JPS6039890A - レジストパタ−ンの形成方法 - Google Patents

レジストパタ−ンの形成方法

Info

Publication number
JPS6039890A
JPS6039890A JP58147405A JP14740583A JPS6039890A JP S6039890 A JPS6039890 A JP S6039890A JP 58147405 A JP58147405 A JP 58147405A JP 14740583 A JP14740583 A JP 14740583A JP S6039890 A JPS6039890 A JP S6039890A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
aluminum
oil
parts
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP58147405A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0263319B2 (ja
Inventor
俊彦 安井
松本 哲雄
昭彦 赤池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority to JP58147405A priority Critical patent/JPS6039890A/ja
Publication of JPS6039890A publication Critical patent/JPS6039890A/ja
Publication of JPH0263319B2 publication Critical patent/JPH0263319B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Printing Methods (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は微細プjレジストバクーンの形成方法に関し、
更に詳細に言えば、印刷回路の如き微細加工品の製造に
有用な高解像度レジストパターンの経済的危産方法に関
する。
印刷回路のレジストパターンの形成法としては今日シル
クスクリーン印刷法が主流をなしているが、この方法で
は、得られるパターンの解像度が最高でも線幅150〜
200μmであるため、パターンの微細化が益々進めら
れる今田要望されるような高解像度レジストパターンの
形成に次第に応えられなくなりつつあるのが実状である
。平版印刷方式によれば、線幅60μIrL程度の解源
度をもつ印刷パターンを容易に形成し得ることが知られ
ているが、この方式でレジストパターンを形成する方式
は末だ殆んど1是案されておらず、僅かに′b公昭57
−60394号にその例を見出し得るのみである。この
公報に記載された方法は、印刷版として乾式平版を使用
し、インキとして特定の紫外線硬化型レジストインキを
使用するものであり、そのインキは、エツチング処理や
メッキ処理に対して優れた耐レジスト性をもち、地汚れ
を生ずることなく印刷し得るものである。
しかしながら、このインキはレベリング性が悪く、印刷
パターンに多数のピンホール−アイホール等のホールを
生ぜしめるため、所定の微細パターンを連続した印刷皮
膜として形成できない難点をもっている。特にパターン
の細綿部は、このホールによって断線されることが多く
、このことが回路の信頼性を著しく低下させる。従って
、印刷パターンにおけるピンホール・アイホール等のホ
ールの発生を防止することは、印刷回路の如き微細なレ
ジストパターンを形成する際K特に重要なことであるが
、このようなホールを全く発生させずまたは殆んど発生
させずに印刷可能であり、且つエツチング処理やメッキ
処理に対して優れた耐レジスト性をもった印刷パターン
を形成し得る平版印刷用インキを製造することは、容易
なことではない。
本発明は印刷時にピンホール・アイホール等のホールを
殆んど発生させず且つ耐レジスト性に優れた硬化性レジ
ストインキを使用し、平版印刷方式でレジストパターン
を形成する方法を提供するものである。
即ち、本発明は油変性アルキッド樹脂と、アルミニウム
キ組成物を用い、平版印刷方式で基材上に所定パターン
を印刷し、これを加熱して硬化せしめることを特徴とし
たレジストパターンの形成方法に関する。
本発明で使用する油変性アルキッド樹脂としては、酸価
5〜300、好ましくは20〜100の油変性アルキッ
ド樹脂を好適に使用できる。このような樹脂は多塩基酸
、多価アルコール及び油の3成分から當法に従って製造
することかできる。この多塩基酸成分としては、例えば
無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタ/+7酸、ジメ
チルテレフタレートテトラクロロ無水フタル酸の如き芳
香族ジカルボン酸類又はその誘導体;テトラヒドロ無水
フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、ろ、6−ニンド
メチレンーか一無水フタル酸、1,4.5,6,7,7
−へキサクロロビシクロ[2,2,1:1−5−ヘプテ
ン−2,3−シカA・ボン酌無水物の如ぎ環状1]Wt
l]、17にジカルボン′酸づ9又はその誇導体;コハ
ク酸、アジピン酸、ドデカンジカノI/ボン戯、−社ノ
々シン酸、アゼライン酸、無水マレイン酸、フマル酸、
イタコン酸、オクテニル無水コノ\内ス、ドデセニル無
水コノ1り住、メチル無水コハク酸、メタクリル酸2脅
体若しくはそのメチルエステルの如き飽和若しくは不飽
和の脂肪族ジノ7ルボン酸炉又はその誘導体−〇ジン缶
水マレイン酸イ」加物、熱水トリメリット館、1,2,
4.5−ベンゼンテトラカル735ン酸熱水物、ペンゾ
フエノンデトラカJ・ボン酸熱水物の11【1き3価又
(14価の多価カルボンm等を使用できる。
多価アルコール成分と(7ては例えば、エチレンク°リ
コール、プロピレングリフール、ブタンジオール、ネオ
ペンチルクリコール、1.6−ヘキナンジオール、1.
4−シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノール
への如き2個のアルコール性水酸基が2〜9個の炭素原
子によって隔てられているジオール類;グリセリン、ト
リメチロールエ1”J、k−1)lチロールプロパンの
如キトリオール傾;ヘンタエリスリトールの如きテトラ
オール類を使用できる。
油成分としては例えば、アマニ油、オイチシカ油、コギ
リ油、ゴボウ種油、サフ之ワ油1、シナキリ油、大豆油
の如き乾性植物油;アオギリ油、アワ油、大麦油、カシ
実油、ゴマ油、ナタネ油、ヌカ油、ヘチマ種油、綿実油
の如き半乾性植物油ニオリーブ油、ツバキ油、ヒマシ油
、落花生油、パパヤ油、カシュー実油の如き不乾性油又
はそれらの脂肪酸を使用出来る。
(a1反応生成物を構成するアルミニウムアルコラ)化
合物としては5例えばアルミニウムイソプロピレート、
モノ@@e−ブトキシアルミニウムジインプロビレート
、アルミニウム@ee−ブチレート、アルミニウム2−
エチルヘキソエート、アルミニウムオキサイドアシレー
ト等を使用でき、こあような化合物は商品名AIFD、
AMD、ASBD、オクトーブAJ、オリーブ、AIP
%A3B、OAO等として用ω1ファインケミカル■、
ホープ製薬曲杆等から販売されている。また、アルミニ
ウムキレート化合物としては、例えばエチルアセトアセ
テートアルミニウムージイソプロピレート、アルミニウ
ムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムジ
ーn−プトキザイドモノ(エチルアセトアセテート)、
アルミニウムジーn−プトキザイドモノ(メチルアセト
アセテート)、アルミニウムジ−イソ−ブトキサイドモ
ノ(メチルアセトアセテート)、アルミニウムーー5e
e−ブトキサイドモノ(エチルアセトアセテート)、ア
ルミニウムジ−イソ−プロポキサイドモノ(エチルアセ
トアセテート)、アルミニウムジ−イソ−ブトキサイド
モノ(エチルアセトアセテート)、アルミニウムジーイ
ンープロポキサイドモノ(メチルアセトアセテート)等
を使用でき、このような化合物は商品名ALCH%AL
CH−TR1EB−2、MB−2、MB−12%EB−
102%EP−12、EB−12、MP−12、AIF
m−M、ARE−M等として用研ファインケミカル0′
4′l、ホープ側薬■社等から販売されている。
(at反応生成物は、上記のアルキッド樹脂とアルミニ
ウム化合物とを混合し、90〜120Cで0.5〜2.
0時間加熱することにより得ることができる。両者の反
応割合は、アルキッド樹脂100重量部に対してアルミ
ニウム化合物0.1〜10重量部が好ましい。
(a1反応生成物が乾性及び半乾性油変性アルキッド樹
脂を使用して得られたものであるならば、それ自体で硬
化可能であるから!行別に他の硬化剤の添加は必要では
ないが、不乾性油変性アルキッド樹脂を使用して得られ
たものであるならば、それ自体では硬化しないので、他
の硬化剤の添加を必要とする。
もちろん、前者の当合においても、レジストインキ組成
物がより好ましい充分な硬化を得るために他の硬化剤を
添加することは、さしつかえない。そのような硬化剤と
しては、(b口分子中に2個以上のエチレン性不飽和二
重結合を有する重合性化合物があり、例えばエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、1.5−ブチレンク
リ−t−ル、f )ラメチレングリコール、ヘキサメチ
レングリコール、ト1ツメチロールプロパン、グリセリ
ン及ヒペンタエリス1ノトール等のポリ(メタ)アクリ
レートネオペンチルグリコール1モルに2モル以上のエ
チレンオキサイド若しく番マブロビレンオキサイドを付
加して得たジオールのジ(メタ)アクlJレ−)、)!
jメチロールブロノく71モルに3モル以上のエチレン
オキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得
たトリオールのジ又はトリ(メタ)アクリレート、ビス
フェノ−/I/A1モルに2モル以上のエチレンオキサ
イド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオ
ールのジ(メタ)アクリレート等の重合性モノマーを使
用できる。
また、重合性プレポリマーも使用可能であり、例えば(
1)ビスフェノールA型エポキシ樹脂に(メタ)アクリ
ル酸、更に場合によりヤシ油脂肪酸等の長釦脂肪酸をエ
ステル化させて得タエボキシ(メタ)アクリレートある
いはその長釦脂肪酸変性物、水酸基を有するエポキシ(
メタ)アクリレートに二塩基酸無水物、四塩基酸ジ無水
物、無水トリメリット酸を付加して得たカルボキシル基
を有するエポキシ(メタ)アクリレートの如きエポキシ
(メタ)アクリレート及びその変性物のほか、特開昭5
1−37193、同51−1!+8797、特公昭47
−3262、同47−25661、同4B−37246
、同48−12075、米国特許第5020255、同
3377406、同!+455801、同345580
2、同3485104%同3470079、同3485
732、同3485735等の各公報に記載された各種
重合性プレポリマーを使用できる。
(&)反応生成物と(b1重合性化合物との好ましい混
合割合は(a1反応生成物1o o Magl(に対し
て(b1重合性化合物3〜600重量部であり、(b1
重合性化合物が3部未満であると、硬化性が極端に低下
し、指触乾燥性が得られないと同時に耐エツチング性が
低下する傾向が生じ、600部を越えると平版印刷適性
が極端に低下し、地汚れが生じたり、レベリング性が低
下する傾向が生ずる。
更に、硬化剤として、メラミンit脂、ペン!グアナミ
ン樹脂、尿素樹脂などのアミノ樹脂を使用できる。
(a1反応生成物と上記アミノ樹脂との混合割合は、(
al 100重量部に対して、アミノ樹脂60〜3重量
部、好ましくは(a) 100重量部に対してアミノ樹
脂30〜5重量部であり、アミノ樹11肋″=5部未満
であると、硬化性が極端に低下し、指触乾燥性が得られ
ないと同時に耐エツチング性が低下する傾向が生じ、6
0部を越えると平版印刷適性が極端に低下し、地汚れが
生じたり、レベリング性が低下する傾向が生ずる。
本発明で使用するレジストインキ組成物は、必要に応じ
て更に、希釈剤として、スチレン系モノマー、アクリル
系モノマー、ビニルエステル系モノマーの如き1分子中
にエチレン性不飽和二重結合を1個含有する蚕=性モノ
マーや、通常、平凸版印刷用インキに使用される高沸点
石油系酢剤を含み得る。更にまた、必要に応じて、熱硬
化促進剤、着色顔料、体質顔料、助剤等も含み得る。
本発明方法によれば、斯るレジストインキを用い基板上
に所定のパターンを平版印刷方式で印刷するが、その際
の印刷は湿式印刷及び乾式印刷のいずれでもよい。基板
としては、印刷回路板の基板として通常用いられている
ものを使用でき、多くの場合は、硬質又はフレキシブル
な銅張’)プリント基板が使用される。基板上に印刷さ
れたパターンを加熱してこれを硬化せしめる際、加熱装
置としては、公知の加熱装置のいずれをも使用できる。
本発明のレジストインキを使用すれば、印刷されたパタ
ーンの中には、ピンホール、アイホール等のホールは殆
んど発生しないが、時として発生するかも知れない(I
Nかなホールをも確実に防止するために予め必要な手段
を講じておくことを望むならば、そのような手段として
、印刷パターンを硬化に至らない程度に適当に予佛加熱
する方法の実施が推奨される。
この方法の実施により印刷パターンは加熱によって流れ
易い状態となり、この流動性の故にホールが除去された
連続膜となるのであるが、好都合なことに、このとぎの
流動性は、多くの場合、印刷パターンのパターン自体の
崩れを生ぜしめる程に強いものではない。このような好
都合の現象が生ずる理由は明らかではないが、多分印刷
パターンが薄膜であることに帰因しているものと考えら
れる。ここでの加熱は、印刷インキの硬化温度より低い
温度のもとで、ホール除去に必要な流動が生ずるに充分
な時間行うべきである。従って、適切な加熱条件は、主
として、使用するレジストインキの性質によって異なる
が、一般的に言えば、80〜150Cで15〜60秒の
加熱が適当である。
また、上記の加熱方法に代えて、同一パターンの重ね刷
りもホールの確実な除去のために有効である。こつ方法
を実施するためには、通當、校正機として第1」用され
て℃・る平台オフセット印刷4幾の使用が好適である。
この重ね刷り方法に続いて上記の加熱方法を実施するな
らば、より一層好ましい。
斜上の如く、本発明方法によれば、線幅30μm8度の
高い解像度をもつレジストパターンを経済的に量産化す
ることができ、極めて高い実用的価値をもつ。特に、ピ
ンホール、アイホール等の断線の原因となるホールをも
たないレジストパターンを形成し得るので、信頼性の高
い印刷回路板の製造が可能となる。
以下に例をもって本発甲な具体的圧説明するが、例中の
「部」及び「チ」はそれぞれ「M缶部」及び「重量つ」
を表わす。
実施例と比較例 表1の仕込み組成の油成分及びアルコ−J〆酸成分温度
計、攪拌装置、窒素ガス導入管及びデカンタ−/コンデ
ンサーを付した4つ目フラスコに仕込み、窒素ガス気流
下に240Cで攪拌した。該温度で約2時間に亘すアル
コール成分に対して0,1チ量の水酸化リチウムを触媒
としてアルコリシス反応を行わしめた後、系を150C
に冷却して、酸成分を仕込み、再び240Cに加熱して
攪拌を続けた。該温度で酸価(A、N、)を追跡しなが
ら縮合反応を行わしめ、理論値のA、 N、にほば達し
た時点で、系を120C迄冷却し、表1に記載の希釈剤
−反応性モツプ−の場合は02秀簿の重合禁止剤←ハイ
ドロキノンモノメチルエーテ/l/ )を、予め均一に
浴解したものの80%槍を加え均一にRWIさせた。
その後、系を90Cに保ち、希釈剤の残り20%量にア
ルミニュウム化合物を饅解又は分散させたものを系に添
加し、105C迄昇已して、約゛1時間攪拌を続行して
ビヒクルA〜Iを得た。
前記のビヒクルを用いノこ表2の配合物を3ネロールで
十分に練肉して、レジストインキを製造した。又、比較
例の為に表3に記載の配合物を3本ロールで十分に練肉
してレジストインキ(@公開57−60393号公報記
載の公知技術に該当するインキ)を製造した。
表1中*1〜*6は下記の化合−及び製造者を示・3−
0*1)ベンゾフェノンテトラカルボン市無水物」、2
)1コ本石油洗剤(■ *3)大人化学←゛す *4)東亜合成a :¥5)、*7)ホープ製薬■ *6)川研ファインケミカル■ (3) レジストパターンの形成 前記レジストインキを用いて硬質プリント基板の上にレ
ジストパターンを形成した。パターン形成の方法として
、下記工程を組合せた種々の方法を採用した。これらを
まとめて表4に示した。
A1工程;プリント配線用テストパターン(最小線幅5
0μm)の画線部をもつ湿式平版の刷版(アルミニウム
版)を取付けた平台オフセット印刷機による印刷工程。
A2工程;上記と同様のパターンの画線部をもつ乾式平
版の刷版(シリコーン製インキ反撥層をもつ)を取付け
た平台オフセット印刷機忙よる印刷工程。
B工程;A1又はA2工程の後に同一方式で同一パター
ンを重ね刷りする工程。
C工程:赤外線加熱装置による印刷パターンの予備加熱
の工程。この装置はフィラメント長75cm、出力3.
75KWの赤外線2714本を有し、これらのランプは
互いに15Gの間隔をあけて平行に列設され、この下1
0Gのところで印刷物を加熱できるようになっている。
加熱時間は5.5秒とした。
D工程;熱風加熱乾燥装置による印刷パターンの熱硬化
工程。
(4)評 価 前記レジストパターンにつき下記の評価をした。
ピンホール、アイホール等のホールの有無をルーペで確
認。
◎−全くなし ○=−僅かにあり Δ−−−多数あり ×−−一著しく多数あり塩化第2鉄
エツチング液でエツチング処理した後に上記と同様に確
認、評価。
パターン再現性 エツチング後に最小線幅(50μm)のパターンが画素
通りにシャープにC]現されているかどうかを、ピーク
・ショップ−マイクロスコープ(倍率100倍)で確認
a−一一一画素通り b 、−一一線細りはないが、サイドエツチングによる
ギサギサ模様がある。
C−一一一線細りあり d−パターン破壊 前記各側の15I′価結呆を表5に示した。
/ / 表 5

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 t +PM由変性アルキッド樹脂と、アルミニウムアル
    コラード及び/またはアルミニウムキレート化合物との
    反応生成物を含有する熱により硬化可能なレジストイン
    キf+11#:物を用い、平版印刷方式で基材上に所定
    パターンを印刷し、これを加熱して硬化せしめることを
    特徴としたレジストパターンの形成方法。 2、(支)反応生成物が、酸価5〜600の油変性アル
    キッド樹脂100重量部にアルミニウムアルコラード及
    び/またはアルミニウムキレート化合物0.1〜10重
    量部を反応させて得られる生成物である特許請求の範囲
    第1項記載の形成方法。 6、 レジストインキ組成物が必要に応じて、徊反応生
    成物100重量部に対して促1分子中に2個以上のエチ
    レン性不飽オ11二重結自を有する重合性化合物3〜6
    00重量部を含有するものである特許請求の範囲第1項
    または第2項記載の形成方法。 4、 レジストインキ組成物がアミノ樹脂を含有するも
    のである罫許請求の範囲第1項乃至第6項記載の形成方
    法。 5、所定パターンの印刷を同一パターンの重ね刷りによ
    り行う特許請求の範囲第1項乃至第4項記載の形成方法
JP58147405A 1983-08-12 1983-08-12 レジストパタ−ンの形成方法 Granted JPS6039890A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58147405A JPS6039890A (ja) 1983-08-12 1983-08-12 レジストパタ−ンの形成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58147405A JPS6039890A (ja) 1983-08-12 1983-08-12 レジストパタ−ンの形成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6039890A true JPS6039890A (ja) 1985-03-01
JPH0263319B2 JPH0263319B2 (ja) 1990-12-27

Family

ID=15429547

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58147405A Granted JPS6039890A (ja) 1983-08-12 1983-08-12 レジストパタ−ンの形成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6039890A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03281790A (ja) * 1990-03-29 1991-12-12 G T C:Kk エッチングレジストパターンの形成方法
JPH0417683A (ja) * 1990-05-12 1992-01-22 Aruton:Kk ステンレス材の目盛付加方法
JPH0488121A (ja) * 1990-08-01 1992-03-23 Kawasaki Steel Corp 特性値のばらつきが小さい低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法
JP2010217910A (ja) * 2002-11-06 2010-09-30 Asahi Glass Co Ltd 隔壁形成用ネガ型感光性樹脂組成物
JP2019163504A (ja) * 2018-03-20 2019-09-26 Jfeスチール株式会社 方向性電磁鋼板の溝形成用設備列、方向性電磁鋼板の溝形成方法、及び方向性電磁鋼板の製造方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03281790A (ja) * 1990-03-29 1991-12-12 G T C:Kk エッチングレジストパターンの形成方法
JPH0565592B2 (ja) * 1990-03-29 1993-09-20 Gtc Kk
JPH0417683A (ja) * 1990-05-12 1992-01-22 Aruton:Kk ステンレス材の目盛付加方法
JPH0488121A (ja) * 1990-08-01 1992-03-23 Kawasaki Steel Corp 特性値のばらつきが小さい低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法
JP2010217910A (ja) * 2002-11-06 2010-09-30 Asahi Glass Co Ltd 隔壁形成用ネガ型感光性樹脂組成物
JP2019163504A (ja) * 2018-03-20 2019-09-26 Jfeスチール株式会社 方向性電磁鋼板の溝形成用設備列、方向性電磁鋼板の溝形成方法、及び方向性電磁鋼板の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0263319B2 (ja) 1990-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS59204036A (ja) レジストパタ−ンの形成法
CN103616798B (zh) 一种具有阻燃性能的感光树脂及其在生产感光油墨的应用
CN100482752C (zh) 一种感光防焊油墨组合物、其应用及含有其的线路板
CN102944977B (zh) 一种感光阻焊组合物、其用途及含有其的印刷电路板
EP0731150B1 (en) Vegetable oil based thermosetting lithographic ink system
JPS6039890A (ja) レジストパタ−ンの形成方法
TW201510055A (zh) 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、帶硬化膜基板及電子零件
EP1685178A1 (en) Curable polyester having an oxetanyl group at end and process for preparing the same, resist composition, jet printing ink composition, curing methods and uses thereof
JP2002038065A (ja) 凹版インキ用樹脂組成物、それを用いたインキ組成物及びその印刷物
JPH0336211B2 (ja)
JP2015172137A (ja) 平版印刷インキおよび印刷物
JP6256212B2 (ja) 平版印刷インキおよび印刷物
JPH01168767A (ja) 活性エネルギー線硬化性被覆組成物
JPH0348276B2 (ja)
CN101344724A (zh) 一种感光成像组合物、其制备方法及其用途
JPH11228899A (ja) 平版および活版用印刷インキ
JPH0252634B2 (ja)
JP3337085B2 (ja) 印刷用インキ組成物
JPS60225150A (ja) 紫外線硬化樹脂組成物
CN106556969A (zh) 感光性树脂组合物
JPS61223073A (ja) 活性エネルギ−線硬化性被覆組成物
JP3292268B2 (ja) 活性エネルギー線硬化型インキ用組成物
TW200305566A (en) Novel acidic-and unsaturated-group-containing polyether compound, method for preparing the same and resin composition
JPH0564669B2 (ja)
TW474964B (en) Water-soluble photosensitive composition