JPS60258540A - 二成分型ジアゾ複写材料 - Google Patents
二成分型ジアゾ複写材料Info
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- JPS60258540A JPS60258540A JP11393184A JP11393184A JPS60258540A JP S60258540 A JPS60258540 A JP S60258540A JP 11393184 A JP11393184 A JP 11393184A JP 11393184 A JP11393184 A JP 11393184A JP S60258540 A JPS60258540 A JP S60258540A
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- diazo
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/91—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
- G03C1/93—Macromolecular substances therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
この発明は二成分型ジアゾ複写材料のプレコート層に関
する。
する。
従来技術
ジアゾ複写材料のプレコート樹脂とし′て下記のように
種々のものが提案されている。
種々のものが提案されている。
１）プレコート樹脂としてデンプンを用いたもの（米国
特許第２７８０５４７号）、２）プレコート樹脂として
カルボキシメチルセルロースおよび他の水溶性セルロー
スエーテルを用いたもの（米国特許第２４７４７００号
）、 ３）プレコート樹脂として、ポリ酢酸ビニル、ポリアク
リル酸エステルを使用したもの。
特許第２７８０５４７号）、２）プレコート樹脂として
カルボキシメチルセルロースおよび他の水溶性セルロー
スエーテルを用いたもの（米国特許第２４７４７００号
）、 ３）プレコート樹脂として、ポリ酢酸ビニル、ポリアク
リル酸エステルを使用したもの。
（特開昭４９−６２１２２号）、
４）プレコート樹脂にポリ酢酸ビニルを用いたもの。（
米国特許第２７４６８６３号および同第 ２８２２２７
２号） 目 的 しかし、上記１）および２）のものは液の粘度が高く、
塗工性が悪く、更に上記提案の何れのものも乾式現像の
際の現像汚れが大きいという問題があったので、本発明
はこれらの点を解決することを目的とするものである。
米国特許第２７４６８６３号および同第 ２８２２２７
２号） 目 的 しかし、上記１）および２）のものは液の粘度が高く、
塗工性が悪く、更に上記提案の何れのものも乾式現像の
際の現像汚れが大きいという問題があったので、本発明
はこれらの点を解決することを目的とするものである。
構 成
この発明は、下記の構成を有する。
すなわち、支持体上にプレコード層及び感光層を設【プ
たジアゾ複写材料において、前記プレコート層のプレコ
ートバインダーに分子量Ｔ０，０００ないし、２００，
０００のポリエチレンまたはポリエチレンを一成分とす
る共重合体を主成分として用いた二成分型ジアゾ複写材
料である。そして、この発明の複写材料は塗］二性がよ
く、かつ、乾式現像した際の現像汚れがない。
たジアゾ複写材料において、前記プレコート層のプレコ
ートバインダーに分子量Ｔ０，０００ないし、２００，
０００のポリエチレンまたはポリエチレンを一成分とす
る共重合体を主成分として用いた二成分型ジアゾ複写材
料である。そして、この発明の複写材料は塗］二性がよ
く、かつ、乾式現像した際の現像汚れがない。
ここで現像汚れとは、乾式複写機で現像する際、現像ボ
ックス内で感光紙がピアノ線あるいは金属板等に接触す
るため、感光紙の感光層またはプレコート層が剥離し、
ピアノ線等に塗布物が付着し、その結果、複写物の表面
にキズまたは汚れが生じる現像を言う。
ックス内で感光紙がピアノ線あるいは金属板等に接触す
るため、感光紙の感光層またはプレコート層が剥離し、
ピアノ線等に塗布物が付着し、その結果、複写物の表面
にキズまたは汚れが生じる現像を言う。
この発明のプレコートを用いることによって、上記現像
汚れを解消することができる。
汚れを解消することができる。
この発明で用いられるジアゾ化合物及びカップラーとし
ては、従来より二成分型ジアゾ複写材料の分野で使用さ
れているものがそのまま適応できる。
ては、従来より二成分型ジアゾ複写材料の分野で使用さ
れているものがそのまま適応できる。
従って、ジアゾ化合物としては例えば、４−ジアゾ−１
−ジメチルアミンベンゼン、４−ジアゾ−１−ジエチル
アミノベンゼン、４−ジアゾ−１−ジプロピルアミノベ
ンゼン、４−ジアゾ−１〜メチルベンジルアミノベンゼ
ン、４−ジアゾ−１−ジベンジルアミノベンゼン、４−
ジアゾ−１−エチルヒドロキシエチルアミノベンゼン、
４−ジアゾ−１−ジエチルアミノ−３−メトキシベンゼ
ン、４−ジアゾ−１−ジメチルアミノ−２−メブルベン
ゼン、４−ジアゾ−１−ベンゾイルアミノ−２，５−ジ
ェトキシベンゼン、４−ジアゾ−１−モルホリノベンゼ
ン、４−ジアゾ−１−モルホリノ−２，５−ジェトキシ
ベンゼン、４−ジアゾ−１−モルホリノ−２，５−ジブ
トキシベンゼン、４−ジアゾ−１−アニリノベンげン、
４−ジアゾ−１−ジメチルアミン−３−カボキシベンじ
ン、４−ジアゾ−１−トルイルメルカプト−２，５−ジ
ェトキシベンゼン、４−ジアゾ−１，４−メトキシベン
ゾイルアミノ−２，５−ジェトキシベンゼンなどのジア
ゾ化合物の塩化物と金属ハライド（塩化亜鉛、塩化カド
ミウム、塩化錫など）との複塩及び、前記ジアゾ化合物
の硫酸、四弗化硼素、ヘキサフルオロ燐酸などの強酸の
塩などがあげられるが、勿論これらに限定されるもので
はない。
−ジメチルアミンベンゼン、４−ジアゾ−１−ジエチル
アミノベンゼン、４−ジアゾ−１−ジプロピルアミノベ
ンゼン、４−ジアゾ−１〜メチルベンジルアミノベンゼ
ン、４−ジアゾ−１−ジベンジルアミノベンゼン、４−
ジアゾ−１−エチルヒドロキシエチルアミノベンゼン、
４−ジアゾ−１−ジエチルアミノ−３−メトキシベンゼ
ン、４−ジアゾ−１−ジメチルアミノ−２−メブルベン
ゼン、４−ジアゾ−１−ベンゾイルアミノ−２，５−ジ
ェトキシベンゼン、４−ジアゾ−１−モルホリノベンゼ
ン、４−ジアゾ−１−モルホリノ−２，５−ジェトキシ
ベンゼン、４−ジアゾ−１−モルホリノ−２，５−ジブ
トキシベンゼン、４−ジアゾ−１−アニリノベンげン、
４−ジアゾ−１−ジメチルアミン−３−カボキシベンじ
ン、４−ジアゾ−１−トルイルメルカプト−２，５−ジ
ェトキシベンゼン、４−ジアゾ−１，４−メトキシベン
ゾイルアミノ−２，５−ジェトキシベンゼンなどのジア
ゾ化合物の塩化物と金属ハライド（塩化亜鉛、塩化カド
ミウム、塩化錫など）との複塩及び、前記ジアゾ化合物
の硫酸、四弗化硼素、ヘキサフルオロ燐酸などの強酸の
塩などがあげられるが、勿論これらに限定されるもので
はない。
カップラーとしては例えば、レゾルシン、フロログルシ
ン、２．５−ジメチル−４−モルポリツメデルフェノー
ル、３−ヒドロキシシアノアセトアニリド、ｐ−フルホ
アセトアニリド、 １−ベンゾイルアミノ−８−ヒドロ
キシナフタレン−３，６−ジスルホンアミド、２．２−
ジヒドロキシナフタレン、２．７−シヒドロキシナフタ
レンー ３，６−ジスルホン酸ソーダ、２，３−ジヒド
ロキシナフタレン−６−スルホン酸ソーダ、２，５−ジ
ヒドロキシナフタレン−６−スルホン酸ソーダ、１−ヒ
ドロキシナフタレン−４−スルホン酸ソーダ、１−アミ
ノ−３−ヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホンア
ミド、ナフトールＡＳ１ナフ［−−ルＡｓ−Ｄ、２−ヒ
ドロキシナフタレン−３−ビグアナイド、２−ヒドロキ
シナフト土酸モルホリノプロピルアミド、 ２−ヒト［
Ｉキシナフトエ酸エタノールアミド、２−ヒドロキシナ
フトエ酸−Ｎ−ジメヂルアミノプロビルアミド酸塩酸、
２． ２′、４．４”−テトラヒドロキシシフ■ニル、
２． ２−．４ 、４’−−テトラヒドロキシジフェニ
ルスルホキシドなどがあげられるが、勿論これらに限定
されるものでない。
ン、２．５−ジメチル−４−モルポリツメデルフェノー
ル、３−ヒドロキシシアノアセトアニリド、ｐ−フルホ
アセトアニリド、 １−ベンゾイルアミノ−８−ヒドロ
キシナフタレン−３，６−ジスルホンアミド、２．２−
ジヒドロキシナフタレン、２．７−シヒドロキシナフタ
レンー ３，６−ジスルホン酸ソーダ、２，３−ジヒド
ロキシナフタレン−６−スルホン酸ソーダ、２，５−ジ
ヒドロキシナフタレン−６−スルホン酸ソーダ、１−ヒ
ドロキシナフタレン−４−スルホン酸ソーダ、１−アミ
ノ−３−ヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホンア
ミド、ナフトールＡＳ１ナフ［−−ルＡｓ−Ｄ、２−ヒ
ドロキシナフタレン−３−ビグアナイド、２−ヒドロキ
シナフト土酸モルホリノプロピルアミド、 ２−ヒト［
Ｉキシナフトエ酸エタノールアミド、２−ヒドロキシナ
フトエ酸−Ｎ−ジメヂルアミノプロビルアミド酸塩酸、
２． ２′、４．４”−テトラヒドロキシシフ■ニル、
２． ２−．４ 、４’−−テトラヒドロキシジフェニ
ルスルホキシドなどがあげられるが、勿論これらに限定
されるものでない。
この発明は、上記のように分子量が１０，０００〜２０
０，０００のポリエチレンおよびポリエチレン重合体の
中から選ばれる少なくとも一種をプレコートバインダー
の主成分として用いるもので、ポリエチレンの分子量が
ｉｏ、ｏｏｏ未満であると、耐熱性が不足し、ベタツキ
が生じ易く、また分子量が２００，０００を越えるど接
着強度が不足し、いずれもプレコートバインダーとして
は不適当である。
０，０００のポリエチレンおよびポリエチレン重合体の
中から選ばれる少なくとも一種をプレコートバインダー
の主成分として用いるもので、ポリエチレンの分子量が
ｉｏ、ｏｏｏ未満であると、耐熱性が不足し、ベタツキ
が生じ易く、また分子量が２００，０００を越えるど接
着強度が不足し、いずれもプレコートバインダーとして
は不適当である。
共重合体樹脂には、例えばエチレンー酢酸ビニル、エチ
レン−酢酸ビニル−メタクリル酸メチル、エチレン−酢
酸ビニル−ステアリン酸ビニル、エチレンー安息香酸ビ
ニル、エチレン−ステアリン酸ビニル、■チレンーメタ
クリル酸アル４；ル、エチレン−アクリル酸エチル、エ
チレン−ハロビニル、エチレン−スチレン、エチレン−
ビニルエーテル、エチレン−プロピレン等があるが、こ
れらに限定されるものではない。また必要に応じて、他
の樹脂をプレコートバインダーとして加えてもよい。
レン−酢酸ビニル−メタクリル酸メチル、エチレン−酢
酸ビニル−ステアリン酸ビニル、エチレンー安息香酸ビ
ニル、エチレン−ステアリン酸ビニル、■チレンーメタ
クリル酸アル４；ル、エチレン−アクリル酸エチル、エ
チレン−ハロビニル、エチレン−スチレン、エチレン−
ビニルエーテル、エチレン−プロピレン等があるが、こ
れらに限定されるものではない。また必要に応じて、他
の樹脂をプレコートバインダーとして加えてもよい。
なお、この発明で用いるポリエチレンまたはそれ含む共
重合体は末端に官能基を導入したものでもよい。
重合体は末端に官能基を導入したものでもよい。
この発明では以上の素材の他に、通常ジアゾ複写材料に
用いられている“各種の添加剤を用いることができる。
用いられている“各種の添加剤を用いることができる。
例えば現像促進剤としてエチレングリコール、トリエチ
レングリコールなど；保存性向上剤としてナフタレン−
モノスルホン酸ナトリウム、ナフタレン−ジスルホン酸
ナトリウム、ナフタレン−トリスルホン酸ナトリウム、
スルホサリチル酸、硫酸カドミウム、硫酸マグネシウム
、塩化カドミウム、塩化亜鉛など；酸化防止剤としてチ
オ尿素、尿素など：溶解剤としてカフェイン、テオフィ
リンなど：酸安定剤としてクエン酸、酒石酸、硫酸、蓚
酸、硼酸、燐酸、ピロ燐酸などが適宜配合されてよく、
その他にもサポニンを少量添加することができる。また
画像濃度向上剤として、シリカ、スターチ、クレー、樹
脂等の無機有機微粒子が適当量添加されていてもよい。
レングリコールなど；保存性向上剤としてナフタレン−
モノスルホン酸ナトリウム、ナフタレン−ジスルホン酸
ナトリウム、ナフタレン−トリスルホン酸ナトリウム、
スルホサリチル酸、硫酸カドミウム、硫酸マグネシウム
、塩化カドミウム、塩化亜鉛など；酸化防止剤としてチ
オ尿素、尿素など：溶解剤としてカフェイン、テオフィ
リンなど：酸安定剤としてクエン酸、酒石酸、硫酸、蓚
酸、硼酸、燐酸、ピロ燐酸などが適宜配合されてよく、
その他にもサポニンを少量添加することができる。また
画像濃度向上剤として、シリカ、スターチ、クレー、樹
脂等の無機有機微粒子が適当量添加されていてもよい。
この発明のジアゾ複写材料を作成するには、紙、フィル
ム等の支持体上に、まず主に前記の樹脂と必要に応じて
多孔質の填料、その他の添加剤を添加した塗布液を通常
の塗布法により塗布乾燥して０．１ｇ、／ｍ ２〜５ｇ
／ｍ ２のプレコート層を設り、さらにその上にジアゾ
化合物、カップリング成分、必要に応じて多孔質の填料
及びその他の助剤より成る塗布液を塗布乾燥して感光層
を設（プればよい。
ム等の支持体上に、まず主に前記の樹脂と必要に応じて
多孔質の填料、その他の添加剤を添加した塗布液を通常
の塗布法により塗布乾燥して０．１ｇ、／ｍ ２〜５ｇ
／ｍ ２のプレコート層を設り、さらにその上にジアゾ
化合物、カップリング成分、必要に応じて多孔質の填料
及びその他の助剤より成る塗布液を塗布乾燥して感光層
を設（プればよい。
実施例
以下、実施例によって、この発明を具体的に説明する。
実施例１
エチレンー酢酸ビニル共重合体
（酢酸ビニル１４％含有）（５０％エマルジョン）ｇｒ
シリカ ３ｇｒ
水 １００ｇｒ
より成るプレコート層用塗布液をジアゾ複写紙用原紙の
表面に塗布乾燥して１ｇ／ｍ ２のプレコート層を設け
た。さらにその上に、ｐ−ジメヂルアミンベンゼンジア
ゾニウムクロライド・１／２ Ｚｎ Ｃｌ ２ ０，５
ｇｒ２．３−ジヒドロキシナフタレン −〇−スルホン酸ソーダ ２ｇｒ クエン酸 ２ｇｒ 塩化亜鉛 ５ｇｒ ヂオ尿素 ５ｇｒ エチレングリコール ５（］ ｒ 水 １ｏｏｇｒ Ｊζり成る塗布液を塗布乾燥して１ｇ／ｍ ２の感光層
を形成しジアゾ複写材料を得た。これを試料Ａとする。
表面に塗布乾燥して１ｇ／ｍ ２のプレコート層を設け
た。さらにその上に、ｐ−ジメヂルアミンベンゼンジア
ゾニウムクロライド・１／２ Ｚｎ Ｃｌ ２ ０，５
ｇｒ２．３−ジヒドロキシナフタレン −〇−スルホン酸ソーダ ２ｇｒ クエン酸 ２ｇｒ 塩化亜鉛 ５ｇｒ ヂオ尿素 ５ｇｒ エチレングリコール ５（］ ｒ 水 １ｏｏｇｒ Ｊζり成る塗布液を塗布乾燥して１ｇ／ｍ ２の感光層
を形成しジアゾ複写材料を得た。これを試料Ａとする。
比較例１
比較の為に、実施例１のプレコート層を除去し、かわり
に試料Δの感光液の中に、試料△のブレツーｌ一層の炭
酸カルシウムと同量の炭酸カルシウムを加えた他は同様
にしてジアゾ複写材料を得た。これを試料Ｂとする。
に試料Δの感光液の中に、試料△のブレツーｌ一層の炭
酸カルシウムと同量の炭酸カルシウムを加えた他は同様
にしてジアゾ複写材料を得た。これを試料Ｂとする。
比較例２
試料Δのプレコート液中のエチレンー耐ビ共重合体を除
き、かわりに同量のカゼインを加えた他は同様にしてジ
アゾ複写材料を得た。
き、かわりに同量のカゼインを加えた他は同様にしてジ
アゾ複写材料を得た。
これを試料Ｃとする。
比較例３
さらに、試Ｆ１．Ａのプレコート液中のエチレン−酢ビ
共重合体を除き、かわりに同量のポリ耐酸ビニルを加え
た他は同様にしてジアゾ複写月利を得た。これを試料り
とする。
共重合体を除き、かわりに同量のポリ耐酸ビニルを加え
た他は同様にしてジアゾ複写月利を得た。これを試料り
とする。
以上のようにして得られた各サンプルを１ｓｍ／ｍ１１
１の速度で乾式ジアゾ複写機（リコー製Ｓ Ｍ １５０
０）を用いて現像し、１０００枚目の各サンプルのキズ
、汚れの有無および現像部内の汚れの有無で現像汚れを
判断した。その結果を表−１に示す。
１の速度で乾式ジアゾ複写機（リコー製Ｓ Ｍ １５０
０）を用いて現像し、１０００枚目の各サンプルのキズ
、汚れの有無および現像部内の汚れの有無で現像汚れを
判断した。その結果を表−１に示す。
表−１
表−１により明らかなように、この発明品は現像の際の
現像汚れは認められない。
現像汚れは認められない。
実施例２
ポリエチレンエマルジョン
（分子量５００，０００） （５０％エマルジョン）ｇ
ｒ 尿素−ホルマリン樹脂微粒子 ３ｇｒ 水 １００ｇｒ より成る塗布液をジアゾ複写紙用原紙の表面に塗布乾燥
して０．８ｇ／ｍ ’のプレコート層を設（づた。その
上に更に、 ２．５−ジェトキシ−４ 一モル小すノベンゼンジアゾニウム クロライド・１／２ Ｚｎ Ｃｌ ２２ａｒ２−ヒドロ
キシ−３−す７１〜工酸 モルホリノプロピルアミド ２．５ｇｒ塩化亜鉛 １．
５ｇｒ チオ尿素 １．５ｇｒ 酒石酸 ２ｇｒ トリエチレングリコール ３，５ｇｒ 水 １００ｇ ｒ より成る塗布液を、ジアゾ複写紙用原紙の表面に塗布乾
燥して、感光層を設【プだ。得られたジノ７ゾ複写材料
（試料Ｅ）を実施例１と同様にして現像を行ったところ
、現像汚れは生じなかった。
ｒ 尿素−ホルマリン樹脂微粒子 ３ｇｒ 水 １００ｇｒ より成る塗布液をジアゾ複写紙用原紙の表面に塗布乾燥
して０．８ｇ／ｍ ’のプレコート層を設（づた。その
上に更に、 ２．５−ジェトキシ−４ 一モル小すノベンゼンジアゾニウム クロライド・１／２ Ｚｎ Ｃｌ ２２ａｒ２−ヒドロ
キシ−３−す７１〜工酸 モルホリノプロピルアミド ２．５ｇｒ塩化亜鉛 １．
５ｇｒ チオ尿素 １．５ｇｒ 酒石酸 ２ｇｒ トリエチレングリコール ３，５ｇｒ 水 １００ｇ ｒ より成る塗布液を、ジアゾ複写紙用原紙の表面に塗布乾
燥して、感光層を設【プだ。得られたジノ７ゾ複写材料
（試料Ｅ）を実施例１と同様にして現像を行ったところ
、現像汚れは生じなかった。
比較例４
比較のために上記試料Ｅのポリエチレンエマルジョン（
Ｍ Ｗ２Ｏ，０００）のかわりに分子量５０００のポリ
エチレンエマルジョンをプレコート層に使用し、他は同
様にしてジアゾ複写材料を得た。これを試料Ｆとする。
Ｍ Ｗ２Ｏ，０００）のかわりに分子量５０００のポリ
エチレンエマルジョンをプレコート層に使用し、他は同
様にしてジアゾ複写材料を得た。これを試料Ｆとする。
試Ｎ’３１ ｒはベタツキがあり現像汚れも生じた。
効 果
以上説明したＪ：うに、この発明の複写材１１は塗工性
を害さず、かつ現像汚れが起らないという実用上の効果
が顕著である。
を害さず、かつ現像汚れが起らないという実用上の効果
が顕著である。
特許出願人 株式会社リ コ −
代理人 弁理士 小 松 秀 岳
代理人 弁理士 旭 宏
Claims (1)
- 支持体上にプレコード層及び感光層を設けたジアゾ複写
材料において、前記プレコート層のプレコートバインダ
ーに分子ｍｉｏ、ｏｏｏないし２００，０００のポリエ
チレンまたはポリエチレンを一成分とする共重合体を主
成分として用いたことを特徴とする二成分型ジアゾ複写
材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11393184A JPS60258540A (ja) | 1984-06-05 | 1984-06-05 | 二成分型ジアゾ複写材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11393184A JPS60258540A (ja) | 1984-06-05 | 1984-06-05 | 二成分型ジアゾ複写材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60258540A true JPS60258540A (ja) | 1985-12-20 |
Family
ID=14624776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11393184A Pending JPS60258540A (ja) | 1984-06-05 | 1984-06-05 | 二成分型ジアゾ複写材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60258540A (ja) |
-
1984
- 1984-06-05 JP JP11393184A patent/JPS60258540A/ja active Pending
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