JPS6042930B2 - 抜きマスク作成方法 - Google Patents

抜きマスク作成方法

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JPS6042930B2
JPS6042930B2 JP52101975A JP10197577A JPS6042930B2 JP S6042930 B2 JPS6042930 B2 JP S6042930B2 JP 52101975 A JP52101975 A JP 52101975A JP 10197577 A JP10197577 A JP 10197577A JP S6042930 B2 JPS6042930 B2 JP S6042930B2
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scanning
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光彦 山田
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、写真製版工程において使用される、いわゆ
る抜きマスク(その他、カットマスク、おさえマスク、
つめマスク等、種々の名称で呼ばれる)を、スキャナ等
の画像走査記録装置により作成する方法に関する。
通常抜きマスクは、例えば2つの写真画像のそれぞれ
の一部を用いて合成画像を作成する場合とか、写真のバ
ックをとばしてしまう場合とか、写真撮影時に部分的に
露光を追加したり押えたりする場合等に使用される。
従来、かかる抜きマスクの作成は、ライトテーブル上
で、写真フィルムの上に透明シートを固着−し、その写
真の題材、例えば人物、商品等の形状に合わせて、その
輪郭に沿つて細い線を描いて行き、その輪部線の内部ま
たは外部を不透明に塗りつぶすことにより行なわれてお
り、場合によつては、写真フィルム上で直接描線して、
塗りつぶしを行なうこともある。
また、塗りつぶしの手間を省くために、前記透明シー
トに代えて、ピールオフフィルム(カットアンドピール
フィルム)を用い、カッターで輪部線をピールオフ層に
カッティングしていき、透明にすべき部分からピールオ
フ層を剥離すると云うことも行なわれている。
いずれにしても、かかる手工的方法では、輪部線を正
確に描く (あるいはカットする)ことが困難で、かつ
時間を要するとともに、正確なマスクを作成できる様に
なるまでには、かなりの熟練を要する。
したがつて抜きマスクの作成は、近年合理化の進んで
いる写真製版作業において、旧態依然として、合理化か
ら取り残された作業分野の1つとして留まつており、こ
れを、より便利に、迅速かつ正確に作成できる様にする
ことが強く要望されている。
本発明は、スキャナ等の画像走査記録装置を利用して
抜きマスクを作成することにより、かかる要望を満たす
ことを目的としている。
本発明は、一般の画像処理分野における絵柄の輪郭を
抽出する方法の1つである、2次微分演算子を用いる方
法を利用するもので、例えば第1図に示す如き、絵素ご
とに重み付けされたパラメータを使用する。
すなわち、第2図において、斜線を施こした絵素の座標
を(Xm,Yn)とし、これが今走査されている絵素で
あるとする。
また、o印を付した絵素の座標をそれぞれ(Xm−1,
Yn−1)、(Xm一1,Yn)、(Xm−1,Yn+
1)、(Xm−2,Yn)とし、各座標点の絵素におけ
るサンプリング信号量をS(Xm,Yn)、S(Xm−
1,Yn一1)、S(Xm−1,Yn)、S(Xm−1
,Yn十1)、S(Xm−2,Yn)とすれば、いま走
査している(Xm,Yn)よりも走査線1本手前の座標
点(Xm−1,Yn)における絵素の輪部信号値Lは、
で求められる。
かくの如くして、原画の各絵素について求めたLの値を
、設定された閾値とそれぞれ比較して2値信号に変換す
ることにより、原画画像の輪部信号が得られる。
第3図は、例えばスキャナ等の画像走査記録装置で、走
査線順次に原画絵素を走査し、走査した絵素ごとに輪部
信号値を演算する際の一例を示すもので、それによると
、絵素Bを走査している時に、その1走査線手前の絵素
bについての輪部信号値を演算するためには、絵素Bに
おける信号量に加えて、絵素A,b,d,eにおける信
号量が必要となり、絵素Cを走査している場合には、絵
素B,d,f,gにおける信号量が必要となる。
すなわち、或る走査線を走査している時に、その1本前
の走査線における各絵素の輪部信号値を順次演算するた
めには、いま走査している絵素についての信号量に加え
て、この走査線以前に走査された少なくとも2本の走査
線における各絵素の信号量が必要であり、同一走査線上
、隣接する各絵素における輪部信号値の演算に必要な絵
素は、第3図口の矢印に示す如く、常に2個分ずつが再
度演算されていることがわかる。本発明は、かかる点を
ふまえて、2次微分演算子を用いる方法を、スキャナ等
の画像走査記録装置に適用することにより、従来後工程
で塗りつぶすべき部分が既に塗りつぶされた抜きマスク
を作成するとともに、輪部部分細部の修正をなし得るよ
うにした抜きマスク作成方法に関するもので、第4図は
、ディジタル処理する場合の一実施例を示す。
同図中、1は原画が装着される原画シリンダ、2は原画
シリンダ1を主走査方向に回転駆動するための電動機、
3は原画シリンダ1と同軸に取付けられ、該シリンダ1
の1回転ごとに1個および多数個のパルス信号を発生す
るロータリーエンコーダ、4は電動機5により駆動され
る送りネジ6上を副走査方向に移動させられ、原画から
の画像信号を走査線順次にピックアップするための走査
ヘッドであり、これらによつて画像走査記録装置の走査
系が構成されている。
次に、18はフィルム等の感光材料が装着される記録シ
リンダ、19は記録シリンダ18を主走査方向に回転駆
動するための電動機、20は記録シリンダ18と同軸に
取付けられ、該シリンダ18の1回転ごとに1個および
多数個のパルス信号を発生するロータリーエンコーダ、
21は電動機22により駆動される送りネジ23上を副
走査方向に移動させられ、走査側からの画像信号等に応
じて感光材料を走査線順次に露光するための記録ヘッド
であり、これらによつて画像走査記録装置の記録系が構
成されている。
7は、走査ヘッド4からの画像信号をディジタル信号に
変換するためのアナログ・ディジタル変換回路(以下A
/D回路と称する)、8は、ロータリーエンコーダ3か
らのパルス信号を受けて、A/D回路7におけるディジ
タル変換のタイミングを制御するためのサンプリングパ
ルス信号と、後述する演算装置10におけるメモリ装置
のアドレス指定信号とが作成される、タイミングおよび
アドレス決定回路、9は、サンプリングパルス信号から
、メモリ装置への書込み信号および読出し信号が作成さ
れるメモリ装置制御回路、10は、第3図イに示す如く
、少なくとも2本の走査線に含まれる絵素の信号量が書
き込まれた内蔵のメモリ装置から、適宜必要な絵素の信
号量を読出して、前記(1)式に示した演算を行ない、
走査点の輪部信号値を算出する演算回路である。
11は、演算回路10で演算された輪部信号値のうち、
設定された閾値を超えた輪部信号値に対応するアドレス
のみがアドレス信号として書込まれるメモリ装置、12
は、該メモリ装置へのアトレス信号の書込みを制御する
タイミングパルス信号発生回路、13は、演算回路10
で演算された輪部信号値に応じて、適宜原画の輪部像等
が表示される残光時間の長いモニターであり、CRT等
が用いられる。
14はモニター制御回路、15はライトペン、16は記
録ヘッド21を制御する出力ドライバー回路、17は、
ロータリーエンコーダ20からのパルス信号を受けて、
記録用のアドレス信号を出力ドライバー回路16へ出力
するアドレス決定回路である。
次に、原画シリンダ1に装着された原画を、第5図に示
す如くXY座標で多数の絵素に分割し、各絵素を走査ヘ
ッド5により走査線順次に走査する場合を例にとつて、
本発明に係る抜きマスク作成方法をさらに詳しく説明す
る。
今、座標点(Xm,Yn)に対応する原画絵素を走査し
ている場合を想定すると、該絵素における信号量S(X
m,Yn)は、タイミングおよびアドレス決定回路8か
らのサンプリングパルス信号に応じてA/D回路7でデ
ィジタル変換され、まず演算回路10に入力される。
第6図は、この演算回路10の実施例を示すもので、入
力された信号量S(Xm,Yn)は、加算器30にラッ
チされるとともに、タイミングおよびアドレス決定回路
8からのアドレス指定信号(Xm,Yn)に従つて、メ
モリ装置制御回路9からの書込み信号により、メモリ装
置25のアドレス(Xm,Yn)に信号量S(Xm,Y
n)が書込まれる。
しかる後、現在走査されている走査線以前の走査線2本
分に相当する各絵素の信号量が書込まれているメモリ装
置25から、タイミングおよびアドレス決定回路8から
のアドレス指定信号(Xm一1,Yn+1)、(Xm−
2,Yn)に従つて、制御回路9からの読出し信号によ
り、対応する信号量S(Xm−1,Yn+1)、S(X
m−2,Yn)をメモリ装置25から読出し、信号量S
(Xm−2,Yn)はそのまま加算器30にラッチされ
る一方、信号量S(Xm−1,Yn+,)はシフトレジ
スタ26に入力させられる。
これと同時に、制御回路9からのシフトパルスにより、
原画絵素(Xm,Yn−1)走査時にシフトレジスタ2
8に蓄更供キていた原画絵素(Xm一1,Yn−2)に
対応する信号量s(Xm−1,Yn−2)が消去される
一方、シフトレジスタ26,27に蓄えられていた原画
絵素(Xm−1,Yn)、(Xm−1,Yn−1)に対
応する信号量S(Xm−1,Yn)、S(Xm−1,Y
n−1)は、それぞれシフトレジスタ27,28にシフ
トされ、信号量S(Xm−1,Yn+1)およびS(X
m−1,Yn−1)は、加算器30に入力され、ラッチ
されていた各信号量と加算される。
この加算された信号量は、次の減算回路31において、
乗算回路29により4倍された信号量S(Xm−1,Y
n)から減算されて、前記(1)式に基づき、原画絵素
(Xm−1,Yn)における輪部信号値が算出される。
次に、走査ヘッド4による原画の走査点が絵素(Xm,
Yn+1)に移動すると、該絵素(Xm,Yn+1)に
おける信号量S(Xm,Yn+1)は、A/D回路7を
介して加算器30にラッチされるとともに、タイミング
およびアドレス決定回路8からのアドレス指定信号(X
m,Yn+1)に従つて、制御回路9からの書込み信号
によりメモリ装置25に書込まれる。しかる後、タイミ
ングおよびアドレス決定回路8からのアドレス指定信号
(Xm−1,Yn+2)、(Xm−2,Yn+1)に従
つて、制御回路9からの読出し信号により、メモリ装置
25からそれぞれ対応する信号量S(Xm−1,Yn+
2)S(Xm−2,Yn+1)を読出し、信号量s(X
m−2,Yn+1)はそのまま加算器30に入力されて
ラッチされる一方、信号量S(Xm−1,Yn+2)は
シフトレジスタ26に入力される。
以下前記と同様にして演算され、減算回路31からは、
原画絵素(Xm−1,Yn+1)における輪部信号値が
出力される。
この様にして算出された、1走査線に相当する絵素の輪
部信号値をモニター13上に表示し、適当な閾値をモニ
ター13上に設定して、該閾値レベルを超えた信号値の
アドレスに対応するアドレス信号のみをメモリ装置11
に記憶させ、かかる作業を各走査線について行なう。
しかる後、モニター13の管面に、原画の各絵素に付し
た座標と対応するアドレスを設定し、該アドレスを管面
上で順次走査する一方、メモリ装置11に書込まれてい
るアドレス信号を読出して、管面上のアドレスに対応す
るアドレス信号と比較する。
これらの比較を、メモリ装置11に書込まれている総て
のアドレス信号について走査線順次に行ない、両アドレ
ス信号が一致したモニター13上のアドレスをハイレベ
ルにして盟るくしたり、アドレス間をハイレベルに維持
して該アドレス間を塗りつぶしたりすることにより、原
画像に対応する抜きマスクがモニター13上に表示され
る。
この表示された内容を再度書込んだメモリ装置11によ
つて記録ヘッド21を制御することにより、所要個数が
塗りつぶされた抜きマスクを光学的に作成することがで
きる。第7図は、かかるアドレスの比較等を行なうモニ
ター制御回路14の一例で、それによると、第8図イに
示す如く、モニター13管面上に設定されるアドレスに
対応して、同図口の如く出力される発振器37からのパ
ルス信号が、それぞれX,Yパルスカウンタ38,39
でカウントされ、次に、該カウント値が入力されるX,
Yアドレス決定回路40によつて、モニター13の走査
点を制御するX,Y偏向回路41が作動させられるとと
もに、その時の走査点のアドレスに対応するアドレス信
号が比較回路35に入力される。
一方、発振器37からのスタートパルス信号(第8図口
のY。
に相当する)により、メモリ装置11から読出されたア
ドレス信号は、比較回路35において時々刻々変化する
モニター13管面上のアドレスと対応するアドレス信号
と比較される。今、モニター13管面上に、第9図に示
す如き原画の輪部像が表示されている場合、すなわち、
モニター13管面上のXアドレスがXmなる場合で、斜
線部分を塗りつぶしている場合を想定し、第7図に示す
モニター制御回路14の機能についてさらに説明する。
メモリ装置11からは、前記した如く、 (Xm,YA)に対応するアドレス信号が、発振器37
からのスタートパルス信号により比較回路35に入力さ
れており、アドレス決定回路40からは、(Xm,YO
)、(Xm,Yl)、(Xm,Y2)、・・・なるアド
レスに対応するアドレス信号が順次入力させられている
アドレス決定回路40からアドレス(Xm,YA)に対
応するアドレス信号が比較回路35に入力されると、該
比較回路35からは一致信号が出力され、該一致信号に
より、メモリ装置11から(Xm,YB)に対応するア
ドレス信号が読出されて、比較回路35に入力されると
同時に、アドレス(Xm,YA)に対応するアドレス信
号は、バッファメモリ36に入力される。
また、かかる一致信号により、モニター13のアドレス
(Xm,YA)がハイレベルとなり、走査ビームの輝点
がよソー段と明るく表示される。しかる後、遅延回路4
3で一定時間遅延された一致信号により、アドレス(X
m,YA)に対応するアドレス信号が、バッファメモリ
36からメモリ装置11に書込まれていたアドレスに再
度書込まれる。
次に、アドレス(Xm,Y^)、(Xm,YB)間を塗
りつぶすには、アドレス(Xm,YB)に対応するアド
レス信号が一致するまでに、ラインペン15をモニター
13の管面左側に表示されたYアドレスYA,YB間に
当接させる。
すると、ライトペン15からの信号により、フリップフ
ロップ回路42が作動する。しかる後、アドレス(Xm
,Y8)に対応するアドレス信号が一致して、バッファ
メモリ36に入力される。
さらに、アドレス(Xm,YO)に対応するアドレス信
号が比較回路35に入力されると同時に、バッファメモ
リ36に入力されたアドレス(Xm,YB)に対応する
アドレス信号の最終ビットに、ライトペン15からの信
号により作動したノフリツプフロツプ回路42からの出
力信号が、ハイレベル信号“゜1゛として書込まれ、遅
延回路43を介した一致信号により、フリップフロップ
回路42からのハイレベル信号が最終ビットに書込まれ
たアドレス(Xm,YB)に対応するアドレ・ス信号が
再度書込まれると同時に、フリップフロップ回路42が
リセットされる。
この最終ビットは、アドレス信号に必要なビット数に、
余分に1つのビットを加えたものである。
) 以下同様にして、アドレス(Xm,YO)に対応す
るアドレス信号およびアドレス(Xm,YO)に対応し
、かつ最終ビットにハイレベル信号゜゜1゛が書込まれ
たアドレス信号が、メモリ装置11に再度書込まれる。
また、例えば、メモリ装置11に書込まれているアドレ
ス(Xm,YA)に対応するアドレス信号が不要な場合
は、アドレス信号の比較時に、ライトペン15をモニタ
ー13管面上の左側に表示されているYアドレスYA(
第9図)に当接すると、ゲート回路44から書込み信号
が出力されないため、メモリ装置11には再度書込みが
なされない様になつている。この様にして、抜きマスク
の作成に必要な全アドレス信号および塗りつぶし用のハ
イレベル信号がメモリ装置11に書込まれると、次に、
該メモリ装置11の内容に応じて、第4図の出力ドライ
バー回路16も動作し、画像走査記録装置の記録側を作
動する。
第10図は、この出力ドライバー回路16の一例を示す
もので、比較回路46、フリップフロップ回路47およ
び0R回路48から構成されている。
前記したメモリ装置11への書込みの場合と同様、Xア
ドレスが(Xm)なる走査線について記録する楊合を例
にとり、以下説明する。
この場合、メモリ装置11に書込まれているアドレス信
号は、アドレス(Xm,YA)、(Xm,YB)、(X
m,YO)、(Xm,YD)にそれぞれ対応するアドレ
ス信号で、まずアドレス決定回路17からのスタートパ
ルス信号により、メモリ装置11から読出されたアドレ
ス(Xm,YA)に対応するアドレス信号と、記録シリ
ンダ18と同軸回転するロータリーエンコーダ20から
のパルス信号を受けてアドレス決定回路17から順次出
力され−るアドレス(Xm,YO)、(Xm,Yl)、
(Xm,Y2)、・・・・・に対応するアドレス信号と
が、比較回路46で比較される。
両アドレス信号が一致すると、一致信号が比較回路46
から出力され、0R回路48に一致信号.が入力される
とともに、メモリ装置11からアドレス(Xm,Y8)
に対応するアドレス信号が読出されて、比較回路46に
入力される。
これと同時に、アドレス(Xm,YB)に対応するアド
レス信号の最終ビットに書込まれていた−ハイレベル信
号′6r′が、フリップフロップ回路47に入力されて
該フリップフロップ回路47を作動させ、当該回路47
からの出力信号が、前記一致信号より若干遅れて0R回
路48に入力される。
次に比較回路46において、アドレス(Xm,Y8)に
対応するアドレス信号がアドレス決定回路17からのア
ドレス信号と一致すると、一致信号が0R回路48に入
力されるとともに、メモリ装置11からアドレス(Xm
,YO)に対応するアドレス信号が読出されて、比較回
路46に入力される。
同時に、フリップフロップ回路47は、一致信号によつ
てリセットされ、それまて0R回・路48に連続的に入
力されていた信号が入力されなくなる。第11図イおよ
び口は、0R回路48に入力される比較回路46からの
一致信号およびフリップフロップ回路47からの入力信
号を示すもので、その結果、0R回路48からの出力信
号、云い換れば出力ドライバー回路16からの出力信号
は、同図ハの如くなる。
したがつて、記録シリンダ18に装着された抜きマスク
用感光材料は、出力ドライバー回路16からの出力信号
によつて付勢される記録ヘッド21の光源により、原画
絵素の座標(Xm,YA)、(Xm,YB)に対応する
アドレス(Xm,YA)、(Xm,YB)間が露光され
ることとなる。
同様に、メモリ装置11から読出されたアドレス(Xm
,YO)、(Xm,YO)間が露光され、かかる露光を
各xアドレス(XO)、(X1)、(Xm)、 ・(
Xi)の走査線について順次行なうことにより、記録シ
リンダ18に装着された感光材料上に抜きマスクを作成
することができる。この様にして作成される抜きマスク
の輪部線を、原画像ど比較すると、ほんのわずかではあ
るが、全体的に主走査方向にずれている場合がある。こ
れは、原画および記録シリンダが通常別個に作製される
ため、各シリンダー表面の平行度、真円度はかなり高精
度に作製されるが、両シリンダーを比較した場合には、
同一径のシリンダーであつても必らずと云つて良い程微
小な寸法差が存在することに基因する。
また仮に、両シリンダの径が正確に一致したものを使用
するとしても、透過原稿の場合には、原画フィルムはそ
の乳剤面を原画シリンダー表面に密着させて装着し、記
録用フィルムはこれとは逆にベース面を記録シリンダー
に密着して装着する場合があり得る。
したがつて、原画像と抜きマスクの輪廓線とを比較する
と、少なくとも使用されるフィルムベースの厚さに相当
する微小寸法だけ、シリンダー円周方向、すなわち主走
査方向にずれることになる。
本発明に係る方法では、原画から画像信号をピックアッ
プする際のサンプリングパルス信号を、該サンプリング
パルス信号よりさらに細かいクロックパルス信号により
、当該サンプリングパルス信号に対応するアドレスの桁
を増して、前記微小寸法に相当する分を修正している。
また、前記してきた実施例においては、モニターに原画
像の輪廓を表示する際、比較的時間がかかるため、実用
上は、画像走査記録装置の走査線数を2段に切換え得る
様にしておき、粗線、迅速走査により、短時間でモニタ
ーに輪部像を表示し得る様になすとともに、記録時には
細線走査を行ない、メモリ装置に記憶された左右の走査
線における対応するアドレスを参照しながら、必要なア
ドレスを決定していく機能をもたせることが望ましい。
さらには、テレビカメラ走査的なもので、モニターに輪
部像を表示し、それと画像走査記録装置の走査位置との
関係をあらかじめ設定しておいて実施することもできる
。以上の様に、本発明に係る抜きマスク作成方法によれ
ば、従来の如く、熟練者の手作業に頼ることなく、未熟
練者であつても、短時間に、かつ正確に抜きマスクを作
成し得るため、製版作業工程が大幅に改善されるととも
に、メモリ容量の非常に少ないメモリ装置を使用し得る
ため、非常に経済的に実施することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、2次微分演算子を用いて絵柄の輪部を抽出す
る方法に使用されるパラメータの例を示す図、第2図は
、第1図のパラメータを使用して輪部信号値を演算する
方法を説明するための原画絵素の例を示す図、第3図は
、第1図のパラメータを使用して走査線順次に絵素の輪
部信号値を演算する際の必要な絵素の例を示す図、第4
図は、本発明方法を実施するための装置の一例を示すブ
ロック図、第5図は、第4図示の装置により輪部信号値
が演算される原画絵素の例を示す図、第6図は、第4図
における演算回路の一例を示す図、第7図は、第4図に
おけるモニター制御回路の一例を示す図、第8図は、モ
ニター管面上に設定されるアドレス、および該アドレス
に対応するX,Yパルス信号を示す図、第9図は、モニ
ター管面上に表示された輪部像の例を示す図、第10図
は、第4図の出力ドライバー回路の一例を示す図、第1
1図は、第10図の機能を説明するための波型図である
。 1・・・・・・原画シリンダ、3・・・・・・ロータリ
ーエンコーダ、4・・・・・・走査ヘッド、7・・・・
・A/D回路、8・・・・タイミングおよびアドレス決
定回路、9・・・メモリ制御回路、10・・・・・演算
回路、11・・・・・・メモリ装置、12・・・・タイ
ミングパルス信号発生回路、13・・・・・・モニター
、14・・・・・・モニター制御回路、15・・・・・
・ライトペン、16・・・・・・出力ドライバ・一回路
、17・・・・アドレス決定回路、18・・・・・・記
録シリンダ、19,20・・・・・・ロータリーエンコ
ーダ、21・・・・・・記録ヘッド、25・・・・・・
メモリ装置、26,27,28・・・・・・シフトレジ
スタ、29・・乗算回路、30・・・・・・加算器、3
1・・・・・減算回路、ノ35・・・・・比較回路、3
6・・・・・・バッファメモリ、37・・・・・・発振
器、38,39・・・・・・X,Yパルスカウンタ、4
0・・・・アドレス決定回路、42・・・・フリップフ
ロップ回路、43・・・・・・遅延回路、44・・ゲー
ト回路、46・・・・・・比較回路、47・・・・フリ
ツ7プフロツプ回路、48・・・・・・0R回路。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 原画絵素を走査線順次に光電走査して得た画像信号
    値と、走査絵素付近の画像信号値とから演算された輪郭
    信号値を、所要の閾値と比較し、該閾値を超えた輪郭信
    号値に対応するアドレスを、アドレス信号として順次メ
    モリ装置に記憶せしめた後、該メモリ装置から順次読出
    してモニター装置に表示し、モニター画面に基いて、所
    要の露光領域に対応するアドレス信号を指定して再度前
    記メモリ装置に書込み、該メモリ装置の内容により記録
    系を制御する様にしたことを特徴とする抜きマスク作成
    方法。
JP52101975A 1977-08-25 1977-08-25 抜きマスク作成方法 Expired JPS6042930B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5837647A (ja) * 1981-08-28 1983-03-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 抜きマスク作成方法
JPH0679154B2 (ja) * 1990-06-29 1994-10-05 大日本印刷株式会社 画像のトリミング範囲設定装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0432330B2 (ja) * 1987-07-10 1992-05-29

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