JPS6037182Y2 - レ−ザ加工装置 - Google Patents
レ−ザ加工装置Info
- Publication number
- JPS6037182Y2 JPS6037182Y2 JP1982001800U JP180082U JPS6037182Y2 JP S6037182 Y2 JPS6037182 Y2 JP S6037182Y2 JP 1982001800 U JP1982001800 U JP 1982001800U JP 180082 U JP180082 U JP 180082U JP S6037182 Y2 JPS6037182 Y2 JP S6037182Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- laser
- optical system
- workpiece
- scanning optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
考案の技術分野
この考案はレーザ光を所定の幅で振動走査して加工を行
う装置に関する。
う装置に関する。
考案の技術的背景
例えば第１図に示すように、固定反射鏡１と、軸２を支
点にして振動される可動反射鏡３とを互いの反射面を任
意の角度で向い合せ、集光レンズ４を透過したレーザ光
りを固定反射鏡１に入射せしめて加工を行う場合は、レ
ーザ光りは可動反射鏡３により一定の振幅で振動され、
上記各光学系を収納した框体５の出口から被加工物６に
向って出てゆく。
点にして振動される可動反射鏡３とを互いの反射面を任
意の角度で向い合せ、集光レンズ４を透過したレーザ光
りを固定反射鏡１に入射せしめて加工を行う場合は、レ
ーザ光りは可動反射鏡３により一定の振幅で振動され、
上記各光学系を収納した框体５の出口から被加工物６に
向って出てゆく。
このとき、被加工物６を直線的に走査すれば、加工面７
には所定の幅で振動する照射軌跡７が得られ、溶接、表
面処理等の加工が行われる。
には所定の幅で振動する照射軌跡７が得られ、溶接、表
面処理等の加工が行われる。
背景技術の問題点
従来において、照射軌跡７の折り返し部分８・・・は往
復するレーザスポットが重り合うために、他の部分より
もエネルギが増加して深溶は込み部分をつくり、均一な
加工ができない不具合があった。
復するレーザスポットが重り合うために、他の部分より
もエネルギが増加して深溶は込み部分をつくり、均一な
加工ができない不具合があった。
考案の目的
この考案は従来の不具合に鑑みてなかれたもので、レー
ザ光走査における加工面へのエネルギのばらつきをなく
し、均一な加工が行える装置を提供するにある。
ザ光走査における加工面へのエネルギのばらつきをなく
し、均一な加工が行える装置を提供するにある。
考案の概要
所定の幅に振動されるレーザ光の走査幅の両端部を遮光
腰かつ遮光されたレーザ光を熱吸収体に導く機能を持っ
た遮光体を上記両端部を遮光する位置に設け、レーザス
ポットの重り合う部分がないように走査するようにした
ものである。
腰かつ遮光されたレーザ光を熱吸収体に導く機能を持っ
た遮光体を上記両端部を遮光する位置に設け、レーザス
ポットの重り合う部分がないように走査するようにした
ものである。
考案の実施例
りはレーザ発振器（図示せず）から放出されたレーザ光
で、その光路上には集光レンズ１１と直角方向に偏向す
るように反射面を傾けた反射鏡１２とが順次設けられて
いる。
で、その光路上には集光レンズ１１と直角方向に偏向す
るように反射面を傾けた反射鏡１２とが順次設けられて
いる。
この反射鏡１２に対面し、軸１３を支点にして集光レン
ズ１１を透過した収束レーザ光Ｌ′を振動する走査光学
系として可動反射鏡１３が設けられている。
ズ１１を透過した収束レーザ光Ｌ′を振動する走査光学
系として可動反射鏡１３が設けられている。
上記集光レンズ１１、反射鏡１２および可動反射鏡１３
は框体１４に収納されている。
は框体１４に収納されている。
この框体１４にはレーザ光りを通過させる入口１５と可
動反射鏡１３で反射された収束レーザ光１５を通過させ
る出口１６とが形成されている。
動反射鏡１３で反射された収束レーザ光１５を通過させ
る出口１６とが形成されている。
上記框体においてその出口１６の外側部分には可動反射
鏡１３による収束レーザ光１７の振動幅の両端部分を遮
光する幅の開口１８を形成した遮光体１９が取り付けら
れている。
鏡１３による収束レーザ光１７の振動幅の両端部分を遮
光する幅の開口１８を形成した遮光体１９が取り付けら
れている。
遮光体１９の内面２０は反射した光を出口１６近傍を照
射するように一部傾斜した反射面になっている。
射するように一部傾斜した反射面になっている。
上記出口１６には近傍は熱吸収面２１に形成されている
。
。
一方、収束レーザ光１７の照射を受けるために被加工物
２２がＸＹテーブル２３に載置されている。
２２がＸＹテーブル２３に載置されている。
上記の構成で可動反射鏡１３を振動するとともにＸＹテ
ーブル２３を一方向に走査すると、被加工物２２の加工
面には遮光体１９の開口１８で制限された収束レーザ光
によって両端部を切除した形の軌跡２４が照射される。
ーブル２３を一方向に走査すると、被加工物２２の加工
面には遮光体１９の開口１８で制限された収束レーザ光
によって両端部を切除した形の軌跡２４が照射される。
一方、開口１８を通過し得なかった残りの収束レーザ光
は遮光体１９の内面に当り、反射されて出口１６の近傍
の熱吸収面２１に吸収される。
は遮光体１９の内面に当り、反射されて出口１６の近傍
の熱吸収面２１に吸収される。
なお、図示しないがこの熱吸収面２１の内側を水冷機構
にすれば、より効果的に遮光されたレーザ光の放熱を促
進できる。
にすれば、より効果的に遮光されたレーザ光の放熱を促
進できる。
考案の効果
レーザスポットが重り合う折り返し部分が遮光されて走
査されるので均一な加工が行えるとともに、遮光したレ
ーザ光を効率よく放散、吸収せしめるようにしたので、
出力を高くしたレーザ走査加工ができるので、溶接から
表面処理まで加工範囲を大幅に拡大するなどの実用上の
効果を奏することが遠戚された。
査されるので均一な加工が行えるとともに、遮光したレ
ーザ光を効率よく放散、吸収せしめるようにしたので、
出力を高くしたレーザ走査加工ができるので、溶接から
表面処理まで加工範囲を大幅に拡大するなどの実用上の
効果を奏することが遠戚された。
第１図は従来例を示す模式図、第２図はこの考案の一実
施例を示す模式図である。 Ｌ・・・・・・レーザ光、１１・・・・・・集光レンズ
、１２・・・・・・反射鏡、１３・・・・・・可動反射
鏡、１９・・・・・・遮光体、２３・・・・・・ＸＹテ
ーブル。
施例を示す模式図である。 Ｌ・・・・・・レーザ光、１１・・・・・・集光レンズ
、１２・・・・・・反射鏡、１３・・・・・・可動反射
鏡、１９・・・・・・遮光体、２３・・・・・・ＸＹテ
ーブル。
Claims (1)
- レーザ発振器と、この発振器から放出されたレーザ光を
被加工物に所定の振幅で照射する走査光学系と、被加工
物を載置し上記走査光学系と共働し加工形状にしたがっ
て相対的に移動するテーブルと、上記走査光学系におけ
るレーザ光の振幅の両端部を遮光する位置に設けられ、
かつ遮光したレーザ光を熱吸収部もしくは熱放散部に導
く機能を有す遮光体とを備えることを特徴とするレーザ
加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982001800U JPS6037182Y2 (ja) | 1982-01-12 | 1982-01-12 | レ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982001800U JPS6037182Y2 (ja) | 1982-01-12 | 1982-01-12 | レ−ザ加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58107289U JPS58107289U (ja) | 1983-07-21 |
| JPS6037182Y2 true JPS6037182Y2 (ja) | 1985-11-05 |
Family
ID=30014804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1982001800U Expired JPS6037182Y2 (ja) | 1982-01-12 | 1982-01-12 | レ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6037182Y2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0211992Y2 (ja) * | 1984-09-07 | 1990-04-04 | ||
| JP2583036B2 (ja) * | 1985-12-20 | 1997-02-19 | 株式会社 ニコン | レ−ザ加工装置 |
| JP5331417B2 (ja) * | 2008-09-10 | 2013-10-30 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
-
1982
- 1982-01-12 JP JP1982001800U patent/JPS6037182Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58107289U (ja) | 1983-07-21 |
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