prior art date
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JP57153309A
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Japanese (ja)
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JPS5942359A (en
Inventor
Kazuaki Sugata
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NIPPON TOKUSHU KAGAKU KOGYO KK
Original Assignee
NIPPON TOKUSHU KAGAKU KOGYO KK
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Publication date
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Publication of JPH0321021B2 publication Critical patent/JPH0321021B2/ja
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明はスルホン類の製造法に関する。更に詳
しくは本発明は、一般式 R1−SO2−R2 (1) 〔式中R1はアリール基又はアルキル基を示す。
R2はアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、
シアノアルキル基、ハロアルキル基又はアルコキ
シカルボニルアルキル基を示す。〕 で表わされるスルホン類の製造法に関する。 上記一般式(1)で表わされるスルホン類は、種々
の有機薬品の製造原料として重要な化合物であ
る。 従来、上記一般式(1)で表わされるスルホン類の
製造法としては、例えばツバンブルクらの方法
〔G.E.Veentra,B.Zwaneburg,Synthesis,519
(1975)〕が知られている。この方法は、スルフイ
ン酸ナトリウムとテトラブチルアンモニウムブロ
マイドとを反応させてスルフイン酸テトラブチル
アンモニウムを得、次いでこれにハロゲン化アル
キルを反応させて目的とするスルホン類を製造す
る方法である。しかしながら、この方法では、ス
ルフイン酸テトラブチルアンモニウムの合成に煩
雑な操作を必要とし、しかもスルフイン酸をテト
ラブチルアンモニウムブロマイドに対して2倍量
使用することが必須とされている。そのために反
応終了後未反応のスルフイン酸ナトリウムを反応
混合物から回収する必要があるが、スルフイン酸
ナトリウムの回収は困難である。また上記方法の
改良法としてマネスカルキらの方法〔F.
Manescalchi,M.Orena,D.Savoia,Synthesis,
445(1979)〕が知られている。この方法はテトラ
ブチルアンモニウムブロマイドの代りにアニオン
交換樹脂であるアンバーリストA−26を用いる方
法である。しかしながら、この方法においてもス
ルフイン酸型アンバーリストA−26の合成に煩雑
な操作を必要とする。このように今日までに知ら
れているスルホン類の製造法はいずれも工業的製
造法として満足できるものではない。 本発明者らは斯かる現状に鑑みスルホン類の工
業的製造法を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、
下記一般式(2)で表わされるスルフイン酸塩と下記
一般式(3)で表わされるハロゲン化合物とを下記一
般式(4)で表わされる化合物の存在下に反応させる
場合に限り本発明の所期の目的を達成できること
を見い出した。本発明は斯かる知見に基づいて完
成されたものである。 即ち本発明は、一般式 R1SO2M・nH2O (2) 〔式中R1はアリール基又はアルキル基を示す。
Mはアルカリ金属原子を示す。nは0又は1〜4
の整数を示す。〕 で表わされるスルフイン酸塩と一般式 R2X (3) 〔式中R2はアルキル基、アルケニル基、アラ
ルキル基、シアノアルキル基、ハロアルキル基又
はアルコキシカルボニルアルキル基を示す。Xは
ハロゲン原子を示す。〕 で表わされるハロゲン化合物とを反応させて一般
式 R1−SO2−R2 (1) 〔式中R1及びR2は前記に同じ。〕 で表わされるスルホン類を製造するに当り、反応
系内に一般式 R3O(C2H4O)l(C3H6O)nR4 (4) 〔式中R3及びR4は同一または相異なつて水素
原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基ま
たはアラルキル基を、lは4以上の整数を、mは
0または1以上の整数をそれぞれ示す。〕 で表わされる化合物を存在させることを特徴とす
るスルホン類の製造法に係る。 本発明の方法によれば、合成に煩雑な操作を必
要とするスルフイン酸テトラブチルアンモニウム
やスルフイン酸型アンバーリストA−26の使用は
全く不必要であり、そのため作業性は極めて良好
であり、しかも目的とするスルホン類を蒸留、再
結晶等の簡便な操作により反応混合物から好純
度、好収率で単離することができる。それ故本発
明の法方はスルホン類の工業的な製造法として極
めて好適な方法であると言うことができる。 本発明において出発原料として用いられる一般
式(2)のスルフイン酸塩はいずれも公知の化合物で
ある。一般式(2)においてR1で示されるアリール
基としてはフエニル、4−メチルフエニル、2,
4−ジメチルフエニル、2,4,6−トリメチル
フエニル、p−メトキシフエニル、p−クロロフ
エニル、α−ナフチル、β−ナフチル基等を例示
でき、アルキル基としてはメチル、エチル、n−
プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチ
ル、tert−ブチル基等を例示できる。一般式(2)の
スルフイン酸塩の具体例としてはベンゼンスルフ
イン酸ナトリウム(カリウム)、p−トルエンス
ルフイン酸ナトリウム(カリウム)、2,4−ジ
メチルベンゼンスルフイン酸ナトリウム(カリウ
ム)、2,4,6−トリメチルベンゼンスルフイ
ン酸ナトリウム(カリウム)、p−メトキシベン
ゼンスルフイン酸ナトリウム(カリウム)、p−
クロロベンゼンスルフイン酸ナトリウム(カリウ
ム)、α−ナフタレンスルフイン酸ナトリウム
(カリウム)、β−ナフタレンスルフイン酸ナトリ
ウム(カリウム)、メタンスルフイン酸ナトリウ
ム(カリウム)、エタンスルフイン酸ナトリウム
(カリウム)、n−プロパンスルフイン酸ナトリウ
ム(カリウム)、n−ブタンスルフイン酸ナトリ
ウム(カリウム)等やこれらの水和物等を挙げる
ことができる。 本発明において他の一方の出発原料として用い
られる一般式(3)のハロゲン化合物はいずれも公知
の化合物である。一般式(3)においてR2で示され
るアルキル基としてはメチル、エチル、n−プロ
ピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、
tert−ブチル、n−アミル、イソアミル、n−ヘ
キシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニ
ル、n−デシル、n−ラウリル基等を例示でき、
アルケニル基としてはアリル、メタアリル、クロ
チル基等を例示でき、アラルキル基としてはベン
ジル、2−フエニルエチル、3−フエニルプロピ
ル基等を例示でき、シアノアルキル基としてはシ
アノメチル、2−シアノエチル、3−シアノプロ
ピル、−シアノブチル基等を例示でき、ハロアル
キル基としてはクロロメチル、2−クロロエチ
ル、3−クロロプロピル、4−クロロブチル、ブ
ロモメチル、2−ブロモエチル、3−ブロモプロ
ピル、4−ブロモブチル、ヨードメチル、2−ヨ
ードエチル、3−ヨードプロピル、4−ヨードブ
チル基等を例示でき、アルコキシカルボニルアル
キル基としてはメトキシカルボニルメチル、メト
キシカルボニルエチル、メトキシカルボニルプロ
ピル、エトキシカルボニルメチル、エトキシカル
ボニルエチル、エトキシカルボニルプロピル、プ
ロポキシカルボニルメチル、ポロポキシカルボニ
ルエチル、プロポキシカルボニルプロピル、ブト
キシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルエチ
ル、ブトキシカルボニルプロピル基等を例示でき
る。またXで示されるハロゲン原子としては塩素
原子、臭素原子、沃素原子等を例示できる。一般
式(3)のハロゲン化合物の具体例としては塩化メチ
ル、塩化エチル、塩化n−プロピル、塩化イソプ
ロピル、塩化n−ブチル、塩化n−アミル、塩化
n−ヘキシル、塩化n−ヘプチル、塩化n−オク
チル、塩化n−ノニル、塩化n−デシル、塩化n
−ラウリル、塩化アリル、塩化メタアリル、塩化
クロチル、塩化ベンジル、塩化−2−フエニルエ
チル、塩化3−フエニルプロピル、塩化シアノメ
チル、塩化−2−シアノエチル、塩化−3−シア
ノプロピル、塩化−4−シアノブチル、ジクロロ
メタン、1,2−ジクロロエタン、1,3−ジク
ロロプロパン、1,4−ジクロロブタン、塩化メ
トキシカルボニルメチル、塩化メトキシカルボニ
ルエチル、塩化メトキシカルボニルプロピル、塩
化エトキシカルボニルメチル、塩化エトキシカル
ボニルエチル、塩化エトキシカルボニルプロピル
等を挙げることができる。 本発明において、一般式(2)のスルフイン酸塩と
一般式(3)のハロゲン化合物との使用割合としては
特に限定されず広い範囲内から適宜選択すること
ができるが、通常前者に対して後者を約等モル〜
2倍モル、好ましくは等モル〜1.5倍モル用いる
のがよい。 本発明においては反応系内に一般式(4)で表わさ
れる化合物を存在させることを必須とする。一般
式(4)に於てR3及びR4で示されるアルキル基には
メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、
n−ブチル、tert−ブチル、n−アミル、iso−
アミル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オク
チル、n−ノニル、n−デシル、n−ラウリル、
n−セチル、n−ステアリル基等が、アルケニル
基にはn−オレイル基等が、アリール基にはフエ
ニル、n−オクチルフエニル、n−ノニルフエニ
ル、ナフチル基等が、またアラルキル基にはベン
ジル、2−フエニルエチル、3−フエニルプロピ
ル基等がそれぞれ包含される。一般式(4)で表わさ
れる化合物としては具体的にはポリエチレングリ
コール−200,−300,−400,−600,−1000,−1500,
−1540,−2000,−4000,−6000,−20000、オキシ
プロピレンオキシエチレンブロツク共重合物−
2000,−3000,−4000,−8000,−10000〔商標:花王
アトラス(株)製のエマルゲンppシリーズ150,230,
250及び290;三洋化成工業(株)製のニユーポール
pEシリーズ61,62,64,68,74,75,78及び
88;松本油脂製薬(株)製のアクチノールpシリーズ
1050,2040,2060,2085及び3035〕、これらのモ
ノまたはジメチルエーテル、モノまたはジエチル
エーテル、モノまたはジプロピルエーテル、モノ
またはジブチルエーテル、モノまたはジペンチル
エーテル、モノまたはジヘキシルエーテル、モノ
またはジヘプチルエーテル、モノまたはジオクチ
ルエーテル、モノまたはジノニルエーテル、モノ
またはジデシルエーテル、モノラウリルエーテ
ル、モノセチルエーテル、モノステアリルエーテ
ル、モノオレイルエーテル、モノオクチルフエニ
ルエーテル、モノノニルフエニルエーテル、モノ
フエニルエーテル、モノナフチルエーテル、モノ
ベンジルエーテル、モノフエニルエチルエーテ
ル、ラウリルメチルエーテル、ラウリルエチルエ
ーテル、ラウリルプロピルエーテル、ラウリルブ
チルエーテル、セチルメチルエーテル、セチルエ
チルエーテル、セチルプロピルエーテル、セチル
ブチルエーテル、ステアリルメチルエーテル、ス
テアリルエチルエーテル、ステアリルプロピルエ
ーテル、ステアリルブチルエーテル、オレイルメ
チルエーテル、オレイルエチルエーテル、オレイ
ルプロピルエーテル、オレイルブチルエーテル、
オクチルフエニル・メチルエーテル、オクチルフ
エニル・エチルエーテル、オクチルフエニル・プ
ロピルエーテル、オクチルフエニル・ブチルエー
テル、ノニルフエニル・メチルエーテル、ノニル
フエニル・エチルエーテル、ノニルフエニル・プ
ロピルエーテル、ノニルフエニル・ブチルエーテ
ル、ジフエニルエーテル、ジナフチルエーテル、
ジベンジルエーテル、ジフエニルエチルエーテル
等を例示できる。これらのうちでポリエチレング
リコール(PEG)−400−ジメチルエーテル、
PEG−400−ジエチルエーテル、PEG−400−ジ
−n−プロピルエーテル、PEG−400−ジ−n−
ブチルエーテル、PEG−600−ジメチルエーテ
ル、PEG−600−ジエチルエーテル、PEG−600
−ジ−n−プロピルエーテル、PEG−600−ジ−
n−ブチルエーテル、PEG−1000−ジメチルエ
ーテル、PEG−1000−ジエチルエーテル、PEG
−1000−ジ−n−ブチルエーテル、PEG−400、
PEG−600及びPEG−1000が特に好適である。反
応系内に存在させるべき一般式(4)の化合物の量と
しては特に限定されないが、一般式(2)のスルフイ
ン酸塩1モルに対し通常0.01〜2モル、好ましく
は0.01〜1モル程度存在させればよい。 本発明の反応は、一般に有機溶媒中にて行なわ
れる。有機溶媒としては例えばメタノール、エタ
ノール、プロパノール、ブタノール等のアルコー
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等
のケトン類等を挙げることができる。これらのう
ちでアルコール類が好適である。 また本発明では上記一般式(4)の化合物を溶媒と
して兼用することもできる。上記反応は室温下又
は加熱下のいずれでも行なわれるが、通常室温〜
70℃付近、好ましくは室温〜60℃にて好適に反応
が進行する。反応時間は一般に1〜9時間程度で
ある。 斯くして生成する本発明の目的化合物は慣用の
分離手段、例えば蒸留、再結晶等により反応混合
物から容易に単離、精製される。以下に実施例を
挙げる。 実施例 1 p−トルエンスルフイン酸ナトリウム・1水和
物9.8g(0.05モル)、臭化ブチル10.3g(0.075モ
ル)及びPEG−400 20mlを60℃にて3時間撹拌
した。冷却後反応液に200mlの水を加え、ベンゼ
ンで抽出した(20ml×3)。ベンゼン層を充分に
水洗した後乾燥し、ベンゼンを留去した後減圧単
蒸留してn−ブチルp−トリルスルホン9.5gを
得た(収率90%)。 実施例 2 p−トルエンスルフイン酸ナトリウム・1水和
物9.8g(0.05モル)、塩化ベンジル9.5g(0.075
モル)及びPEG−400 40mlを60℃にて2時間撹
拌した。冷却後反応液を300mlの水中に投入し、
折出した結晶を集めて水洗し、エタノールで再結
晶してベンジルp−トリルスルホン11.7gを得た
(収率94%)。 実施例 3〜17 p−トルエンスルフイン酸ナトリウム・1水和
物0.05モル及び下記第1表に記載の一般式(3)の化
合物0.075モルを用い、下記第1表記載の条件下
に反応させる以外は実施例1又は2と同様にして
日的とするスルホン類を得た。
The present invention relates to a method for producing sulfones. More specifically, the present invention provides a compound having the general formula R 1 -SO 2 -R 2 (1) [wherein R 1 represents an aryl group or an alkyl group].
R 2 is an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group,
Indicates a cyanoalkyl group, haloalkyl group, or alkoxycarbonylalkyl group. ] This invention relates to a method for producing sulfones represented by the following. Sulfones represented by the above general formula (1) are important compounds as raw materials for producing various organic drugs. Conventionally, as a method for producing sulfones represented by the above general formula (1), for example, the method of Zwaneburg et al. [GEVeentra, B. Zwaneburg, Synthesis, 519
(1975)] is known. In this method, sodium sulfinate and tetrabutylammonium bromide are reacted to obtain tetrabutylammonium sulfinate, which is then reacted with an alkyl halide to produce the desired sulfones. However, this method requires complicated operations to synthesize tetrabutylammonium sulfinate, and moreover, it is essential to use twice the amount of sulfinic acid based on the amount of tetrabutylammonium bromide. Therefore, it is necessary to recover unreacted sodium sulfinate from the reaction mixture after the reaction is completed, but recovery of sodium sulfinate is difficult. Additionally, as an improvement to the above method, Maneskalki et al.'s method [F.
Manescalchi, M. Orena, D. Savoia, Synthesis,
445 (1979)] is known. This method uses Amberlyst A-26, an anion exchange resin, in place of tetrabutylammonium bromide. However, this method also requires complicated operations to synthesize sulfinic acid type Amberlyst A-26. As described above, none of the methods for producing sulfones known to date are satisfactory as industrial production methods. In view of the current situation, the present inventors have conducted extensive research to develop an industrial method for producing sulfones, and as a result,
The purpose of the present invention is achieved only when a sulfinate salt represented by the following general formula (2) and a halogen compound represented by the following general formula (3) are reacted in the presence of a compound represented by the following general formula (4). It was discovered that this purpose could be achieved. The present invention was completed based on this knowledge. That is, the present invention provides a compound having the general formula R 1 SO 2 M·nH 2 O (2) [wherein R 1 represents an aryl group or an alkyl group].
M represents an alkali metal atom. n is 0 or 1-4
indicates an integer. ] A sulfinate salt represented by the general formula R 2 X represents a halogen atom. ] by reacting with a halogen compound represented by the general formula R 1 -SO 2 -R 2 (1) [wherein R 1 and R 2 are the same as above. ] In producing sulfones represented by the following, the general formula R 3 O (C 2 H 4 O) l (C 3 H 6 O) n R 4 (4) [in the formula, R 3 and R 4 are the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or an aralkyl group, l represents an integer of 4 or more, and m represents an integer of 0 or 1 or more. ] This relates to a method for producing sulfones, which is characterized by the presence of a compound represented by the following. According to the method of the present invention, it is completely unnecessary to use tetrabutylammonium sulfinate or sulfinate type Amberlyst A-26, which require complicated operations for synthesis, and therefore the workability is extremely good. The desired sulfones can be isolated from the reaction mixture with good purity and yield by simple operations such as distillation and recrystallization. Therefore, it can be said that the method of the present invention is an extremely suitable method for industrially producing sulfones. The sulfinate salts of general formula (2) used as starting materials in the present invention are all known compounds. In general formula (2), the aryl group represented by R 1 is phenyl, 4-methylphenyl, 2,
Examples include 4-dimethylphenyl, 2,4,6-trimethylphenyl, p-methoxyphenyl, p-chlorophenyl, α-naphthyl, β-naphthyl, and examples of alkyl groups include methyl, ethyl, n-
Examples include propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, and tert-butyl groups. Specific examples of the sulfinate of general formula (2) include sodium benzenesulfinate (potassium), sodium p-toluenesulfinate (potassium), sodium 2,4-dimethylbenzenesulfinate (potassium), 2, Sodium 4,6-trimethylbenzenesulfinate (potassium), p-methoxybenzenesulfinate sodium (potassium), p-
Sodium chlorobenzenesulfinate (potassium), sodium α-naphthalenesulfinate (potassium), sodium β-naphthalenesulfinate (potassium), sodium methanesulfinate (potassium), sodium ethanesulfinate (potassium), n-propane Examples include sodium (potassium) sulfinate, sodium (potassium) n-butanesulfinate, and hydrates thereof. The halogen compounds of general formula (3) used as the other starting material in the present invention are all known compounds. In general formula (3), the alkyl group represented by R 2 is methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl,
Examples include tert-butyl, n-amyl, isoamyl, n-hexyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl, n-lauryl groups,
Examples of alkenyl groups include allyl, metaallyl, and crotyl groups; examples of aralkyl groups include benzyl, 2-phenylethyl, and 3-phenylpropyl; and examples of cyanoalkyl groups include cyanomethyl, 2-cyanoethyl, and 3-cyanoethyl. Examples of the haloalkyl group include propyl, -cyanobutyl, and chloromethyl, 2-chloroethyl, 3-chloropropyl, 4-chlorobutyl, bromomethyl, 2-bromoethyl, 3-bromopropyl, 4-bromobutyl, iodomethyl, and 2-iodoethyl. , 3-iodopropyl, 4-iodobutyl groups, etc. Examples of alkoxycarbonylalkyl groups include methoxycarbonylmethyl, methoxycarbonylethyl, methoxycarbonylpropyl, ethoxycarbonylmethyl, ethoxycarbonylethyl, ethoxycarbonylpropyl, propoxycarbonylmethyl, and polycarbonylmethyl. Examples include poxycarbonylethyl, propoxycarbonylpropyl, butoxycarbonylmethyl, butoxycarbonylethyl, butoxycarbonylpropyl groups, and the like. Examples of the halogen atom represented by X include chlorine atom, bromine atom, and iodine atom. Specific examples of the halogen compound of general formula (3) include methyl chloride, ethyl chloride, n-propyl chloride, isopropyl chloride, n-butyl chloride, n-amyl chloride, n-hexyl chloride, n-heptyl chloride, and n-chloride. Octyl, n-nonyl chloride, n-decyl chloride, n-chloride
- lauryl, allyl chloride, metaallyl chloride, crotyl chloride, benzyl chloride, -2-phenylethyl chloride, 3-phenylpropyl chloride, cyanomethyl chloride, -2-cyanoethyl chloride, -3-cyanopropyl chloride, -4-cyanobutyl chloride, Dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 1,3-dichloropropane, 1,4-dichlorobutane, methoxycarbonylmethyl chloride, methoxycarbonylethyl chloride, methoxycarbonylpropyl chloride, ethoxycarbonylmethyl chloride, ethoxycarbonylethyl chloride, ethoxycarbonyl chloride Examples include propyl. In the present invention, the ratio of the sulfinate of general formula (2) to the halogen compound of general formula (3) is not particularly limited and can be appropriately selected from a wide range; Approximately equimolar ~
It is preferable to use 2 times the mole, preferably equimolar to 1.5 times the mole. In the present invention, it is essential that the compound represented by general formula (4) be present in the reaction system. In the general formula (4), the alkyl groups represented by R 3 and R 4 include methyl, ethyl, n-propyl, iso-propyl,
n-butyl, tert-butyl, n-amyl, iso-
amyl, n-hexyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl, n-lauryl,
n-cetyl, n-stearyl, etc., alkenyl groups include n-oleyl, aryl groups include phenyl, n-octylphenyl, n-nonylphenyl, naphthyl, etc., and aralkyl groups include benzyl, 2-phenylethyl, 3-phenylpropyl groups, etc. are included, respectively. Specifically, the compounds represented by the general formula (4) include polyethylene glycol-200, -300, -400, -600, -1000, -1500,
-1540, -2000, -4000, -6000, -20000, oxypropylene oxyethylene block copolymer -
2000, −3000, −4000, −8000, −10000 [Trademark: Emulgen PP series 150, 230, manufactured by Kao Atlas Co., Ltd.
250 and 290; New Paul manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.
pE series 61, 62, 64, 68, 74, 75, 78 and
88; Actinol p series manufactured by Matsumoto Yushi Pharmaceutical Co., Ltd.
1050, 2040, 2060, 2085 and 3035], mono or dimethyl ether, mono or diethyl ether, mono or dipropyl ether, mono or dibutyl ether, mono or dipentyl ether, mono or dihexyl ether, mono or diheptyl ether, mono or dioctyl ether, mono or dinonyl ether, mono or didecyl ether, monolauryl ether, monocetyl ether, monostearyl ether, monooleyl ether, monooctyl phenyl ether, monononyl phenyl ether, monophenyl ether, mononaphthyl Ether, monobenzyl ether, monophenyl ethyl ether, lauryl methyl ether, lauryl ethyl ether, lauryl propyl ether, lauryl butyl ether, cetyl methyl ether, cetyl ethyl ether, cetyl propyl ether, cetyl butyl ether, stearyl methyl ether, stearyl ethyl ether, stearyl Propyl ether, stearyl butyl ether, oleyl methyl ether, oleyl ethyl ether, oleyl propyl ether, oleyl butyl ether,
Octylphenyl methyl ether, octylphenyl ethyl ether, octylphenyl propyl ether, octylphenyl butyl ether, nonylphenyl methyl ether, nonylphenyl ethyl ether, nonylphenyl propyl ether, nonylphenyl butyl ether, diphenyl ether, dinaphthyl ether,
Examples include dibenzyl ether and diphenylethyl ether. Among these, polyethylene glycol (PEG)-400-dimethyl ether,
PEG-400-diethyl ether, PEG-400-di-n-propyl ether, PEG-400-di-n-
Butyl ether, PEG-600-dimethyl ether, PEG-600-diethyl ether, PEG-600
-di-n-propyl ether, PEG-600-di-
n-butyl ether, PEG-1000-dimethyl ether, PEG-1000-diethyl ether, PEG
-1000-di-n-butyl ether, PEG-400,
PEG-600 and PEG-1000 are particularly preferred. The amount of the compound of general formula (4) to be present in the reaction system is not particularly limited, but it is usually present at about 0.01 to 2 mol, preferably about 0.01 to 1 mol, per 1 mol of the sulfinate of general formula (2). Just let it happen. The reactions of the present invention are generally carried out in organic solvents. Examples of organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, and butanol, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone. can. Among these, alcohols are preferred. Further, in the present invention, the compound of the above general formula (4) can also be used as a solvent. The above reaction can be carried out either at room temperature or under heating, but is usually between room temperature and
The reaction proceeds suitably at around 70°C, preferably at room temperature to 60°C. The reaction time is generally about 1 to 9 hours. The target compound of the present invention thus produced can be easily isolated and purified from the reaction mixture by conventional separation means such as distillation, recrystallization, etc. Examples are given below. Example 1 9.8 g (0.05 mol) of sodium p-toluenesulfinate monohydrate, 10.3 g (0.075 mol) of butyl bromide, and 20 ml of PEG-400 were stirred at 60°C for 3 hours. After cooling, 200 ml of water was added to the reaction solution, and the mixture was extracted with benzene (20 ml x 3). The benzene layer was thoroughly washed with water and then dried, and the benzene was distilled off, followed by simple distillation under reduced pressure to obtain 9.5 g of n-butyl p-tolylsulfone (yield 90%). Example 2 Sodium p-toluenesulfinate monohydrate 9.8 g (0.05 mol), benzyl chloride 9.5 g (0.075 mol)
mol) and 40 ml of PEG-400 were stirred at 60°C for 2 hours. After cooling, the reaction solution was poured into 300ml of water.
The precipitated crystals were collected, washed with water, and recrystallized with ethanol to obtain 11.7 g of benzyl p-tolylsulfone (yield 94%). Examples 3 to 17 Using 0.05 mol of sodium p-toluenesulfinate monohydrate and 0.075 mol of the compound of general formula (3) listed in Table 1 below, react under the conditions listed in Table 1 below. Except for this, sulfones were obtained in the same manner as in Example 1 or 2.

【表】【table】

【表】【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 R1SO2M・nH2O 〔式中R1はアリール基又はアルキル基を示す。
Mはアルカリ金属原子を示す。nは0又は1〜4
の整数を示す。〕 で表わされるスルフイン酸塩と一般式 R2X 〔式中R2はアルキル基、アルケニル基、アラ
ルキル基、シアノアルキル基、ハロアルキル基又
はアルコキシカルボニルアルキル基を示す。Xは
ハロゲン原子を示す。〕 で表わされるハロゲン化合物とを反応させて一般
式 R1−SO2−R2 〔式中R1及びR2は前記に同じ。〕 で表わされるスルホン類を製造するに当り、反応
系内に一般式 R3O(C2H4O)l(C3H6O)nR4 〔式中R3及びR4は同一または相異なつて水素
原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基ま
たはアラルキル基を、lは4以上の整数を、mは
0または1以上の整数をそれぞれ示す。〕 で表わされる化合物を存在させることを特徴とす
るスルホン類の製造法。
[Claims] 1 General formula R 1 SO 2 M·nH 2 O [In the formula, R 1 represents an aryl group or an alkyl group.
M represents an alkali metal atom. n is 0 or 1-4
indicates an integer. ] A sulfinate salt represented by the general formula R 2 X represents a halogen atom. ] by reacting with a halogen compound represented by the general formula R 1 -SO 2 -R 2 [wherein R 1 and R 2 are the same as above. ] In producing sulfones represented by the following formula, the general formula R 3 O (C 2 H 4 O) l (C 3 H 6 O) n R 4 [in the formula, R 3 and R 4 are the same or They are different from each other and represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or an aralkyl group, l represents an integer of 4 or more, and m represents an integer of 0 or 1 or more. ] A method for producing sulfones, characterized in that a compound represented by these is present.
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