JPS6035400B2 - 抗菌性洗浄剤組成物 - Google Patents
抗菌性洗浄剤組成物Info
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- JPS6035400B2 JPS6035400B2 JP18578680A JP18578680A JPS6035400B2 JP S6035400 B2 JPS6035400 B2 JP S6035400B2 JP 18578680 A JP18578680 A JP 18578680A JP 18578680 A JP18578680 A JP 18578680A JP S6035400 B2 JPS6035400 B2 JP S6035400B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、抗菌性洗浄剤組成物、さらに詳しくいえば固
体表面に繁殖しているかびやバクテリアを殺菌、洗浄除
去し、かつそれらの発生を防止する抗菌性洗浄剤組成物
に関する。
体表面に繁殖しているかびやバクテリアを殺菌、洗浄除
去し、かつそれらの発生を防止する抗菌性洗浄剤組成物
に関する。
近年、密閉性の高い住居が増加するにつれて、浴室、台
所などの比較的湿度の高い場所や、あるいは冷蔵庫内な
どにかびやバクテリアが繁殖し、不衛生になる場合が増
えてきている。
所などの比較的湿度の高い場所や、あるいは冷蔵庫内な
どにかびやバクテリアが繁殖し、不衛生になる場合が増
えてきている。
特に冷蔵庫内、カーペットなどでは食品汁、汚れなど栄
養源としてかびやバクテリアが繁殖するのが目立ってい
る。このようなかびやバクテリアの繁殖は、美観を損ね
たりあるいは悪臭の原因となるばかりでなく、かびの胞
子が小児期気管支ぜん息のアレルゲンとなったり、また
冷蔵庫内において細菌汚染を受けた食品が食中毒の原因
となったりする例がしばいま見られる。
養源としてかびやバクテリアが繁殖するのが目立ってい
る。このようなかびやバクテリアの繁殖は、美観を損ね
たりあるいは悪臭の原因となるばかりでなく、かびの胞
子が小児期気管支ぜん息のアレルゲンとなったり、また
冷蔵庫内において細菌汚染を受けた食品が食中毒の原因
となったりする例がしばいま見られる。
このようなかびやバクテリアによる被害を取り除き、衛
生的な環境を保持するためには、例えば存在するかびや
バクテリアを死滅させるか、長期にわたりかびやバクテ
リアの発生を抑制するか、あるいはかびやバクテリアの
栄養源である汚れを取り除くことが必要である。
生的な環境を保持するためには、例えば存在するかびや
バクテリアを死滅させるか、長期にわたりかびやバクテ
リアの発生を抑制するか、あるいはかびやバクテリアの
栄養源である汚れを取り除くことが必要である。
従来、これらの手段として各種の殺菌剤、防かび剤、洗
浄などが提案されている。
浄などが提案されている。
しかしながら、これまで殺菌、防かび及び洗浄を同時に
可能にするものや、防かび効果を長期間持続するような
ものは知られていない。本発明者らは、殺菌、防かび及
び洗浄を同時に行うことができ、かつ長期間効力が持続
するような組成物を開発するために鋭意研究を重ねた結
果、非イオン界面活性剤に、従来から抗菌性物質として
知られている２−（４−チアゾリル）ペンズィミダゾ−
ルと最鎖アルキルジメチルベンジルアンモニウム塩を添
加することによって目的を達成できることを見し、出し
、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
可能にするものや、防かび効果を長期間持続するような
ものは知られていない。本発明者らは、殺菌、防かび及
び洗浄を同時に行うことができ、かつ長期間効力が持続
するような組成物を開発するために鋭意研究を重ねた結
果、非イオン界面活性剤に、従来から抗菌性物質として
知られている２−（４−チアゾリル）ペンズィミダゾ−
ルと最鎖アルキルジメチルベンジルアンモニウム塩を添
加することによって目的を達成できることを見し、出し
、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、非イオン性界面活性剤、２−（４
−チアゾリル）ペンズイミダゾール及び長鎖アルキルジ
メチルベンジルアンモニゥム塩を含有することを特徴と
する抗菌性洗剤組成物を提供するものである。
−チアゾリル）ペンズイミダゾール及び長鎖アルキルジ
メチルベンジルアンモニゥム塩を含有することを特徴と
する抗菌性洗剤組成物を提供するものである。
本発明で用いる非イオン界面活性剤は、水溶性の非イオ
ン界面活性剤で、例えばボリオキシヱチレンンアルキル
エーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルェーテ
ル、グリセリン脂肪酸ェステル、ソルビタン脂肪酸ェス
テルなどがあり、好適なのはポリオキシェチレンアルキ
ルヱーテルである。
ン界面活性剤で、例えばボリオキシヱチレンンアルキル
エーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルェーテ
ル、グリセリン脂肪酸ェステル、ソルビタン脂肪酸ェス
テルなどがあり、好適なのはポリオキシェチレンアルキ
ルヱーテルである。
その使用量は、組成物をそのまま使用することも、また
希釈して使用することもあるので広範囲に変えられるが
、通常、組成物の重量基準で０．１〜２０％、好ましく
は０．５〜５％の範囲である。本発明で用いる長鎖アル
キルジメチルベンジルアンモニウム塩（以後、ＡＭＢと
略す）としては、長鎖アルキル基として炭素数１０〜２
０のものが好ましく、例えば塩化ペンザルコニゥムを挙
げることができる。本発明で用いる２−（４−チアゾリ
ル）ペンズィミダゾール（以後、Ｔ斑と略す）とＡＭＢ
は、いずれも抗菌、抗かび性化合物であり、それらを併
用することによって広範囲の菌に対して効果を示すよう
になり、また使用濃度も低くすることができる。
希釈して使用することもあるので広範囲に変えられるが
、通常、組成物の重量基準で０．１〜２０％、好ましく
は０．５〜５％の範囲である。本発明で用いる長鎖アル
キルジメチルベンジルアンモニウム塩（以後、ＡＭＢと
略す）としては、長鎖アルキル基として炭素数１０〜２
０のものが好ましく、例えば塩化ペンザルコニゥムを挙
げることができる。本発明で用いる２−（４−チアゾリ
ル）ペンズィミダゾール（以後、Ｔ斑と略す）とＡＭＢ
は、いずれも抗菌、抗かび性化合物であり、それらを併
用することによって広範囲の菌に対して効果を示すよう
になり、また使用濃度も低くすることができる。
本発明のＴＢＺとＡＭＢの使用比率は、９：１〜１：９
、好ましくは４：１〜１：４の範囲である。
、好ましくは４：１〜１：４の範囲である。
また、ＴＢＺとＡＭ旧の合計の使用量は、組成物重量基
準で０．１〜２％の範囲である。その量が０．１％より
少なければ抗菌、抗かび効果が不十分になるし、２％を
越えると均一溶液とするのが困難となる。また、ＴＢＺ
は水に対して難癖性のため、組成物は通常、水−低級ア
ルコール混合溶媒が用いられる。
準で０．１〜２％の範囲である。その量が０．１％より
少なければ抗菌、抗かび効果が不十分になるし、２％を
越えると均一溶液とするのが困難となる。また、ＴＢＺ
は水に対して難癖性のため、組成物は通常、水−低級ア
ルコール混合溶媒が用いられる。
低級アルコールとしては、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、イソプロパノールなどの１価アルコール、
及びエチレングリコール、プロピレングリコール、グリ
セリンなどの多価アルコールが挙げられるが、好ましく
はエタノールであり、それはまた多価アルコールを適当
量併用してもよい。本発明の抗菌性洗浄剤組成物は、従
来の薬剤にみられない殺菌、防かび洗浄を一度に可能に
する薬剤であり、その上防かび効果を長期間持続するこ
とができるすぐれた薬剤である。
ロパノール、イソプロパノールなどの１価アルコール、
及びエチレングリコール、プロピレングリコール、グリ
セリンなどの多価アルコールが挙げられるが、好ましく
はエタノールであり、それはまた多価アルコールを適当
量併用してもよい。本発明の抗菌性洗浄剤組成物は、従
来の薬剤にみられない殺菌、防かび洗浄を一度に可能に
する薬剤であり、その上防かび効果を長期間持続するこ
とができるすぐれた薬剤である。
次に実施例により本発明を更に詳細に説明する。
参考例 １
ＴＢＺ，ＡＭＢ及び両者の混合物の最小生育阻止濃度（
ＭＩＣ）を、次の方法により測定した。
ＭＩＣ）を、次の方法により測定した。
任意の濃度の薬剤を含んだ滅菌トリプトソィ寒天平板（
細菌用）及びポテトデキストロース寒天平板（真菌用）
を作製し、これに各種菌株の滅菌生理食塩水懸濁液（細
菌の場合は菌体懸濁液、かびの場合は胞子懸濁液）を白
金耳を用いて塗りつけた。これを細菌の場合３０ｏｏ、
４鞘時間、真菌の場合２５００、１２０時間培養して薬
剤の各濃度での発育の有無を観察しＭＩＣを求めた。試
験に用いた培養基の組成及び試験菌株の種類を次に、結
果を第１表に示す。なお、ＡＭＢとして塩化ペンザルコ
ニウムを用いた。培養基の組成； ポテトデキストロース寒天培地（培地ｌｏｏ０泌中）ト
リプトソィ寒天培地（培地１０００汎【中）トリプトン
１５夕ソイベプトン
５夕 塩化ナトリウム ５夕 寒 天 １５夕 試験菌株の種類； バクテリア類； ■スタヒロコツカス・アウレウス （Ｓねｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓａｕｒｅｕｓ）ｌＡＭ
ｌｏｌｌ■ エシエリヒア・コリ（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈ
ｊａｃｏｌｉ）ｌＡＭ １２３９■ プロテウス・ブ
ルガリス（Ｐｒｏｔｅｕｓｖｕｌ雛ｍｓ）ｌＡＭ１２０
３■ バチルス・ズブチリス（Ｂａｃｉｌｌ雌ｓｕｂｔ
ｉｌｉｓ）ｌＡＭ １２１３かび類； ■ アスベルギルス・ニゲル（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ
ｎｉｇｅｒ）ＡＴＣＣ６２７５■ べニシリウム・シト
リヌム（Ｐｅｎｉｃｍｉ山ｍｃｉｔｒｉｎｕｍ）ｌＡＭ
７３１６■ トリコデルマ・ビリデ（Ｔｒｉｃｈｏｄｅ
ｒｍａｖｉｒｉｄｅ）ＬＡＭ５１４１■ フサリウム・
モニリホルメ（Ｆ順ａｒｌｍｍｍｏｎｉｌｉ幻ｒｍｅ）
ＩＦ○６３４９第１表から明らかなように、ＴＢＺとＡ
ＭＢを混合することにより、抗菌スペクトルの拡大及び
−部の菌に対する相乗的抗菌作用が認められる。
細菌用）及びポテトデキストロース寒天平板（真菌用）
を作製し、これに各種菌株の滅菌生理食塩水懸濁液（細
菌の場合は菌体懸濁液、かびの場合は胞子懸濁液）を白
金耳を用いて塗りつけた。これを細菌の場合３０ｏｏ、
４鞘時間、真菌の場合２５００、１２０時間培養して薬
剤の各濃度での発育の有無を観察しＭＩＣを求めた。試
験に用いた培養基の組成及び試験菌株の種類を次に、結
果を第１表に示す。なお、ＡＭＢとして塩化ペンザルコ
ニウムを用いた。培養基の組成； ポテトデキストロース寒天培地（培地ｌｏｏ０泌中）ト
リプトソィ寒天培地（培地１０００汎【中）トリプトン
１５夕ソイベプトン
５夕 塩化ナトリウム ５夕 寒 天 １５夕 試験菌株の種類； バクテリア類； ■スタヒロコツカス・アウレウス （Ｓねｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓａｕｒｅｕｓ）ｌＡＭ
ｌｏｌｌ■ エシエリヒア・コリ（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈ
ｊａｃｏｌｉ）ｌＡＭ １２３９■ プロテウス・ブ
ルガリス（Ｐｒｏｔｅｕｓｖｕｌ雛ｍｓ）ｌＡＭ１２０
３■ バチルス・ズブチリス（Ｂａｃｉｌｌ雌ｓｕｂｔ
ｉｌｉｓ）ｌＡＭ １２１３かび類； ■ アスベルギルス・ニゲル（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ
ｎｉｇｅｒ）ＡＴＣＣ６２７５■ べニシリウム・シト
リヌム（Ｐｅｎｉｃｍｉ山ｍｃｉｔｒｉｎｕｍ）ｌＡＭ
７３１６■ トリコデルマ・ビリデ（Ｔｒｉｃｈｏｄｅ
ｒｍａｖｉｒｉｄｅ）ＬＡＭ５１４１■ フサリウム・
モニリホルメ（Ｆ順ａｒｌｍｍｍｏｎｉｌｉ幻ｒｍｅ）
ＩＦ○６３４９第１表から明らかなように、ＴＢＺとＡ
ＭＢを混合することにより、抗菌スペクトルの拡大及び
−部の菌に対する相乗的抗菌作用が認められる。
第１表参考例 ２
Ｔ故とＡＭＢのそれぞれ単独及びそれらの等量混合物に
ついて、ＪＩＳ−Ｚ−２９１１「かび抵抗性試験方法、
７、塗料の試験」の項に準じて抗かび性試験を行った。
ついて、ＪＩＳ−Ｚ−２９１１「かび抵抗性試験方法、
７、塗料の試験」の項に準じて抗かび性試験を行った。
すなわち、各試料のエタノール溶液に炉紙（東洋炉紙、
Ｎｏ．２直径３０側）を浸して引き上げ、室内に２時間
放置したのち、ベトリ皿に入れた所定の培養基の培養面
中央に配置し、試験用かび胞子懸濁液ｌｃｃをその上に
均一に散布し、次いでべトリ皿にふたをして、温度２８
００において１４８間培養した。この際の培養基として
は、水１０００の‘、ブドウ糖４０夕、ベプトン１０夕
及び寒天２５夕の組成のものを用いた。なおＡＭＢとし
て塩化ペンザルコニウムを用いた。試験に用いたかびの
種類を次に、結果を第２表に示す。試験かびの種類 アスベルギルス・ニゲル（Ａｓｐｅｒｇｍｕｓｎｉｇｅ
ｒ）ＡＴＣＣ９６４２べニシリウム・ルテウム（Ｐｅｎ
ｉｃｉｌｌｍｍ１ｕｔｅ山ｍ）ＡＴＣＣ ９６４４トリ
コデルマ・Ｔ−１（Ｔｒにｈｏｄｅｒｍａ Ｔ−１）Ａ
ＴＣＣ９６４５第２表から明らかなように、ＴＢＺ，Ａ
ＭＢの単独では、１．０％，０．８％という高濃度でも
３日目にかびの発生が認められるが、両者を併用すれば
わずか０．１％という低濃度でもかびの発生は５日以降
になる。
Ｎｏ．２直径３０側）を浸して引き上げ、室内に２時間
放置したのち、ベトリ皿に入れた所定の培養基の培養面
中央に配置し、試験用かび胞子懸濁液ｌｃｃをその上に
均一に散布し、次いでべトリ皿にふたをして、温度２８
００において１４８間培養した。この際の培養基として
は、水１０００の‘、ブドウ糖４０夕、ベプトン１０夕
及び寒天２５夕の組成のものを用いた。なおＡＭＢとし
て塩化ペンザルコニウムを用いた。試験に用いたかびの
種類を次に、結果を第２表に示す。試験かびの種類 アスベルギルス・ニゲル（Ａｓｐｅｒｇｍｕｓｎｉｇｅ
ｒ）ＡＴＣＣ９６４２べニシリウム・ルテウム（Ｐｅｎ
ｉｃｉｌｌｍｍ１ｕｔｅ山ｍ）ＡＴＣＣ ９６４４トリ
コデルマ・Ｔ−１（Ｔｒにｈｏｄｅｒｍａ Ｔ−１）Ａ
ＴＣＣ９６４５第２表から明らかなように、ＴＢＺ，Ａ
ＭＢの単独では、１．０％，０．８％という高濃度でも
３日目にかびの発生が認められるが、両者を併用すれば
わずか０．１％という低濃度でもかびの発生は５日以降
になる。
第 ２ 表
表中の各記号は以下の意味を表わす。
− 菌の発育が認められない
十 １／３以下の面積に菌が発育
＋＋ １′３以上の面積に菌が発育
実施例 １
本発明による配合組成物を含む第３表に示す各種配合組
成物を調製し、参考例２と同様の方法により防かび力試
験を行った。
成物を調製し、参考例２と同様の方法により防かび力試
験を行った。
結果を第４表に示す。第４表から明らかなように組成物
Ａ，Ｂは、ＴＢＺ、塩化ペンザルコニウムを各々単独に
配合した場合に比べて、著しく抗かび力が向上している
ことが分る。これは本発明の配合組成物により効果的な
防かびが可能であることを示している。なお、非イオン
界面活性剤としてリポノックスＩＧＨ（ライオン株式会
社製）を用いた。第 ３ 表 注凶，佃は本発明による配合組成物である。
Ａ，Ｂは、ＴＢＺ、塩化ペンザルコニウムを各々単独に
配合した場合に比べて、著しく抗かび力が向上している
ことが分る。これは本発明の配合組成物により効果的な
防かびが可能であることを示している。なお、非イオン
界面活性剤としてリポノックスＩＧＨ（ライオン株式会
社製）を用いた。第 ３ 表 注凶，佃は本発明による配合組成物である。
第４表注）表中の冬橋古号は、第２表と同じ意味を表わ
す。
す。
実施例 ２実施例１の配合組成物凶９．９凧‘に滅菌生
理食塩水による細菌懸濁液０．１の‘を加え、生菌数の
経時的変化を求め、殺菌力を調べた。
理食塩水による細菌懸濁液０．１の‘を加え、生菌数の
経時的変化を求め、殺菌力を調べた。
この際、生菌数の測定はトリプトソィ寒天培地を用いる
平板濠釈法により行い、判定は３０ｑｏで４鞘時間培養
後に行った。その結果を第５表に示す。第 ５ 表 ■ シュードモナス・アエルギノーサ（Ｐｓｅｕｄｏ−
ｍ０ｎａＳ ａｅｒｕｇｌｎｏｓａ）ＩＦ○ ３４４７
■ スタヒロコツカス・アウレウス（Ｓねｐｈｙｌｏ‐
Ｃ０ＣＣｕｓ ａｕｒｅｕｓ）ｌＡＭ ＩＯＩＩ■エシ
エリヒア・コリ（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｂｉａ−ｃｏｌ．ｉ
）ｌＡＭ ＩＯ９７この第５表からわかるように本発明
の組成物は短時間でバクテリアを死滅させる優れた殺菌
作用を有している。
平板濠釈法により行い、判定は３０ｑｏで４鞘時間培養
後に行った。その結果を第５表に示す。第 ５ 表 ■ シュードモナス・アエルギノーサ（Ｐｓｅｕｄｏ−
ｍ０ｎａＳ ａｅｒｕｇｌｎｏｓａ）ＩＦ○ ３４４７
■ スタヒロコツカス・アウレウス（Ｓねｐｈｙｌｏ‐
Ｃ０ＣＣｕｓ ａｕｒｅｕｓ）ｌＡＭ ＩＯＩＩ■エシ
エリヒア・コリ（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｂｉａ−ｃｏｌ．ｉ
）ｌＡＭ ＩＯ９７この第５表からわかるように本発明
の組成物は短時間でバクテリアを死滅させる優れた殺菌
作用を有している。
実施例 ３冷蔵庫内の壁面を縦８ｃの、横８肌に区切り
、この各区画を｛１｝無処理、■水ふくき処理、【３’
通常の使用濃度における台所用洗浄液でふく処理、及び
■実施例１の組成物物凶をエアゾールとしてスプレーし
たのちガーゼでふく処理を施したのち、滅菌生理食塩水
１０必中に浸せき保存されていた滅菌ガーゼ（８×８肌
、６枚重ね）で各区画をふきとって菌を採取し、続いて
このガーゼを鎖び滅菌生理食塩水中に浸せきして懸濁さ
せたのち、この懸濁液を試験液として平板混釈法により
生菌数を測定し、その測定値を各区画に残存した菌数と
して、無処理部分（１０回測定平均値、２．０×１ぴ（
個／均）＝１００）に対する残存菌率を算出した。
、この各区画を｛１｝無処理、■水ふくき処理、【３’
通常の使用濃度における台所用洗浄液でふく処理、及び
■実施例１の組成物物凶をエアゾールとしてスプレーし
たのちガーゼでふく処理を施したのち、滅菌生理食塩水
１０必中に浸せき保存されていた滅菌ガーゼ（８×８肌
、６枚重ね）で各区画をふきとって菌を採取し、続いて
このガーゼを鎖び滅菌生理食塩水中に浸せきして懸濁さ
せたのち、この懸濁液を試験液として平板混釈法により
生菌数を測定し、その測定値を各区画に残存した菌数と
して、無処理部分（１０回測定平均値、２．０×１ぴ（
個／均）＝１００）に対する残存菌率を算出した。
その結果を第６表に示す。第 ６ 表
この表からわかるように本発明組成物で処理した区画の
残存菌数は極めて少なく、菌がほぼ完全に殺菌洗浄され
ている。
残存菌数は極めて少なく、菌がほぼ完全に殺菌洗浄され
ている。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 非イオン性界面活性剤、２−（４−チアゾリル）ベ
ンズイミダゾール及び長鎖アルキルジメチルベンジルア
ンモニウム塩を含有することを特徴とする抗菌性洗浄剤
組政物。 ２ 長鎖アルキルジメチルベンジルアンモニウム塩が塩
化ベンザルコニウムである特許請求の範囲第１項記載の
抗菌性洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18578680A JPS6035400B2 (ja) | 1980-12-27 | 1980-12-27 | 抗菌性洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18578680A JPS6035400B2 (ja) | 1980-12-27 | 1980-12-27 | 抗菌性洗浄剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57109899A JPS57109899A (en) | 1982-07-08 |
| JPS6035400B2 true JPS6035400B2 (ja) | 1985-08-14 |
Family
ID=16176866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18578680A Expired JPS6035400B2 (ja) | 1980-12-27 | 1980-12-27 | 抗菌性洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6035400B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0453031B2 (ja) * | 1985-08-21 | 1992-08-25 | Sofuto Banku Kk |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5964950U (ja) * | 1982-10-26 | 1984-04-28 | 菅沼 政弥 | 洗剤 |
| JPS6084395A (ja) * | 1983-10-14 | 1985-05-13 | 株式会社資生堂 | 化粧用スポンジの洗浄剤 |
| JPH0739597B2 (ja) * | 1990-02-22 | 1995-05-01 | ソマール株式会社 | 抄紙機用洗浄剤組成物及びそれを含む洗浄液を用いる抄紙機の洗浄方法 |
| JP2002121593A (ja) * | 2000-09-26 | 2002-04-26 | Spartan Chemical Co Inc | 硬質表面洗浄用殺菌性水系組成物および使用方法 |
-
1980
- 1980-12-27 JP JP18578680A patent/JPS6035400B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0453031B2 (ja) * | 1985-08-21 | 1992-08-25 | Sofuto Banku Kk |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57109899A (en) | 1982-07-08 |
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