JPS6039517A - 赤外線透過窓 - Google Patents
赤外線透過窓Info
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- JPS6039517A JPS6039517A JP58148337A JP14833783A JPS6039517A JP S6039517 A JPS6039517 A JP S6039517A JP 58148337 A JP58148337 A JP 58148337A JP 14833783 A JP14833783 A JP 14833783A JP S6039517 A JPS6039517 A JP S6039517A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は調理庫内など汚れ易い雰囲気内で使用される赤
外線センサの赤外線透過窓に関するものである。
外線センサの赤外線透過窓に関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来の赤外線センサは第１図に示すように検出素子１を
支持台２に接続したのち、内部リード線３で検出素子１
と外部リード線４とを電気的に接続し、さらに赤外線透
過性基板５を設けた保護容器６を支持台２に接続して構
成される。赤外線透過性基板５には、シリコンなどが用
いられる。
支持台２に接続したのち、内部リード線３で検出素子１
と外部リード線４とを電気的に接続し、さらに赤外線透
過性基板５を設けた保護容器６を支持台２に接続して構
成される。赤外線透過性基板５には、シリコンなどが用
いられる。
このような赤外線センタ゛を調理庫内などの汚れ易い雰
囲気内で使用する場合、赤外線透過性基板５の外表面５
ａが調理物などで７ｑれるという欠点があった。調理物
などの汚れは赤外線を透過しないので、外部空間から入
射する赤外線が検出素子１に到達しない。このため赤外
線を検出できなくなる。
囲気内で使用する場合、赤外線透過性基板５の外表面５
ａが調理物などで７ｑれるという欠点があった。調理物
などの汚れは赤外線を透過しないので、外部空間から入
射する赤外線が検出素子１に到達しない。このため赤外
線を検出できなくなる。
この欠点を解消するために、従来、赤外透過性基板５の
外表面５ａの前面に、シャッタなどを設けて汚れを防止
する手段がなされていた。しかし、この方法は、構成が
複雑で、価格が高くなるのみならず、赤外線を検出する
。場合にはシャ・ツタを開くので、このときに汚れが付
着可能となる。このためシャッタを設けない場合に比べ
、汚れがｆ；１着するまでの時間が長くなる効果は得ら
れるが、本質的にｌｑれを防止できない。
外表面５ａの前面に、シャッタなどを設けて汚れを防止
する手段がなされていた。しかし、この方法は、構成が
複雑で、価格が高くなるのみならず、赤外線を検出する
。場合にはシャ・ツタを開くので、このときに汚れが付
着可能となる。このためシャッタを設けない場合に比べ
、汚れがｆ；１着するまでの時間が長くなる効果は得ら
れるが、本質的にｌｑれを防止できない。
発明の目的
本発明は赤外線透過窓に付着した汚れを熱的に除去する
ことによシ、木質的に汚れを防止できる赤外線透過窓を
提供することを目的とする。
ことによシ、木質的に汚れを防止できる赤外線透過窓を
提供することを目的とする。
発明の構成
本発明の赤外線透過窓は、酸化シリコン膜が表面に形成
されたシリコン基板とこのシリコン基板の一方の表面に
形成された赤外線透過性発熱体とから成る。
されたシリコン基板とこのシリコン基板の一方の表面に
形成された赤外線透過性発熱体とから成る。
赤外線透過窓の外表面が調理物で汚れた場合、本発明の
赤外線透過窓は酸化シリコン膜の上に形成された赤外線
透過性発熱体を有しているので、赤外線透過性発熱体に
電力を印加しシリコン基板を加熱して、シリコン基板を
高温に保持できる。
赤外線透過窓は酸化シリコン膜の上に形成された赤外線
透過性発熱体を有しているので、赤外線透過性発熱体に
電力を印加しシリコン基板を加熱して、シリコン基板を
高温に保持できる。
シリコン基板は半導体であるのでシリコン基板が高温に
保持されたとき、その抵抗は急激に低下する。このため
シリコン基板と赤外線透過性発熱体とが電気的に絶縁さ
れていない場合、高温状態ではシリコン基板の抵抗によ
って赤外線透過性発熱体の抵抗が見用は上変化する。し
かし本発明の赤外透過窓は、シリコン基板と赤外線透過
性発熱体とが酸化シリコン膜で電気的に絶縁されている
ので、前述のごとき抵抗変化は生じない。
保持されたとき、その抵抗は急激に低下する。このため
シリコン基板と赤外線透過性発熱体とが電気的に絶縁さ
れていない場合、高温状態ではシリコン基板の抵抗によ
って赤外線透過性発熱体の抵抗が見用は上変化する。し
かし本発明の赤外透過窓は、シリコン基板と赤外線透過
性発熱体とが酸化シリコン膜で電気的に絶縁されている
ので、前述のごとき抵抗変化は生じない。
このようにしてシリコン基板を高温に保持することによ
って、調理物などの汚れは高温下で酸化、燃焼して赤外
透過窓から除去される。
って、調理物などの汚れは高温下で酸化、燃焼して赤外
透過窓から除去される。
実施例の説明
本発明の赤外線透過窓の一構成例を第２図に示す。
シリコン基板５の表面に酸化シリコン膜５ｂを形成し、
さらにその一方の表面にＳｉＣ膜で構成された赤外線透
過性発熱体７を形成した、ＳｉＣ発熱体膜７はスパッタ
リング法で膜厚約２μｍ形成した。このＳｉＣ発熱体膜
７の室温での分光赤外線透過率を第３図に示す。同図に
示すように、波長１０／１ｍ以下の赤外線領域では８０
％以上の透過率を示した。他方、調理器などの使用温度
範囲は、０℃から３００℃であり、この範囲で調理物か
ら放射される赤外線は波長１０μｍ以下の赤外線が大部
分であるので、この波長領域での透過率が重要である。
さらにその一方の表面にＳｉＣ膜で構成された赤外線透
過性発熱体７を形成した、ＳｉＣ発熱体膜７はスパッタ
リング法で膜厚約２μｍ形成した。このＳｉＣ発熱体膜
７の室温での分光赤外線透過率を第３図に示す。同図に
示すように、波長１０／１ｍ以下の赤外線領域では８０
％以上の透過率を示した。他方、調理器などの使用温度
範囲は、０℃から３００℃であり、この範囲で調理物か
ら放射される赤外線は波長１０μｍ以下の赤外線が大部
分であるので、この波長領域での透過率が重要である。
従って、Ｓ；Ｃ発熱体膜７が１１〜１７μｍの波長領域
の赤外線に対して不透明であることは、実用上問題にな
らない。
の赤外線に対して不透明であることは、実用上問題にな
らない。
なお、発熱体用電極膜８は、ＳｉＣ発熱体膜７に電力を
印加するだめの電極である。
印加するだめの電極である。
また酸化シリコン膜５ｂは、熱酸化法あるいはスパッタ
リング法などにより、０．１〜１．０μｍの厚さで形成
した。酸化シリコン膜５ｂの膜厚は、赤外線透過性およ
び電気的絶縁耐力の点から決められる。赤外線透過性は
、膜厚が薄いほど大きく、他方電気的絶縁耐力は、膜厚
が薄いほど小さい。
リング法などにより、０．１〜１．０μｍの厚さで形成
した。酸化シリコン膜５ｂの膜厚は、赤外線透過性およ
び電気的絶縁耐力の点から決められる。赤外線透過性は
、膜厚が薄いほど大きく、他方電気的絶縁耐力は、膜厚
が薄いほど小さい。
実用的観点から、酸化シリコン膜５ｂを含めシリコン基
板５の赤外線透過率は５０％以上であることが望ましく
、また酸化シリコン膜５ｂの電気的絶縁面（ツＪは１０
〜ｉ ｏｏｖであることが望ましい。
板５の赤外線透過率は５０％以上であることが望ましく
、また酸化シリコン膜５ｂの電気的絶縁面（ツＪは１０
〜ｉ ｏｏｖであることが望ましい。
これらの点を考慮すると酸化シリコン膜５ｂの膜厚は、
０．１〜１．０μｍが望ましい。
０．１〜１．０μｍが望ましい。
このようにして形成した本発明の赤外線透過窓を調理物
で汚した。こののちＳｉＣ膜赤外線透過性発熱体７に電
力を印加して、シリコン基板５を約４００℃に保持した
。このとき、定常状態での印加電力は約３Ｗ／ａｄであ
った。このようにして、シリコン基板５を約４００℃に
数分間保持したところ、１回の調理で付着する汚れは除
去されることを確認するとともにＳ；Ｃ発熱体膜７の抵
抗がシリコン基板５の抵抗によって影響されないことも
確認した。なお、赤外線透過性発熱体７としてＧｅ膜を
用いてもよいが、耐熱性、抵抗値制御の容易性などを考
慮するとＳｉＣ膜が優れている。
で汚した。こののちＳｉＣ膜赤外線透過性発熱体７に電
力を印加して、シリコン基板５を約４００℃に保持した
。このとき、定常状態での印加電力は約３Ｗ／ａｄであ
った。このようにして、シリコン基板５を約４００℃に
数分間保持したところ、１回の調理で付着する汚れは除
去されることを確認するとともにＳ；Ｃ発熱体膜７の抵
抗がシリコン基板５の抵抗によって影響されないことも
確認した。なお、赤外線透過性発熱体７としてＧｅ膜を
用いてもよいが、耐熱性、抵抗値制御の容易性などを考
慮するとＳｉＣ膜が優れている。
すなわち、ＳｉＣ膜は空気中４００℃の高温下にｉ、ｏ
ｏｏ時間放置しても抵抗値変化率は±（３〜５）％以下
である。
ｏｏ時間放置しても抵抗値変化率は±（３〜５）％以下
である。
また、酸化シリコン膜５ｂがシリコン基板５の全表面に
わたり形成されてもよいことは明らかである。
わたり形成されてもよいことは明らかである。
発明の効果
本発明の赤外線透過窓によれば次のような効果が得られ
る。
る。
（１）本発明の赤外線透過窓は赤外線透過性発熱体を備
えているので、赤外線透過性発熱体に電力を印加して、
シリコン基板を加熱し、高温に保持できる。これによっ
て、調理物などの汚れを熱的に酸化、燃焼して、汚れを
除去できる。
えているので、赤外線透過性発熱体に電力を印加して、
シリコン基板を加熱し、高温に保持できる。これによっ
て、調理物などの汚れを熱的に酸化、燃焼して、汚れを
除去できる。
（２） シリコン基板を高温に保持したとき、シリコン
基板と赤外線透過性発熱体とは酸化シリコン膜によって
電気的に絶縁されているので、シリコン基板の抵抗によ
って、赤外線透過性発熱体の抵抗は何等の影響も受けな
い。
基板と赤外線透過性発熱体とは酸化シリコン膜によって
電気的に絶縁されているので、シリコン基板の抵抗によ
って、赤外線透過性発熱体の抵抗は何等の影響も受けな
い。
第１図は従来の赤外線センサの構成を示す断面図、第２
図は本発明の一実施例の赤外線透過窓の構成を示す断面
図、第３図はＳｉＣ発熱体膜の赤外線領域における分光
透過率特性図である。 ５・・・・・・シリコン基板、５ｂ・・・・・・酸化シ
リコン膜、７・・・・・・赤外線透過性発熱体、８・・
・・・・発熱体用電極。
図は本発明の一実施例の赤外線透過窓の構成を示す断面
図、第３図はＳｉＣ発熱体膜の赤外線領域における分光
透過率特性図である。 ５・・・・・・シリコン基板、５ｂ・・・・・・酸化シ
リコン膜、７・・・・・・赤外線透過性発熱体、８・・
・・・・発熱体用電極。
Claims (3)
- （１）酸化シリコン膜が表面に形成されたシリコン基板
とこのシリコン基板の一方の表面に形成された赤外線透
過性発熱体とからなる赤外線透過窓。 - （２）酸化シリコン膜の膜厚が０．１〜１．０μｍであ
る特許請求の範囲第１項記載の赤外線透過窓。 - （３）赤外線透過性発熱体にＳｉＣ膜を用いた特許請求
の範囲第１項記載の赤外線透過窓。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58148337A JPS6039517A (ja) | 1983-08-12 | 1983-08-12 | 赤外線透過窓 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58148337A JPS6039517A (ja) | 1983-08-12 | 1983-08-12 | 赤外線透過窓 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6039517A true JPS6039517A (ja) | 1985-03-01 |
Family
ID=15450508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58148337A Pending JPS6039517A (ja) | 1983-08-12 | 1983-08-12 | 赤外線透過窓 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6039517A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5213490A (en) * | 1989-11-02 | 1993-05-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Scroll-type compressor with discharge opening above the lubricant reservoir |
| KR100370001B1 (ko) * | 1998-10-31 | 2003-01-29 | 엘지전자 주식회사 | 온도감지장치 |
| CN109182969A (zh) * | 2018-08-30 | 2019-01-11 | 湖北久之洋红外系统股份有限公司 | 中波红外光学硬质保护膜的制备方法 |
-
1983
- 1983-08-12 JP JP58148337A patent/JPS6039517A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5213490A (en) * | 1989-11-02 | 1993-05-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Scroll-type compressor with discharge opening above the lubricant reservoir |
| KR100370001B1 (ko) * | 1998-10-31 | 2003-01-29 | 엘지전자 주식회사 | 온도감지장치 |
| CN109182969A (zh) * | 2018-08-30 | 2019-01-11 | 湖北久之洋红外系统股份有限公司 | 中波红外光学硬质保护膜的制备方法 |
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