JPS6041039A - 二成分型ジアゾ複写材料 - Google Patents
二成分型ジアゾ複写材料Info
- Publication number
- JPS6041039A JPS6041039A JP14916483A JP14916483A JPS6041039A JP S6041039 A JPS6041039 A JP S6041039A JP 14916483 A JP14916483 A JP 14916483A JP 14916483 A JP14916483 A JP 14916483A JP S6041039 A JPS6041039 A JP S6041039A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diazo
- development
- resin
- diazo copying
- photosensitive layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
- G03C1/60—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances with macromolecular additives
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は二成分型ジアゾ複写材料、特に乾式現像に用い
る二成分型ジアゾ複写材料に関する。
る二成分型ジアゾ複写材料に関する。
従来技術
従来、ジアゾ複写材料のプレコート層に画像濃度向上の
目的で、多孔質填料と、でんぶんのような水溶性樹脂を
使用することや、ポリスチレンのような合成樹脂を使用
することは知られているが、前者は水溶性であるため、
塗布液の増粘化が起り、その使用ｍが限定されるという
欠点があり、また接置は画象１１１９向上の寄与率が小
さいという欠点がある。
目的で、多孔質填料と、でんぶんのような水溶性樹脂を
使用することや、ポリスチレンのような合成樹脂を使用
することは知られているが、前者は水溶性であるため、
塗布液の増粘化が起り、その使用ｍが限定されるという
欠点があり、また接置は画象１１１９向上の寄与率が小
さいという欠点がある。
またプレコート層のバインダとして、ｉ１ビやアクリル
酸エステルを使用することも知られているが、かかる材
料を使用した複写材料を用いて現像すると現像汚れが大
きかっ１．：、。
酸エステルを使用することも知られているが、かかる材
料を使用した複写材料を用いて現像すると現像汚れが大
きかっ１．：、。
（ここで現像汚れとは感光紙を乾式現像りる際に、感光
紙が現像ボックス中でピアノ線あるいは金属板等に接触
し、感光層よＩこはプレコート層の剥離やピアノＪｌ！
１！等への塗布物の１７１着が生じ、その結果、得られ
た複写物の感光面に傷や汚れが発生する現象をいう。）
したがって、プレコート層による画ｔｌｊＩ ＩＩ Ｕ
向上の効果は認められても、実用化しにくかった。
紙が現像ボックス中でピアノ線あるいは金属板等に接触
し、感光層よＩこはプレコート層の剥離やピアノＪｌ！
１！等への塗布物の１７１着が生じ、その結果、得られ
た複写物の感光面に傷や汚れが発生する現象をいう。）
したがって、プレコート層による画ｔｌｊＩ ＩＩ Ｕ
向上の効果は認められても、実用化しにくかった。
圧−−１
本発明は、プレコート層を改良することによって、ジア
ゾ複写材料における画像ｍｅ、を向上させさらに乾式現
像の際の現像汚れを消滅させることを目的とするもので
ある。
ゾ複写材料における画像ｍｅ、を向上させさらに乾式現
像の際の現像汚れを消滅させることを目的とするもので
ある。
４ｊ１１成
本発明は支持体上にジアゾ化合物およびカップリング成
分を主成分どする感光層を設けるジアゾ複写材料におい
て、前記支持体と感光層との間に、ポリ塩化ビニルおよ
びその共重合体の中から選ばれた樹脂の少なくとも−Ｊ
Ｗ・と、シリカ微粒子を主成分として含有するプレコー
ト層を設けたことを特徴とづ−る二成分型ジアゾ複写材
料を要旨と覆るものである。
分を主成分どする感光層を設けるジアゾ複写材料におい
て、前記支持体と感光層との間に、ポリ塩化ビニルおよ
びその共重合体の中から選ばれた樹脂の少なくとも−Ｊ
Ｗ・と、シリカ微粒子を主成分として含有するプレコー
ト層を設けたことを特徴とづ−る二成分型ジアゾ複写材
料を要旨と覆るものである。
本発明で用いられるジアゾ化合物及びカップラーとして
は、従来より二成分型ジアゾ複写材料の分野で使用され
て０るものがそのまま適応できる。
は、従来より二成分型ジアゾ複写材料の分野で使用され
て０るものがそのまま適応できる。
従って、ジアゾ化合物としでは例えば、４−ジアシー１
−ジメチルアミノベンゼン、４−ジアゾ−１−ジエチル
アミノベンゼン、４−ジアゾ−１−ジプロピルアミノベ
ンゼン、４−ジアゾ−１−メチルベンジルアミノベンＵ
ン、４−ジアゾ−１−ジベンジルアミノベンゼン、４−
ジアゾ−１−エチルヒドロキシエヂルアミノベンげン、
４−ジアゾ−１−ジエチルアミン −３−メ１−キシベ
ンゼン、４−ジアゾ−１−ジメチルアミノ −２メチル
ベンゼン、４−ジアゾル１−ペンゾイルｊフミノー２．
５−ジェトキシベンゼン、４−ジアゾ−１−七ルボリノ
ベンゼン、４−ジアゾ−１−［ル小すノー２，５−ジエ
１〜キシベンゼン、４−シフ７ゾー１−シルポリノー２
．５−ジブトキシベンゼン、４−ジノ′シー１−アニリ
ノベンゼン、４−シアノ −１−ジメチルアミノ−３−
カルボキシベンビン、４−ジノノブ−１−１〜ルイルメ
ルカブｈ −２，５−ジ］−１−二１シベンゼン、４−
ジアゾ−１，４−メ１〜キジベンゾイルアミノ −２，
５−ジエ１−キシベンげンなとのジアゾ化合物と塩化物
の金属ハライド（Ｊ福化！ＩＩｌ鉛、塩化カドミウム、
塩化錫など）どの浅塩及び、前記ジアゾ化合物の硫酸、
四弗化硼素、ヘキサフルオロ燐酸などの強酸の塩などが
あげられるが、勿論これらに限定されるものではない。
−ジメチルアミノベンゼン、４−ジアゾ−１−ジエチル
アミノベンゼン、４−ジアゾ−１−ジプロピルアミノベ
ンゼン、４−ジアゾ−１−メチルベンジルアミノベンＵ
ン、４−ジアゾ−１−ジベンジルアミノベンゼン、４−
ジアゾ−１−エチルヒドロキシエヂルアミノベンげン、
４−ジアゾ−１−ジエチルアミン −３−メ１−キシベ
ンゼン、４−ジアゾ−１−ジメチルアミノ −２メチル
ベンゼン、４−ジアゾル１−ペンゾイルｊフミノー２．
５−ジェトキシベンゼン、４−ジアゾ−１−七ルボリノ
ベンゼン、４−ジアゾ−１−［ル小すノー２，５−ジエ
１〜キシベンゼン、４−シフ７ゾー１−シルポリノー２
．５−ジブトキシベンゼン、４−ジノ′シー１−アニリ
ノベンゼン、４−シアノ −１−ジメチルアミノ−３−
カルボキシベンビン、４−ジノノブ−１−１〜ルイルメ
ルカブｈ −２，５−ジ］−１−二１シベンゼン、４−
ジアゾ−１，４−メ１〜キジベンゾイルアミノ −２，
５−ジエ１−キシベンげンなとのジアゾ化合物と塩化物
の金属ハライド（Ｊ福化！ＩＩｌ鉛、塩化カドミウム、
塩化錫など）どの浅塩及び、前記ジアゾ化合物の硫酸、
四弗化硼素、ヘキサフルオロ燐酸などの強酸の塩などが
あげられるが、勿論これらに限定されるものではない。
カップラーとしては例えば、レゾルシン、フロログルシ
ン、２．５−ジメチル−４−モルホリノメチルフコ−ノ
ール、３−ヒドロキシシアノアセトアニリド、ｐ−スル
ホアセトアニリド、１−ベンゾイルアミノ −８−ヒド
ロキシナフタレン−３，６−ジスルホンアミド、２．２
−ジヒドロキシナフタレン、２，７−シヒドロキシナフ
タレンー３．６−シスルボンＯ１ｌソーダ、２，３−ジ
ヒドロキシ−６−スルホン醗ソーダ、２．５−ジヒドロ
キシナフタレン−６−スルポン酸ソーダ、１−ヒドロキ
シナフタレン−４−スルポン醒ソータ、１−アミノ −
３−ヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホンアミド
、ナノ１〜−ルＡｓ、ナフトールΔＳ−Ｄ、２−ヒドロ
キシナフタレン−３−ビグアナイド、２−ヒドロキシナ
フトエ酸モル小すノプロビルアミド、２−ヒドロキシナ
フ１へ１酸エタノールアミド、２−ヒドロキシナフ１−
■１１１！−Ｎ−ジメチルアミンプロピルアミド塩酸塩
、２．２−．４．４” −テ１−ラヒドロキシジフェニ
ル、２．２＝ 、４．４− −テトラヒドロキシシフＪ
ニルスル小キシドなどがあげられるが、勿論これらに限
定されるものでない。
ン、２．５−ジメチル−４−モルホリノメチルフコ−ノ
ール、３−ヒドロキシシアノアセトアニリド、ｐ−スル
ホアセトアニリド、１−ベンゾイルアミノ −８−ヒド
ロキシナフタレン−３，６−ジスルホンアミド、２．２
−ジヒドロキシナフタレン、２，７−シヒドロキシナフ
タレンー３．６−シスルボンＯ１ｌソーダ、２，３−ジ
ヒドロキシ−６−スルホン醗ソーダ、２．５−ジヒドロ
キシナフタレン−６−スルポン酸ソーダ、１−ヒドロキ
シナフタレン−４−スルポン醒ソータ、１−アミノ −
３−ヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホンアミド
、ナノ１〜−ルＡｓ、ナフトールΔＳ−Ｄ、２−ヒドロ
キシナフタレン−３−ビグアナイド、２−ヒドロキシナ
フトエ酸モル小すノプロビルアミド、２−ヒドロキシナ
フ１へ１酸エタノールアミド、２−ヒドロキシナフ１−
■１１１！−Ｎ−ジメチルアミンプロピルアミド塩酸塩
、２．２−．４．４” −テ１−ラヒドロキシジフェニ
ル、２．２＝ 、４．４− −テトラヒドロキシシフＪ
ニルスル小キシドなどがあげられるが、勿論これらに限
定されるものでない。
本発明においては、プレロー１一層のプレニ１−ドバイ
ンダーとしてポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニルの共重
合体の中かＩう選ばれた樹脂の少なくとも一種を使用す
る。、共重合体に特に制限はなく、例えば塩化ビニル−
０１酸ビニル、塩化ビニル−アクリル酸ニスデル、１晶
化ビニルーアクリロニ１ヘリル、塩化ビニル−αオレフ
ィン、塩化ビニル−塩化ビニリｉン、塩化ビニル−塩化
ビニリデン−アクリル酸、塩化ビニル−アクリル酸ニス
デル−アクリル酸、ｊＢ化ビニル−アクリロニトリル−
アクリル酸メヂル、ｊｎ化ビニルーアクリロニ１ヘリル
・塩化ビニリデン、塩化ビニル−酢酸ビニル−アクリル
酸ニスアル、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
などの共重合体がある。
ンダーとしてポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニルの共重
合体の中かＩう選ばれた樹脂の少なくとも一種を使用す
る。、共重合体に特に制限はなく、例えば塩化ビニル−
０１酸ビニル、塩化ビニル−アクリル酸ニスデル、１晶
化ビニルーアクリロニ１ヘリル、塩化ビニル−αオレフ
ィン、塩化ビニル−塩化ビニリｉン、塩化ビニル−塩化
ビニリデン−アクリル酸、塩化ビニル−アクリル酸ニス
デル−アクリル酸、ｊＢ化ビニル−アクリロニトリル−
アクリル酸メヂル、ｊｎ化ビニルーアクリロニ１ヘリル
・塩化ビニリデン、塩化ビニル−酢酸ビニル−アクリル
酸ニスアル、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
などの共重合体がある。
又、プレツー１〜層には多孔質の填１′３Ｉどしくシリ
カ微粒子を用いる、ここで土）ボのプレコ−ト樹脂とシ
リカ微粒子を用いると、他のフィラーと他の樹脂のいか
なる組合せより画像Ｉｎが高く、かつ乾式現像の際の現
像汚れも良好であった。
カ微粒子を用いる、ここで土）ボのプレコ−ト樹脂とシ
リカ微粒子を用いると、他のフィラーと他の樹脂のいか
なる組合せより画像Ｉｎが高く、かつ乾式現像の際の現
像汚れも良好であった。
この理由は明らかではないが上記樹脂とシリカの相互作
用によりシリカ微粒子が表面に露出されやすくなるため
であろうと思われる。
用によりシリカ微粒子が表面に露出されやすくなるため
であろうと思われる。
シリカ微粒子の使用量に限定はないが樹脂１車量部に対
して、０．１〜５重量部、好ましくは０．５−Ｈ２重量
部の範囲で使用するのが望ましい。− さらに、本発明の目的から外れない範囲で他の樹１１ｆ
ｔをプレコートに混合するこ゛とは門支えないし、又末
端や部分的に他の官能基等を導入するような変性品を使
用しても良い。
して、０．１〜５重量部、好ましくは０．５−Ｈ２重量
部の範囲で使用するのが望ましい。− さらに、本発明の目的から外れない範囲で他の樹１１ｆ
ｔをプレコートに混合するこ゛とは門支えないし、又末
端や部分的に他の官能基等を導入するような変性品を使
用しても良い。
本発明では以上の素材の他に、通常ジアゾ複写材料に用
いられている各種の添加剤を用いることができる。例え
ば現像促進剤としてエチレングリコール、トリエチレン
グリコールなど；保存性向上剤としてナフタレン−モノ
スル小ン酸ナトリウム、ナフタレン−ジスルホン酸ナト
リウム、ナフタレン−トリスルホン酸す１〜リウム、ス
ルホサリチル酸、硫酸カドミウム、硫酸マグネシウム、
塩化カドミウム、塩化亜鉛など二酸化防止剤とし一’Ｃ
ｆ−Ａ尿素、尿素など；溶解剤としてカフェイン、テオ
フィリンなど：１１）安定剤としてクエン酸、酒石酸、
硫酸、蓚酸、硼酸、燐酸、ビＯ燐酸などが適宜配合され
てよく、その他にもＶポニンを少量添加することができ
る。
いられている各種の添加剤を用いることができる。例え
ば現像促進剤としてエチレングリコール、トリエチレン
グリコールなど；保存性向上剤としてナフタレン−モノ
スル小ン酸ナトリウム、ナフタレン−ジスルホン酸ナト
リウム、ナフタレン−トリスルホン酸す１〜リウム、ス
ルホサリチル酸、硫酸カドミウム、硫酸マグネシウム、
塩化カドミウム、塩化亜鉛など二酸化防止剤とし一’Ｃ
ｆ−Ａ尿素、尿素など；溶解剤としてカフェイン、テオ
フィリンなど：１１）安定剤としてクエン酸、酒石酸、
硫酸、蓚酸、硼酸、燐酸、ビＯ燐酸などが適宜配合され
てよく、その他にもＶポニンを少量添加することができ
る。
また、画ｍ濃度向上剤として感光層にもシリカ、スター
チ、クレー、樹脂等の無機、イｉ機微粒子が適当量添加
されていてもＪ、い。
チ、クレー、樹脂等の無機、イｉ機微粒子が適当量添加
されていてもＪ、い。
本発明のジアゾ複写材料を作成づるには紙、フィルム等
の支持体上に、まず生に前記の樹脂と必要に応じて多孔
質の＃Ｒ料、その他の添加剤を添加した塗Ｉｌｉ液を通
常の塗イ１ｉ法にＪ、り塗布乾燥して０．Ｉ Ｑ／ｌｌ
１２〜５ｇ／ｌｌ１２のプレコート層を設け、さらにそ
の上にジアゾ化合物、カップリング成分、必要に応じて
多孔質の填料及びその他の助剤より成る塗ｆｌｉ液を塗
布乾燥して感光層を設ければ良い。
の支持体上に、まず生に前記の樹脂と必要に応じて多孔
質の＃Ｒ料、その他の添加剤を添加した塗Ｉｌｉ液を通
常の塗イ１ｉ法にＪ、り塗布乾燥して０．Ｉ Ｑ／ｌｌ
１２〜５ｇ／ｌｌ１２のプレコート層を設け、さらにそ
の上にジアゾ化合物、カップリング成分、必要に応じて
多孔質の填料及びその他の助剤より成る塗ｆｌｉ液を塗
布乾燥して感光層を設ければ良い。
以下に実施例を示す。
実施例１
ポリ塩化ビニル（５０％エマルジ」ン）ｇ
シリカ微粒子 ３Ｑ
水 １００ｇ
にり成る塗布液をジアゾ複写紙用’ｆＸ紙の表１＋１に
塗イｌ乾燥して １．Ｉ Ｑ／ｍ ２のプレコート層を
設けた。さらにその上に ｐ−ジメチルアミノベンゼンジアゾニウムクロライド・
１／ ２Ｚｎ Ｃ１２０，５０２，３−ジヒドロキシナ
フタレン −６−スルホン酸ソーダ ２ｇ クエン酸 ２０ 塩化亜鉛 ５Ｑ チＡ尿素 ５ｇ Ｊ、チレングリコール ５ｇ 水 １００ｇ より成る塗布液を塗布乾燥して１ｇ／ｌｌ１２の感光層
を形成しジアゾ複写材料（サンプルΔ）を 得 １こ
。
塗イｌ乾燥して １．Ｉ Ｑ／ｍ ２のプレコート層を
設けた。さらにその上に ｐ−ジメチルアミノベンゼンジアゾニウムクロライド・
１／ ２Ｚｎ Ｃ１２０，５０２，３−ジヒドロキシナ
フタレン −６−スルホン酸ソーダ ２ｇ クエン酸 ２０ 塩化亜鉛 ５Ｑ チＡ尿素 ５ｇ Ｊ、チレングリコール ５ｇ 水 １００ｇ より成る塗布液を塗布乾燥して１ｇ／ｌｌ１２の感光層
を形成しジアゾ複写材料（サンプルΔ）を 得 １こ
。
一方比較の為に、プレツー１一層を除去し、かわりにサ
ンプルＡの感光液の中に、サンプルＡのプレコート層の
シリカ微粒子ど同量のシリカ微粒子を加えた他は同様に
してジアゾ複写＃Ａ＄４ ＋得たくサンプルＢ）。
ンプルＡの感光液の中に、サンプルＡのプレコート層の
シリカ微粒子ど同量のシリカ微粒子を加えた他は同様に
してジアゾ複写＃Ａ＄４ ＋得たくサンプルＢ）。
又、サンプルＡのプレコート液中のポリ塩化ビニルを除
きかわりに同量のカゼインを加えた他は同様にしてジア
ゾ複写材料をＷｊ Ｉｃ（サンプルＣ）。
きかわりに同量のカゼインを加えた他は同様にしてジア
ゾ複写材料をＷｊ Ｉｃ（サンプルＣ）。
さらに、サンプルへのプレコート液中のシリカ微粒子を
除きかわりに同量の炭酸カルシウムを加えた他は同様に
してジアゾ複写材１；１を得た（サンプルＤ）。
除きかわりに同量の炭酸カルシウムを加えた他は同様に
してジアゾ複写材１；１を得た（サンプルＤ）。
以上のようにして得られた各り”ンプルを乾式ジアゾ複
写機（リコー製５Ｍ−１５００）を用いて現像した後、
フォトボルト濃度翳１を用いて画ｆ１１ｍ度を測定した
。又乾式現像の際の現像汚れは、前記の複写椴で各サン
プルを１５ｍ／ｍｔｎの速度で１０００枚現像を行った
後１０００枚目の各サンプルのキズ汚れの有無、及び現
像部内の汚れの有無で判断した。結果を表−１に示す。
写機（リコー製５Ｍ−１５００）を用いて現像した後、
フォトボルト濃度翳１を用いて画ｆ１１ｍ度を測定した
。又乾式現像の際の現像汚れは、前記の複写椴で各サン
プルを１５ｍ／ｍｔｎの速度で１０００枚現像を行った
後１０００枚目の各サンプルのキズ汚れの有無、及び現
像部内の汚れの有無で判断した。結果を表−１に示す。
表−１
表−１に示しＩＣ通り本発明はｍ度が高く、かつ乾式現
像の際の現像汚れは認められないことが分る。
像の際の現像汚れは認められないことが分る。
実施例２
ポリ（塩化ビニル−アクリル酸エステル）共重合物（５
０％エマルジョン） ６（］シリカ微粒子 ３ｇ 水 １００ｇ より成る塗布液をジアゾ複写紙用原紙の表面に塗布乾燥
して２．０ ｇ／ｍ ２のプレコート層を設（）た。そ
の上に更に ２．５−ジェトキシ−４−モルボリノ ベンゼンジアゾニウムクＵライド ・１／ ２Ｚｎ Ｃ１２２１Ｊ ２−ヒドロキシ−３−ナノ１〜工酸 モルホリノプロピルすミド ２．５９ 塩化亜鉛 １．５ｇ チオ尿素 １．５ｇ 酒石酸 ２ｇ １〜リエチレングリコール ３．５ｇ 水 １００ ！１ より成る塗布液をジアゾ複写組用原紙の表面に塗布乾燥
して感光層を設Ｇプだ。得られたジアゾ複写材料（サン
プルＥ）を実施例１と同様にして現像を行ったところＭ
Ｙ ＩＩＩＪな＾澗１ｒＬ青色画伝を得た。又実施例１
と同様に現像汚れも良好であった。
０％エマルジョン） ６（］シリカ微粒子 ３ｇ 水 １００ｇ より成る塗布液をジアゾ複写紙用原紙の表面に塗布乾燥
して２．０ ｇ／ｍ ２のプレコート層を設（）た。そ
の上に更に ２．５−ジェトキシ−４−モルボリノ ベンゼンジアゾニウムクＵライド ・１／ ２Ｚｎ Ｃ１２２１Ｊ ２−ヒドロキシ−３−ナノ１〜工酸 モルホリノプロピルすミド ２．５９ 塩化亜鉛 １．５ｇ チオ尿素 １．５ｇ 酒石酸 ２ｇ １〜リエチレングリコール ３．５ｇ 水 １００ ！１ より成る塗布液をジアゾ複写組用原紙の表面に塗布乾燥
して感光層を設Ｇプだ。得られたジアゾ複写材料（サン
プルＥ）を実施例１と同様にして現像を行ったところＭ
Ｙ ＩＩＩＪな＾澗１ｒＬ青色画伝を得た。又実施例１
と同様に現像汚れも良好であった。
一方比較の為にサンプルＥのポリ（塩化ビニル、アクリ
ル酸エステル）共重合物を除去し、かわりにポリアクリ
ル酸樹脂を、又シリカ微粒子のかわりに尿素−ホルマリ
ン樹脂をプレコート層に使用した他は同様にしてジアゾ
複写材料を得た（サンプルＦ）。サンプルＦの画像１１
１ｍはサンプルＥよりも０．１９低く、かつ現像汚れも
大きかった。
ル酸エステル）共重合物を除去し、かわりにポリアクリ
ル酸樹脂を、又シリカ微粒子のかわりに尿素−ホルマリ
ン樹脂をプレコート層に使用した他は同様にしてジアゾ
複写材料を得た（サンプルＦ）。サンプルＦの画像１１
１ｍはサンプルＥよりも０．１９低く、かつ現像汚れも
大きかった。
実／Ｉ色例３
ポリ（塩化ビニル−酢酸ビニル）
共重合樹脂（５０％水エマルジヨン）５ｇシリカ微粒子
２ｇ 水 １００ｇ より成る塗布液をジアゾ複写紙用原紙の表面に塗布乾燥
してＯ，Ｇ ｏ／ｍ ２のプレコート層を設（プた。
２ｇ 水 １００ｇ より成る塗布液をジアゾ複写紙用原紙の表面に塗布乾燥
してＯ，Ｇ ｏ／ｍ ２のプレコート層を設（プた。
その上に更にυンプルＥの感光液の中に、スチレン樹脂
微粒子を２ｇ加えた他は同様にして感光層を設（プ複写
材料を得た（サンプルＧ）。
微粒子を２ｇ加えた他は同様にして感光層を設（プ複写
材料を得た（サンプルＧ）。
得られたサンプルを実施例１と同様に現像したところ高
温度画像が得られた。又現像汚れも良好であった。
温度画像が得られた。又現像汚れも良好であった。
さらにサンプルＧを半乾式ジアゾ複写間（リコー製Ｓ
Ｄ−７００）で現像したところ、乾式現像と同様に高濃
度であった。
Ｄ−７００）で現像したところ、乾式現像と同様に高濃
度であった。
効 果
本発明の二成分型ジアゾ複写４．ｆｌ ｆｉｔを用い−
Ｃ複写すると、高ｍ度画他が得られ、又乾式現像時に現
像汚れが生じない効果がある。
Ｃ複写すると、高ｍ度画他が得られ、又乾式現像時に現
像汚れが生じない効果がある。
特許出願人 株式会７１リ −１−
代理人 弁理士 小 松 ′ｆ：Ｊ 畠代理人 弁理士
旭 宏
旭 宏
Claims (1)
- 支持体上にジアゾ化合物およびカップリング成分を主成
分とする感光層を設番プるジアゾ複写材料において、前
記支持体と感光層との間に、ポリ塩化ビニルおよびその
共重合体の中から選ばれた樹脂の少なくとも一種と、シ
リカ微粒子を主成分として含有するプレコート層を設（
）たことを特徴とする二成分型ジアゾ複写材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14916483A JPS6041039A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | 二成分型ジアゾ複写材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14916483A JPS6041039A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | 二成分型ジアゾ複写材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6041039A true JPS6041039A (ja) | 1985-03-04 |
Family
ID=15469191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14916483A Pending JPS6041039A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | 二成分型ジアゾ複写材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6041039A (ja) |
-
1983
- 1983-08-17 JP JP14916483A patent/JPS6041039A/ja active Pending
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