JPS6033233A - 酸化珪素被膜の製造方法 - Google Patents
酸化珪素被膜の製造方法Info
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- JPS6033233A JPS6033233A JP13721783A JP13721783A JPS6033233A JP S6033233 A JPS6033233 A JP S6033233A JP 13721783 A JP13721783 A JP 13721783A JP 13721783 A JP13721783 A JP 13721783A JP S6033233 A JPS6033233 A JP S6033233A
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- JP
- Japan
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- silicon oxide
- glass
- boric acid
- liquid
- treatment
- Prior art date
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は酸化珪素を含むガラスの表面に酸化珪素被膜を
形成させる方法に関する。
形成させる方法に関する。
更に詳しくは、酸化珪素を含むガラスを、珪弗化水素酸
の酸化珪素飽和水溶液にホウ酸を添加した処理液に浸漬
することにより、該ガラス表面上に酸化珪素被膜を形成
させる方法の改善に関する０今日、いろいろな材料の表
面を酸化珪素膜で被覆することが広く行なわれている。
の酸化珪素飽和水溶液にホウ酸を添加した処理液に浸漬
することにより、該ガラス表面上に酸化珪素被膜を形成
させる方法の改善に関する０今日、いろいろな材料の表
面を酸化珪素膜で被覆することが広く行なわれている。
例えばガラス表面に酸化チタン膜と酸化珪素の交互多層
膜を形成することにより、表面の反射効果を減じること
が古くから行なわれている。あるいは金属・合金材料の
保護膜としてその表面に酸化珪素被膜を形成させること
も広く行なわれている。更には、液晶表示パネル、太陽
電池用基板ガラスにソーダライムガラスまたはホウ珪酸
ガラスなどアルカリ含有ガラスを用いる場合、ガラスか
らのアルカリ成分の溶出を防止する目的で、これらガラ
スの表面を酸化珪素膜で被覆することが行なわれる。特
にガラスからのアルカリ成分の溶出防止は、液晶表示あ
るいは太陽電池の寿命を維持する上で、欠くことのでき
ない技術となっている。
膜を形成することにより、表面の反射効果を減じること
が古くから行なわれている。あるいは金属・合金材料の
保護膜としてその表面に酸化珪素被膜を形成させること
も広く行なわれている。更には、液晶表示パネル、太陽
電池用基板ガラスにソーダライムガラスまたはホウ珪酸
ガラスなどアルカリ含有ガラスを用いる場合、ガラスか
らのアルカリ成分の溶出を防止する目的で、これらガラ
スの表面を酸化珪素膜で被覆することが行なわれる。特
にガラスからのアルカリ成分の溶出防止は、液晶表示あ
るいは太陽電池の寿命を維持する上で、欠くことのでき
ない技術となっている。
ガラスの表面に酸化珪素被膜を形成させるには、従来よ
り真空蒸着・スパッター・（３ＶＤあるいは浸漬塗布法
（ディッピング法）等の方法が多く用いられてきた。し
かしながら、これらの方法は装置あるいは付帯設備が高
価であるため、酸化珪素被覆に要するコストが高くなる
他、小さなガラスしか処理できないという欠点があった
。これら従来の酸化珪素被膜形成方法の欠点に鑑み、珪
弗化水素酸の酸化珪素飽和水溶液にホウ酸を添加した処
理液を用いた新しい酸化珪素被膜形成方法が提案されて
いる（特開昭５７−７９４７＃４Ｑ。
り真空蒸着・スパッター・（３ＶＤあるいは浸漬塗布法
（ディッピング法）等の方法が多く用いられてきた。し
かしながら、これらの方法は装置あるいは付帯設備が高
価であるため、酸化珪素被覆に要するコストが高くなる
他、小さなガラスしか処理できないという欠点があった
。これら従来の酸化珪素被膜形成方法の欠点に鑑み、珪
弗化水素酸の酸化珪素飽和水溶液にホウ酸を添加した処
理液を用いた新しい酸化珪素被膜形成方法が提案されて
いる（特開昭５７−７９４７＃４Ｑ。
しかしながら、この方法では所要の装置は簡便であり、
かつ大きなガラスへの酸化珪素被膜形成も可能であるが
、該被膜の形成速度を高めるために処理液に添加するホ
ウ酸量を増加すると、酸化珪素被膜のヘイズ率が高くな
るという欠点があった。更には添加するホウ酸量が多い
と処理液中に酸化珪素から成る沈澱を生じ、前述被膜形
成速度が急速に低下することにより処理液の効能を失う
という問題もあった。
かつ大きなガラスへの酸化珪素被膜形成も可能であるが
、該被膜の形成速度を高めるために処理液に添加するホ
ウ酸量を増加すると、酸化珪素被膜のヘイズ率が高くな
るという欠点があった。更には添加するホウ酸量が多い
と処理液中に酸化珪素から成る沈澱を生じ、前述被膜形
成速度が急速に低下することにより処理液の効能を失う
という問題もあった。
本発明者らは、かかる問題点に鑑み鋭意研究の結果、処
理液を循環使用し、この間に濾過工程を導入することで
ホウ酸量を増加しても、すなわち酸化珪素被膜形成速度
を高めても該被膜のヘイズ率は高くならず、更には処理
液中で沈澱が発生するのを防止できることを見出した。
理液を循環使用し、この間に濾過工程を導入することで
ホウ酸量を増加しても、すなわち酸化珪素被膜形成速度
を高めても該被膜のヘイズ率は高くならず、更には処理
液中で沈澱が発生するのを防止できることを見出した。
すなわち本発明は、珪弗化水素酸の酸化珪素飽和水溶液
にホウ酸を添加した処理液に、酸化珪素を含むガラスを
浸漬することにより該ガラス表面に酸化珪素被膜を形成
させる方法において（イ）処理工程が、ガラス浸漬槽か
ら処理液を一定量づつ連続的に汲出した後へ！ミクロン
径以下のフィルターで連続的に濾過し再びガラス浸漬槽
に戻すことから成る連続式の処理工程であり、（ロ）こ
の処理工程において、全処理液量に対する１分間当り％ の処理液循環量の割合が３田以上であり、（ハ）かつ、
必要なホウ酸量を水溶液とし、処理液中に連続的に注入
・混合すること等を特徴とする。
にホウ酸を添加した処理液に、酸化珪素を含むガラスを
浸漬することにより該ガラス表面に酸化珪素被膜を形成
させる方法において（イ）処理工程が、ガラス浸漬槽か
ら処理液を一定量づつ連続的に汲出した後へ！ミクロン
径以下のフィルターで連続的に濾過し再びガラス浸漬槽
に戻すことから成る連続式の処理工程であり、（ロ）こ
の処理工程において、全処理液量に対する１分間当り％ の処理液循環量の割合が３田以上であり、（ハ）かつ、
必要なホウ酸量を水溶液とし、処理液中に連続的に注入
・混合すること等を特徴とする。
この場合フィルターメツシュは１．５ミクロン径以下が
必要で、これ以上では濾過の効果は目的のへイス率が得
るには至らない。また循環式連続処である。この循還量
の割合が小さすぎると、処理液の一巡する間の時間が長
くなる結果、この間で処理液中に酸化珪素の沈澱を生じ
フィルターの目づまりが容易に起る。すなわち連続処理
が不能となる。このように珪弗化水素酸の酸化珪素飽和
水溶液はホウ酸を添加することにより酸化珪素を過飽和
に含んだ状態となり、従って長時間の放置により処理液
中に酸化珪素の沈澱を生ずる。このため処理液に適切な
濾過間隔が必要となる。ホウ酸の量は珪弗化水素酸／ｍ
Ｏ１に対して７．２Ｘ １０−２〜．！Ｘ／にｌ−２ｍ
ＯＪであることが望ましい。
必要で、これ以上では濾過の効果は目的のへイス率が得
るには至らない。また循環式連続処である。この循還量
の割合が小さすぎると、処理液の一巡する間の時間が長
くなる結果、この間で処理液中に酸化珪素の沈澱を生じ
フィルターの目づまりが容易に起る。すなわち連続処理
が不能となる。このように珪弗化水素酸の酸化珪素飽和
水溶液はホウ酸を添加することにより酸化珪素を過飽和
に含んだ状態となり、従って長時間の放置により処理液
中に酸化珪素の沈澱を生ずる。このため処理液に適切な
濾過間隔が必要となる。ホウ酸の量は珪弗化水素酸／ｍ
Ｏ１に対して７．２Ｘ １０−２〜．！Ｘ／にｌ−２ｍ
ＯＪであることが望ましい。
またガラス浸漬槽において処理液の流れがガラス面に対
し平行な層流であることが必要で、流れが乱流になると
酸化珪素被膜にムラムラした膜厚ガラス面に対する処理
液の流れの相対的な速度が、速すぎても膜形成速度が低
下するため、好ましくない。
し平行な層流であることが必要で、流れが乱流になると
酸化珪素被膜にムラムラした膜厚ガラス面に対する処理
液の流れの相対的な速度が、速すぎても膜形成速度が低
下するため、好ましくない。
なお、本発明においては酸化珪素を含むガラスは、単な
るガラスの他、酸化珪素または酸化珪素を含むセラミッ
クスで被覆された材料、例えばセラミックス・金属、あ
るいは有機材料であってもよい。
るガラスの他、酸化珪素または酸化珪素を含むセラミッ
クスで被覆された材料、例えばセラミックス・金属、あ
るいは有機材料であってもよい。
以下に本発明の詳細な説明する。
実施例１
大きさが／ ００ （ｍｍ） Ｘ１００ （ｍｍ）の厚
味／ （ｍｍ）のソーダライムガラスをＯ６Ｓ％濃度（
重量％）のＨＦ水溶液中に１０分間浸漬した後、十分に
洗浄し乾燥した。次いで当該ガラスを図１に示す浸漬槽
に浸漬した。浸漬槽は外槽（１）と内槽（，２）から成
り、内槽と外槽の間には水（３）が満しである。実験で
は、この水の温度が３５°Ｃとなるよう、水はヒーター
（４’）で加熱され、かつ温度分布均一化のため攪拌器
（ｊ）で攪拌されている。内槽は前部（≦）。
味／ （ｍｍ）のソーダライムガラスをＯ６Ｓ％濃度（
重量％）のＨＦ水溶液中に１０分間浸漬した後、十分に
洗浄し乾燥した。次いで当該ガラスを図１に示す浸漬槽
に浸漬した。浸漬槽は外槽（１）と内槽（，２）から成
り、内槽と外槽の間には水（３）が満しである。実験で
は、この水の温度が３５°Ｃとなるよう、水はヒーター
（４’）で加熱され、かつ温度分布均一化のため攪拌器
（ｊ）で攪拌されている。内槽は前部（≦）。
を飽和した２、０ｍ０１１７１３６度の珪弗化水素酸水
溶液とＯ，！； ｍｏｉｌ／７１濃度のホウ酸水溶液を
容量比で、２！；：／ で混合した処理液が満しである
。前述のＨＦ処理したガラス（９）は内槽中央部（７）
に垂直状に浸漬・保持されている。内槽後部（す）の処
理液は循環ポンプ（ｌのにより一定量づつ汲出されフィ
ルター（／／）を経て、内槽前部（酌へ戻される。
溶液とＯ，！； ｍｏｉｌ／７１濃度のホウ酸水溶液を
容量比で、２！；：／ で混合した処理液が満しである
。前述のＨＦ処理したガラス（９）は内槽中央部（７）
に垂直状に浸漬・保持されている。内槽後部（す）の処
理液は循環ポンプ（ｌのにより一定量づつ汲出されフィ
ルター（／／）を経て、内槽前部（酌へ戻される。
この循環系において処理液の総量は３１であり、内槽後
部には０．１ｍ１１分の割合で０．！； ｍｏｌ／１濃
度のホウ酸水溶液（１２）を連続的に滴下している０ この条件下において、フィルターメツシュを０、ｔμ、
１．２μ、 ／、！ｉμ、２，５μ及びフィルターなし
くすなわち従来法）と使い分け、各フィルターごとに処
理液の循環量を６０．ワ０ 、 ／２０ 、２’ｌＯｍ
１７分と変更し、得られた酸化珪素被膜の形成速度及び
ヘイズ率（％）を比較した。なお、ヘイズ率は酸化珪素
被膜の厚味をｔｔｉｏｏｈにそろえて測定・比較した。
部には０．１ｍ１１分の割合で０．！； ｍｏｌ／１濃
度のホウ酸水溶液（１２）を連続的に滴下している０ この条件下において、フィルターメツシュを０、ｔμ、
１．２μ、 ／、！ｉμ、２，５μ及びフィルターなし
くすなわち従来法）と使い分け、各フィルターごとに処
理液の循環量を６０．ワ０ 、 ／２０ 、２’ｌＯｍ
１７分と変更し、得られた酸化珪素被膜の形成速度及び
ヘイズ率（％）を比較した。なお、ヘイズ率は酸化珪素
被膜の厚味をｔｔｉｏｏｈにそろえて測定・比較した。
結果は表１２表２の通りであり、フィルターメツシュに
ついてはへｊミクロン以下の大きさで、循環流量の割合
については９０ｍ１１７分すなわち全処理液量に対し１
分間当りの循環量が３％以上の時へイス率（％）を０１
５％以下にすることができる。
ついてはへｊミクロン以下の大きさで、循環流量の割合
については９０ｍ１１７分すなわち全処理液量に対し１
分間当りの循環量が３％以上の時へイス率（％）を０１
５％以下にすることができる。
すなわち表７９表２に本発明の効果を見ることができる
。
。
オ／図は本願発明の実施例を示す循環系統説明図である
。 ｌ・・・・・・・・外槽 、 ２・・・・・・・・内槽
。 ３・・・・・・・・水 、 ｌ・・・・・・・・ヒータ
ー 。 ５・・・・・・・・攪拌器 、 ６・・・・・・・・内
槽前部 。 ７・・・・・・・・内槽中央部 、 ざ・・・・・・・
・内槽後部。 ワ・・・・・・・・ガラス 、１０・・・・・・・・循
環ポンプ 。 ／／・・・・・・・・フィルター 、 ／２・・・・・
・・・ホウ酸水溶液第１図 手 続 補 正 書 ／ 事件の表示 特願昭Ｓざ−１３７２１７号 一粋公釦 一 発明の名称 酸化珪素被膜ガラスの製造方法 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪府大阪市東区道修町４丁目８番地名 称
（ｌθθ）日本板硝子株式会社代表者 刺 賀 信 ′
１１１″ グ代理人 ７ 補正の内容 （１）明細書の発明の名称の欄Ｋ［酸化珪素被覆ガラス
の製造方法」とあるのを「酸化珪素被膜の製造方法」と
補正する。 （コ）明細書の特許請求の範囲の欄を別紙の通り補正す
る。 （３）明細書の第２貴第、２デテ目Ｋ［酸化珪素を含む
ガラス」とあるのをＵ基材コ七補正する。 （４’）明頗ｊ書の第２貴第グ行目に「酸化珪素を含む
ガラス」とあるのを「基材」と補正する。 （Ｓ）明細書の第２貴第を行目に「該ガラス」とあるの
を「該基材」と補正する。 （乙）明細書の第１頁第１ｔ行目Ｋ「酸化珪素を含むガ
ラス」とあるのを「基材」と補正する。 （７）明細書の第１頁第１１行目に［該ガラスゴとある
のを［該基材ｊと補正する。 （ざ）ａＡ細書の第１Ｉｈ第７３行目に「ガラス浸漬槽
」とあるのを「浸漬槽」ｋ補正する。 ワ）明細書の第１頁第１ｔ行目に［１，ｓミクロン径以
下のフィルター」とあるのを１フイルクー」と補正する
。 （１０ン明細書第μ頁第１５行目に１ガラス浸漬槽」と
あるのを「浸漬槽」と補正する。 （／ｌ）明細書第Ｓ頁第２行目に「必要で、」とあるの
を「宋ましく、」と補正する。 （／コ）明細書簡Ｓ貫第３行目に「が得るには至らない
。」とあるのを１を得るのが難かしい。」と補止する。 （／３）明細書画Ｓ頁第７７行目に「ガラス浸漬槽」と
あるのを「浸ｍ栖」と補正する。 （／り明細書第ｊ頁第１２行目Ｋ「ガラス面」とあるの
を「基材表面」と補正する。 （／ｊ）明ａｌｌ書第を画情１行目に１ガラス面」とあ
るのを「基材表面」と補正する。 （／旬明細書第乙画情を行〜第ｇ行に「なお、本発明に
おいては・６Ｑ ・・Ｏ有機材料であってもよい。」と
あるのを「なお、本発明において蔵相は単なるガラスの
他セラミックス、金属（鉄板、シリコン基材他）、ある
いは有機材料（プラスチック材）であってもよい。」と
補正する。 ２−軽１１株叡偽ｉ印 （１）社を珪弗化水素酸の酸化珪素飽和水溶液にホウ酸
を添加した処理液に浸漬することにより該基１表面上に
酸化珪素被膜を製造する方法において、（イ） ホウ酸
水溶液を該処理液中に連Ｍ的に注入し混合させ、
。 ｌ・・・・・・・・外槽 、 ２・・・・・・・・内槽
。 ３・・・・・・・・水 、 ｌ・・・・・・・・ヒータ
ー 。 ５・・・・・・・・攪拌器 、 ６・・・・・・・・内
槽前部 。 ７・・・・・・・・内槽中央部 、 ざ・・・・・・・
・内槽後部。 ワ・・・・・・・・ガラス 、１０・・・・・・・・循
環ポンプ 。 ／／・・・・・・・・フィルター 、 ／２・・・・・
・・・ホウ酸水溶液第１図 手 続 補 正 書 ／ 事件の表示 特願昭Ｓざ−１３７２１７号 一粋公釦 一 発明の名称 酸化珪素被膜ガラスの製造方法 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪府大阪市東区道修町４丁目８番地名 称
（ｌθθ）日本板硝子株式会社代表者 刺 賀 信 ′
１１１″ グ代理人 ７ 補正の内容 （１）明細書の発明の名称の欄Ｋ［酸化珪素被覆ガラス
の製造方法」とあるのを「酸化珪素被膜の製造方法」と
補正する。 （コ）明細書の特許請求の範囲の欄を別紙の通り補正す
る。 （３）明細書の第２貴第、２デテ目Ｋ［酸化珪素を含む
ガラス」とあるのをＵ基材コ七補正する。 （４’）明頗ｊ書の第２貴第グ行目に「酸化珪素を含む
ガラス」とあるのを「基材」と補正する。 （Ｓ）明細書の第２貴第を行目に「該ガラス」とあるの
を「該基材」と補正する。 （乙）明細書の第１頁第１ｔ行目Ｋ「酸化珪素を含むガ
ラス」とあるのを「基材」と補正する。 （７）明細書の第１頁第１１行目に［該ガラスゴとある
のを［該基材ｊと補正する。 （ざ）ａＡ細書の第１Ｉｈ第７３行目に「ガラス浸漬槽
」とあるのを「浸漬槽」ｋ補正する。 ワ）明細書の第１頁第１ｔ行目に［１，ｓミクロン径以
下のフィルター」とあるのを１フイルクー」と補正する
。 （１０ン明細書第μ頁第１５行目に１ガラス浸漬槽」と
あるのを「浸漬槽」と補正する。 （／ｌ）明細書第Ｓ頁第２行目に「必要で、」とあるの
を「宋ましく、」と補正する。 （／コ）明細書簡Ｓ貫第３行目に「が得るには至らない
。」とあるのを１を得るのが難かしい。」と補止する。 （／３）明細書画Ｓ頁第７７行目に「ガラス浸漬槽」と
あるのを「浸ｍ栖」と補正する。 （／り明細書第ｊ頁第１２行目Ｋ「ガラス面」とあるの
を「基材表面」と補正する。 （／ｊ）明ａｌｌ書第を画情１行目に１ガラス面」とあ
るのを「基材表面」と補正する。 （／旬明細書第乙画情を行〜第ｇ行に「なお、本発明に
おいては・６Ｑ ・・Ｏ有機材料であってもよい。」と
あるのを「なお、本発明において蔵相は単なるガラスの
他セラミックス、金属（鉄板、シリコン基材他）、ある
いは有機材料（プラスチック材）であってもよい。」と
補正する。 ２−軽１１株叡偽ｉ印 （１）社を珪弗化水素酸の酸化珪素飽和水溶液にホウ酸
を添加した処理液に浸漬することにより該基１表面上に
酸化珪素被膜を製造する方法において、（イ） ホウ酸
水溶液を該処理液中に連Ｍ的に注入し混合させ、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■ 酸化珪素を含むガラスを、珪弗化水素酸の酸化珪素
飽和水溶液にホウ酸を添加した処理液に浸漬することに
より、該ガラス表面上に酸化珪素被膜を形成させる方法
において、処理工程がガラス浸漬槽から処理液を一定量
づつ連続的に汲出した後／、ｊ ミクロン径以下のフィ
ルターで連続的に濾過し、再びガラス浸漬槽に戻す、こ
とから成る連続式の処理工程であり、この処理工程にお
いて全処理液量に対する１分間当りの処理液循環量の割
合％ が３両以上であり、かつ必要なホウ酸量を水溶液とし、
処理液中に連続的に注入・混合することから成る酸化珪
素被膜の形成方法。 ■ ガラス浸漬槽において処理液の流れがガラス面に対
して平行な層流であることを特徴とする特許請求の範囲
第０項に記載の方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13721783A JPS6033233A (ja) | 1983-07-27 | 1983-07-27 | 酸化珪素被膜の製造方法 |
| DE19833332995 DE3332995A1 (de) | 1983-07-14 | 1983-09-13 | Verfahren zum herstellen einer siliciumdioxidbeschichtung |
| FR8314651A FR2549035A1 (en) | 1983-07-14 | 1983-09-14 | Process for producing a silica coating on the surface of a substrate such as a sheet of glass containing an alkali metal |
| DD83254853A DD215996A5 (de) | 1983-07-14 | 1983-09-15 | Verfahren zur herstellung einer siliciumdioxidbeschichtung |
| GB08324760A GB2144733B (en) | 1983-07-14 | 1983-09-15 | Methods of making silicon dioxide coatings |
| US06/538,289 US4468420A (en) | 1983-07-14 | 1983-10-03 | Method for making a silicon dioxide coating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13721783A JPS6033233A (ja) | 1983-07-27 | 1983-07-27 | 酸化珪素被膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6033233A true JPS6033233A (ja) | 1985-02-20 |
| JPS6365621B2 JPS6365621B2 (ja) | 1988-12-16 |
Family
ID=15193519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13721783A Granted JPS6033233A (ja) | 1983-07-14 | 1983-07-27 | 酸化珪素被膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6033233A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS648296A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-12 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Production of silicon dioxide film |
| JPS6417871A (en) * | 1987-07-13 | 1989-01-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Production of silicon dioxide coated film |
| JPS6436770A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-07 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Production of silicon dioxide film containing phosphorus |
| JPS6483670A (en) * | 1987-09-28 | 1989-03-29 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Production of oxide film |
| EP0499842A2 (en) * | 1991-02-01 | 1992-08-26 | Nippon Sheet Glass Co. Ltd. | Thin film capacitor |
| US5153035A (en) * | 1990-09-29 | 1992-10-06 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Process for forming silica films |
| US5326720A (en) * | 1990-10-25 | 1994-07-05 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method for producing silicon dioxide film which prevents escape of Si component to the environment |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02105920U (ja) * | 1989-02-07 | 1990-08-23 |
-
1983
- 1983-07-27 JP JP13721783A patent/JPS6033233A/ja active Granted
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS648296A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-12 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Production of silicon dioxide film |
| JPS6417871A (en) * | 1987-07-13 | 1989-01-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Production of silicon dioxide coated film |
| JPS6436770A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-07 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Production of silicon dioxide film containing phosphorus |
| JPH0567709B2 (ja) * | 1987-07-30 | 1993-09-27 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | |
| JPS6483670A (en) * | 1987-09-28 | 1989-03-29 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Production of oxide film |
| US5153035A (en) * | 1990-09-29 | 1992-10-06 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Process for forming silica films |
| US5326720A (en) * | 1990-10-25 | 1994-07-05 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method for producing silicon dioxide film which prevents escape of Si component to the environment |
| EP0499842A2 (en) * | 1991-02-01 | 1992-08-26 | Nippon Sheet Glass Co. Ltd. | Thin film capacitor |
| EP0499842A3 (en) * | 1991-02-01 | 1994-06-01 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Thin film capacitor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6365621B2 (ja) | 1988-12-16 |
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