JPS6036908A - 三角測量原理に基づく測定法を用いる、物体表面上の点と基準レベルとの間の距離を非接触的に測定するための測量方法 - Google Patents
三角測量原理に基づく測定法を用いる、物体表面上の点と基準レベルとの間の距離を非接触的に測定するための測量方法Info
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- JPS6036908A JPS6036908A JP59127665A JP12766584A JPS6036908A JP S6036908 A JPS6036908 A JP S6036908A JP 59127665 A JP59127665 A JP 59127665A JP 12766584 A JP12766584 A JP 12766584A JP S6036908 A JPS6036908 A JP S6036908A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は三角測量原理に基づく測定法を用いた、物体表
面上の点と基準レベルとの間の距離を非接触的に測定す
るための測量方式に関する。更に詳細には、本発明は、
測量用電磁波を発生せしめるところの光源及び測量用電
磁波を案内して測量用電磁波のビームを形成せしめ且つ
該測量用電磁波のビームが被検査物体表面に投射される
に際して通過するところの投光路を規定する測量用電磁
波案内手段を含む投光部と:反射電磁波を案内する反射
電磁波案内手段及び反射電磁波に感応し且つ受光した反
射電磁波を異なった種類の対応する信号に変換せしめる
ように作動する電磁波感応検知器とを包含し:該反射電
磁波案内手段は測量用電磁波のビームの物体表面への投
射によシ生ずる電磁波スポ、)から発生する反射電磁波
を反射電磁波のビームに編成し且つ該反射電磁波のビー
ムが電磁波感応検知器上述の如き種類の測量方式は例え
ばドイツ国特許公開公報第3,122,712 AI号
に開示されている。上記公開公報は更に、用いた三角前
1量の基本原理を、被検査物体の表面起伏上の所定の点
と基準レベルとの間の距離の非接触的測定についての基
本として記述している。第、1図はこの原理を図解した
ものである。測量電磁波のビームは被検査物体表面の所
定の点に投射される。第1図において、物体表面はノ・
ッチングにより示されている。
面上の点と基準レベルとの間の距離を非接触的に測定す
るための測量方式に関する。更に詳細には、本発明は、
測量用電磁波を発生せしめるところの光源及び測量用電
磁波を案内して測量用電磁波のビームを形成せしめ且つ
該測量用電磁波のビームが被検査物体表面に投射される
に際して通過するところの投光路を規定する測量用電磁
波案内手段を含む投光部と:反射電磁波を案内する反射
電磁波案内手段及び反射電磁波に感応し且つ受光した反
射電磁波を異なった種類の対応する信号に変換せしめる
ように作動する電磁波感応検知器とを包含し:該反射電
磁波案内手段は測量用電磁波のビームの物体表面への投
射によシ生ずる電磁波スポ、)から発生する反射電磁波
を反射電磁波のビームに編成し且つ該反射電磁波のビー
ムが電磁波感応検知器上述の如き種類の測量方式は例え
ばドイツ国特許公開公報第3,122,712 AI号
に開示されている。上記公開公報は更に、用いた三角前
1量の基本原理を、被検査物体の表面起伏上の所定の点
と基準レベルとの間の距離の非接触的測定についての基
本として記述している。第、1図はこの原理を図解した
ものである。測量電磁波のビームは被検査物体表面の所
定の点に投射される。第1図において、物体表面はノ・
ッチングにより示されている。
表面起伏上の点と2=0で示される基準レベルとの間の
測量すべき距離Δ2は、式δ=Δz 、 M 、 si
n□θ(式中、θは基準面上に投射された電磁波スポッ
トを反射電磁波に感応する検知器りから見込む角される
。
測量すべき距離Δ2は、式δ=Δz 、 M 、 si
n□θ(式中、θは基準面上に投射された電磁波スポッ
トを反射電磁波に感応する検知器りから見込む角される
。
上述の公報に開示された提案の目的は、いわゆる波長刻
印技術(wavelength marking te
chnique )を用いることによシ、創世結果に誤
りをもたらすところの被検査物体表面の反射率における
変動及びあいまいな測量結果を生ずることなく測量速度
を増加せしめる点にちる。この目的のために、少なくと
も2種の異なった波長の測量用電磁波ビームを用いてい
る。即ち、これらの波長によって特徴づけられるところ
のラスターパターンが被検査物体表面上に投射され、こ
のパターンより発生する反射電磁波が別々の波長感応受
容チャンネルを通じてそれぞれの波長に感応する別々の
検知器に達する。この従来技術は以下の如き欠点を有す
る。
印技術(wavelength marking te
chnique )を用いることによシ、創世結果に誤
りをもたらすところの被検査物体表面の反射率における
変動及びあいまいな測量結果を生ずることなく測量速度
を増加せしめる点にちる。この目的のために、少なくと
も2種の異なった波長の測量用電磁波ビームを用いてい
る。即ち、これらの波長によって特徴づけられるところ
のラスターパターンが被検査物体表面上に投射され、こ
のパターンより発生する反射電磁波が別々の波長感応受
容チャンネルを通じてそれぞれの波長に感応する別々の
検知器に達する。この従来技術は以下の如き欠点を有す
る。
丑ず、測量が周囲電磁波に大きく影響され、その結果と
して、検知器からの出力信号の信号対ノイズ比に悪影響
が及ぼされるという点である。又、それぞれが、測量用
に選択された異なった波長の内の一つに適合する感度を
有する、少なくとも2体の別々の検知器を用いる必要が
あるという点である。更には、測量が被検査物体表面の
色の変化に影響されやすいという点である。
して、検知器からの出力信号の信号対ノイズ比に悪影響
が及ぼされるという点である。又、それぞれが、測量用
に選択された異なった波長の内の一つに適合する感度を
有する、少なくとも2体の別々の検知器を用いる必要が
あるという点である。更には、測量が被検査物体表面の
色の変化に影響されやすいという点である。
ドイツ国特許公開公報第3,110,644 AI号も
同様に、三角測量の基本原理を、基準面と物体表面の所
定の点との間の距離の非接触的な測定についての基本と
して記述している。
同様に、三角測量の基本原理を、基準面と物体表面の所
定の点との間の距離の非接触的な測定についての基本と
して記述している。
この公報に開示された提案の目的は次の如き問題を解決
することにある。その問題とは、測量用電磁波のビーム
の光軸がドリフ) (drift )現象により変位す
る際に生じ、該ビームが物体表面上に突き当たる点が過
度に変位するという結果をもたらすものである。このよ
うな変位は測量ミスにつながる。ゆえに、この従来技術
における唯一有効な御]定情報は、検知器上に投射され
た、Oもしくは基準レベルに対応する第1のスポットと
、検知器上に投射された、被検査物体の点に対応する第
2のスポットとの間の距離である。この公報に開示され
る技術の難点は、測量用電磁波ビームの光軸の変位の大
きさを表徴する誤信号の発生という点にちる。このよう
な誤信号は検知器から送り出される測量用信号の訂正に
用いられる。しかし、この公報は、偽反射が測量結果に
影響を及ぼすのを防ぐための手段を何ら開示していない
。
することにある。その問題とは、測量用電磁波のビーム
の光軸がドリフ) (drift )現象により変位す
る際に生じ、該ビームが物体表面上に突き当たる点が過
度に変位するという結果をもたらすものである。このよ
うな変位は測量ミスにつながる。ゆえに、この従来技術
における唯一有効な御]定情報は、検知器上に投射され
た、Oもしくは基準レベルに対応する第1のスポットと
、検知器上に投射された、被検査物体の点に対応する第
2のスポットとの間の距離である。この公報に開示され
る技術の難点は、測量用電磁波ビームの光軸の変位の大
きさを表徴する誤信号の発生という点にちる。このよう
な誤信号は検知器から送り出される測量用信号の訂正に
用いられる。しかし、この公報は、偽反射が測量結果に
影響を及ぼすのを防ぐための手段を何ら開示していない
。
セルコム(Selcom )社は物体表面に関するデー
タの非接触的測量方式を開発した。この公知測量方式も
又同様に三角測量原理に基づくものである。
タの非接触的測量方式を開発した。この公知測量方式も
又同様に三角測量原理に基づくものである。
更に、この測量方式も同様に、周囲電磁波に影響を受け
やすく、よって検知器よりの出力信号の信号対ノイズ比
に悪影響が及ぼされるという欠点を有する。更なる欠点
としては、横方向の分解能が悪いという点、即ち、測量
電磁波のビームに垂直な面における分解能が悪いという
点が挙げられる。
やすく、よって検知器よりの出力信号の信号対ノイズ比
に悪影響が及ぼされるという欠点を有する。更なる欠点
としては、横方向の分解能が悪いという点、即ち、測量
電磁波のビームに垂直な面における分解能が悪いという
点が挙げられる。
本発明の目的は上述せる欠点を克服することにある。更
に詳細には、本発明の一つの目的は、上述の如き種類の
測量方式であって、周囲電磁波の測量結果への悪影響が
著しく少なく、ゆえに検知器よりの出力信号の信号対ノ
イズ比が優れた測量方式を提供することにある。
に詳細には、本発明の一つの目的は、上述の如き種類の
測量方式であって、周囲電磁波の測量結果への悪影響が
著しく少なく、ゆえに検知器よりの出力信号の信号対ノ
イズ比が優れた測量方式を提供することにある。
本発明測量方式の基本思想は、受光部の電磁波感度を被
検査物体表面と実質的に直交する最良の縮小ビームの形
態を持つ空間容積へ実質的に限定することにある。
検査物体表面と実質的に直交する最良の縮小ビームの形
態を持つ空間容積へ実質的に限定することにある。
本発明測量方式の基本的実施態様の特徴は、検知器は実
質的に直線の部分においてのみ電磁波に感応すること、
及び測量用電通波ビーム(少なくともその長手方向断面
は測量帯域を構成する)により照射される物体表面部位
のみ検知器の直線状電磁波感応部上に相応の集光スポッ
トとして結像されることにある。この方法においては、
従って、前記物体表面の照射点は検知器の前記感応部上
に明確に識別できる点として結像される。
質的に直線の部分においてのみ電磁波に感応すること、
及び測量用電通波ビーム(少なくともその長手方向断面
は測量帯域を構成する)により照射される物体表面部位
のみ検知器の直線状電磁波感応部上に相応の集光スポッ
トとして結像されることにある。この方法においては、
従って、前記物体表面の照射点は検知器の前記感応部上
に明確に識別できる点として結像される。
上記測量方式においては、原則として測量用電磁波ビー
ムの外に位置する物体表面上部位から生ずる電磁波はい
ずれも検知器上に、この場合偽の、出力信号を生じさせ
ることはない。事実、電磁波が実質的に直線状の測量電
磁波ビームと検知器の実質的に直線状電磁波感応部とで
決められるパ平面″内にほぼ位置するが上記測量用電磁
波ビームの外部に位置する物体表面部位に由来する場合
は、上記電磁波は検知器上又は検知器を含む虚平面上に
集光外スポットとして映写される。この集光外スポット
は検知器に有効な出力信号を発生させることはない。上
記スポットは、電磁波の由来する部位が測量用電磁波ビ
ームから遠ざかるにつれて焦点からの逸脱′が大となる
。更に、電磁波が上述の゛平面″′の外に位置する物体
表面上部位に由来する場合は、得られるスポットは検知
器の直線状電磁波感応部の外ではあるが上記虚検知器平
面上に、焦点内に又は焦点外に、結像される。その結果
、上記スポットはいずれにしろ、検知器に偽の出力信号
を生じさせることはない。
ムの外に位置する物体表面上部位から生ずる電磁波はい
ずれも検知器上に、この場合偽の、出力信号を生じさせ
ることはない。事実、電磁波が実質的に直線状の測量電
磁波ビームと検知器の実質的に直線状電磁波感応部とで
決められるパ平面″内にほぼ位置するが上記測量用電磁
波ビームの外部に位置する物体表面部位に由来する場合
は、上記電磁波は検知器上又は検知器を含む虚平面上に
集光外スポットとして映写される。この集光外スポット
は検知器に有効な出力信号を発生させることはない。上
記スポットは、電磁波の由来する部位が測量用電磁波ビ
ームから遠ざかるにつれて焦点からの逸脱′が大となる
。更に、電磁波が上述の゛平面″′の外に位置する物体
表面上部位に由来する場合は、得られるスポットは検知
器の直線状電磁波感応部の外ではあるが上記虚検知器平
面上に、焦点内に又は焦点外に、結像される。その結果
、上記スポットはいずれにしろ、検知器に偽の出力信号
を生じさせることはない。
上述の本発明測量方式の基本的実施態様の好ましい変形
として下達のものを挙げることができるが、その特徴は
、上記測量用電磁波案内手段に組み適寸れた集光レンズ
は、上記測量帯域内において、このビームの断面積がビ
ーム方向の距離の関数として変化し、その結果上記測量
域内に形成される凡ての物体スポットが大きさのほぼ等
しいスポットとして電磁波感応検知器上に結像されるた
め測量電磁波ビームの焦点をあわせるように作用するこ
とにある。特に、集光レンズの倍率と位置は、上記測量
帯域内の測量用電磁波ビームによシ形成される各物体ス
ポットの大きさが、該物体ス) ポットが集光レンズよ
り遠ざかるにつれて増大す、 るように選ばれる。この
方法では、検Y口器の対物レンズ系によシ導入される縮
小度、即ち物体スポットが検知器上に結像される時縮小
する度合、の本質的に直線的変化を補償することができ
る。つまシ、一定位置の測量用電磁波ビームにより、そ
れにより規定される一連の物体スポットはほぼ大きさの
等しい一連の集光スポットとして検知器上に結像される
。検知器の対物レンズ系によシ導入される縮小度は、物
体スポットに対応する検知器スポットの大きさが数個の
検知器素子の面積にほぼ等しくなるように選ぶことが好
ましい。この方法では、画像の鮮明度および横方向分解
能は測量帯域全域にわたり最良となる。さらに、測量用
電磁波ビームの外に位置する表面部位に由来する電磁波
は、前述の通シ、検知器に有効な出力信号を生じさせる
ことはないので、信号対ノイズ比は極めて満足のいくも
のとなる。
として下達のものを挙げることができるが、その特徴は
、上記測量用電磁波案内手段に組み適寸れた集光レンズ
は、上記測量帯域内において、このビームの断面積がビ
ーム方向の距離の関数として変化し、その結果上記測量
域内に形成される凡ての物体スポットが大きさのほぼ等
しいスポットとして電磁波感応検知器上に結像されるた
め測量電磁波ビームの焦点をあわせるように作用するこ
とにある。特に、集光レンズの倍率と位置は、上記測量
帯域内の測量用電磁波ビームによシ形成される各物体ス
ポットの大きさが、該物体ス) ポットが集光レンズよ
り遠ざかるにつれて増大す、 るように選ばれる。この
方法では、検Y口器の対物レンズ系によシ導入される縮
小度、即ち物体スポットが検知器上に結像される時縮小
する度合、の本質的に直線的変化を補償することができ
る。つまシ、一定位置の測量用電磁波ビームにより、そ
れにより規定される一連の物体スポットはほぼ大きさの
等しい一連の集光スポットとして検知器上に結像される
。検知器の対物レンズ系によシ導入される縮小度は、物
体スポットに対応する検知器スポットの大きさが数個の
検知器素子の面積にほぼ等しくなるように選ぶことが好
ましい。この方法では、画像の鮮明度および横方向分解
能は測量帯域全域にわたり最良となる。さらに、測量用
電磁波ビームの外に位置する表面部位に由来する電磁波
は、前述の通シ、検知器に有効な出力信号を生じさせる
ことはないので、信号対ノイズ比は極めて満足のいくも
のとなる。
本発明測量方式は、高強度光源などパックグラウンド電
磁波源の影響が大きい状況下において特に好適に使用す
ることができる。上記状況の一例、は自動溶接工程にお
ける本測量方式の利用である。
磁波源の影響が大きい状況下において特に好適に使用す
ることができる。上記状況の一例、は自動溶接工程にお
ける本測量方式の利用である。
自動溶接工程においては溶接アークに由来する高強度光
放射により悪影響を受けることがあってはならない。上
述の状況下有利に用いることのできる測量方式としては
、レーザーなど単色電磁波を発する電磁波源を用いるこ
とが好ましい。本発明では、上記電磁波の波長は、予想
される偽パックグラウンド電磁波の波長成分の存在が小
さいスペクトル部分内にあるように選ばれる。但し、光
学帯域フィルターを検知器の空間視角内に設置する。
放射により悪影響を受けることがあってはならない。上
述の状況下有利に用いることのできる測量方式としては
、レーザーなど単色電磁波を発する電磁波源を用いるこ
とが好ましい。本発明では、上記電磁波の波長は、予想
される偽パックグラウンド電磁波の波長成分の存在が小
さいスペクトル部分内にあるように選ばれる。但し、光
学帯域フィルターを検知器の空間視角内に設置する。
該帯域の波長、好捷しくはその中間波長は単色電磁波の
波長に対応する。実際の使用に際しては、He −Nc
レーザーが良い結果を与えるようである。
波長に対応する。実際の使用に際しては、He −Nc
レーザーが良い結果を与えるようである。
本発明はまた、被検査物体表面の1個以上の表面起伏、
表面輪郭の測定が必要な時有利に用いることができる。
表面輪郭の測定が必要な時有利に用いることができる。
本発明において、この目的に適する測量方式の特徴は、
測量用電磁波案内手段が駆動手段と連係して411]量
電磁波ビームに測量平面内で走査運動をさせることにあ
る。また、上記以外の特徴として、反射電磁波案内手段
が、走査運動間、測量電磁波ビームで照射される物体ス
ポットを検知器の実質的に直線状電磁波感応部上に照射
物体スポットと等時′的に移動する集光スポットとして
結像するように調整されていることにある。
測量用電磁波案内手段が駆動手段と連係して411]量
電磁波ビームに測量平面内で走査運動をさせることにあ
る。また、上記以外の特徴として、反射電磁波案内手段
が、走査運動間、測量電磁波ビームで照射される物体ス
ポットを検知器の実質的に直線状電磁波感応部上に照射
物体スポットと等時′的に移動する集光スポットとして
結像するように調整されていることにある。
本発明の更に別の目的は、上述の形式に属する測量方式
であるが、簡単な構造により偽反射の悪影響を除去でき
る測量方式を提供することにある。
であるが、簡単な構造により偽反射の悪影響を除去でき
る測量方式を提供することにある。
一般に、偽反射は、物体表面上の所定の点に投じられる
測量用電磁波ビームが測量用電磁波ビーム容積の内部又
はわずかに外部に位置する他の表面部位によシ検知器に
向は反射される結果として各検知器上に反射電磁波が結
像されるため形成されるものである。
測量用電磁波ビームが測量用電磁波ビーム容積の内部又
はわずかに外部に位置する他の表面部位によシ検知器に
向は反射される結果として各検知器上に反射電磁波が結
像されるため形成されるものである。
本発明に従い、上述の目的を達成するに適した測量方式
の具体例としては、該反射電磁波案内手段は、該第1受
光路の他に、該第1受光路と共に測量用電磁波ビームを
包含する平面に対し鏡面対称を形成する第2受光路を規
定し、該第2受光路は各物体スポットに由来し該光路を
通じて案内される反射電磁波を別の第2の電磁波感応検
知器上に投射させること:及び該2個の電磁波感応検知
器の出力部はコンパレーターと連係し、物体表面による
仰1量用電磁波ビームの単一反射に由来する反射電磁波
が有用な出力信号を提供するように該検知器から生じる
出力信号を比較することを特徴とする測量方式が挙げら
れる。
の具体例としては、該反射電磁波案内手段は、該第1受
光路の他に、該第1受光路と共に測量用電磁波ビームを
包含する平面に対し鏡面対称を形成する第2受光路を規
定し、該第2受光路は各物体スポットに由来し該光路を
通じて案内される反射電磁波を別の第2の電磁波感応検
知器上に投射させること:及び該2個の電磁波感応検知
器の出力部はコンパレーターと連係し、物体表面による
仰1量用電磁波ビームの単一反射に由来する反射電磁波
が有用な出力信号を提供するように該検知器から生じる
出力信号を比較することを特徴とする測量方式が挙げら
れる。
それぞれの検知器の出力部に生じる2個の信号を相互に
相関させる、たとえば乗算を行うことにより、偽反射の
結果検知器上に投射されるスポットを”真″反射の結果
検知器上に投射されるスポットから識別することが可能
となる。
相関させる、たとえば乗算を行うことにより、偽反射の
結果検知器上に投射されるスポットを”真″反射の結果
検知器上に投射されるスポットから識別することが可能
となる。
本発明測量方式の改良された一つの具体例としては、該
反射電磁波案内手段が該第1受光路の他に第2受光路を
規定し、各物体スポットよシ延びている該第2受光路の
最初の部分は第1受光路の対応する最初の部分と共に1
1 ff4−用電磁波ビームを包含する平面に対し鏡面
対称を形成し、且つ、該第2受光路は同じく各物体スポ
ットよシ生じ該路を通じて案内される反射電磁波を上記
電磁波感応検知器上に投射されること;及び該検知器の
出力部は、物体表面による測量用電磁波ビームの単一反
射に由来する反射電磁波に応じて有用な信号を提供する
ように検知器出力信号を処理するよう作動する信号処理
手段に連結されていることを特徴とする測量方式が挙げ
られる。
反射電磁波案内手段が該第1受光路の他に第2受光路を
規定し、各物体スポットよシ延びている該第2受光路の
最初の部分は第1受光路の対応する最初の部分と共に1
1 ff4−用電磁波ビームを包含する平面に対し鏡面
対称を形成し、且つ、該第2受光路は同じく各物体スポ
ットよシ生じ該路を通じて案内される反射電磁波を上記
電磁波感応検知器上に投射されること;及び該検知器の
出力部は、物体表面による測量用電磁波ビームの単一反
射に由来する反射電磁波に応じて有用な信号を提供する
ように検知器出力信号を処理するよう作動する信号処理
手段に連結されていることを特徴とする測量方式が挙げ
られる。
上述の具体例のような場合には、単一検知器の使用で十
分であシ、その結果、かなりの費用の節約が可能となシ
、装置構造も簡単なものとすることが可能となる。
分であシ、その結果、かなりの費用の節約が可能となシ
、装置構造も簡単なものとすることが可能となる。
本発明に従い、上述の測量方式の好ましい具体例の一つ
として、該第2受光路の一部が、各物体表面と測量用電
磁波ビームを包含する平面の交線により規定される同一
物体スポットよシ生じる反射電磁波が一方の受光路を通
じ検知器上に、他方の受光路を通じ検知器上に該物体ス
ポットの投射として結像される検知器スポットから一定
の距離を隔てた検知器スポットとして結像されるように
第1受光路の対応部分から逸離するように配置されてい
ること;及び該信号処理手段が、上述の固定距離に相当
する間隔を持つ二個の相異なる信号成分を包含する検知
器出力信号に関し自動相関機能を実行するように構成さ
れていることを特徴とする測量方式が挙げられる。
として、該第2受光路の一部が、各物体表面と測量用電
磁波ビームを包含する平面の交線により規定される同一
物体スポットよシ生じる反射電磁波が一方の受光路を通
じ検知器上に、他方の受光路を通じ検知器上に該物体ス
ポットの投射として結像される検知器スポットから一定
の距離を隔てた検知器スポットとして結像されるように
第1受光路の対応部分から逸離するように配置されてい
ること;及び該信号処理手段が、上述の固定距離に相当
する間隔を持つ二個の相異なる信号成分を包含する検知
器出力信号に関し自動相関機能を実行するように構成さ
れていることを特徴とする測量方式が挙げられる。
本発明に従い、上述の測量方式の実施例の一つとして、
該反射電磁波案内手段が2個のプリズムを包含しそれら
2個のプリズムは1個のプリズム面を共持するように相
互に結合されている結果、一方の受光路を通過する反射
電磁波は該プリズム共通面によ)、部分的に非回折の状
態で、検知器方向に透過され、他方の受光路を通過する
反射電磁波は該検知器方向に部分的に反射されることを
特徴とする測量方式が挙げられる。
該反射電磁波案内手段が2個のプリズムを包含しそれら
2個のプリズムは1個のプリズム面を共持するように相
互に結合されている結果、一方の受光路を通過する反射
電磁波は該プリズム共通面によ)、部分的に非回折の状
態で、検知器方向に透過され、他方の受光路を通過する
反射電磁波は該検知器方向に部分的に反射されることを
特徴とする測量方式が挙げられる。
本発明に従い、上記測量方式実施例の別の例として、該
プリズム共通面が測量用電磁波ビームを含む平面に対し
傾斜しておシ、該傾斜によシ上記固定距離が定まること
を特徴とする測量方式が挙げられる。
プリズム共通面が測量用電磁波ビームを含む平面に対し
傾斜しておシ、該傾斜によシ上記固定距離が定まること
を特徴とする測量方式が挙げられる。
上述の不発四路実施態様によシ達成される識別基準を満
足させることもある偽反射に対する別の保護策として、
下達の測量方式が挙げられる。即ち、本発明に従い、該
両受光路は物体表面よシ生じる反射電磁波を上記プリズ
ム共通面に向けるよう作動する反射器表面を包含し;こ
れら反射器表面の各々は測量用電磁波ビームを包含する
面に対し鏡面対称に延びる二本の交叉軸の内の各一方の
囲りに同一角度傾斜しておシ;更にく測量用電磁波ビー
ムが、該ビームが第1及び第2受光路を通じその線に沿
って検知器上に結像されるところの二平面交線に沿い方
向づけられることを特徴とする測量方式が挙げられる。
足させることもある偽反射に対する別の保護策として、
下達の測量方式が挙げられる。即ち、本発明に従い、該
両受光路は物体表面よシ生じる反射電磁波を上記プリズ
ム共通面に向けるよう作動する反射器表面を包含し;こ
れら反射器表面の各々は測量用電磁波ビームを包含する
面に対し鏡面対称に延びる二本の交叉軸の内の各一方の
囲りに同一角度傾斜しておシ;更にく測量用電磁波ビー
ムが、該ビームが第1及び第2受光路を通じその線に沿
って検知器上に結像されるところの二平面交線に沿い方
向づけられることを特徴とする測量方式が挙げられる。
本発明測量方式の構造的に簡単な具体例として、該両受
光路が物体表面より生じる反射電磁波を上記プリズム面
に向けさせるよう作動する反射器表面を包含し;且つ、
これら反射器表面の各々が該共通プリズム面と共に該2
個のプリズムの内の一つを構成することを特徴とする測
量方式が挙げられる。
光路が物体表面より生じる反射電磁波を上記プリズム面
に向けさせるよう作動する反射器表面を包含し;且つ、
これら反射器表面の各々が該共通プリズム面と共に該2
個のプリズムの内の一つを構成することを特徴とする測
量方式が挙げられる。
本発明測量方式の更に別の具体例としては、該反射電磁
波案内手段が該第1受光路の他に第2受光路を規定し、
各物体スポットより延びている該第2受光路の最初の部
分は第1受光路の対応する最初の部分と共に測量用電磁
波ビームを包含する平面に対し鏡面対称を形成し、且つ
、該鏡面対称構成体の最初の部分が、第1及び第2の時
間チャンネルを規定する一連の時間スロットに従い反射
電磁波が一方の受光路、他方の受光路と交互に電磁波感
応検知器に提供されるように各光学路を継続的に1#す
止の状態、伝達の状態にする周期的に稼動する光電磁波
スイッチを包含するとと;及び該検知器の出力部が、第
1時間チャンネル並に第2時間チャンネルの時間分割信
号を2個の空間的に分離された信号に変換せしめるよう
に作動する検波器、及び物体表面からの測量用電磁波ビ
ームの単一反射に由来する反射電磁波が有用な出力信号
を提供するように、これら2個の空間的に分離された信
号を相互に比較するよう作動するコンパレーターに連結
されていることを特徴とする測量方式が挙げられる。
波案内手段が該第1受光路の他に第2受光路を規定し、
各物体スポットより延びている該第2受光路の最初の部
分は第1受光路の対応する最初の部分と共に測量用電磁
波ビームを包含する平面に対し鏡面対称を形成し、且つ
、該鏡面対称構成体の最初の部分が、第1及び第2の時
間チャンネルを規定する一連の時間スロットに従い反射
電磁波が一方の受光路、他方の受光路と交互に電磁波感
応検知器に提供されるように各光学路を継続的に1#す
止の状態、伝達の状態にする周期的に稼動する光電磁波
スイッチを包含するとと;及び該検知器の出力部が、第
1時間チャンネル並に第2時間チャンネルの時間分割信
号を2個の空間的に分離された信号に変換せしめるよう
に作動する検波器、及び物体表面からの測量用電磁波ビ
ームの単一反射に由来する反射電磁波が有用な出力信号
を提供するように、これら2個の空間的に分離された信
号を相互に比較するよう作動するコンパレーターに連結
されていることを特徴とする測量方式が挙げられる。
本発明に従い、゛パ正″反射とパ偽″反射を区別するた
めの上述以外の基準として、測量用電磁波ビーム中に特
定の特性要素を導入することにょし得られるところのも
のを挙げることができる。たとえば、平面平行プレート
を用いることにより、測量用電磁波ビームに不斉強度分
布を与えることが可能である。本発明に従い、上記原理
に基づく具体例の一つとして、該投光部が、各物体表面
上に不斉強度分布を持つ測量用ビームを照射するための
ビーム偏向手段を包含し;該受光部が、検知器出力信号
の内、該測量用ビームにより規定される不斉強度分布を
持つ測量用ビーム平面内に位置する物体スポッ7トの検
知器上への投映である結像スポットに対応する信号のみ
を通過させるように作動する信号処理器を包含すること
を特徴とする測量方式が挙げられる。この具体例では、
゛正″反射は検知器出力信号中に、゛偽″反射によりこ
の検知器出力信号中に提供される波形の鏡像に相当する
不斉波形を提供するという事実が利用される。このよう
な″偽″反射は実際上、測量用ビームが物体表面から2
度反射されたことを意味する。
めの上述以外の基準として、測量用電磁波ビーム中に特
定の特性要素を導入することにょし得られるところのも
のを挙げることができる。たとえば、平面平行プレート
を用いることにより、測量用電磁波ビームに不斉強度分
布を与えることが可能である。本発明に従い、上記原理
に基づく具体例の一つとして、該投光部が、各物体表面
上に不斉強度分布を持つ測量用ビームを照射するための
ビーム偏向手段を包含し;該受光部が、検知器出力信号
の内、該測量用ビームにより規定される不斉強度分布を
持つ測量用ビーム平面内に位置する物体スポッ7トの検
知器上への投映である結像スポットに対応する信号のみ
を通過させるように作動する信号処理器を包含すること
を特徴とする測量方式が挙げられる。この具体例では、
゛正″反射は検知器出力信号中に、゛偽″反射によりこ
の検知器出力信号中に提供される波形の鏡像に相当する
不斉波形を提供するという事実が利用される。このよう
な″偽″反射は実際上、測量用ビームが物体表面から2
度反射されたことを意味する。
本発明を明確にするため、多数の具体例を添付図を参照
しながら詳細に説明する。言うまでもなく、本発明はこ
れらの具体例に限定されるものでない。添付図に関し、 第1図は物体表面上の点と基準レベル間の距離の測定の
ための三角測量原理の応用を示す線図である。
しながら詳細に説明する。言うまでもなく、本発明はこ
れらの具体例に限定されるものでない。添付図に関し、 第1図は物体表面上の点と基準レベル間の距離の測定の
ための三角測量原理の応用を示す線図である。
第2a図と第2b図はバックグラウンド電磁波に対する
応答が顕著に減少する本発明[+11量方式の具体例を
示す線図である。
応答が顕著に減少する本発明[+11量方式の具体例を
示す線図である。
第3図は測量用電磁波の集光ビームの測量帯域の縦断面
図を示す線図てあり、図示せる形態は、検知器上への物
体スポットの実質的に均一な投射を行なうために特に好
適な形態である。
図を示す線図てあり、図示せる形態は、検知器上への物
体スポットの実質的に均一な投射を行なうために特に好
適な形態である。
第4図は2体の別々の」]」量用光学チャンネルを用い
た、本発明計j量方式の一実施態様を示す線図である。
た、本発明計j量方式の一実施態様を示す線図である。
第5図は第4図に示す態様を用いることにょシ、偽反射
の発生を防止する方法を示す線図である。
の発生を防止する方法を示す線図である。
第6図は本発明11111量方式の簡易化された態様を
示す線図である。
示す線図である。
第7図は第6図に示す態様の変形例を示す線図である。
第2a図は不発明細1量方式の基本態様を示す線図であ
る。第2a図に示される態様の特徴は、検知器が偽バッ
クグラウンド電磁波に影響されず、測量用電磁波ビーム
により照射された物体スポットよシ発生する電磁波のみ
が、最適に集光された状態で検知器の直線状電磁波感応
部上に結像されることである。第2図において、測毒用
ビームMBは、2方向に延びる直線として略図的に示さ
れている。測量帯域であるMGは、72面内に規定され
た帯域であシ、そこでは、物体の表面部位を測量用ビー
ムで゛照射″シた際に、その゛深さ″を測定することが
できる。1例として、第2a図に、Z軸に沿った測量用
入射ビームを用いて、物体の2つの表面部位を異なった
′深さ″で照射する場合に生ずる2つの物体スポラ)0
1及びo2を示す。
る。第2a図に示される態様の特徴は、検知器が偽バッ
クグラウンド電磁波に影響されず、測量用電磁波ビーム
により照射された物体スポットよシ発生する電磁波のみ
が、最適に集光された状態で検知器の直線状電磁波感応
部上に結像されることである。第2図において、測毒用
ビームMBは、2方向に延びる直線として略図的に示さ
れている。測量帯域であるMGは、72面内に規定され
た帯域であシ、そこでは、物体の表面部位を測量用ビー
ムで゛照射″シた際に、その゛深さ″を測定することが
できる。1例として、第2a図に、Z軸に沿った測量用
入射ビームを用いて、物体の2つの表面部位を異なった
′深さ″で照射する場合に生ずる2つの物体スポラ)0
1及びo2を示す。
本発明の?I′llI量方式によると、01及び02と
いった物体スポット、即ち、測量用ビームで直接照射さ
れた表面部位によって規定される物体スポットのみが、
略図的に示している対物レンズシステムOLを通じて、
検知器表面DV上に集光スポット01′及び02’とし
て結像する。これは次の様なことを意味する。即ち、測
量帯域内に位置し、測量用ビームによって照射され得る
表面部位として規定されるところの物体スポットの全て
は、原則として、DGとして略図的に示される実質的に
直線的な部分において検知器表面DV上に結像されると
いうことである。
いった物体スポット、即ち、測量用ビームで直接照射さ
れた表面部位によって規定される物体スポットのみが、
略図的に示している対物レンズシステムOLを通じて、
検知器表面DV上に集光スポット01′及び02’とし
て結像する。これは次の様なことを意味する。即ち、測
量帯域内に位置し、測量用ビームによって照射され得る
表面部位として規定されるところの物体スポットの全て
は、原則として、DGとして略図的に示される実質的に
直線的な部分において検知器表面DV上に結像されると
いうことである。
本発明の一つの態様によれば、検知器は実質的に直線的
な構成を有する検知器素子から成シ、検知器素子の実質
的に直線状である電磁波感応部が第一に用いられる。こ
のように実質的に直線的な電磁波感応部に限定された検
知器においては、a)実質的に直線状の測量用ビームと
実質的に直線状の電磁波感応部によって規定される゛平
面″内、もしくはb)測量用ビームの外側に位置する表
面部位から発生する全ての電磁波がこの電磁波感応部も
しくはその延長線上に結像する。対物レンズンステムO
Lは次の様に構成されている。即ち、このような電磁波
を、それが測量用ビームの外側にあるがしかし検知器の
電磁波感応部の長さとレンズ口径によって規定される視
角内に位置しているところの表面部位から発生している
限りは、電磁波感応部DGに集魚性スポットとして(例
えばB1はBl’として)結像せしめるが、上述せる″
平面″の内部にあシながら、上述せる視角の外側に位置
する場所よシ発生する電磁波については、これを電磁波
感応部の延長線上及びその外側に投射せしめる(例えば
B2をB2’として)ように構成されている。これらの
場合のいずれにおいても、検知器が偽信号と見なされる
ような出力信号を発生することはない。このことは、上
述せるパ平面″の外側に位置する表面部位から発生する
電磁波にも当てはまる。例えば、上述せる平面(即ち、
第2a図におけるXZ面)の外側に位置する表面部位A
1及びA2は、対物レンズシステムOLを経て、集点内
スポットAl’あるいは集魚性スポットA2′としぞ、
電磁波感応部DCの外側及び隣接部に投射される。上述
せるXZ面の外側に位置する全ての表面部位(例えばA
I)は、必ず電磁波感応部DGの外側及び隣接部に投射
され、空間的位置に依存して集点内スポットもしくは集
魚性スポットとして平面DV上に結像する。その結果と
して、実際の検知器DGは偽電磁波のこのような光源に
影響を受けることがない。
な構成を有する検知器素子から成シ、検知器素子の実質
的に直線状である電磁波感応部が第一に用いられる。こ
のように実質的に直線的な電磁波感応部に限定された検
知器においては、a)実質的に直線状の測量用ビームと
実質的に直線状の電磁波感応部によって規定される゛平
面″内、もしくはb)測量用ビームの外側に位置する表
面部位から発生する全ての電磁波がこの電磁波感応部も
しくはその延長線上に結像する。対物レンズンステムO
Lは次の様に構成されている。即ち、このような電磁波
を、それが測量用ビームの外側にあるがしかし検知器の
電磁波感応部の長さとレンズ口径によって規定される視
角内に位置しているところの表面部位から発生している
限りは、電磁波感応部DGに集魚性スポットとして(例
えばB1はBl’として)結像せしめるが、上述せる″
平面″の内部にあシながら、上述せる視角の外側に位置
する場所よシ発生する電磁波については、これを電磁波
感応部の延長線上及びその外側に投射せしめる(例えば
B2をB2’として)ように構成されている。これらの
場合のいずれにおいても、検知器が偽信号と見なされる
ような出力信号を発生することはない。このことは、上
述せるパ平面″の外側に位置する表面部位から発生する
電磁波にも当てはまる。例えば、上述せる平面(即ち、
第2a図におけるXZ面)の外側に位置する表面部位A
1及びA2は、対物レンズシステムOLを経て、集点内
スポットAl’あるいは集魚性スポットA2′としぞ、
電磁波感応部DCの外側及び隣接部に投射される。上述
せるXZ面の外側に位置する全ての表面部位(例えばA
I)は、必ず電磁波感応部DGの外側及び隣接部に投射
され、空間的位置に依存して集点内スポットもしくは集
魚性スポットとして平面DV上に結像する。その結果と
して、実際の検知器DGは偽電磁波のこのような光源に
影響を受けることがない。
測量用ビームにより照射される表面部位は測定される2
方向のパ深さ″に依存して検知器よシ相異なる角度にお
いて眺望され、結像度、即ち測量用ビームにより照射さ
れた物体ス月?7トが検知器上に結像された時縮小する
度合も同様に測量帯域MG上において2座標の関数とし
て変化するので、検知器平面DC,従って実際の検知器
DGはそれの光学軸01−Pに対し所定の角度で設置さ
れる。
方向のパ深さ″に依存して検知器よシ相異なる角度にお
いて眺望され、結像度、即ち測量用ビームにより照射さ
れた物体ス月?7トが検知器上に結像された時縮小する
度合も同様に測量帯域MG上において2座標の関数とし
て変化するので、検知器平面DC,従って実際の検知器
DGはそれの光学軸01−Pに対し所定の角度で設置さ
れる。
明確にするため、上記を第2b図に詳剛に示す。
第2b図は第2a図のXZ平面に得られる状況を図示す
るものである。上記の配置により、対物レンズ系OLの
測量用ビームの照射に由来する全物体スポットへの集光
効果はほぼ均一となり、その結果、2方向上のそれらの
位置とは無関係に上記物体スポットは直線状電磁波感応
検知器上に等しく、事実高度に集光された状態で結像さ
れる。
るものである。上記の配置により、対物レンズ系OLの
測量用ビームの照射に由来する全物体スポットへの集光
効果はほぼ均一となり、その結果、2方向上のそれらの
位置とは無関係に上記物体スポットは直線状電磁波感応
検知器上に等しく、事実高度に集光された状態で結像さ
れる。
本発明の測量方式は、更に、全ff1ll量帯域につい
て横方向の分解能、即ち測量用ビームに父叉する面の分
解能を最良の状態にする−ことを意図している。これは
、物体スポットが測量用ビーム内のどの位置にあろうと
も、この物体ス目?7トをして検知器上に、少数の(例
えば2〜4個の)検知器セル(検知器セルは例えば寸法
25X26μmf有する)の断面積に対応する断面積を
有する結像スポットとして結像せしめるという趣意によ
る。測量用ビームの光路内に設置された適当な寸法を有
する集光レンズを用いることにより、最適縮小測量用ビ
ームと、検知器上への物体スポットの実質的に均一な投
射という2つの必要条件の間に満足な妥協を達成するこ
とが可能である。1例として、lfl’lt用ビームの
好適な形態について、その縦断面図を第3図に示す。第
3図より明らかな様に、゛測量用ビームは本質的に放射
方向に分岐する。上述した事柄によシ、本発明の測量方
式においては、側量用ヒームノタめの集光レンズとこの
測量用ビームが表面部位を照射することによって生ずる
物体スポットとの間の距離(この距離はZ方向に変化す
る)の関数であるところの、実質的に直線的な結像塵の
変動が、選択された特殊な唄1]量用ビームの形態によ
って達成されるこの距離の関数であるところの物体スポ
ットの大きさの変動によって補償される。故に、特殊な
形態の測量用ビームを選択することによって、2方向距
離の関数として拡大率が減少するに伴ない、物体スポッ
トの大きさが増加する。このようにして、全測量帯域に
わたシ4用量用ビームにより照射された表面部位は、実
質的に大きさの等しいスポットとして電磁波感応検知器
上に結像される。
て横方向の分解能、即ち測量用ビームに父叉する面の分
解能を最良の状態にする−ことを意図している。これは
、物体スポットが測量用ビーム内のどの位置にあろうと
も、この物体ス目?7トをして検知器上に、少数の(例
えば2〜4個の)検知器セル(検知器セルは例えば寸法
25X26μmf有する)の断面積に対応する断面積を
有する結像スポットとして結像せしめるという趣意によ
る。測量用ビームの光路内に設置された適当な寸法を有
する集光レンズを用いることにより、最適縮小測量用ビ
ームと、検知器上への物体スポットの実質的に均一な投
射という2つの必要条件の間に満足な妥協を達成するこ
とが可能である。1例として、lfl’lt用ビームの
好適な形態について、その縦断面図を第3図に示す。第
3図より明らかな様に、゛測量用ビームは本質的に放射
方向に分岐する。上述した事柄によシ、本発明の測量方
式においては、側量用ヒームノタめの集光レンズとこの
測量用ビームが表面部位を照射することによって生ずる
物体スポットとの間の距離(この距離はZ方向に変化す
る)の関数であるところの、実質的に直線的な結像塵の
変動が、選択された特殊な唄1]量用ビームの形態によ
って達成されるこの距離の関数であるところの物体スポ
ットの大きさの変動によって補償される。故に、特殊な
形態の測量用ビームを選択することによって、2方向距
離の関数として拡大率が減少するに伴ない、物体スポッ
トの大きさが増加する。このようにして、全測量帯域に
わたシ4用量用ビームにより照射された表面部位は、実
質的に大きさの等しいスポットとして電磁波感応検知器
上に結像される。
上述せる、単一の位置を有する1flll量用ビームを
用イたΔZ?1Ill定の性能により、このビームによ
り照射された表面部位の深さのみを測定することができ
る。しかし、物体の表面輪郭、表面起伏の屓(11定を
可能にするために、しばしばこのような測定を測量用ビ
ームの異なった位置について行なうことが望1れる。更
に、多数の異なった表面部位に対して短時間に測定を行
なうこと(例えば1秒間に1000以上の測定)もしば
しば望まれる。本発明の更なる態様によれば、1lll
lllllll元方は、好ましくは相互に平行な平面(
例えば第2図に示したYZ面に平行な平面)における一
連の掃引運動に従って、測量用ビームの物体表面上にお
ける移動を実現せしめるべく配置される。この目的のた
めに、掃引の後、測量用ビームを例えば第2a図に示し
たX方向に変位させ、第2の掃引が前掃引の面に平行な
平面において行なわれるようにする。この様にして、物
体表面は、例えば1掃引当り115Δz 湧1定という
測定速度及び1秒間に10掃引という走査速度をもって
、系統的に走査される。本発明測量方式の受光部は、電
磁波案内手段が、測量用ビームの一回の掃引運動の間に
連続的に照射された表面部位を、電磁波感応検知器上に
、等時的に移動し、且つ該表面部位に対応するス、1ヒ
ツトとして結像させるべく作動するように配置される。
用イたΔZ?1Ill定の性能により、このビームによ
り照射された表面部位の深さのみを測定することができ
る。しかし、物体の表面輪郭、表面起伏の屓(11定を
可能にするために、しばしばこのような測定を測量用ビ
ームの異なった位置について行なうことが望1れる。更
に、多数の異なった表面部位に対して短時間に測定を行
なうこと(例えば1秒間に1000以上の測定)もしば
しば望まれる。本発明の更なる態様によれば、1lll
lllllll元方は、好ましくは相互に平行な平面(
例えば第2図に示したYZ面に平行な平面)における一
連の掃引運動に従って、測量用ビームの物体表面上にお
ける移動を実現せしめるべく配置される。この目的のた
めに、掃引の後、測量用ビームを例えば第2a図に示し
たX方向に変位させ、第2の掃引が前掃引の面に平行な
平面において行なわれるようにする。この様にして、物
体表面は、例えば1掃引当り115Δz 湧1定という
測定速度及び1秒間に10掃引という走査速度をもって
、系統的に走査される。本発明測量方式の受光部は、電
磁波案内手段が、測量用ビームの一回の掃引運動の間に
連続的に照射された表面部位を、電磁波感応検知器上に
、等時的に移動し、且つ該表面部位に対応するス、1ヒ
ツトとして結像させるべく作動するように配置される。
換言すれば、測量用ビームの各々の角位置において、掃
引の間に照射された物体スポットは電磁波感応検知器上
に相応する明確なスポットとしてくっきりと結像される
。
引の間に照射された物体スポットは電磁波感応検知器上
に相応する明確なスポットとしてくっきりと結像される
。
上述せる目的に適合する一つの実施態様において、測量
用ビームの望ましい掃引運動は、測量用ビーム鏡を用い
ることによって達成される。測量用ビーム鏡はシャフト
の周囲を枢動運動するべく設置されており、固定された
集光レンズ及び光源よシ発する測量用ビームが該鏡上に
向けられるようになっている。シャフトは駆動機構に連
結しており、該駆動機構はこのシャフトにそして測量用
ビーム鏡に望−ましい掃引角度の往復掃引運動を与える
役割を果たす。この様にして、測量用ビームは例えば第
2a図に示すYZ面において、望ましい角距離で掃引さ
れる。本発明の好ましい態様においては、反射電磁波を
受けるための鏡を更に用いる。この反射電磁波受光鏡も
又、上記のシャフトの周囲を枢動運動するべく設置され
ておシ、且つ、画情用ビーム鏡に相対して、駆動機構が
作動した際に、測量用ビーム鏡と反射電磁波受光鏡が等
時的な往復掃引運動を行なうように設置されている。こ
の様にして、測量用ビーム鏡によって照射された表面部
位は、受光鏡によって視察され、これらの表面部位より
発生する反射電磁波は受光鏡と固定された対物レンズを
経て同様に固定された検知器へ送られる。上述の構成は
、更に、同時的群1量用ビーム位置を示す位置信号を発
するところの測量用ビーム位置感知器をも包含する。表
面輪郭の測量に必要なデータはこのような位置信号より
発生する。この好適な態様において、掃引運動の開に抑
]量用ビームによって照射された物体スポットは、受光
部によって等時的に追跡され、その結果、物体スポット
に対応するスポットが検知器上に結像する。この様にし
て、走査期間内のいかなる時点においても、その空間容
積よりめる応答を知ることができ、これによって受光部
が実質的に、測量用ビームによって規定された空間容積
より発生する反射電磁波に対してのみ応答することを確
実化する。換言すれば、この空間容積部分外に位置する
偽放射原は測定にほとんど影響を与えない。このことは
、この測定方式が申し分のない信号対ノイズ比を有する
ことを意味する。
用ビームの望ましい掃引運動は、測量用ビーム鏡を用い
ることによって達成される。測量用ビーム鏡はシャフト
の周囲を枢動運動するべく設置されており、固定された
集光レンズ及び光源よシ発する測量用ビームが該鏡上に
向けられるようになっている。シャフトは駆動機構に連
結しており、該駆動機構はこのシャフトにそして測量用
ビーム鏡に望−ましい掃引角度の往復掃引運動を与える
役割を果たす。この様にして、測量用ビームは例えば第
2a図に示すYZ面において、望ましい角距離で掃引さ
れる。本発明の好ましい態様においては、反射電磁波を
受けるための鏡を更に用いる。この反射電磁波受光鏡も
又、上記のシャフトの周囲を枢動運動するべく設置され
ておシ、且つ、画情用ビーム鏡に相対して、駆動機構が
作動した際に、測量用ビーム鏡と反射電磁波受光鏡が等
時的な往復掃引運動を行なうように設置されている。こ
の様にして、測量用ビーム鏡によって照射された表面部
位は、受光鏡によって視察され、これらの表面部位より
発生する反射電磁波は受光鏡と固定された対物レンズを
経て同様に固定された検知器へ送られる。上述の構成は
、更に、同時的群1量用ビーム位置を示す位置信号を発
するところの測量用ビーム位置感知器をも包含する。表
面輪郭の測量に必要なデータはこのような位置信号より
発生する。この好適な態様において、掃引運動の開に抑
]量用ビームによって照射された物体スポットは、受光
部によって等時的に追跡され、その結果、物体スポット
に対応するスポットが検知器上に結像する。この様にし
て、走査期間内のいかなる時点においても、その空間容
積よりめる応答を知ることができ、これによって受光部
が実質的に、測量用ビームによって規定された空間容積
より発生する反射電磁波に対してのみ応答することを確
実化する。換言すれば、この空間容積部分外に位置する
偽放射原は測定にほとんど影響を与えない。このことは
、この測定方式が申し分のない信号対ノイズ比を有する
ことを意味する。
この場合には、上述の態様の受光部(receivin
gmir+or )を装備しており、走査中に受光部の
コンポーネントを測量用ビームと一緒に動かす必要はな
い。又、原則として、空間に固定して取シ付けた可動コ
ンポーネントのない受光部を使用しても得られる結果は
同様である。しかしながら、相応な信号対ノイズ比を達
成するには、二次元検知器を用いる必要がある。この二
次元検知器は二次元検知器平面の測量用ビームと等時的
に電磁波感応検知器の直線状部分を動かすように作用す
る制御手段を有する。
gmir+or )を装備しており、走査中に受光部の
コンポーネントを測量用ビームと一緒に動かす必要はな
い。又、原則として、空間に固定して取シ付けた可動コ
ンポーネントのない受光部を使用しても得られる結果は
同様である。しかしながら、相応な信号対ノイズ比を達
成するには、二次元検知器を用いる必要がある。この二
次元検知器は二次元検知器平面の測量用ビームと等時的
に電磁波感応検知器の直線状部分を動かすように作用す
る制御手段を有する。
本4111量方式がかなりの偽電磁波を発生する場所の
近くで使用する場合、例えば本発明の測量方式を自動溶
接に用いる場合には、偽電磁波の検知器への影響をなく
するために、次に述べる附加的な手段をとることができ
る。すなわち、本発明の更なる態様は、偽光電磁波のス
ペクトルが「谷間帯域(valley zones )
Jを示し、又該谷間帯域に相当する波長の電磁波を発
する単色電磁波源が入手可能であるという事実を利用し
たものである。本発明によれば、単色電磁波源としてヘ
リウム−ネオン(I4e −Ne )レーザーが使用さ
れ、干渉フィルターなどの光学帯域通過フィルターが検
知器の空間視角内に取りつけられる。このフィルターの
通過帯域にはレーザーにより発せられた電磁波の波長に
相当する波長が含まれる。この方法によシ偽電磁波の影
響を効率よく取シ除くことができる。
近くで使用する場合、例えば本発明の測量方式を自動溶
接に用いる場合には、偽電磁波の検知器への影響をなく
するために、次に述べる附加的な手段をとることができ
る。すなわち、本発明の更なる態様は、偽光電磁波のス
ペクトルが「谷間帯域(valley zones )
Jを示し、又該谷間帯域に相当する波長の電磁波を発
する単色電磁波源が入手可能であるという事実を利用し
たものである。本発明によれば、単色電磁波源としてヘ
リウム−ネオン(I4e −Ne )レーザーが使用さ
れ、干渉フィルターなどの光学帯域通過フィルターが検
知器の空間視角内に取りつけられる。このフィルターの
通過帯域にはレーザーにより発せられた電磁波の波長に
相当する波長が含まれる。この方法によシ偽電磁波の影
響を効率よく取シ除くことができる。
上記の態様では、反射電磁波は単一の伝送路を通って検
知器迄進む。このため、測量用ビームが物体表面から検
知器の方向に複数回反射されることによって生ずるいわ
ゆる「偽反射」が測量結果に悪影響を及ぼす場合がでて
くる。従って、上記の態様を変更し、このような偽反射
の影響を効率よく取り除くことが好ましい。次にこのよ
うな目的に適した態様の数多くの例を述べる。第4図に
示した本発明による測量方式の態様は測量用電磁波源1
からなる。本発明においては光電磁波が好ましく用いら
れ、特に好ましいものはレーザーにより生じた電磁波で
ある。しかしながら、電磁波源は上記のものに限定され
るものではない。以下説明の簡略化のため、電磁波源と
して光電磁波を使用する。集光レンズ及び光案内手段を
包含する光学系2を通って、電磁波源により発せられた
測量用電磁波である光電磁波が、測量用ビーム3の形で
被検査物体表面Zに投射される。第4図では、物体表面
Zの部分はハツチングにより示しである。
知器迄進む。このため、測量用ビームが物体表面から検
知器の方向に複数回反射されることによって生ずるいわ
ゆる「偽反射」が測量結果に悪影響を及ぼす場合がでて
くる。従って、上記の態様を変更し、このような偽反射
の影響を効率よく取り除くことが好ましい。次にこのよ
うな目的に適した態様の数多くの例を述べる。第4図に
示した本発明による測量方式の態様は測量用電磁波源1
からなる。本発明においては光電磁波が好ましく用いら
れ、特に好ましいものはレーザーにより生じた電磁波で
ある。しかしながら、電磁波源は上記のものに限定され
るものではない。以下説明の簡略化のため、電磁波源と
して光電磁波を使用する。集光レンズ及び光案内手段を
包含する光学系2を通って、電磁波源により発せられた
測量用電磁波である光電磁波が、測量用ビーム3の形で
被検査物体表面Zに投射される。第4図では、物体表面
Zの部分はハツチングにより示しである。
又、破線2=0は各距離Δ2を測定するための基準レベ
ルを示し、MGは測量帯域の範囲を表わす。
ルを示し、MGは測量帯域の範囲を表わす。
測量用ビームは物体表面の点Pに光スポラ1−を生これ
らの反射光伝送チャンネルの各々は光感応検知器6及び
7の受光端に連結する場合もある。この光感応検知器6
及び7は、それぞれ異なった形の対応信号、好ましくは
電気信号に転換できるものである。この2つの伝送路チ
ャンネルは同一であり、測遇用ビームを含みかつ図面の
平面に対して垂直に延びている虚「測量用ビーム平面」
に対して鏡面対称であるところの構成を規定する。
らの反射光伝送チャンネルの各々は光感応検知器6及び
7の受光端に連結する場合もある。この光感応検知器6
及び7は、それぞれ異なった形の対応信号、好ましくは
電気信号に転換できるものである。この2つの伝送路チ
ャンネルは同一であり、測遇用ビームを含みかつ図面の
平面に対して垂直に延びている虚「測量用ビーム平面」
に対して鏡面対称であるところの構成を規定する。
このよう(シて、その場所Pが測量用ビーム面と物体表
面の交叉部分によって定められている測量用光スポット
は、2つの検知器6と7の上に検知器スポット位置δ。
面の交叉部分によって定められている測量用光スポット
は、2つの検知器6と7の上に検知器スポット位置δ。
1とδ。21からそれぞれ等距離に位置する検知器スポ
ットδ、1及びδ2□lとして像が映される。検知器6
と7の出力はそれぞれコンパレーター8の第1人力、第
2人力にそれぞれ接続する。例として、検知器6と7の
各々は一定の数の検出セルを有する電荷結合素子(CC
D)と仮定される。測量を行なっている間、っt、1距
離ΔZの1f(11定の際に、この2つのCCDの内容
物は非常にシフトアウトし、その結果、時間関数信号(
timefunction signal )が各々の
検知器の出力で生みだされ、その信号においてδP1又
はδP2などの光スポツト位置は時間間隔で表わされる
。コン・ぐレータ−は作動してそれに向けられた同期検
知器信号を互いに増幅させる。このことは測量用ビーム
面に位置する物体光スポット、つまり対称回はコンパレ
ーターの出力部分でかなシの出力信号を生み出すことを
意味している。上記のように配置された1llll 置
方式において、実際上側量用ビーム面(対称面)に位置
する物体光スポットだけが、相関している結像スポット
としてその2つの検知器に像が映され、各々の検知器の
表面上のそのスポットの位置によって、測定すべき距離
Δ2に関する情報が提供されることが事実上確かなもの
とされる。
ットδ、1及びδ2□lとして像が映される。検知器6
と7の出力はそれぞれコンパレーター8の第1人力、第
2人力にそれぞれ接続する。例として、検知器6と7の
各々は一定の数の検出セルを有する電荷結合素子(CC
D)と仮定される。測量を行なっている間、っt、1距
離ΔZの1f(11定の際に、この2つのCCDの内容
物は非常にシフトアウトし、その結果、時間関数信号(
timefunction signal )が各々の
検知器の出力で生みだされ、その信号においてδP1又
はδP2などの光スポツト位置は時間間隔で表わされる
。コン・ぐレータ−は作動してそれに向けられた同期検
知器信号を互いに増幅させる。このことは測量用ビーム
面に位置する物体光スポット、つまり対称回はコンパレ
ーターの出力部分でかなシの出力信号を生み出すことを
意味している。上記のように配置された1llll 置
方式において、実際上側量用ビーム面(対称面)に位置
する物体光スポットだけが、相関している結像スポット
としてその2つの検知器に像が映され、各々の検知器の
表面上のそのスポットの位置によって、測定すべき距離
Δ2に関する情報が提供されることが事実上確かなもの
とされる。
これらの検知器の各々が読み出される時に、時間関数信
号は、各々の検知器出力部におけるそのような位11σ
関数信号から導き出される。2つの検知器の出力で発生
した2つの時間関数信号は同様に相関する。このことは
、コンパレーターによって行なわれる2つの検知器出力
信号の増幅が、各々のΔZの迎1定が°′良好″である
かどうか、言い換えれば41]1定の結果が前述の対称
面に位置する物体光スポットに関係しているかどうかの
判断を下す根拠となる波形を有する生成信号となシ、又
一方では各々の信号の時間位置が測定距離Δ2に関する
情報を提供することを意味している。
号は、各々の検知器出力部におけるそのような位11σ
関数信号から導き出される。2つの検知器の出力で発生
した2つの時間関数信号は同様に相関する。このことは
、コンパレーターによって行なわれる2つの検知器出力
信号の増幅が、各々のΔZの迎1定が°′良好″である
かどうか、言い換えれば41]1定の結果が前述の対称
面に位置する物体光スポットに関係しているかどうかの
判断を下す根拠となる波形を有する生成信号となシ、又
一方では各々の信号の時間位置が測定距離Δ2に関する
情報を提供することを意味している。
第5図は4111量用ビ一ム面(つまシ図の面に対して
垂直に延び、又測定用ビームMBを含む対称面〕に位置
する物体光スポラ)Pだけでなく、偽反射R1つまりこ
の対称面の外側に位置する偽のスポットも、各々の受光
路OTI及びOT2を経て2つの検知器D1とD2の上
に結像スポットとして投射される。結像スポットδ、1
とδ1□に対応する2つの検知器から読み出されるこ、
とによって得られる出力信号のこれらの部分(物体光ス
ポットPの投射)は相関しており、一方結像スボ、トδ
R1とδR2に対応する信号部分(偽反射Rの投射)は
相関していない。言い換えれば、コンノやレータ−に向
けられた2つの検知器出力信号に対しての増幅は、この
コンパレーター 出すことになり、この生成信号の粍像スポットδP1と
δp2の生成物に対応する信号部分はこの生成信号の残
シの部分とは明らかに区別される。従って、ここで取り
扱っている配置は、対称面の外側に位置する物体スポッ
トによって引き起こされる偽反射又は偽信号に関して判
別能力を有している。
垂直に延び、又測定用ビームMBを含む対称面〕に位置
する物体光スポラ)Pだけでなく、偽反射R1つまりこ
の対称面の外側に位置する偽のスポットも、各々の受光
路OTI及びOT2を経て2つの検知器D1とD2の上
に結像スポットとして投射される。結像スポットδ、1
とδ1□に対応する2つの検知器から読み出されるこ、
とによって得られる出力信号のこれらの部分(物体光ス
ポットPの投射)は相関しており、一方結像スボ、トδ
R1とδR2に対応する信号部分(偽反射Rの投射)は
相関していない。言い換えれば、コンノやレータ−に向
けられた2つの検知器出力信号に対しての増幅は、この
コンパレーター 出すことになり、この生成信号の粍像スポットδP1と
δp2の生成物に対応する信号部分はこの生成信号の残
シの部分とは明らかに区別される。従って、ここで取り
扱っている配置は、対称面の外側に位置する物体スポッ
トによって引き起こされる偽反射又は偽信号に関して判
別能力を有している。
本発明の更に別の態様によれば、第4図及び第5図に参
照して記述した実施態様は、2つの別個の検知器の代わ
シにただ1つの検知器を用いるという意味において簡略
化することができる。第6図はそのような1個の検知器
を用いた本発明の創世方式の基本的な実施態様を概略的
に示している。
照して記述した実施態様は、2つの別個の検知器の代わ
シにただ1つの検知器を用いるという意味において簡略
化することができる。第6図はそのような1個の検知器
を用いた本発明の創世方式の基本的な実施態様を概略的
に示している。
原則的にこの実施態様は第4図に示されるものと同一で
ある。丁度第4図の実施態様と同じように、第6図の実
施態様は、本質的に鏡面対称配置となるように測量用ビ
ーム面又は対称面に対して配列・配向された第1反射電
磁波伝送路及び第2反射電磁波伝送路を有する。
ある。丁度第4図の実施態様と同じように、第6図の実
施態様は、本質的に鏡面対称配置となるように測量用ビ
ーム面又は対称面に対して配列・配向された第1反射電
磁波伝送路及び第2反射電磁波伝送路を有する。
特に、第1及び第2伝送路はそれぞれ入光案内装置IG
I及びIG2を包含する。これら入光案内装置はそれぞ
れ、物体表面からの反射電磁波を受光し各々連係対物レ
ンズOLI及びOL2の方向に向は該電磁波を偏向せし
めるべく作用する光反射器表面RVI及びRV2を持つ
。上記2個の対物レンズは光学的にビーム分割器BSに
連結している。このビーム分割器は2個のプリズムPR
1及びPR2より構成されており、これらのプリズムは
プリズム面−面を共有して互に固着されている。この共
通プリズム面は対物レンズOLIから発する反射電磁波
を部分的に反射させ、対物レンズOL2から発する反射
電磁波を部分的に透過させる。この構造は、共通プリズ
ム面よシ反射される電磁波とこの面を通過する電磁波が
共に両反射電磁波伝送路に共通な検知器GDに向うよう
に編成されている。もしこの配置が本質的に完全な鏡面
対称の構成になっている時は、測量用ビーム平面又は対
称面内に位置する各物体スポットから生じる反射電磁波
は、該2個の伝送路を通じ検知器上に、偽反射または偽
信号の結果この検知器上に形成される他の画像スポット
から強度の差で識別される単一のスポットとして結像さ
れる。原則として、上記の方法により、識別能力が得ら
れる。この識別能力にょシ゛′正″反射を偽反射または
偽信号から識別することが可能となる。しかし、上記の
識別能力は、本発明の別の態様として、該2個の反射電
磁波伝送路により形成される構造中にわずがな不斉因子
を導入することに、]]ニジ一層効率的つ実際的となる
。
I及びIG2を包含する。これら入光案内装置はそれぞ
れ、物体表面からの反射電磁波を受光し各々連係対物レ
ンズOLI及びOL2の方向に向は該電磁波を偏向せし
めるべく作用する光反射器表面RVI及びRV2を持つ
。上記2個の対物レンズは光学的にビーム分割器BSに
連結している。このビーム分割器は2個のプリズムPR
1及びPR2より構成されており、これらのプリズムは
プリズム面−面を共有して互に固着されている。この共
通プリズム面は対物レンズOLIから発する反射電磁波
を部分的に反射させ、対物レンズOL2から発する反射
電磁波を部分的に透過させる。この構造は、共通プリズ
ム面よシ反射される電磁波とこの面を通過する電磁波が
共に両反射電磁波伝送路に共通な検知器GDに向うよう
に編成されている。もしこの配置が本質的に完全な鏡面
対称の構成になっている時は、測量用ビーム平面又は対
称面内に位置する各物体スポットから生じる反射電磁波
は、該2個の伝送路を通じ検知器上に、偽反射または偽
信号の結果この検知器上に形成される他の画像スポット
から強度の差で識別される単一のスポットとして結像さ
れる。原則として、上記の方法により、識別能力が得ら
れる。この識別能力にょシ゛′正″反射を偽反射または
偽信号から識別することが可能となる。しかし、上記の
識別能力は、本発明の別の態様として、該2個の反射電
磁波伝送路により形成される構造中にわずがな不斉因子
を導入することに、]]ニジ一層効率的つ実際的となる
。
第6図の具体例において、上記の不斉因子は、対称平面
中に位置する物体スポットから生じる反射電磁波が毎回
、検知器上に所定間隔をおいて存在する2個の相異なる
結像スポットとして結像するように共通の検知器GDか
ら所定の光学距離をおいて対物レンズOLI及びOL2
f:設置することにより得られる。検知器の″フィー
ルド角(fieldangle ) ” 内にあるが、
この対称面の外にあるところの点から発生する反射電磁
波もしくは偽電磁波は、この検知器上に、このような一
定の距離をもって隔てることのできない1つ以上のスポ
ットとして結像される。この態様において、検知器読み
出しによって得られた出力信号をめる検知器信号、即ち
、一定の距離をもって隔てられた2つの信号ピークを有
する信号、の形態を有する所定のフィルター関数によっ
て乗じなければならないこのことは、例えば、検知器の
出力信号を所定数の記憶位置を有するシフトレノスター
(shiftregister )に入力し、又、検知
器読み出し信号がシフトレジスター内に存在する間、補
助的な信号結像をシフトレジスターに供給し、レジスタ
ーから移行した信号を、鮮明に認知し得る、パ真″反射
を示すところの生成信号とすることにより実現し得る。
中に位置する物体スポットから生じる反射電磁波が毎回
、検知器上に所定間隔をおいて存在する2個の相異なる
結像スポットとして結像するように共通の検知器GDか
ら所定の光学距離をおいて対物レンズOLI及びOL2
f:設置することにより得られる。検知器の″フィー
ルド角(fieldangle ) ” 内にあるが、
この対称面の外にあるところの点から発生する反射電磁
波もしくは偽電磁波は、この検知器上に、このような一
定の距離をもって隔てることのできない1つ以上のスポ
ットとして結像される。この態様において、検知器読み
出しによって得られた出力信号をめる検知器信号、即ち
、一定の距離をもって隔てられた2つの信号ピークを有
する信号、の形態を有する所定のフィルター関数によっ
て乗じなければならないこのことは、例えば、検知器の
出力信号を所定数の記憶位置を有するシフトレノスター
(shiftregister )に入力し、又、検知
器読み出し信号がシフトレジスター内に存在する間、補
助的な信号結像をシフトレジスターに供給し、レジスタ
ーから移行した信号を、鮮明に認知し得る、パ真″反射
を示すところの生成信号とすることにより実現し得る。
換言すれば、検知器出力信号は自動訂正操作により最適
にフィルターされる。実際、この目的のため、検知器信
号f (x)がそれぞれの信号セグメントについて信号
f(x+ΔT)によって乗じられ、これらの生成信号が
融合することによりΔTの関数であるところの信号が主
1れる。このようにして、偽反射が自動訂正操作によっ
て抑制されるため、偽反射及び偽信号は真信号よシ消滅
する。
にフィルターされる。実際、この目的のため、検知器信
号f (x)がそれぞれの信号セグメントについて信号
f(x+ΔT)によって乗じられ、これらの生成信号が
融合することによりΔTの関数であるところの信号が主
1れる。このようにして、偽反射が自動訂正操作によっ
て抑制されるため、偽反射及び偽信号は真信号よシ消滅
する。
特殊な状況下においては、特殊なタイプの゛偽反射、即
ち、上述せる一定の距離をもって隔てられた2つのピー
クを有する検知器出力信号をもたらすような偽反射が発
生する。このような偽反射は、ゆえに、上述せる識別操
作の際にそれとして認知することができない。よって、
誤った測定につながる。この問題を解決するため、第6
図に示す態様においては、第6図に示す状態において図
面の平面に対して垂直に延びる2つの反射器表面を等角
度で傾斜させてもよい。第6図に示す様に、反射器表面
を傾斜させる場合の軸とは反射器表面と図面平面の相変
わる線である。このように、反射器表面を傾けて設置す
ると、空間に延びている直線、特に測量用ビーム平面に
延びかつ図面の平面で鋭角を包囲している直線が明確に
なる。このような直線に沿って反射される電磁波のみが
2つの伝送路を通って検知器に到達することができる。
ち、上述せる一定の距離をもって隔てられた2つのピー
クを有する検知器出力信号をもたらすような偽反射が発
生する。このような偽反射は、ゆえに、上述せる識別操
作の際にそれとして認知することができない。よって、
誤った測定につながる。この問題を解決するため、第6
図に示す態様においては、第6図に示す状態において図
面の平面に対して垂直に延びる2つの反射器表面を等角
度で傾斜させてもよい。第6図に示す様に、反射器表面
を傾斜させる場合の軸とは反射器表面と図面平面の相変
わる線である。このように、反射器表面を傾けて設置す
ると、空間に延びている直線、特に測量用ビーム平面に
延びかつ図面の平面で鋭角を包囲している直線が明確に
なる。このような直線に沿って反射される電磁波のみが
2つの伝送路を通って検知器に到達することができる。
その結果、2つの反射器を傾けて設置することにより、
反射電磁波が2つの伝送路を通って検帆口器上に突き当
たる部分を著しく減少することができる。言うまでもな
く、この変更態様では、測量用ビームは上述の直線に沿
って向けられる。
反射電磁波が2つの伝送路を通って検帆口器上に突き当
たる部分を著しく減少することができる。言うまでもな
く、この変更態様では、測量用ビームは上述の直線に沿
って向けられる。
第6図に示した態様には、コンポーネン)IGI。
IG2 、 OLI 、 OL2及びBSを単一ユニッ
トにする場合比較的かさばった装置となる欠点がある。
トにする場合比較的かさばった装置となる欠点がある。
この欠点は、三角測量原理を使用する場合には、物体表
面が観測されるある特定の最小角が必要であり、そして
、それゆえ、2つの入射光案内装置に1・ l/11目
中 六 七 1 ゴイ白喜a)」4二 犀と6)九 2
、四拍中 θ)晶/1、If匝が必要であることに起因
する。更に、第6に示した態様では各反射電磁波伝達路
にそれぞれ対物レンズが必要である。
面が観測されるある特定の最小角が必要であり、そして
、それゆえ、2つの入射光案内装置に1・ l/11目
中 六 七 1 ゴイ白喜a)」4二 犀と6)九 2
、四拍中 θ)晶/1、If匝が必要であることに起因
する。更に、第6に示した態様では各反射電磁波伝達路
にそれぞれ対物レンズが必要である。
ノ第7図に、第6図に示した態様に固有の上述の欠点を
取シ除いた本発明の好ましい態様を示す。
取シ除いた本発明の好ましい態様を示す。
この好ましい態様の動作は第6図に示した態様のものと
同様である。測量用ビーム平面に位置する各物体スポツ
)に由来する反射電磁波R及びTが第6図に示した各コ
ンボーネンl−(検出器と2つの対物レンズを除く)の
機能を結合した複合プリズムから所定の開口角度2δで
発する。単一の対物レンズ及び対物レンズと検知器間の
距離の選択によって、測量用ビーム平面に位置する物体
スポットに関しかつ複合プリズムから発する各反射電磁
波ビーム対が所定の間隔で2つの結像として検知器表面
上に投射される。本実施態様においては、* Aで表わされる角度は45°+δに等しく、Aで表わさ
れる角度は45°−δに等しい。
同様である。測量用ビーム平面に位置する各物体スポツ
)に由来する反射電磁波R及びTが第6図に示した各コ
ンボーネンl−(検出器と2つの対物レンズを除く)の
機能を結合した複合プリズムから所定の開口角度2δで
発する。単一の対物レンズ及び対物レンズと検知器間の
距離の選択によって、測量用ビーム平面に位置する物体
スポットに関しかつ複合プリズムから発する各反射電磁
波ビーム対が所定の間隔で2つの結像として検知器表面
上に投射される。本実施態様においては、* Aで表わされる角度は45°+δに等しく、Aで表わさ
れる角度は45°−δに等しい。
第6図及び第7図に参照して記述した実施態様において
、真反射と偽反射を区別する゛空間分割原理″が用いら
れている。しかし又、同じ目的のために゛時間分割原理
″′を用いることもできる。
、真反射と偽反射を区別する゛空間分割原理″が用いら
れている。しかし又、同じ目的のために゛時間分割原理
″′を用いることもできる。
第6図及び第7図の実施態様において、このことは入党
案内装置及び物体表面の間の投光路に設置された一対の
光学スイッチを用いなければならないことを意味するだ
ろう。これらの光学スイッチは逆位相で作動し、その結
果1つの光学スイッチが電磁波を通過させると、別の光
学スイッチが電磁波を妨害する。このようにして、2つ
の伝送チャンネルを経て検知器に向けられた反射電磁波
は、一つの伝送路に対応する第1時間チャンネル用の時
間スロット及び別の伝送路に対応する第2時間チャンネ
ル用の時間スロットを有する時間分割光信号の形でこの
検知器の所で提供される。2つの時間チャンネルは交互
に検知器に向けられ、その結果一つの検知器出力信号は
、2つの伝送路の時間分離情報を含んでいる。検知器出
力に接続されl た一つのプロセッサは、復調器を含ん
でおシ、この復調器はこれに向けられた1つの電気信号
から空間的に分離した2つの電気信号をつくるように作
動する。このうちの一つの電気信号は1つの伝送路に対
応し、別の電気信号は別の伝送路に対応する。この二つ
の空間的に分離された電気信号はコンパレーターによっ
て相互に比較でき偽反射と真反射を区別する。
案内装置及び物体表面の間の投光路に設置された一対の
光学スイッチを用いなければならないことを意味するだ
ろう。これらの光学スイッチは逆位相で作動し、その結
果1つの光学スイッチが電磁波を通過させると、別の光
学スイッチが電磁波を妨害する。このようにして、2つ
の伝送チャンネルを経て検知器に向けられた反射電磁波
は、一つの伝送路に対応する第1時間チャンネル用の時
間スロット及び別の伝送路に対応する第2時間チャンネ
ル用の時間スロットを有する時間分割光信号の形でこの
検知器の所で提供される。2つの時間チャンネルは交互
に検知器に向けられ、その結果一つの検知器出力信号は
、2つの伝送路の時間分離情報を含んでいる。検知器出
力に接続されl た一つのプロセッサは、復調器を含ん
でおシ、この復調器はこれに向けられた1つの電気信号
から空間的に分離した2つの電気信号をつくるように作
動する。このうちの一つの電気信号は1つの伝送路に対
応し、別の電気信号は別の伝送路に対応する。この二つ
の空間的に分離された電気信号はコンパレーターによっ
て相互に比較でき偽反射と真反射を区別する。
本発明の測量方式の別の実施態様においては、検知器出
力信号を処理しフィルターするための手段の構成部品と
していわゆる整合フィルターのような波形センシティブ
フィルターと組合せて、所定の特異な性質を導入した測
量用ビームを用いることができる。
力信号を処理しフィルターするための手段の構成部品と
していわゆる整合フィルターのような波形センシティブ
フィルターと組合せて、所定の特異な性質を導入した測
量用ビームを用いることができる。
通常、測量用ビームの強度分布はガウス曲線によって特
徴づけることができる。所望の分布曲線を有する非対称
強度分布は、例えば、測量用ビームの光路に適当なマス
クを設置することによって得られる。整合フィルターは
、パ非対称″測量用ビームによって形成される物体スポ
ットが検知器に映されるときに、通過波形が予想される
単一波形に対応するよう寸法が取られている。特に対称
面に位置する物体スポット、つまり真反射を表わす物体
スポットは検知器スポットになり、従って重要な非対称
ピーク形を有する検知器出力信号になる。対称面(測量
用ビーム平面)の外に位置する物体スポットは、結合フ
ィルターの透過特性に対応しない信号波形を、検知器上
に結像する時、ムの二重反射を意味するので、これらの
偽反射は検知器スポットを生じることになり1従って、
正反射に関連するピーク形態の鏡像であるピーク形出力
信号が偽反射、正反射のいずれを示唆するか簡単な手段
で確認するための明確な基準を提供する。このようにし
て、上記偽反射を正反射から効果的に識別することがで
きる。
徴づけることができる。所望の分布曲線を有する非対称
強度分布は、例えば、測量用ビームの光路に適当なマス
クを設置することによって得られる。整合フィルターは
、パ非対称″測量用ビームによって形成される物体スポ
ットが検知器に映されるときに、通過波形が予想される
単一波形に対応するよう寸法が取られている。特に対称
面に位置する物体スポット、つまり真反射を表わす物体
スポットは検知器スポットになり、従って重要な非対称
ピーク形を有する検知器出力信号になる。対称面(測量
用ビーム平面)の外に位置する物体スポットは、結合フ
ィルターの透過特性に対応しない信号波形を、検知器上
に結像する時、ムの二重反射を意味するので、これらの
偽反射は検知器スポットを生じることになり1従って、
正反射に関連するピーク形態の鏡像であるピーク形出力
信号が偽反射、正反射のいずれを示唆するか簡単な手段
で確認するための明確な基準を提供する。このようにし
て、上記偽反射を正反射から効果的に識別することがで
きる。
本発明の多数の具体的態様を上記に示したが、更に本明
細書及び特許請求の範囲に記載されている本発明の範囲
内において数多くの変更態様あるいは異なった態様が可
能であることは当業者に明らかである。又、上述したよ
うに、本発明の測量方式が物体の表面の輪郭の抑1定に
適したものであるための投光部と受光部の条件は第4〜
7図に示した態様に適用されることは言うまでもない。
細書及び特許請求の範囲に記載されている本発明の範囲
内において数多くの変更態様あるいは異なった態様が可
能であることは当業者に明らかである。又、上述したよ
うに、本発明の測量方式が物体の表面の輪郭の抑1定に
適したものであるための投光部と受光部の条件は第4〜
7図に示した態様に適用されることは言うまでもない。
・4、図面の簡単な説明
第1図は物体表面上の点と基準レベル間の距離の測定の
ための三角測量原理の応用を示す線図である。
ための三角測量原理の応用を示す線図である。
第2a図と第2b図はパックグラウンド電磁波に対する
応答が顕著に減少する本発明測量方式の具体例を示す線
図である。
応答が顕著に減少する本発明測量方式の具体例を示す線
図である。
第3図は測量用電磁波の集光ビームの測量帯域の縦断面
図を示す線図であり、図示せる形態は、検知器上への物
体スポットの実質的に均一な投射を行なうために特に好
適な形態である。
図を示す線図であり、図示せる形態は、検知器上への物
体スポットの実質的に均一な投射を行なうために特に好
適な形態である。
第4図は2体の別々の測量用光学チャンネルを用いた、
本発明測量方式の一実施態様を示す線図である。
本発明測量方式の一実施態様を示す線図である。
第5図は第4図に示す態様を用いることにより、偽反射
の発生を防止する方法を示す線図である。
の発生を防止する方法を示す線図である。
第6図は本発明測量方式の簡易化された態様を示す線図
である。
である。
第7図は第6図に示す態様の変形例を示す線図である。
1・・・測量用電磁波源、2・・・光学系、3・・・測
量用ビーム、4・・・第1反射光投光チャンネル、5・
・・第2反射光投光チャンネル、6,7・・・光感応検
知器、8・・コンノ9レータ−
量用ビーム、4・・・第1反射光投光チャンネル、5・
・・第2反射光投光チャンネル、6,7・・・光感応検
知器、8・・コンノ9レータ−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 測量用電磁波を発生せしめるところの光源及び測量
用電磁波を案内して測量用電磁波のビームを形成せしめ
且つ該測量用電磁波のビームが被検査物体表面に投射さ
れるに際して通過するところの投光路を規定する測量用
電磁波案内手段を含む投光部と一反射電磁波を案内する
反射電磁波案内手段及び反射電磁波に感応し且つ受光し
た反射電磁波を異なった種類の対応する信号に変換せし
めるように作動する電磁波感応検知器とを包含し;該反
射電磁波案内手段は測量用電磁波のビームの物体表面へ
の投射により生ずる電磁波スポツトから発生する反射電
磁波を反射電磁波のビームに編成し且つ該反射電磁波の
ビームが電磁波感応検知器に投射されるに際して通過す
るところの受光路を規定するように構成されてなる三角
測量原理に基づく測定法を用いた、物体表面上の点と基
準レベルとの間の距離を非接触的に測定するための測量
方式にして:該検知器は実質的に直線の部分においての
み電磁波に感応すること、及び該測量用電磁波ビームは
その長手方向の断面が測量帯域を構成し、該測量用電磁
波ビームにより照射される物体表面の部位のみが該検知
器の上記の直線状電磁波感応部に集光スポットとして結
像されることを特徴とする測量方式。 2 上記測量用電磁波案内手段が集光レンズを包含し、
測量用電磁波ビームの断面積がビーム方向の距離のr6
数として変化するように該集光レンズは測量用電磁波を
集光するように作用し、それによって上記測量帯域中に
形成されるすべての物体スポットが実質的に同一サイズ
のスポットとして該電磁波感応検知器に結像されること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の測量方式。 3、 上記光源が単色電磁′波を発射し、該電磁波の波
長が予想される余分のバックグラウンド電磁波の波長成
分の存在が少ないスペクトルの部分にあるように選択さ
れ、且つ、該検知器の空間視角の中に光学的バンド通過
フィルターを設け、該フィルターを通過するバンドの波
長、好ましくはその平均波長が上記単色電磁波の波長に
対応することを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第
2項記載の測量方式。 4 上記測量用電磁波案内手段が駆動手段と結合されて
測量用電磁波ビームをして測定平面上を走査運動するよ
うにせしめ、且つ、上記反射電磁波案内手段がIII
lit用電磁電磁波ビーム査中に該ビームによって照射
される物体スポットを、該物体スポットと等時的に動く
集光スポットとして上記検知器の実質的に直線状の電磁
波感応部分に結像することを特徴とする特許請求の範囲
第1〜3項のいずれかに記載の測量方式。 5 上記反射電磁波案内手段が、上記した第1の受光路
に加え、該第1の受光路と共働して測量用ビーム平面即
ち測量用ビームを含む平面に対して鏡面対称を形成する
第2の受光路を規定し、各物体スポットに由来し上記第
2の受光路によって案内される反射電磁波を第2の別の
電磁波感応検知器に投射すること、及び、上記2つの電
磁波感応検知器の出力をコン・ぐレータ−に結合して、
物体表面からの測量用電磁波ビームの単一反射によって
得られる反射電磁波が有効な信号を提供するように2つ
の検知器から出される出力信号を比較することを特徴と
する特許請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の測量
方式。 6 上記反射電磁波案内手段が上記した第1の受光路に
加えて第2の受光路を規定し、各物体スポットから延び
る第2受光路の最初の部分が上記第1の受光路の対応す
る最初の部分と共働して測定用電磁波ビーム平面即ち測
定用電磁波ビームを含む平面に対して鏡面対称形態を形
成し、上記第2受光路は各物体スホ、トに由来し該第2
受光路にそって案内される反射電磁波を上記電磁波感応
検知器に投射すること、及び、該検知器の出力を信号処
理手段に連結して、物体表面からの測定用電磁波ビーム
の単一反射によって得られる反射電磁波に応答して有効
信号が提供されるように検知器出力信号を処理すること
を特徴とする特許請求の範囲第1〜4項のいずれかに記
載の測量方式。 7 上記第2受光路の1部分を上記第1受光路の対応部
分から偏るように配向させ、該電磁波ビーム面と物体表
面との交叉によって規定される1つの且つ同一の物体ス
ポットに由来する反射電磁波を1つの受光路を経由して
該検知器に検知器スポットとして結像され、該検知器ス
ポットは上記物体の投射像として他の受光路を経由して
該検知器に結像される検知器ス&yトよシ所定距離をお
いて結像されること、及び、該信号処理手段は上記所定
距離に対応する間隔だけ離れている2つの別の信号成分
を含む検知器出力信号に関して自動相関機能を果すよう
に配設されていることを特徴とする特許請求の範囲第6
項記載の測量方式。 8、 上記反射電磁波案内手段が互いに結合して1つの
プリズム面を共有する2つのプリズムを含み、1つの受
光路を横断する反射電磁波は上記の共通プリズム面によ
って部分的に回折されないで上記検知器の方向へ通され
、他の受光路を横断する反射電磁波は部分的に反射され
て上記検知器の方向へ通されることを特徴とする特許請
求の範囲第6項又は第7項記載の測量方式。 9、 上記の2つの受光路の両方が物体表面に由来する
反射電磁波を上記共通プリズム面に向けられるように作
用する反射面を含み、該反射面のそれぞれが上記測量用
電磁波ビーム面に対して鏡面対称に延びる2つの父叉軸
のそれぞれに1つの且つ同一角度傾斜しておシ、且つ、
測量用電磁波ビームが上記第1及び第2の受光路に沿っ
て検知器に結像される際に経由する2つの平面の交叉線
に沿って迎1量用電磁波ビームが向けられることを特徴
とする特許請求の範囲第8項記載の測量方式。 10 上記共通7°リズム面が上記測量用電磁波ビーム
面に対して傾斜しておシ、傾斜角度は上記所定距離によ
って決まることを特徴とする特許請求の範囲第8項又は
第9項記載の坦1量方式。 11 上記の2つの受光路の両方が物体表面に由来する
反射電磁波を上記共通プリズム面に向けるように作用す
る反射面を含み、且つ該反射面の6各が該共通プリズム
面と共働して上記2つのプリズムの1つを形成している
ことを特徴とする特許請求の範囲第8〜10項のいずれ
かに記載の測量方式。 12 上記反射電磁波案内手段が上記した第1の受光路
に加えて第2の受光路を規定し、各物体ス目ヒ、トから
延びる第2受光路の最初の部分が上記第1の受光路の対
応する最初の部分と共働して測定用電磁波ビーム平面即
ち測量、用電磁波ビームを含む平面に対して鏡1’ll
対称形態を形成し、該鏡面対称形態の両方の最初の部分
が各光路を順次閉塞状態及び投光状態にするところの周
期的活性光放射スイッチを含んでいることにより第1及
び第2の時間チャンネ′ルを規定する連続時間スロット
に従がりて上記の1つ及び他の光路を経由して交互に反
射電磁波を上記電磁波感応検知器に与えること、及び、
上記検知器の出力を該第1時間チャンネル及び該第2時
間チャンネルの時間分割信号を2つの空間的に分離され
た信号に変換するように作動する検波器に連結し、且つ
、物体表面からの徂11量用電磁波ビームの単一反射に
よって得られる反射電磁波が有効な信号を提供するべく
上記の2つの空間的に分離された信号を互いに比較する
ように作動するコンパレーターに上記検知器の出力を連
結することを特徴とする特許請求の範囲第1〜4項のい
ずれか又は第6項に記載の測量方式。 13、上記投光部が非対称の強度分布を有する測量用電
磁波ビームで各物体表面を照射するためのビーム変形手
段を含んでいること、及び、上記受光部が信号処理器を
含み、上記測量用電磁波ビーム平面に位置し且つ上記測
量用電磁波ビームによって決められる非対称の強度分布
を有する物体スポットの上記検知器上の投射像である像
スポツl−に対応するところの該信号処理器に与えられ
る検知器出力信号の信号部分のみを通すように作動する
ことを特徴とする特許請求の範囲第1〜12項のいずれ
かに記載の測量方式。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8302228 | 1983-06-22 | ||
NL8302228A NL8302228A (nl) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | Meetstelsel voor het onder gebruikmaking van een op driehoeksmeting berustend principe, contactloos meten van een door een oppervlakcontour van een objectvlak gegeven afstand tot een referentieniveau. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6036908A true JPS6036908A (ja) | 1985-02-26 |
JPH0574764B2 JPH0574764B2 (ja) | 1993-10-19 |
Family
ID=19842055
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59127665A Granted JPS6036908A (ja) | 1983-06-22 | 1984-06-22 | 三角測量原理に基づく測定法を用いる、物体表面上の点と基準レベルとの間の距離を非接触的に測定するための測量方法 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4701049A (ja) |
EP (1) | EP0134597B2 (ja) |
JP (1) | JPS6036908A (ja) |
KR (1) | KR920009018B1 (ja) |
AT (1) | ATE44093T1 (ja) |
AU (1) | AU570474B2 (ja) |
BR (1) | BR8403060A (ja) |
CA (1) | CA1236904A (ja) |
DE (1) | DE3478714D1 (ja) |
IL (1) | IL72183A (ja) |
NL (1) | NL8302228A (ja) |
ZA (1) | ZA844707B (ja) |
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