JPS6038982B2 - 円柱形基体外周面への塗材塗布装置 - Google Patents

円柱形基体外周面への塗材塗布装置

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JPS6038982B2
JPS6038982B2 JP9057579A JP9057579A JPS6038982B2 JP S6038982 B2 JPS6038982 B2 JP S6038982B2 JP 9057579 A JP9057579 A JP 9057579A JP 9057579 A JP9057579 A JP 9057579A JP S6038982 B2 JPS6038982 B2 JP S6038982B2
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drum
cylindrical
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は円柱形基体外周面に、ペースト状の塗材を膜厚
均一に塗布する装置に関するもので、例えば電子写真装
置に内蔵されている感光ドラムの光電材料等の塗布を均
一に行う有効な手段を提供するものである。
上記感光ドラムは、例えば、第1図に示すように、直径
60個、長さ30仇駁、肉厚5側のAIのドラムーの外
周面に0.5仏程度の薄いセレン層2を蒸着により形成
し、更に有機半導体でありるポリビニルカルバゾール層
(以下PVK層とする)3を約1.5〆の膜厚に均一に
塗布した構造となっている。
次にカールソン式電子写真機構造を第2図に、また感光
ドラムの光電特性を第3図に示す。
感光ドラム4は矢印Aの方向に回転し、この回転角の変
化にともない感光ドラム4の表面電位Vは第3図に示す
ように変化する。ここで角度0は第2図の位置Bとした
。すなわち、除電器5により0ボルトに除電され、次に
コロナ放電器6により約一1000ボルトに帯電される
。また、原稿面に光を当てレンズミラー7を介して角度
打/2の位置8で結像された写真像は、光半導体PVK
層3の効果により光を受けた部分は導電層となり第3図
実線C部のごとく除電される。また、暗部は、そのまま
の電位を保ち点線Dのごとくなる。次に(十)に帯電し
たトナーを現像器9により感光ドラム4に接触させる。
そして光の当らなかった点線D部は(一)に強く帯電し
ているので(十)に帯電したトナ−と吸引して、吸着す
るが光の当った実線C部は除電されているので吸引効果
はなく吸着しない。以上示したプロセスにより感光ドラ
ム4上に顕像化されたトナー像を矢印E方向より供給さ
れたペーパーに位置10で転写し電子写真を完了させる
。転写後の感光ドラム4は除電器11,5により除電し
、またブラシ12により表面に残留したトナ−を除去し
、元の状態にもどす構造となっている。
以上示したプロセスにおいて、コロナ放電器6により感
光ドラム4が一様均一に帯電されることが極めて重要で
ある。
なぜなら、強く帯電された部分はマイナストナーと強く
吸引し多量のトナーを吸着し、過剰に黒化し、弱く帯電
された部分はプラストナーを弱く吸引するので少量のト
ナーを吸着し、過少に黒化し、画像のむらを生ずるから
である。第4図は、PVK層3の膜厚と帯電電位の関係
を示したもので、膜厚の変化により極めて徴感に帯電電
位が変化する。電子写真機の特性上、PVK層3の膜厚
は約15〜20山程度が好ましく、その膜厚の許容値は
約±10%すなわち膜厚をら=20ムとした場合膜厚変
化△ら=±2仏と極めて厳しいものであった。次に従来
のPVK塗布装置の概要を第5図に示す。
セレン層を蒸着したAIのドラム1はベース13に取り
付けられた円柱状の固定治具14の上端部15に舷合す
ることにより、固定沿具14と同じかつ垂直に取り付け
る。一方、塗布治具16は固定治具14と同心にスライ
ドポスト18に固定されており、スライドポスト18上
を移動することによりドラム1の軸方向(矢印F)に移
動可能となっている。液状PVKは、有機溶剤に固体P
VKを体積化で約5:1に溶解せしめた粘性を有する液
体状塗材であり、ボート19により塗布治具16内に設
けられたU溝20に供給されたドラムーの外表面21に
塗布される。
そして過剰に塗布された液状PVKは、塗布拾具16が
スライドポスト18上を矢印F方向に移動することによ
り、ドラム1と一定隙間を有するリング状のかき取り刃
22により、スクィーズされ一定膜厚を有する液状PV
K層23を形成する。液状PVK層23は、約100仏
程度の薄い膜であるから自然乾燥状態においても数分で
有機溶剤が発散し固化する。
しかしながらこのような装置では、前述の固体PVK層
3の膜厚変化を許容値内に納めるためドラム1と塗布治
具16の特にかき取り刃22との間に極めて高い同D性
が要求されるという難点を有していた。
第6図は、塗材のかき取り刃22と、塗布後のPVK層
23の膜厚の関係を示すものである。過剰に付着した塗
材24をテーパ部25を通てクリアランスt,=(例え
ば240r)の平行部26によってスクイーズされた塗
材はクリアランスの約1′2である液体膜t2±t/2
=(120仏)として塗布される。
更に乾燥により希釈度Qとすると(例えば、Q=6)、
固体膜厚t3=t2/Q=20仏の固体膜となる。前述
した同心度とこの固体膜の関係を第7図に示す。
かき取り刃22の内半径をr,、ドラムーの外半径をr
2=r,十t,とし、その各々の中心位置0,0′が6
ずれたとする。この時かき取り刃22とドラム1の最大
,最小隙間tYaX,trinは各々、tr秘=t,十
6,t少in=t,一6となる。第6図にて説明したよ
うに、このような隙間によりドラムーの軸万向に塗布治
具16を移動し形成された固体塗膜は、軸方向に均一で
周方向の膜厚は不均一となり、その最大,最小膜厚は各
々t聖aX=ち十6/2Q,t聖inコt.一6/2Q
,△ら=t聖aX−t聖in=6/Qとなる。仮に平均
膜厚20仏の土10%である4仏を△t3とおくとQ=
6として6=Q△ら=6×4=24仏となり、24仏以
下という極めて厳しい同心度に設定することが要求され
る。
ドラムーとかき取り刃22の同心度を悪化させる原因と
して次のことがあげられる。
‘1} 固定治具14の上端部16と塗布治具16の同
心度。
(2} スライドポスト18の平行度。
{31 ドラムの真直度。
■ ドラム1の内,外径の同心度。
■ ドラム1の内径精度と固定治具上端部15との鉄合
に必要なクリアランスによる同心ずれ。
{6l ドラム1のセッテング誤差による傾斜。これら
の累積誤差を考えると、塗布装置,ドラムの加工精度,
セッティング精度のいずれも高い精度が要求され、これ
らの状態を満足して感光ドラムを製造することは極めて
難かしく製造上の隆略となっていた。本発明はかかる欠
点を除去するためになされたもので、外周面の一部また
は全面に塗材を塗布する円柱形基体に対し、半径方向に
自由にして前記円柱形基体と略同じに、リング状の塗材
かき取り刃を設置し、前記円柱形基体を周方向に回転さ
せた状態下において、前記リング状の塗布かき取り刃ま
たは前記円柱形基体を鯛方向に移動させ、リング状の塗
材かき取り刃で塗材をスクィーズすることにより、塗膜
を均一にする塗材塗布装置を得たものである。
以下、本発明をその実施例を含む第8図ないし第15図
を参考に説明する。
ベース13にベアリング27を介して支持治具14′を
回転自在にとりつけ、モーター28によりベルト29を
介して支持治具14′を回転させ支持治具14′の上端
部15に支持したドラムーを回転させる。
一方塗村かき取り刃3川ま回転するドラム1の外周面に
設けた液体状PVK31を介してドラムー上を軸受効果
により浮上して非接触となり、かつドラム1と同軸に保
たれており更に、エアー源よりボート32を介して圧送
された圧縮空気が保持板33と塗材かき取り刃30との
間に供給され、この圧縮空気の空気軸受効果により保持
板33上に非接触状態で塗材かき取り刃3川ま浮上して
いる。塗村かき取り刃30の回転を防ぐため、塗材かき
取り刃3川こはストッパ34が付けられており、これに
対向して保持板33にもストッパ35が固定されている
。ストッパ34と35の間の摩擦を防ぐため、ボート3
6より同様に圧縮空気が供給されていて、ェアー享園滑
している。液状PVKはコニカル溝37に蓄積されてお
り、スライドポスト18上を相対移動手段(ねじ)33
aによって矢印G方向に保持板33を移動することによ
り、塗材かき取り刃30を軸万向に移動させ塗材かき取
り刃30のスクィーズ効果により均一な膜厚の塗膜38
を得る構造となっている。第7図に示す従来のものでは
塗膜の不均一はドラム1とかき取り刃22の同心度によ
って一義的に決定されたが「本発明の場合これとまった
く異なる原理により塗膜の不均一は決定される。
第8図において回転するドラムーの振れを26とした場
合、ドラム1と塗材かき取り刃30の間に介在する液体
PVK31の潤滑効果により内圧を発生し、この内圧に
より、塗材かき取り刃30はドラム1に追従同○を保つ
効果が発生する。しかして表1に示す諸条件を与えその
効果を説明する。
表イドラム1の中心位置は振れまわりにより、x=6S
inのt,y=6COSのtの位置ずれを生じたとする
潤滑効果による潤滑膜の直角座標のx方向,y方向のば
ねの定数をkx=ky=k、粘性による減衰を0とする
と、このドラム1‘こ対する塗材かき取り刃30の動的
応答のモデルは第9図に示すようになる。×,Yは、振
動系の座標,mは塗材かき取り刃30の質量である。と
なる。
またすきま変動率8を8=ノ6x2 十6Y2/6と定
義すると、6ニ2hの2 /(k−m■2 ) ……
〔口〕ここで×,Yは振動系の座標を取っているので6
x=6Y=0が完全追従、すなわち隙間変動0を意味し
、従ってすきま変動率8は小さい方が良い。
ここで現実的に問題となるのは表1に示した条件下にお
いて例えば、ドラム1の振れ6に対し十分小さなすきま
変動に押えることができうる潤滑油膜のばね定数を得る
ことの可否である。
すきま変動をドラム1の振れに対し十分小さな値約10
%としてB:0.1表1の諸定数を用いて、式(0)よ
りさまね定数kを求める。
一方潤滑効果による潤滑膜のばね定数は第10図に示す
Raimondi−Boydの偏心率ごとゾンマーフェ
ルト係数Sの相関表によって求めうる。
これを用い軸受幅1,/公2=1/2偏心率0.1〜0
.05の間の平均のばね定数Kmeanを求めるとK肌
n=S;t;;貴;)((害)2・ 公21,りN)/0.05×t, =(さき){(虎露)2・2×3×3・ lo‐5.1}/0.05×0.024 =0.225×1ぴkg/cの=2.25×1び夕/肌
.・・.・・〔W〕となり、式〔m〕〔N〕より、 Kme肌=2.25×1ぴ夕/側》k=61.5夕/徹
.・…・〔V〕式〔V〕に示すように、液体PVK31
は十分強い潤滑膜を形成する。
すなわち、塗材かき取り刃3川まドラムーに追従し、極
めて微小な隙間変動しか発生せず均一な塗材の塗布が可
能となる。次に本発明の第二の実施例について第11図
〜15図により説明する。第一の実施例においてはドラ
ムーの長さは300側程度であり、更に塗材かき取り刃
30の軸方向移動速度は100仇肋/分程度であるので
、ドラムーの全面に塗料を塗布するために約0.3分を
要する。また、塗布された液体PVK31が乾燥し流動
性を失うまでに要する時間は約4〜5分である。以上の
ことから少なくとも液体PVK31の流動性を有する状
態において、第8図の状態において、すなわち、ドラム
1が垂直に立てられた状態で0.3分以上保持される。
この間均一に塗布された液体PVK31はその種類によ
っては重力作用により、下方に流動し、たれが発生する
場合がある。このたれは、第11図イに示す、均一な膜
厚状態38より、第11図口に示すように下方に向って
膜厚が増大する*状態38′、あるいは、第11図二に
示すように、さざ波状に膜厚が変動する状態38″とな
る。このような欠点を除去するために、第8図に示す装
置を横にして水平設置すればこの欠点を除去しうる。
すなわち、第8図に示す装置を水平設置した場合、第1
2図に示すように、ドラムーの上半面Q領域では、重力
作用により下方に流動して膜厚は減少し、下半面P領域
では膜厚は増大する。
しかしながら、ドラムーは、P領域とQ領域を交互に通
過するので6仇.p.m程度の回転数では、平均化され
重力による膜厚の不均一は発生しない。この限りにおい
ては水平設置は従来の欠点を除去しているのであるが、
新たに第13図に示すような深さ7仏程度のスパイラル
状の深溝が発生した。このスパイラル状の溝のピッチは
、回転数Nと送り速度vの比v/Nに対応しており、こ
のことから塗材かき取り刃30の偏心が新たに発生した
ことによると推定される。本実施例はこのような問題点
を除去するためになされたものであり、第14図の実施
例を基にして構造を説明する。
第14図は第8図の装置を水平設置したものとほぼ同じ
であり、ベース39を取り付け水平設置した。さらにア
ーム40を保持板33の上方に付けコイルばね41によ
り塗村かき取り刃30を備えた塗布治具16をアーム4
0につり下げる。すなわち、コイルばね41が塗材かき
取り刃30を弾性支持している。42はコイルばねテン
ション調整用の調節ねじで、調節ねじ42によりコイル
ばね長を変化させ、塗布治具16の吊下げ力をコントロ
ールする構造となっている。
次に効果を説明する。塗材かき取り刃30の自重による
ドラムーと、塗材かき取り刃30の偏心量8wを求める
。表1の諸定数よりゾンマーフェルト係数Sはs=も2
等州=(虎縁)2冬拳XI。
‐5×・=2.82第10図をもとに1/公2=0.5
S=2.82より偏心率ご=0.24 ど=8w/t
,より8w=らご=0.0057伽:57仏 すなわち自重lk9により57仏の偏心を発生させる。
しかるに第14図コイルばね41により塗村かき取り刃
30の重量を95%負担し、5%は調節誤差により残っ
たとすると、ゾンマーフェルト係数Sは同様に、S=5
6.4となり、第10図より、ご《0.01となる。し
たがって、6w《2.4仏と極めて良好な同じ性が得ら
れ前述したスパイラル溝は消失し極めて高精度な均一の
塗膜が得られた。
なおコイルばね41の長さは15仇肋,lk9の負荷に
対し変形量を50伽としたのでこのばね定数k′=1ぴ
夕/5仇奴=20夕/側であり、潤滑膜により発生する
ばね定数とKmcan=2.25×1ぴ夕/肌と比較し
十分小さいので塗材かき取り刃30のドラムーに対する
追従性を悪化させない。また、コイルばね41と塗材か
き取り刃30の接合点43は、塗材かき取り刃30の重
心点と一致させるのが良く、一致させないと、不一致に
よるモーメントが発生しこれによる膜厚不均一を生ずる
こととなる。また、塗材かき取り刃30の支持ばねとし
ての必要条件は、Kme肌に比較し十分小さく,柔らか
し、ばねであればよく、第15図に示すような空気ばね
であっても良い。なお第15図において44はフック、
45はべロー、46は密閉用の蓋である。上記実施例か
ら明らかなように、本発明の円柱形基体外周面への塗材
塗布装置は、外周面に塗材塗布される円柱形基体に対し
略同0的にリング状の塗材かき取り刃を配設し、この塗
材かき取り刃を前記円柱形基体に対し半径方向に移動自
在でかつ回転しないように支持し、円柱形基体を周方向
に回転駆動する装置を備えた円柱形基体の支持装置と、
塗材かき取り刃、円柱形基体を鰍方向に相対的に移動さ
せる相対移動手段を設けたもので、円柱形基体を回転さ
せ、回転によって生ずる塗材かき取り刃と円柱形基体間
に存在する液体塗材に軸受効果を発生させ、この軸受効
果により、円柱形基体の回転による振れ回りに対し、塗
材かき取り刃を追従させ、円柱形基体と塗村かき取り刃
の同心配置を向上させ、円柱形基体外周面に均一な塗膜
を形成することができる。
また相対移動手段にスラスト軸受を設け空気軸受とする
ことにより、摩擦が低減し円柱形基体に対し塗膜かき取
り刃が良好に追従するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は感光ドラムの断面図、第2図は電子写真機の概
略構造図、第3図は感光ドラムの光電特性図、第4図は
PVK膜厚と帯電電位の相関図、第5図は従来の塗材塗
布装置の概略側断面図、第6図は同装置により形成した
塗膜厚みの変化を示す図、第7図イ,口は同装置の同D
度と、膜厚の不均一を示す図、第8図は本発明の一実施
例を示す円柱形基体外周面への塗材塗布装置の側断面図
、第9図は同装置の潤滑効果モデル図、第10図はRa
imondj−恥ydの軸受特性図、第1 1図イ,口
,ハは円柱形基体への塗材の塗布状態を示す断面図、第
12図は円柱形基体の横断面図、第13図は円柱形基体
の縦断面図、第14図は本発明の他の実施例を示す塗材
塗布装置の側断面図、第15図は同装置に用いる空気ば
ねの斜視図である。 1・・・・・・ドラム(円柱形基体)、14′・・…・
支持具(支持装置)、28・・・…モ−夕(回転駆動す
る装置)、30・・・・・・塗材かき取り刃、31・・
・・・・液体状PVK(塗材)、33・・・・・・保持
板(スラスト軸受)、33a・・・・・・相対移動手段
、34,35・・・・.・ストツパ、37……コニカル
溝(溝)、38……塗膜(塗材)。 第1図 第2図 第3図 第4図 第7図 第5図 第6図 第8図 第9図 第10図 第14図 第15図 第11図 第12図 第13図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 外周面に塗材が塗布される円柱形基体に対し略同心
    的にリング状の塗材かき取り刃を配設し、この塗材かき
    取り刃を前記円柱形基体に対し半径方向に移動自在でか
    つ回転しないように支持し、前記円柱形基体を周方向に
    回転駆動する装置を備えた円柱形基体の支持装置と、前
    記塗材かき取り刃およびまたは、前記円柱形基体を軸方
    向に相対的に移動させる相対移動手段を有することを特
    徴とする円柱形基体外周面への塗材塗布装置。 2 相対移動手段は、塗材かき取り刃の相対的進行方向
    の反対側に、ラジアル方向の摩擦を軽減する潤滑手段を
    設けたスラスト軸受を設置し、このスラスト軸受を軸方
    向に駆動することを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の円柱形基体外周面への塗材塗布装置。 3 スラスト軸受に空気軸受を使用したことを特徴とす
    る特許請求の範囲第2項記載の円柱形基体外周面への塗
    材塗布装置。 4 塗材かき取り刃は、軸方向相対進行方向に向つて前
    方に塗材を保留する溝を有することを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の円柱形基体外周面への塗材塗布装
    置。 5 塗材かき取り刃が、半径方向に弾性支持されたこと
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の円柱形基体外
    周面への塗材塗布装置。
JP9057579A 1979-07-17 1979-07-17 円柱形基体外周面への塗材塗布装置 Expired JPS6038982B2 (ja)

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