JPS6032315A - ウェハ保管箱 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、半導体製造グロセスにおいて使用されるウェ
ハの保管箱の改良に関する。

〔発明の技術的背景〕

周知の如く、半導体製造プロセスにおいては、Ｓｉ々ど
を材料とするウェハが用いられている。

そして、かかるウェハは、半導体製造プロセス、例えば
前処理後、熱処理、拡散等の処理を行うまでの間、ある
じは熱処理、拡散等の処理後、次の工程に移るまでの間
、ゴミ、付着物等のウェハに対する素子特性の悪影響を
考慮して一時的にこれらゴミ等から守る必要がある。

従来、ウェハの汚染防止手段としては、ウェハをプラス
チック製の保管箱の中にウェハキャリアにセットした状
態のまま保管していた。

〔背景技術の問題点〕

しかしながら、従来のウェハの保管箱によれば、通常、
内部に何ら特別な配慮がされていないため、ウェハを長
時間放置した場合、保管箱の内部からの汚染によシバク
チリアが発生し、これが増殖してそのウェハから製造さ
れるデバイスの素子特性に誤動作を生じさせる等の悪影
響を及ぼすおそれがある。

〔発明の目的〕

本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、バクテリ
アの発生、増殖を押え、もって素子特性の良好なデバイ
スを得ることのできるウェハ保管箱を提供することを目
的とするものである。

〔発明の概要〕

本発明は、筐体内部及び筐体内のウェハを紫外線−オゾ
ン洗浄する洗浄手段を設けることによって、筐体内部で
のバクテリアの発生４殖を押え、もって上記ウェハから
素子特性の良好なデ・々イスを得ることを骨子とするも
のである。

本発明に係る洗浄手段は、例えば、筐体内部及びウェハ
を照射する紫外線ラングと、筐体内部及びウェハ近傍に
清浄な空気を供給する空気送出器とからなる。

ここで、紫外線ラングとして波長が１８４．９ｎｍと２
５３．７　ｎｍの紫外線を放射する低圧水銀灯を用いた
場合の作用について説明する。即ち、波長が１８４．９
　ｎｒｎの紫外線は空気中の酸素に吸収されてオゾンを
生成し、波長２５３．７ｎｍの紫外反応式は、以下に示
す通シである。

０２　＋　１８４．９　ｎｍ→０５↑ ０３＋　２５３．７　ｎｍ　→［０〕↑しかるに、紫外
線の大部分は、ウェハに付着している有機物に吸収され
てこれを分解する。従って、波長１８４．９ｎｍと波長
２５３．７ｎｍの紫外線が共存していると、オゾンの連
続的々生成と分解が起こり、その過程で発生する原子状
の酸素の酸化作用によシウェハに伺着している有機物が
揮発性の物質に変えられ、・ぐクチリアの発生、増殖が
押えられる。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の一実施例を第１図（ａ）　、　（ｂ）を
参照して説明する。

図中の１は、内壁が鏡面加工された筐体である。この筐
体１の内部には、複数のウェハ２・・・を収納した２ケ
のテフロン製のウェハキャリア３．３が載置されている
。同筐体１内の上方には、筐体１内部及びウェハ２・・
・を照射する紫外線ラングとしての低圧水銀灯４・・・
が設けられている。この低圧水銀灯４・・・は波長が１
８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍの紫外線を照射し、ラン
プカバー５によシ筐体１の正面側が遮蔽されている。ま
た、前記ランｆ４・・・の上方には、筐体１の内部及び
ウェハ２近傍に清浄な空気を供給する空気送出器６が設
けられている。なお、前記ラング４・・・及び空気送出
器６とから洗浄手段が構成されている。更に、前記笛体
１の前面には、夫々左右に回転開き可能な扉７，７が設
けられている。

こうした構造の保管箱の使用方法は次のように行う。即
ち、例えば前処理工程が終わったウェハ２・・・をセッ
トしたウェハキャリア３．３を、筐体１のｎ７，７を開
いて中に入れた後、扉７゜７を閉じ、熱処理、拡散等の
処理の次の工程までの間保管する。その間、筐体１の内
部及びウェハ２・・・には低圧水銀灯４・・・から紫外
線が照射され、既述した作用によジオシンの生成と分解
が行なわれるとともに、空気送出器６からｆｉｊ　ｉ＝
”な空気が紫外線照射部に送給される。

しかして、前述した構造のウェハ保管箱は、筐体１内に
筐体１内部及びウェハ２・・・を照射する低圧水銀灯４
・・・を設け、かつ筐体１の上部に筐体１内部及びウェ
ハ２・・・に清浄な空気を送給する空気送出器６ｆ：設
けた構造となっているため、筐体１内部でオゾンの生成
と分解を起こし、その過程で発生する原子状の酸素の酸
化作用−により、ウェハ２・・・に付着している有機物
を揮発性の物質に変え、これによ！ｌｌ筐体１内のバク
テリアの発生、増殖を防止できる。従って、こうして保
管したウェハ２・・・によシ素子特性の良好なデバイス
を得ることができる。

また、筐体１の内壁が鏡面加工されているため、低圧水
銀灯４・・・の紫外線を反射させてウェハ２・・・に照
射することができ、洗浄効果を一層増すことができる。

なお、ウェハ２・・・と低圧水銀灯４・・・との距離を
適宜変えることにより、洗浄度を変えることができる。

更に、低圧水銀灯４・・・の筐体１正面側がランシカパ
ー５によシ遮蔽されているため、扉７゜７を開閉する際
、作業者が低圧水銀灯４・・・からの紫外線を直接浴び
るととなく、安全性が高い。

事実、本発明に係るウェハ保管箱で保管したウェハの清
浄効果を、従来の保管箱で保管したウェハと比較したと
ころ、第２図（ａ）　、　（ｂ）に示すような結果が得
られた。即ち、従来及び本発明の保管箱で保管した夫々
のウェハ表面に薄い酸化膜を形成し、それらの絶縁耐圧
を測定したところ、同図（、）の従来の保管箱から得ら
れたウェハに基づくヒストグラフでは印加電界約４ＷＮ
／、ｒｍでピークをもち、同図（ｂ）の本発明の保管箱
から得られたウェハに基づくヒストグラフでは印加１区
界約８ＭＶ／ｃｍでピークをもった。同図より、本発明
の深管箱から得られたウニ／・の酸化膜の絶縁耐圧が、
従来のそれと比べ向上していることが確認できる。

本発明に係るウェハ保管箱は、上記実施例の如く、ウェ
ノ・キャリアを２ヶ筐体内に載置した構造のものに限ら
ず、第３図（ａ）　、　（ｂ）に示すものでもよい。図
中の９・・・は、筐体８内にウェハキャリア３・・・に
応じて設けられた仕切りである。これら仕切り９・・・
で区切られた各チャンバー１０・・・には、筐体１内部
の上方部側寄りから筐体正面側にスライド移動する扉１
１・・・が設けられている。この扉１１・・・は、ウェ
ハキャリア３・・・全筐体１の各チャンバー１０・・・
内にセットするときは筐体内の上方部に位置し、ウェハ
キャリア３・・・のセット後は筐体正面にスライド移動
な構造となっている。しかして、第３図（ａ）、（ｂ）
の保管箱は、筐体１内部に仕切り９・・・を設け、各チ
ャンバー１０・・・に夫々ウェノ・２・・・を収納した
ウェハキャリ刀・・・を載置できる構造となっているた
め、一つのウェハキャリア３を出し入りする際、他のウ
ェハキャリア３・・・にセットされたウェノＳ２・・・
への汚染を防止できる。また、同様な理由によシ、低圧
水銀灯４・・・のエネルギーを有効に利用できる。更に
、扉１１・・・が各チャンバーｌＯ・・・に筐体１内部
の上方部側寄シから筐体正面側にスライド移動できるよ
うに設けられているため、ウェハキャリア３・・・の各
チャンバー１０・・・への出し入れの際、低圧水銀灯４
・・・からの紫外線を直接受けることを回避できる。

〔発明の効果〕

以上詳述した如く本発明によれば、バクテリアの発生、
増殖を押え、もって絶縁耐圧を向上できる等素子特性の
良好なデバイスを得られるウェハ保管箱を提供できるも
のである。

【図面の簡単な説明】 第１図（、）は本発明の一実施例に係るウェノ・保管箱
の正面図、同図（ｂ）は同図（、）の側面図、第２図（
ａ）　、　（ｂ）は夫々従来、本発明のウェハ保管箱で
保管されたウェノ・の印加電界と頻度との関係を示すヒ
ストグラフ、第３図（、）は本発明の他の実施例に係る
ウニ／・保管箱の正面図、同図軸）は同図（＆）の側面
図である。 １．８・・・筐体、２・・・ウェハ、３・・・ウェハキ
ャリア、４・・・低圧水銀灯（紫外線ランプ）、５・・
・ランシカバー、６・・・空気送出器、７．１１・・・
扉、９・・・仕切り、１０・・・チャンバー。 第１図　（ａ） （ｂ） 第２図 （ａ） （ｂ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１χ　筐体と、この筐体内に載置されるウェハを収納
   するウェハキャリアと、前記筐体内部及びウェハを紫外
   線−オゾｙ洗浄する洗浄手段とを具備することを特徴と
   するウェハ保管箱。 （２１洗浄手段が、筐体内部及びウェハを照射する紫外
   線ランプと、筐体内部及びウニ・・近傍に清浄な空気を
   供給する空気送出器とからなることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載のウェノ・保管箱。 （３）　筐体内壁を鏡面としたととを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載のウェハ保管箱。