JPS6033384A - 耐食性と溶接性に優れた容器用鋼板の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、各種食品、飲料等の貯蔵缶の容器累月として
使用される容器用鋼板の製造法に関するものである。

（従来技術） 従来、食品、飲料等を密封して密封する容器用銅板には
、ブリキ板とナイン・フリー・ステイ―ル（Ｔ　Ｆ　Ｓ
　、鋼板表面に金属クロムと水和７酸化り′４０ムより
成る２層被膜を付与した容器用鋼板）が多く使用されて
いる。これ等の銅板から各形状の缶容器に製缶されるが
、缶胴接合部の接合は、ブリキでは半田（Ｐｂ　−Ｓｎ
合金、あるいは純Ｓｎ）、１”　Ｆ　Ｓではナイロン系
接着剤によって行なわれている。

しかしながら、半田缶には錫価格高騰に伴い高くなる製
缶コストと高い漏洩缶発生率の問題、また接着缶には接
着強度不良問題があシ、したがつて、製缶メーカーでは
、これらの問題を解決するために、高性能のシーム溶接
製缶機を開発し、その普及に努め′ると共に、溶接性に
すぐ第１．た容器用耐食性鋼板の開発を望んでいる。

ブリキ、就中、メッキ量の少ない＃２５（片面当りＳｎ
メッキ量２．Ｆ３ｇ’／ｄ）ブリキは溶接缶用としても
優ねた素材であるが、錫価格が高いため高価であシ又、
溶接部のＳｎメッキ層が溶接熱でｙイヒして厚＜ｓ着力
の劣る酸化膜を形成して黒変化による外観劣化、塗膜の
密着性劣化及び面４食性の劣化を生じる。安価なブリキ
は、Ｓｎメッキ量の低減化で可能であり、実際にもメッ
キ量＃１５（片面当’ｆ）　Ｓｎメッキ量１．’　６　
Ｂ’　９／　ｍ’　）以下のブリキカヌ要求されている
が、耐食性の低下が著るしく、用途が極めて腐食性の弱
い一部の内容物用に限定されている。

一方、ＴＦＳは比較的厚い金属クロム及び水牙口酸化ク
ロムよりなる被覆層のために、溶接性７５玉極めて悪く
、実際上、表面被膜を剥離しなければ溶接が不可能であ
る。従って、溶接部は、厚い、密着性の悪い酸化膜を形
成し、著るしい耐食性及び塗装性の劣化を生じるととも
に、外観も悪くなる。

こわからの容器用鋼板は、耐食性、溶接性、塗装性、塗
装後の耐食性及び外観の美しさ等の特性に優ねていると
ともに、核れた製缶加工性が要求される。特に容器用素
材は、溶接性に優ねている事が重要である。即ち、溶接
条件の変動（溶接電流、加工力等）、素材の変動（表面
被膜、板厚、拐質等）に対して常に安定して、充分な溶
接強度と均一連続した良好なナゲツトが得られ、チリ（
溶接部の素材が局部的に溶融飛散し、微細な聯状の付着
物を生じる現象）のない、良好な溶接が行なえる必要が
ある。更に溶接部表面の外観、塗装性、及び耐食性等の
劣化が極力少ない事が望ましい。

（発明の目的） 上述の諸点に鑑み、本発明者等は、安価でかつ溶接缶用
に適した容器用鋼板の開発を目的に研究を行なった結果
、冷間圧延てれた鋼板表面に片面当、ｊ７　Ｎ　ｉ　７
４：として３０〜５００〜／ｒｒ？のＮｉメッキ層を施
し、このメッキ板を非酸化性又は還元性の雰囲気中で加
熱拡散処理せしめて調質圧延または冷間圧・延をし、片
面当りのＮｉ量が３０〜５００ｍｙ／　ｔ♂のＮｉ電気
メッキを行ない、更に片面当シのＳｎ量が１００〜１５
００ｍｇ／ｄのＳｎ電気メッキを施し、必要によっては
溶鍋処理（Ｓｎの融点以上に加熱してメッキ層を溶解、
急冷する）を施し、更にクロメート処理した耐食性と溶
接性の優れた容器用鋼板の製造法である。

（発明の構成・作用） 以下に本発明について１、詳細に説明する。

本発明は、ブリキ及びＴＦＳの原板に使用されている鋼
成分組成に溶製し、通常の表面処理用鋼板の製造工程を
経て冷間圧延された鋼板に、アルカリ洗浄及び酸洗を行
なって、表面を活性化した後、耐食性と溶接性を経済的
に改善する量として片面当りの付着量が３０〜５００〜
／ｒｒｉ”のＮ１メッキ層を施す。このＮｉメッキを施
す方法は、Ｎｉの電気メッキ浴、例えば最も多く用いら
れているワット氏浴、あるいはスルファミノ酸等を用い
た電気メンキあるいは、鋼板表面に蟻酸ニッケル、酢酸
ニッケル、硝酸ニッケル等のＮ１塩の水溶液を塗布し、
還元雰囲゛気中で加熱して、塗布薬剤を分解及び金属Ｎ
１へ還元せしめる方法、あるいは化学メッキ等の伺ねの
方法でも用いる事が出来る。

Ｎ１メッキ層を施した鋼板は、非酸化性あるいは還元性
の雰囲気中で加熱し、旧を下地鋼板へ拡散ぜしめ、Ｆｅ
−Ｎｉ合金層を形成せしめる。この加熱処理に、鋼板の
焼鈍を兼ねて行う事も出来、箱焼鈍あるいは連続焼鈍の
何れかで行うことができる。

連続焼鈍は、Ｎ１メッキ工程と連続化出来る事及びコイ
ル状に巻かねた鋼板連続してほどきながら、所定の条件
に保たれた焼鈍炉を通して焼鈍する方法であるため、コ
イル内の加熱条件の変動が少々く、全体にわたって、均
一な拡散層が得らねる上に、生産性も高く、箱焼鈍より
も有利である。加熱処理に用いる雰囲気は非酸化性であ
る必要がある。酸化性雰囲気中で加熱すると、Ｎｉメッ
キ層及びそのピンホール部に露出している地鉄の酸化が
起り、良好なＮ１拡散層が得られなくなるばかシではな
く、Ｎ１又はＦｅ−Ｎｉ合金の酸化膜は、酸洗で除去し
難いだめ、以後のＮ１メッキが難しくなる。焼鈍に多く
用いられている雰囲気ガスは、ＨＮＸガスとよばれる還
元性のＮ２とＨ，、（Ｎ２：３〜１０チ、残部Ｎ２　）
の混合ガスで、本発明の加熱処理の雰囲気ガスとしても
適している。この他、Ｎ２、ＣＯ，ＣＯ２等のガスを用
いる事も出来る。雰囲気中の水分は、特に低温で酸化性
が強いため、極力低い事が望ましいが、通常の焼鈍作業
と同様に、露点で表示して５℃以下で充分である。

加熱温度は、５００〜７５０℃の範囲であり、鋼板の軟
化焼鈍を兼ねる場合は、６００〜７５０℃の範囲である
。この加熱拡散処理によって、鋼板表面には、Ｎｉメッ
キ層の拡散によって、耐食性に優れたＦｅ−Ｎｉの緻密
な合金層が形成されるが、食缶用としては、未だ耐食性
が不充分であり、溶接性も良くない。そこで圧下率０．
５〜１５チの調質圧延を行ない、あるいは更に高強度が
必要とされる場合には、圧下率１５〜４０係の１回また
は２回以上の冷間圧延を施して形状矯正及び所定の強度
を付与した後耐食性と溶接性を改善するためにＮｉ電気
メッキ次いでＳｎ　％気メッキ更にクロメート処理を施
す。Ｎ１電気メッキは、現在使用されている倒れの方法
でも良い。メッキ量は片面当り、３０〜５００ｍｆｌ／
ｒｒｉ’とする。３０７％　／　ｍ２未満では充分な耐
食性が得られず、５００　”’ｙ　／　ｒｒ？を越える
と耐食性が過飽和に達し経済的に不利である。このＮｉ
メッキ層は、耐食性の向上はかシではなく、外観及び溶
接性の向上をもたらす。しかし、この歯メッキの後にク
ロメート処理したものは、比較的１１；１１食性の弱い
食品例えばトマトジュース、野菜ジュース、コーヒー等
の缶としては優りだ性能を示すが、腐食性の強い酸性食
品例えばオレンジジュース、蜜柑等の容器用には、耐食
性が不充分である。又、内容物中にＳを含有する魚肉、
畜産物等に使用した場合には、Ｎ１メッキ層が食品中の
Ｓと反応し、いわゆる値化黒変と呼ばれている黒変を起
し易い。又Ｎｉメッキは、Ｔ　Ｆ　Ｓに比すと格段に溶
接性が優ねているが、ブリキに比すとやや劣るこれ等の
点を改善するために、Ｎｉ電気メツキ層の上にＳｎメッ
キを施す。メッキ量は片面当り１００〜１５００Ｊｎ＆
／ｌｒｉ’　の範囲で充分である。１００ｍ９／ｍ’未
満では目的とする効果が得られず、１５００ｍ９／デを
越えると経済的でなく不必要な量である。Ｓｎメッキは
、現在実用化されている何れの方法も用いる事が出来る
。例えば現在ブリキの製造に多用されているフェノール
スルホン酸浴、ハロゲン浴。

アルカリ浴等のメッキ浴による連続電気メツキ法を用い
る事が出来る。Ｓｎメッキ後直ちに、又はブリキの製造
で一般に行なわれている溶鍋処理（錫の融点以上に加熱
急冷し、Ｓｎメッキ面に鏡面光沢を与える処理）を行な
った後、クロメート処理を施す。溶鍋処理を行なわない
場合は、金属Ｓｎ層の存在によってすぐれた耐硫化黒変
を示し、光沢のない白色の外観となる。溶鍋処理を施し
た場合は、塗装後の耐食性を改善して金属光沢の良好な
外観となる。

最後に行なわれるクロメート処理は、塗装性特に塗膜性
能の向上に極めて重要な処理である。クロメート処理被
膜は、塗膜の密着性就中二次塗膜密着性の向上に顕著な
効果を示す。即ち、実際の缶詰においては、内容物が塗
膜へ浸透し、塗膜と表面処理鋼板の界面に至り、鋼板の
被覆層と反応即ち腐食が生じる。この腐食は、鋼板表面
被４膜の性質によって、塗膜下腐食即ち鋼板表面上に広
がるか、板厚方向に進行するいわゆる孔食となり、塗膜
密着性の劣化が起る結果腐食が更に助長誉れたり、穿孔
を生じたりする。これ等の腐食は、塗膜欠陥がある場合
には、更に顕著に生じる。この様な塗膜密着性の劣化及
び腐食に対して、クロメート被膜は、極めて大きな抑制
効果を持つ。尚、先に述べた伽ｌ化黒変も、塗膜下腐食
の一つであり、これに対しても、クロメート被膜は顕著
な効果を示す。

而して、上述の如き塗装価の腐食において、Ｓｎメッキ
層とクロメート被膜の組合せが最も大きな防食効果を示
し、特に腐食性の強い酸性食品や、（ＩＩｉｉ化黒変全
黒変易い食品の場合に顕著な効果がある。これは、理由
は未だ明らかではないが、クロメート被膜がＳｎ面上に
おいてはＮ１ｊＦｔ上における場合より、均質、均一に
形成され、被覆性に優れている事、及び酸性食品の場合
には、缶詰中で（ｄＳｎ被覆層が鋼板に対して、犠牲防
食作用を持つ事によっている。

クロメート処理は多く使用さねている重クロム酸水溶液
中で、被処理鋼板を陰極として電解するいわゆるグイク
ロメート陰極処理、又は、クロム酸アンモン、重クロム
酸アンモン、クロム酸カリ、重クロム酸カリ等各種のク
ロム酸塩浴による陰極処理でも良いが、クロム酸水溶液
による陰極処理が最も優りた性能の被膜が得らハる。ク
ロム酸による処理は、塗膜下腐食に対して特に大きな効
果を示す。而して、クロメート被膜は、その電気抵抗が
太きいために、溶接性の劣化を来すために、付着量を被
膜中のＣｒＯ量で片面当＃）３〜２０　ｍｙ７　、Ｆ、
好ましくは５〜１５ｍｙ／ｒｒｉ’とするとよい。また
、この範囲では塗膜密着性、耐食性特に塗膜下腐食に対
して、良好な性能が得られ、溶接性、特にチリ発生に対
して、良好な性能が得られる。

クロム酸浴による陰極処理は、次に示す条件で行なった
場合に最も性能の優ねた被膜が得られる。

即ち、Ｃｒ　３水溶液に、Ｓ０４イオン、Ｆイオン（Ｆ
の錯イオンを含む）又はそれ等の混合物を、６価のＣｒ
イオン１１５００〜１１５０範囲で添加した処理浴中で
陰極処理を行う。而して、ｃｒＯ３濃度は、２０〜１０
０ｇ／ｌの範囲で充分であるが、特に規制する必要はな
い。浴温け６０〜７０℃の範囲、陰極電流密度は５〜５
０Ａ／ｄｍ２の範囲で充分である。これ等浴組成、浴温
、陰極電流密度及び処理時間等を選定し、付着量が前記
の３〜２　Ｑ　＋ｌｌｌ・／ｍＦとなる様に処理を行う
とよい。この処理において、処理浴組成と陰極電流密度
の条件によって金属クロム層が形成されるが、この金属
クロム層は溶接性を著るしく劣化せしめるので、２　ｍ
９　／　ｍ’以下とする事が望ましい。しかし、金属ク
ロム層は、耐食性に対しては効果が大きいので、２　ｌ
Ｉｒ９　／　ｍ迄の付着量はむしろ望ましい。

クロム酸浴に添加する陰イオンは、ｓｏ、２−の場合は
偏Ｉ、酸、歓酸クロム等、Ｆイオンの場合は、弗化水素
、弗酸、弗化アンモン、弗化ソーダ、硅弗化ソーダ、硼
弗酸その他の弗化物を用いる。これ等の陰イオンの添加
により、均質、均一かつ水和度の低い、高性能のクロメ
ート被膜が得られる。しかし、陰イオン添加量がＣｒ’
＋０１１５００以下では、効果がな（１１５０以上では
、形成されるクロメート被膜中に取り込まれる陰イオン
の量が急増し、性能の劣化を来すので、前記の如く、１
１５００〜１１５０の量とする必要がある。而して、好
ましくはＣｒ’＋に対して１／ろＤｏ〜１／１００の廓
囲が望ましい。

上述の如くにして製造された表面処理鋼板の被膜は、８
ｎメツキ後に溶鍋処理を行なわない場合では下地鋼板の
表面から、ＦｅへのＮｉ拡散層、Ｎ１メッキ層、Ｓｎメ
ッキ層そして最表面がクロメート層の４層より成ってい
る。溶鍋処理を行なった場合にはＮｉメッキ層とＳｎメ
ッキ層の間Ｋ　Ｎｉ　Ｓｎ合金層が微量存在する。又、
クロメート被膜は、既に述べた様に、下層に金属クロム
その土にクロメート被膜という２層で構成される場合が
ある。これ等伺わの被膜構成の場合においても、防食機
構、塗装性等は、殆んど差がない。

本発明は、Ｎｉ−Ｆｅ系拡散層とＳｎメッキ層の中間層
として電気Ｎ１メッキ層を設けることによって、以下の
様な利点が得られる。即ち本発明はＮｉ　−Ｆｅ拡散層
に直接Ｓｎメッキ層を設けた場合或いはＮ１メッキ層に
直接Ｓｎメッキ層を設けた場合に比較して、耐資性、溶
接性の点で以下の様な効果が得らねる。本発明の如く、
薄メツキ量の製品を対象とする場合、Ｎｉ−Ｆｅ拡散層
又は歯メッキ層に直接Ｓｎメッキを行なったものは、Ｓ
ｎメッキ後の加熱拡散処理或いは塗装焼付は時の加熱処
理によって、ＳｎとＮｉ−Ｆｅ拡散層或いげＮｉ層との
拡散以外にこわら下地層のピンホールからのＦｅの拡散
によってＳｎとの拡散合金層が多く生成でれる傾向にあ
る。そのため、溶接性、耐食性に有効々金属Ｓｎメッキ
層が減少する傾向にある。

一方、本発明の方法においては、Ｓｎメッキ層の下地層
としてＮｉ−Ｆｅ系拡散層とＮ１メッキ層の二層被膜で
構成されるだめ、その重量効果によってビンポール（Ｆ
ｅの露出）が少なくなることによって、ＳｎとＦｅの拡
散が抑制される。その結果、Ｓｎと中間Ｎ１層の間で前
記の如き加熱処理によって耐共件の良好なＮｉ−８ｎ系
合金層が主として形成される吉共に、原板ＦｅとＳｎの
拡散が抑ｒｈｌＪされる事によって、金属Ｓｎからなる
メッキ層の残存が多くな９、溶接性、耐食性の点で極め
て有効である。

Ｎｉは極めて耐食性に優ｔた金属であシ、Ｆｅに合金元
素として添加するとＦｅの耐食性が向上する。

本発明は、下地鋼板の表面にＮｉ拡散層、即ち、耐食性
の良い極〈薄いＦｅ−Ｎｉ合金層が形成されている。更
にその上に、よシ耐食性の良いＮｉメッキ層がある。Ｎ
１メッキ層の耐食性は、極めて優れているが、メッキ層
には微小なピンホール、即ち、メッキ層で覆われていな
い部分が存在する。又、取扱い時や製缶時に下地に達す
る疵がメッキ層に入る事がある。この様なピンホール部
あるいは庇部が腐食性の水溶液に曝されると、　Ｎｉメ
ッキ層と下地鋼板の間に局部電池が構成され、Ｎ１の腐
食型、位が下地の鋼板即ちＦｅよりも責であるだめに、
Ｎ１メッキ層が陰極となり、鋼板の腐食が促進され孔食
となる。

しかし、Ｎｉメンキ層と下地鋼板の間にＮ１　拡散。

層がある場合には、Ｆｅ　−Ｎ　ｉの腐食電位が、Ｎ１
よりは低いがＦｅよりは高いために、Ｎ１メブキ層とＮ
ｉ拡散層との間に形成される局部電池において流れる腐
食電流は、ＮｉとＦｅとの間のそれよりも小く、従って
、腐食速度が遅くなる。即ち、Ｎ１拡散層の存在で、著
るしく耐食性が向上する。Ｎｉメッキ層上のＳｎメッキ
層は、上述のＮ１メッキ層のピンホールを塞さぎ、孔食
の発生を防ぐとともに、Ｎ１メッキ層とは異なる作用で
耐食性を向上せしめる。即ち、腐食性の強い有機酸を含
む酸性食品の缶詰中では、Ｓｎの腐食電位がＦｅよシも
卑となり、Ｓｎメンキ層の下のＮ１メッキ層、Ｎｉ拡散
層及び鋼板に対して、犠牲防食作用を示す。Ｓｎメッキ
層上のクロメート被膜はその優れた耐食性に加えＳｎメ
ッキに存在するピンホールを塞ぎ、耐食性を一段と向上
せしめるとともに、塗装性を著るしく向上せしめる。特
に、既に述べた様に、塗膜下の腐食に対して、優ハた性
能を示し、ＣｒＯ３系浴によるクロメート被膜が著るし
い効果がある。クロメート被膜は、Ｎｉメッキ層上にお
けるよシも、Ｓｎメッキ層上において、均質、均一に形
成され易く、より優れた性能の被膜が得られ易い。又、
Ｓｎメッキが存在する場合の方が存在しない場合よシも
、Ｓを含む食品に使用した場合、硫化黒変が生じ難く、
優れている。Ｓｎメッキ層は又、溶接性の向上にも効果
があり、８ｎメツキ層のない場合に比して、溶接条件範
囲が拡大し、チリが発生し難くなる。溶接性の向上は、
Ｓｎの融点が極めて低い事、及び溶接部の鋼板表面同志
の接触抵抗がＳｎメッキ層の存在で低くなるためである
。以下に、本発明の実施例について述べる。

（実施例） 〔実施例１〕 通常の表面処理用原板製造工程を経て製造された板厚０
．’　２１　ｍｍの冷間圧延鋼板を、８０′Ｃの２チＮ
ａＯＨと市販のアルカリ性脱脂剤１％より成る水溶液中
で、２秒間ブラッシング後水洗し、次いで同一組成の脱
脂浴中で電流密度１０Ａ／ｄｍ　で２秒間陰極電解脱脂
して水洗、引き続き常温の１０％Ｈ２Ｓｏ、水溶液中で
電流密度１０Ａ／ｄｒＩ？で２秒間陰極電解酸洗を行い
水洗の後、Ｎ１メッキ浴に５０℃のワット氏浴を用い、
片面当！９１ｏ’ｏｍｙ７．ｚのＮｉメッキを施し、水
洗乾燥した。以上の処理は連続電気メツキラインを用い
て行なった。Ｎｉメッキされた鋼板は次に連続焼銑ライ
ンを通し、６５０℃で約３０秒間焼鈍を行うとともに、
Ｎｉメッキ層を鋼板中に拡散せしめた。次ｋ、圧下率１
φの調質圧延を施した後、先にＮｉメッキに用いた連続
メツキラインを通し、片面当りろＯｒｒｔ！ｉ＃７　、
ｌのＮ１メッキを行い水洗、引き続きフェロスタンメン
キ浴を用い、片面当り１００ｍＷｍ’の８ｎメツキを施
し、水洗、次いで４５℃のろ％Ｎａ２Ｃｒ２Ｏ７・２Ｈ
２０の水溶中で電流密度２Ａ／ｄ＋７＋２で２秒間陰極
電解に、１リクロメート処理を施した。

〔実施例２〕 〔実施例１〕において、Ｓｎメッキの後水洗、２６０℃
迄急速加熱し直ちに水中へ入れて急冷するいわゆる溶鍋
処理を付加した。その他の処理条件は、〔実施例１〕と
全く同一にした。

〔実施例６〕 〔実施例１〕において、板厚０．２　：？　ｍｍの鋼板
を用い、調質圧下率は１０％とした他は全て、〔実施例
１〕と同様に処理した。

〔実施例４〕 Ｓｎメンキ迄は、〔実施例１〕と全く同一条件で処理し
、次いで６０℃（Ｄ　１　ｏｏｇ／ｌｌ’、ｃｒｏ３に
、ＣＪ３ｇ／ｉ　Ｉ（２Ｓｏ、を添加した水溶中でＩＯ
Ａ／ｄｍ２の電流密度でクロメート被膜量がＣｒ量で表
示して片面肖り１０■／ｍ２となる様陰極処理した。

〔実施例５〕 〔実施例１〕と同一工程及び方法で、Ｓｎメッキ量を５
０．０ｍｇ／、ｉ”とした以外は全て〔実施例１〕と同
様にした。

〔実施例６〕 〔実施例５〕と同様であるが、Ｓｎメッキ後に、２６０
℃に急熱、直ちに水冷する溶鍋処理を付加した。

〔実施例７〕 〔実施例５〕と同様であるが、鋼板板厚を０．２２龍、
Ｎｉ拡散処理後の調質圧下率を１０チ、クロメート処理
は〔実施例４〕と同様にＣｒＯ２−ＳＯ４糸浴で行なっ
た。

〔実施例８〕 〔実施例１〕と同一工程で１．０．２４３　ｍｍの冷延
鋼板を用い、調質圧延は圧下率３０％の２回目冷間圧延
及び８ｎメツキ量を５００　ｍＷ／　ｍ’　とした他は
、全て〔実施例１〕と同様にした。

〔実施例９〕 し実施例８〕と同様、但し、Ｎｉ拡散処理層上のＮｉメ
ッキ量を４０　Ｄ　ｒｔｙ、Ｓｎメッキ量は、ｉｏｏｍ
ｇ／　Ｉｎ２とした。

〔実施例１０〕 〔実施例８〕に〔実施例２〕と同一のび錫処理を伺加し
た以外は、全て〔実施例８〕メ同一の処理を施した。

〔実施例１１〕 〔実施例１〕と同様に、して、板厚０．２１５ｍノ＋１
　、第１回のメッキ量２ｏｏｍ９ｉｒｒ？、調質圧下率
は１５％、第２回目のメッキ量２０ＤＩＶ／ｍ’とした
以外は、同一条件で処理した。

〔実施例１２〕 板厚０．２１　ｍｍの冷延鋼板を、アルカリ脱脂、酸洗
を〔実施例１〕に示した条件と同一の条件で前処理し、
次いで８０　ｇ／ｌの酢酸Ｎｉに０１％の活性剤を添加
した水溶液に０５秒浸漬後ゴムロールで絞シ、酢酸歯を
塗布し乾燥した。次いで連続焼鈍炉で６５０℃で約６０
秒間焼鈍し、鋼板表面にＮ１拡散層を形成せしめた。以
上の処理は、入側に前処理装置、水溶液塗布装置を持つ
連続焼鈍炉によシ、連続的に行なった。尚、焼鈍後のＮ
ｉ拡散中のＮｉ量は、片面当シ、４０〜／デであった。

焼鈍後、圧下率１％で調質圧延を施し、次いで、Ｎｉメ
ッキ設備を持つ連続ブリキラインを通し、Ｎ１メッキ、
Ｓｎメッキ、及びクロメート処理を逐次連続的に施した
。Ｓ、ｎメッキ後の溶鍋処理は行なわなかった。

尚、この一連の処理において、Ｎｉメッキ量は片面当り
１００ｍｇ／ｍ’、Ｓｎメッキ量は１００１ｎ９／ｍ２
、クロメート処理は３０ｇ／ｌのＮａ２Ｃｒ２Ｏ７・２
Ｈ２０水溶液を用いた。それぞれのメッキ浴、処理条件
等は、〔実施例１〕と同様である。

〔実施例１ろ〕 板厚０．２２ｍｍ、調質圧下率１０チ、Ｓｎメッキ後溶
錫処理を加えた以外は、全て〔実施例１２〕と同一の処
理を施した。

し実施例１４〕 板厚０．２４３　＋ｎｍ、調質圧延を圧下率３．０　％
の２回目７％　間圧延、Ｎｉメッキ量を２００＋ｎ９／
ｍ”、後処理を〔実施例４〕のクロム酸処理とした以外
は全て〔実施例１２〕と同様に行なった。

〔実施例１５〕 〔実施例１〕と同様に処理した。但し、クロメート処理
は、８０　ｇ／ｅのＣｒＯ３水溶液にＨ２ＳＯ４：０．
１　ｊｌ／ｌ　：　ＮＨ４Ｆ　：　ＣＪ、８ｇ／ｌ、Ｎ
ａ２ＳｉＦ６　：　０．３８ｇ／ｅを添加した。ＣｒＯ
２−ＳＯ４”　−Ｆ−系処理浴により６０℃、電流密度
５Ａ／ｄｎＬ２で、クロメート被膜付着量が、クロメー
ト被膜中のＣｒ量量で表示して片面当り３ｍ９／デにな
る様なりロム酸処理とした。

〔実施例１６〕 〔実施例６〕と同様に処理した。クロメート処理は８０
　、！９’　／　１１１／）　Ｃｒｙ３水溶液Ｋ　）（
２ｓｏ、　：　０．１　ｇ／ＬＮａ２ＳｉＦｅ　：　０
．２ｊｉ／ｌ、ＨＦ　：　０．２２９／１３を添加した
ＣｒＯ３−８Ｏ４”−−Ｆ−系処理浴によＩ）　６０　
’Ｃ１電流密度１ｏＡ／ｄｙｒ＋Ｆでクロメート被膜量
がクロメート被膜中のＣｒ量量で表わして片面当Ｄ５ｍ
９／ｒｒ？になる様なりロム酸処理としだ。

〔実施例１７〕 〔実施例８〕と同様に処理した。但し、クロメート処理
は８０　ｊｉ　／　１３１／）　ＣｒＯ３水溶′液にＨ
Ｆ、Ｆ　：　０．８ｇ／　ＩＪ　、　Ｎａ２５ｉＦａ　
：　０．５７　ｇ／　／ｊを添加したＣｒｙｓ　−Ｆ　
−系処理浴を用い、４０℃、電流密度２ＯＡ／ｄｍでク
ロメート被膜付着量が、クロメート被膜中のＣｒの量で
表示して片面当り１０ｍ９／ｒｒ？になる様なりロム酸
処理とした。尚この時生成したクロメート被膜は下層に
、付着量２ｍ９／ｒｒ？の金属クロム、上層に付着量８
■／ｒｒ？の水和酸化クロム被膜より成る２層のクロメ
ート被膜であった。

〔実施例１８〕 〔実施例１２〕と同様に処理した。但し、クロメート処
理は、８０９／ｌのＣｒ　Ｏ３水溶液にＨＦ　：　０．
１１ｇ／ｅ、　ＮａＢＦ４　：　０．３２　ｇ／１１を
添加したＣｒ０３−Ｆ−系処理浴を用い、５０℃、電流
密度３０Ａ／ｄｙｆで、クロメート被膜付着量がクロメ
ート被膜中のＣｒ量量で表示して、片面当り１０〜／ｍ
Ｆとなる様なりロム酸処理とした。

し実施例１９〕 〔実施例１３〕と同様に処理した。但し、クロメート処
理は、８０　ｇ／ｌのＣｒＯ３にＨ２ＳＯ４：　０．０
５ｇ／６、ＨＦ　：　０１１ｇ／ｌを添加したＣｒＯ３
−ＳＯ４’−−Ｆ−系処理浴を用い、温度５０℃、電流
密度４０Ａ／ｄｍ”で、クロメート被膜付着量が被膜中
のＣｒ量で表示して片面当り１５ｍ９／ｒｎ”となる様
なりロム酸処理を行なった。尚クロメート被膜は、下層
に付着量２ｍ；ｌ　／　ｍ２の金属クロム層、上層に付
着量１３ｍｇ／ｍ２の水利酸化クロム被膜よシ成る２層
被膜であった。

〔実施例２０〕 〔実施例１４〕と同様に処理した。但し、クロメート処
理は、８０９　／　１１　ノＣｒＯ３水溶液ＶｃＮＨ，
Ｆ：０、Ｂ９／ｌ、ＮａＢＦ４　：　Ｏ，，３＋　２　
ｇ／　ｌ　を除加したＣｒ０３−Ｆ−系処理浴を用い、
温度５０℃、電流密度５０　Ａ／ｄ７Ｆ？で、クロメー
ト被膜付着量が、被膜中のＣｒ量で表示して片面当Ｊ）
２０　ｍｔｉ／ｒｌとなる様なりロム酸処理を行なった
。尚、クロメート被膜は、下層に付着量２ｍｇ／ｒｔ？
の金属クロム層、上層に付着量’　８　Ｔｌ１９／ｍ２
の水和酸化クロム被膜の２層より成っている。

〔実施例２１〕 〔実施例１５〕と同様にして、処理した。但し、クロメ
ート処理は電流密度３０Ａ／ｄｍＦで行い、下層に金属
クロム層５ｒｎｙ／ｒｚ、上層に水利酸化クロム層７ｍ
ｙ／ぜ、計１０ｍ９／ｄ（Ｄ付着量（片面当Ｄ　）　２
１Ｈａ膜となる様にした。

〔実施例２２〕 〔実施例１７〕と同様に処理した。但し、クロメート処
理は電流密度３［ＩＡ／ｄＴ？で行い、下層に金属クロ
ム層５Ｉｎｇ／ｍ’、上層に水和酸化クロム層５ｍＱ／
ｒｒ？の２層よシなる様にした。

〔比較例１〕 〔実施例１〕と同様の冷延鋼板を用い、フェロスタン電
気ブリキラインによυメンキ量２．８ｇ／ｒｔ？（片面
当シ）、グイクロメート陰極処理を施しだブリキを製造
した。このブリキは、一般に市２販されている＃２５ブ
リキと同様である。

〔比較例２〕 〔比較例１〕と同様にして、メッキ！１．７ｇ／ｉ（片
面当り）のブリキを製造した。

〔比較例ろ〕

〔実施例１〕と同様の冷延鋼板を用い、市販のＴＦＳ”
ＣＴ製造法により　ＴＦＳ−ＣＴを製造した。金属クロ
ム伺着量１”ｌ：１［］［）ｌη／ｍ’、クロメート被
膜付着量は、Ｃｒ量量で１５ｍｇ／ｙｒ＋Ｆであった。

〔比較例４〕 〔実施例１〕の冷延鋼板に、連続処理設備によりＮ１メ
ツキ量６ｏｏｒｎｇｉｒｒ？その上にクロメート被膜を
Ｃｒｙｓ　−８０４２−系の処理浴Ｖこよシクロメート
処理を施した。クロメート被膜量は、Ｃｒの量で１５＋
ｌｌ＆／ｍ’であった。

〔比較例５〕 〔実施例１〕と同様の冷延鋼板を用い、メッキ量１００
〜／ｍ’のＮ１メッキを行なった後更にメンキ量５００
ｍｇ／ＩｄのＳｎメッキを施し、更に〔実施例１〕と同
様のクロメート処理を施した。以上に述べた実施例１〜
２２及び比較例１．２で得らｈた表面処理鋼板について
各種の特性試験を行なった試験結果を第１表に示す。本
発明の成品はいずれも比較例と同等以上の性能を示して
いる。

各種の特性試験は次の通シである。

（１，）　表面接触電気抵抗測定 食缶用のシーム溶接機の極軸間に、２１０℃で１０分間
大気中で加熱後冷却した試片を置き、３５ｋｆｊの圧力
をかけ極軸間に直流電圧を印加したときの電気抵抗を測
定し、試片表面の接触抵抗とした。

接触抵抗が小なる程、溶接が良好である。

（２）　溶接性試験 食缶用のシーム溶接機を用い、溶接部重ね巾０．４　ｍ
ｍ、加圧力４５ｋｇ、溶接速度１６ｍ／ｍｉｎで、溶接
電流を神々に変え溶接した。溶接部の引張シ強さ測定、
チリ発生数測定、変色状態の観察、断面顕微鏡観察によ
るナゲツト生成状態観察を行い、良好な溶接電流の最低
値と最大値即ち、適正溶接電流範囲をめた。

評価は、市販の＃２５ブリキを基準にして行い、次の如
くに行なった。

◎、＃２５ブリキと同等かそれ以上 ○：＃２５ブリキよシやや劣るが、実用上問題ない。

△：＃２５ブリキよシ劣シ、実用に当っては、溶接条件
の厳密な管理が必要 Ｘ；＃２５ブリキより劣り、実用不可 （３）塗膜下腐食試験 試片表面にエポキシ系の缶用塗料を焼成後の塗膜付着量
で６５ｍｇ／ｄｒｒｉｉになる様ロールコータ−で塗装
し、２０５℃で１０分間焼成した。塗膜面に、鋭利なナ
イフで地鉄に達するＸ印のスクラッチを入れ、１．５　
％　ＮａＣｌ＋　１．５　％クエン酸溶液中に入れ、５
５℃に加熱し、９６時間保定した。９６時間経過後、試
料を取シ出し、水洗乾燥後、スクラッチ部の腐食の広が
り、孔食の発生程度及びスクラッチ部以外の塗膜下の腐
食発生状況を、５０倍の顕微鏡で観察した。又、試料全
面（５ｃｒＩＬ×５ｃｒＩＬ）にセロテープをはりつけ
急激に引き剥して、塗膜の剥離状況を観察した。評価は
次の如く行なった。

（４）耐塩水試験 前項３と同様に塗装した試片を５ＣｒＩＬ×５ａｎに切
り出し、中央部から塗装面を外側にして９０’に折り曲
げ、５チ食塩中に拭清、高圧蒸気釜に入れ、１２５℃に
加熱し、１時間保定した。１時間後試片を取り出し、水
洗、乾燥後、折シ曲げ部を平に曲げ戻し、全面にセロテ
ープを貼シ付け、急激に引き剥し、塗膜の剥離状況を観
察した。評価は次の如くに行なった。

◎゛塗膜剥離全くなし ○：　〃　〃　５チ以下 △：　ｐ　’ｔｔ　５．ｉ〜５０係 ｘ：＊　〃　５１％以上 （５１耐硫化黒変性 前項４と同様に塗装後９０’に折シ曲げた試片を０．４
％の硫化アンモニアの水溶液に浸漬し、高圧蒸気釜に入
れ、１２５℃に加熱、１時間保定した。

１時間後試片を取シ出し、水洗乾燥後、折シ曲げ部の変
色（黒変）の程度を肉眼観察により評価した。評価は次
の如くに行なった。

◎：全く変色なし ○：殆んど変色なし △：僅かに変色 ×：明瞭に変色

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）　冷間圧延された鋼板に、片面当ｐＮｉ量として
   ６０〜５００　Ｊｎ９／　ｍ’のＮ１メッキ層を施し、
   非酸化性あるいは還元性雰囲気中で加熱、拡散処理した
   後、調質圧延または冷間圧延を施して片面当シのＮｌ量
   が６０〜５００〜／ｒｎ’のＮｉ電気メッキを行ない、
   更に片面当りのＳｎ量がｉｏｏ〜１５ｏｏ〃夕／ｎ？の
   Ｓｎ電気メッキを施した後クロメート処理を行なう事を
   特徴とする耐食性と溶接性に優れた容器用鋼板の製造法
   。
2. （２）　冷間圧延された鋼板に、（片面当り）Ｎｉ量と
   して３０〜５ｏｏｒｎｙ／７ｒ？のＮ１メッキ層を施し
   、非酸化性あるいは還元性雰囲気中で加熱拡散処理した
   後調質圧延または冷間圧延を施して片面当りのＮｌ量が
   ３０〜５ｏｏｍ９／−のＮ１電気メッキを行ない、更に
   片面当りの８ｎ量が１０ｏ〜１５ｏｏｍｇ／？のＳｎ電
   気メッキを施してＳｎメッキ層を溶鍋処理した後クロメ
   ート処理を行うことを特徴とする耐食性と溶接性に優れ
   た容器用鋼板の製造法。