JPS6033531A - 光導波路レンズ - Google Patents
光導波路レンズInfo
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- JPS6033531A JPS6033531A JP58142956A JP14295683A JPS6033531A JP S6033531 A JPS6033531 A JP S6033531A JP 58142956 A JP58142956 A JP 58142956A JP 14295683 A JP14295683 A JP 14295683A JP S6033531 A JPS6033531 A JP S6033531A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、集積光学構造体に用いる光導波路レンズに関
する。
する。
従来、光導波路レンズとしては、光導波路上にマウンド
状の薄膜レンズを形成し、光導波路の実効屈折率分布を
変化させることにより導波光を集束させるルネブルグレ
ンズ[R,K、 Luneburg: Mathema
tical Theory of 0ptics (U
niv、of Ca1ifornia。
状の薄膜レンズを形成し、光導波路の実効屈折率分布を
変化させることにより導波光を集束させるルネブルグレ
ンズ[R,K、 Luneburg: Mathema
tical Theory of 0ptics (U
niv、of Ca1ifornia。
Berkeley、 1966 ) p182 )、凹
部を有する基板上に光導波路を作製し、導波光の光路長
を変えることによシ集束作用を生ぜしめるジオデシック
レンズ[J、 Brown : Lens Anten
nas、 Antenna TheoryPart 2
ed、 R,E、 Co11in and F”、
J、Zuclcer (Me Grow −Hlll、
New York 1969) 1)131 )、光
の回折作用により導波光を集束させるフレネルレンズ[
R。
部を有する基板上に光導波路を作製し、導波光の光路長
を変えることによシ集束作用を生ぜしめるジオデシック
レンズ[J、 Brown : Lens Anten
nas、 Antenna TheoryPart 2
ed、 R,E、 Co11in and F”、
J、Zuclcer (Me Grow −Hlll、
New York 1969) 1)131 )、光
の回折作用により導波光を集束させるフレネルレンズ[
R。
5hubert and J、 H,Harris :
J、 opt、Soc、Am、 61(1971)p
154)等が知られている。これらの光導波路レンズは
、集積光学構造体上で、コリメータレンズやフーリエ変
換レンズCJ、T、 Boyd and D、 B。
J、 opt、Soc、Am、 61(1971)p
154)等が知られている。これらの光導波路レンズは
、集積光学構造体上で、コリメータレンズやフーリエ変
換レンズCJ、T、 Boyd and D、 B。
Anderson : IEEEJ、 Quantum
Electron QE−14(1978)p437
) 、集光レンズ〔松本、山口、辻、佐原:特開昭5
6−111837 )として用いられる。特にフーリエ
変換レンズや集光レンズとして用いられる場合には、軸
上および軸外の導波光を所定の位置に正確に結像するこ
とが要求される。
Electron QE−14(1978)p437
) 、集光レンズ〔松本、山口、辻、佐原:特開昭5
6−111837 )として用いられる。特にフーリエ
変換レンズや集光レンズとして用いられる場合には、軸
上および軸外の導波光を所定の位置に正確に結像するこ
とが要求される。
ところが、前記ルネプルグレンズの場合、光導波路上に
形成される薄膜レンズの屈折率の作製精度は良くても±
o、 o o s程度である為、作製ロンド毎の屈折率
の変化にとも々って、製品間で焦点距離が異なるという
問題点を有していた。
形成される薄膜レンズの屈折率の作製精度は良くても±
o、 o o s程度である為、作製ロンド毎の屈折率
の変化にとも々って、製品間で焦点距離が異なるという
問題点を有していた。
また、ジオデシックレンズ等、他の光導波路レンズにお
いても、やけシ作製精度の面から、正確な焦点距離を1
1多ることが難かしかった。
いても、やけシ作製精度の面から、正確な焦点距離を1
1多ることが難かしかった。
また、前記集4★光学構造体を光学的情報処理装置のヘ
ッド等として用いる場合には、変動する物体面に正確に
光を集束させる必要があり、前記変動に追従して焦点距
離を変化させ得る光導波路レンズの実現が望まれていた
。
ッド等として用いる場合には、変動する物体面に正確に
光を集束させる必要があり、前記変動に追従して焦点距
離を変化させ得る光導波路レンズの実現が望まれていた
。
本発明の目的は、導波光を所定の位置に正確に集束せし
める光導波路レンズを提供する事にある。
める光導波路レンズを提供する事にある。
本発明の他の目的は、焦点距離を高速に変化させる事が
可能な先導波路レンズを提供する事にある。
可能な先導波路レンズを提供する事にある。
本発明は少なくとも一方が電気光学効果を有する物質で
形成さ!1.72二光導波路および光導波路の一部に設
けられたレンズ部と、光導波路および/又はレンズ部に
電界を印加しレンズ部の焦点距離を変化させる手段とか
ら光導波路レンズを構成することに」:つて上記目的を
達成するものである。
形成さ!1.72二光導波路および光導波路の一部に設
けられたレンズ部と、光導波路および/又はレンズ部に
電界を印加しレンズ部の焦点距離を変化させる手段とか
ら光導波路レンズを構成することに」:つて上記目的を
達成するものである。
以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。第1図
は、本発明の第1実施例を示す略断面図である。第1図
に於いて1は基板、2および7は電極、3および6はバ
ッファ層、4は光4波路% 5は薄膜レンズである。た
とえば、基板1としてはStを用い、電極2としてマグ
ネトロン型スパッタ装置でIntOs/SnO;(I
To )膜を作製する。さらに上記電極層2上に、バッ
ファ層3として5i02膜を蒸着する。上記バッファ層
3は、電極部2での光吸収を防ぐとともに、バッファ層
に低屈折率膜を用いるととによシ、光導波路4の材料の
選択の可能性を広げるために設けるものである。したが
って、電極2および7が光吸収が少ないものでかつ光導
波路4よりも低屈折率のものであれば、必らずしもバッ
ファ層3および6を設ける必要はない。上記バッファ層
3上に、光導波路4としてガラス薄膜(商品名:コーニ
ング7059.コーニング社製)を蒸着した。上記光導
波路4の伝播損失を測定したところ、0.5 dB/c
mという低損失な値が得られた。
は、本発明の第1実施例を示す略断面図である。第1図
に於いて1は基板、2および7は電極、3および6はバ
ッファ層、4は光4波路% 5は薄膜レンズである。た
とえば、基板1としてはStを用い、電極2としてマグ
ネトロン型スパッタ装置でIntOs/SnO;(I
To )膜を作製する。さらに上記電極層2上に、バッ
ファ層3として5i02膜を蒸着する。上記バッファ層
3は、電極部2での光吸収を防ぐとともに、バッファ層
に低屈折率膜を用いるととによシ、光導波路4の材料の
選択の可能性を広げるために設けるものである。したが
って、電極2および7が光吸収が少ないものでかつ光導
波路4よりも低屈折率のものであれば、必らずしもバッ
ファ層3および6を設ける必要はない。上記バッファ層
3上に、光導波路4としてガラス薄膜(商品名:コーニ
ング7059.コーニング社製)を蒸着した。上記光導
波路4の伝播損失を測定したところ、0.5 dB/c
mという低損失な値が得られた。
次に、薄膜レンズ5を作製するだめに、」―配光導波路
4上に、ZnOを円錐台状の開口をもつマスクを使用し
てドーム状にRFスパッターヲ行なった。上記ZnO膜
の結晶方位を電子回折およびX線回折を用いて測定した
結果、C軸配向していることが確認できた。
4上に、ZnOを円錐台状の開口をもつマスクを使用し
てドーム状にRFスパッターヲ行なった。上記ZnO膜
の結晶方位を電子回折およびX線回折を用いて測定した
結果、C軸配向していることが確認できた。
さらに、前述のバッファ層3および電極層2と同様の作
製方法により、薄膜レンズ5上にそれぞれバッファー)
白6 、電極7を設けた0次に、上記方法により作製さ
れた本発明の可変焦点型薄膜レンズの動作実験を行なっ
た。バッファ層3のSin、の屈折率は1.47、光導
波路4のコーニング7059の屈折率は1.57である
ため、例えば公知のプリズムカップラ(不図示)によっ
て導びかれだ導波光8は、光導波路4の中を全反射を〈
シ返しながら伝播する。一方、薄膜レンズ5のZnOの
屈折率は2.0と光導波路5よりも高いため、光導波路
内の導波光8は薄膜レンズ部の所で薄膜レンズ中にひき
込まれ、導波光9の様に薄膜レンズ5内を伝播する。
製方法により、薄膜レンズ5上にそれぞれバッファー)
白6 、電極7を設けた0次に、上記方法により作製さ
れた本発明の可変焦点型薄膜レンズの動作実験を行なっ
た。バッファ層3のSin、の屈折率は1.47、光導
波路4のコーニング7059の屈折率は1.57である
ため、例えば公知のプリズムカップラ(不図示)によっ
て導びかれだ導波光8は、光導波路4の中を全反射を〈
シ返しながら伝播する。一方、薄膜レンズ5のZnOの
屈折率は2.0と光導波路5よりも高いため、光導波路
内の導波光8は薄膜レンズ部の所で薄膜レンズ中にひき
込まれ、導波光9の様に薄膜レンズ5内を伝播する。
ここで電極2および7に電圧を印加すると、この電極間
に電界が発生し、電気光学効果によってZnOから成る
薄膜レンズの屈折率が変化して、この薄膜レンズの焦点
距離を変えることが出来る。従って、本実施例のように
光導波路レンズを構成し、電極間の電界を制御する事に
より、導波光を所定の位置に正確に集束させることがで
き、レンズ作製時の焦点距離の誤差を補正することが出
来る。
に電界が発生し、電気光学効果によってZnOから成る
薄膜レンズの屈折率が変化して、この薄膜レンズの焦点
距離を変えることが出来る。従って、本実施例のように
光導波路レンズを構成し、電極間の電界を制御する事に
より、導波光を所定の位置に正確に集束させることがで
き、レンズ作製時の焦点距離の誤差を補正することが出
来る。
また、上記電極間に変調した信号を印加することにより
、その変調信号に応じて焦点距離が高速に変化する。従
って、例えばとの光導波路レンズを光学的情報処理装置
の光ヘッドに用い、焦点誤差信号に従った電圧を前記電
極間に印加することにより、応答性の良いオートフォー
カス系を構成することができる。
、その変調信号に応じて焦点距離が高速に変化する。従
って、例えばとの光導波路レンズを光学的情報処理装置
の光ヘッドに用い、焦点誤差信号に従った電圧を前記電
極間に印加することにより、応答性の良いオートフォー
カス系を構成することができる。
本実施例において電極間は、通常数μmと、非常な薄膜
である為、極めて低い印加電圧で太きな電界が発生し、
大きな電気光学効果が得られるという利点がある。
である為、極めて低い印加電圧で太きな電界が発生し、
大きな電気光学効果が得られるという利点がある。
本実施例では、光導波路としてガラス薄膜(コーニング
7059) 、薄膜レンズとしてZnO薄膜を用いたが
、さらに大きな電気光学効果を得るためには、光導波路
として0面Al2O,薄膜、薄膜レンズとしてI’LZ
T[(Pb、 T、a)(Zr%Ti )Os )薄膜
を用いれば良い。
7059) 、薄膜レンズとしてZnO薄膜を用いたが
、さらに大きな電気光学効果を得るためには、光導波路
として0面Al2O,薄膜、薄膜レンズとしてI’LZ
T[(Pb、 T、a)(Zr%Ti )Os )薄膜
を用いれば良い。
次に本発明の第2実施例について、第2図を用いて説明
する。第2図の11は基板、12は光導波路、13およ
び17は電極、14および16はバッファ層、15は薄
膜レンズである。
する。第2図の11は基板、12は光導波路、13およ
び17は電極、14および16はバッファ層、15は薄
膜レンズである。
たとえば、基板11としては、y −cut LiNb
O5結晶を用い、 y−cut表面に、Tiを熱拡散す
ることにより光導波路12を形成する0次に薄膜レンズ
の作製される予定の所に、上記薄膜レンズの大きさの穴
のあいたパターンのレジストを光導波路12上に作製し
、電極13としてAt膜、バッファ層14としてZnO
膜をひきつづき、蒸着する。リフトオフ法によシ、レジ
ストを取り除き、電極13、バッファ層14が作製され
る。
O5結晶を用い、 y−cut表面に、Tiを熱拡散す
ることにより光導波路12を形成する0次に薄膜レンズ
の作製される予定の所に、上記薄膜レンズの大きさの穴
のあいたパターンのレジストを光導波路12上に作製し
、電極13としてAt膜、バッファ層14としてZnO
膜をひきつづき、蒸着する。リフトオフ法によシ、レジ
ストを取り除き、電極13、バッファ層14が作製され
る。
薄膜レンズ15を作製するために、上記電極13、バッ
ファ層14の位置に、薄膜レンズ作製用円錐台状の開口
部を有するマスクを置き、PLZT C(Pb、 T、
a ) (Zr、 ’Pi ) Os〕薄膜をドーム状
にエピタキシャル成長させた。ZnO膜はC軸配向して
いるため、PLZT薄膜の成長面はミラー指数で(1,
1,1)であり、大きな電気光学効果が得られる。さら
に、薄膜レンズ15上に、バッファ層16としてSin
、膜、電極17としてAt搗 膜を形成した。光導波路12内を伝軛してきた導波光1
8は、薄膜レンズ部の所で導波光19本本実側において
も、電極13.17間に電圧を印加する事によシ、第1
実施例と全く同様の効果を得ることができる。更に、本
実施例は、電極13と17との間の距離が前記第1実施
例に比べて狭くなシ、同じ電界を得るためには、よシ小
さい印加電圧で済むという効果を有する。
ファ層14の位置に、薄膜レンズ作製用円錐台状の開口
部を有するマスクを置き、PLZT C(Pb、 T、
a ) (Zr、 ’Pi ) Os〕薄膜をドーム状
にエピタキシャル成長させた。ZnO膜はC軸配向して
いるため、PLZT薄膜の成長面はミラー指数で(1,
1,1)であり、大きな電気光学効果が得られる。さら
に、薄膜レンズ15上に、バッファ層16としてSin
、膜、電極17としてAt搗 膜を形成した。光導波路12内を伝軛してきた導波光1
8は、薄膜レンズ部の所で導波光19本本実側において
も、電極13.17間に電圧を印加する事によシ、第1
実施例と全く同様の効果を得ることができる。更に、本
実施例は、電極13と17との間の距離が前記第1実施
例に比べて狭くなシ、同じ電界を得るためには、よシ小
さい印加電圧で済むという効果を有する。
−また、結晶基板−にに拡散光導波路を形成する場合は
、第1実施例のように基板と光導波路間に電極を形成す
ることができないが、本実施例の構造を用いれば、どの
ようなタイプの光導波路においても本発明の光導波路レ
ンズを作製できるという利点をもっている。
、第1実施例のように基板と光導波路間に電極を形成す
ることができないが、本実施例の構造を用いれば、どの
ようなタイプの光導波路においても本発明の光導波路レ
ンズを作製できるという利点をもっている。
次に本発明の第3実施例について第3図を用いて説明す
る。第3図の31.36はAt電極、32 B Li
Tags結晶基板、33はL i NbxT al−x
Os光導波路層、34けLiNbyTal−y03レン
ズ層、35はSin、バッファ層である。
る。第3図の31.36はAt電極、32 B Li
Tags結晶基板、33はL i NbxT al−x
Os光導波路層、34けLiNbyTal−y03レン
ズ層、35はSin、バッファ層である。
以下、第3実施例の作製方法を説明する。表面が研摩さ
れたLiTa0=基板32上に液層もしくは気層成長法
によシエビタキャル■、iNb、Ta1−803導波路
33を作製する。次に、シャドウマスクを用いて歯膜を
マウンド状に形成し、1100°Cで歯膜を拡散する。
れたLiTa0=基板32上に液層もしくは気層成長法
によシエビタキャル■、iNb、Ta1−803導波路
33を作製する。次に、シャドウマスクを用いて歯膜を
マウンド状に形成し、1100°Cで歯膜を拡散する。
上記熱処理によシ
LiNbxTal−xos導波路内部に歯が拡散し隅の
組成比が増し、屈折率の高い層が形成される。この拡散
層からなるレンズ層34の上にsio、バッファ層35
をつけ、さらに基板の裏面と上記バッファ層上にAt電
極31.36をそれぞれ形成する。
組成比が増し、屈折率の高い層が形成される。この拡散
層からなるレンズ層34の上にsio、バッファ層35
をつけ、さらに基板の裏面と上記バッファ層上にAt電
極31.36をそれぞれ形成する。
本実施例においても、電極31および36間に電界を印
加する事によシ、電気光学効果によってレンズ層34の
屈折率を変え、焦点距離を変化させることができる。尚
ことで、At電極31は基板の裏面の全面に形成されて
もよいが、レンズ層に効率良く電界を印加する為には、
本実施例のようにレンズ部の下面のみに形成される事が
望ましい。
加する事によシ、電気光学効果によってレンズ層34の
屈折率を変え、焦点距離を変化させることができる。尚
ことで、At電極31は基板の裏面の全面に形成されて
もよいが、レンズ層に効率良く電界を印加する為には、
本実施例のようにレンズ部の下面のみに形成される事が
望ましい。
次に、本発明の第4実施例について、第4図を用いて説
明する。第4図において、41.47は電極、42はn
+−GaAs基板(厚さ200 pm)、43はri+
−AtxGal−xAs (x==0.06 )バッフ
ァ層、44はn−AjyGal−yAs (y=o、o
3 )光導波路、45はn−GaAa薄膜レンズ、4
6はp+−At2Ga1−2As (z =0.06)
バッファ層である。上記pn接合型ダブルへテロ構造に
対して、逆方向電圧を印加すると、薄膜レンズ45中に
空乏層が発生し、電気光学効果にょシ屈折率が増大する
。従って、この屈折率変化を利用して、前述の実施例と
同様に焦点距離を変化させることができる。本第4実施
例は、QaAs基板上に形成してお夛、レーザー光源も
しくは変調器と一体化して形成できるばかシでなく 、
GaAsが大きな電気光学効果をもっているため焦点位
置の調整範囲が広いという利点をもっている。
明する。第4図において、41.47は電極、42はn
+−GaAs基板(厚さ200 pm)、43はri+
−AtxGal−xAs (x==0.06 )バッフ
ァ層、44はn−AjyGal−yAs (y=o、o
3 )光導波路、45はn−GaAa薄膜レンズ、4
6はp+−At2Ga1−2As (z =0.06)
バッファ層である。上記pn接合型ダブルへテロ構造に
対して、逆方向電圧を印加すると、薄膜レンズ45中に
空乏層が発生し、電気光学効果にょシ屈折率が増大する
。従って、この屈折率変化を利用して、前述の実施例と
同様に焦点距離を変化させることができる。本第4実施
例は、QaAs基板上に形成してお夛、レーザー光源も
しくは変調器と一体化して形成できるばかシでなく 、
GaAsが大きな電気光学効果をもっているため焦点位
置の調整範囲が広いという利点をもっている。
本発明は前述の実施例に限らず、種々の変形が可能であ
る。例えば、薄膜レンズではなく、光導波路を電気光学
効果を有する物質で形成し、との光導波路の屈JJc率
を変化させることによってレンズ部の焦点距離を変化さ
せるように構成してもよい。また電界の印加によって相
対的な屈折率変化が生じれば、光導波路およびレンズ部
を両方共、電気光学効果を有する物質としてもかまわな
い。更に1本発明は前述したようなレンズに限らず、種
々の光導波路レンズに応用が可能である。例えば、ジオ
デシックレンズでは薄膜レンズは作製されず、光導波路
の形状変化でレンズ部が形成されるが、この場合にも、
光導波路を電気光学効果を有する物質で形成し、この先
導波路に電界を印加する事によってレンズ部の焦点距離
を変化させるようにすれば良い。
る。例えば、薄膜レンズではなく、光導波路を電気光学
効果を有する物質で形成し、との光導波路の屈JJc率
を変化させることによってレンズ部の焦点距離を変化さ
せるように構成してもよい。また電界の印加によって相
対的な屈折率変化が生じれば、光導波路およびレンズ部
を両方共、電気光学効果を有する物質としてもかまわな
い。更に1本発明は前述したようなレンズに限らず、種
々の光導波路レンズに応用が可能である。例えば、ジオ
デシックレンズでは薄膜レンズは作製されず、光導波路
の形状変化でレンズ部が形成されるが、この場合にも、
光導波路を電気光学効果を有する物質で形成し、この先
導波路に電界を印加する事によってレンズ部の焦点距離
を変化させるようにすれば良い。
以上説明したように、本発明は電気光学効果を利用して
焦点距離が可変な先導波路レンズを構成したので、導波
光を所定の位置に正確に集束させることができ、また焦
点距離を高速変更することができるようになった。
焦点距離が可変な先導波路レンズを構成したので、導波
光を所定の位置に正確に集束させることができ、また焦
点距離を高速変更することができるようになった。
第1図は本発明の一実施例を示す略断面図、第2図、第
3図、第4図はそれぞれ本発明の他の実施例を示す略断
面図である。 1.11.32.42・・・・・・基板、2.7.13
.17.31.36.41.47・・・・・・電極、3
.5.14.16.35.43.46−゛″′″゛′″
゛バ2フフ層5.45・・・・・・薄膜レンズ、8.9
.18.19・・・・・・導波光、34・・・・・・レ
ンズ層。
3図、第4図はそれぞれ本発明の他の実施例を示す略断
面図である。 1.11.32.42・・・・・・基板、2.7.13
.17.31.36.41.47・・・・・・電極、3
.5.14.16.35.43.46−゛″′″゛′″
゛バ2フフ層5.45・・・・・・薄膜レンズ、8.9
.18.19・・・・・・導波光、34・・・・・・レ
ンズ層。
Claims (1)
- (1)少なくとも一方が電気光学効果を有する物質で形
成され走光導波路および該光導波路の一部に設けられた
レンズ部と、前記光導波路および/又はレンズ部に電界
を印加し前記レンズ部の焦点距離を変化させる手段とか
ら成る光導波路レンズ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58142956A JPS6033531A (ja) | 1983-08-04 | 1983-08-04 | 光導波路レンズ |
US07/058,603 US4856861A (en) | 1983-08-03 | 1987-06-04 | Light waveguide lens |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58142956A JPS6033531A (ja) | 1983-08-04 | 1983-08-04 | 光導波路レンズ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6033531A true JPS6033531A (ja) | 1985-02-20 |
Family
ID=15327562
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58142956A Pending JPS6033531A (ja) | 1983-08-03 | 1983-08-04 | 光導波路レンズ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6033531A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6279841A (ja) * | 1985-10-02 | 1987-04-13 | Teikoku Kako Kk | 無機球状体の製造方法 |
JPH02501247A (ja) * | 1987-06-15 | 1990-04-26 | イーストマン・コダック・カンパニー | 一体化された光学読み取り/記録ヘッド及び同ヘッドに組み合わされる装置 |
JPH05504905A (ja) * | 1989-10-12 | 1993-07-29 | インダストリアル プログレス、インク | 単複成分集合性ピグメント製品の製造方法 |
JP2021045748A (ja) * | 2020-11-30 | 2021-03-25 | 富士電機株式会社 | 水分吸着材 |
EP3977229A4 (en) * | 2019-06-03 | 2023-01-18 | SRI International | PHOTONIC NEURAL NETWORK |
-
1983
- 1983-08-04 JP JP58142956A patent/JPS6033531A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6279841A (ja) * | 1985-10-02 | 1987-04-13 | Teikoku Kako Kk | 無機球状体の製造方法 |
JPH02501247A (ja) * | 1987-06-15 | 1990-04-26 | イーストマン・コダック・カンパニー | 一体化された光学読み取り/記録ヘッド及び同ヘッドに組み合わされる装置 |
JPH05504905A (ja) * | 1989-10-12 | 1993-07-29 | インダストリアル プログレス、インク | 単複成分集合性ピグメント製品の製造方法 |
EP3977229A4 (en) * | 2019-06-03 | 2023-01-18 | SRI International | PHOTONIC NEURAL NETWORK |
JP2021045748A (ja) * | 2020-11-30 | 2021-03-25 | 富士電機株式会社 | 水分吸着材 |
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