JPS6029930A - 磁気記録媒体用積層ポリエステルフイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

産業上の利用分野 本発明は磁気記録媒体用積層ポリニスデルフィルムに関
し、更に詳しくは磁性ｉｊ’／　ＵＳ！の担持ににって
雑品レベルが少なく、デークエフ、取りにおＩＪる仁８
対雑音比の良い、かつ走行性の（９れた磁気韻１イ；媒
体を形成づるｆｉ’ｉ層ポリニスデルフィルムに門ヅる
。 従来技術 現用の磁気記録にｄ３ける弘道の記録媒イ４、は、適当
な基材１例えば厚さ数μ７１１〜数１０７１７１１の司
）尭ｔ７１高分子フィルム（ポリ１スプルフイルム等）
の表面−１にγ−Ｆｅ２０３．Ｃｏ−ドープ処理されｌ
〔γ−Ｆｅ２０３．：、　Ｃｒ’０２又はＦｏ　’？Ｊ
　（７）強磁竹粉末が有機結合剤の中に分散したものを
数μｍから約１０μｍ　ｆｆ１Ｂまでの九】さとなるＪ
、うに塗布して磁気記録層を形成Ｕ１ノめた積層体が実
用に供されている。 磁気記録技術に要求される改良として、所定面（１゛場
当りの記録密度を増加させることが要求されている。デ
ィスク、ドラムまたはテープの記録装置に使用される磁
気メ−［り一素子において、記録密度の限界は、フィル
ム保磁界に対づる減磁界の比率によってきまる。また減
磁界の強さは記録媒体の飽和磁化および厚さに関係して
いる。そして、４ｒ５　、Ｓう対雑音比の許容水準達成
のためには、充分な出力信号を得ることのできる博い記
録媒体層を青ることが必要である。記録媒体のＢ−１１
カーブの飽和磁束密度ａ３よび角形比が高くなるにつれ
て達成が容易となる。かかる意味にａ３いて、高い保磁
力を右し、角形比の良いヒスプリシスループをもち、か
つ記録媒体層が薄く、しかも高い残留磁気モーメントを
有する磁気記録媒体が要求されており、とりわけＧｌｔ
音レベルが低く、かつデータ読取時の信号対雑音比が良
く、特に高密度記録での再生時のノイズレベ！しの少な
い金属薄膜磁気記録媒体に対する要求が強い。 このような背景に対応して、近年高密度磁気記録用媒体
として、バインダーを用いず、磁気記録層として金属薄
膜を真空蒸着やスパッタリングの如き真空沈着法又はメ
ッキ法ににつ°Ｃ非磁性支持体上に形成して、この強磁
性金属を薄膜磁気記録材としたものが提案されている。 例えば鉦の蒸るテープ（特開ＤＩ　５４−１４７０１０
弓公＋１）、Ｃｏ−Ｃｒ合金からなる垂直磁化膜（特開
昭５２−１３４７０６号公報）等が提案されている。こ
のような熱着、スパッタ又はイオンブレーティング等の
λマ膜形成手段によって形成される金属薄膜は、厚みが
１．５μｍ以下で、磁性層の厚みが３Ｂ恐以上である従
来の塗布型記録媒体と同等の性能が得られる。ところ−
Ｃ１静的特性である保磁力１−ＩＣま７．ｍはヒスプリ
シスループの角形比のような磁気特性は川、いられる非
磁性支持体の表面状態にあまり依存し４にいと考えられ
る。このような考えによったものの例とし°（米国特許
、１．７８７，３２７号明ｌＤ＠に開示されたような真
空熱るによるＣｏ　−Ｃｒの多層構造の例が挙げられる
。 しかしながら、これらの方法は形成される金属薄膜；９
さが薄く、非磁性支持体の表面状態（表面凹凸）が王の
まま磁性膜の凹凸として発現し、それが雑音の原因とな
ることが欠点とされていた。 雑音の観点からは、非磁性支持体の表面状態が出来るだ
り平坦であることが好ましい。一方フイルム巻取り、巻
出しといったハンドリングの観点からは、フィルム表面
が平坦であるとフィルム−フィルム相ｎの滑り性が悪く
、ブロッキング現象が発生し、この結果製品にはなり１
！７ないので、ベースフィルム表面が易滑性であること
が要求される。また最終製品としての金属ｌ膜磁気記録
媒体とし′ｒ：ｂイの走行性、滑り性が重要な品質の一
つぐあり、このためにもベースフィルム表面の易滑性は
重要（ある。 従来、ベースフィルムの易滑性を向上させる方法として
、ポリマー中の微粒子によりフィルム表面に突起を形成
せしめて易滑性を向上させる方式が知られ、該ポリマー
中に微粒子を含有ざＵる方法として ■　酸化ケイ素、二酸化チタン、炭酸カルシウム。 タルク、クレイ等の不活性粒子をポリマー中に添加する
方法（外部粒子法）、 ■　ポリエステルの合成時に使用する触媒成分。 着色防止剤の成分の一部分または全量を重合反応過程中
に析出せしめて、ポリマー中に微粒子を生成させる方法
（内部粒子法） が提案されている。 しかし、本発明者のＵ１究結果によれば、従来の塗布型
記録媒体に用いられていたと同等の表面性のベースフィ
ルムを非磁性支持体どして用い゛Ｃ企属薄膜磁気記録媒
体を作成した場合、最終製品としては走行性、易滑性の
点ぐ劣り、実用に耐えないこと、更にこの金属薄膜磁気
記録媒体の走行性の改良に上記■、■の微粒子（Ｊすｖ
ｌを応用り−ることＬできるが、この方法だ

【）で所定
の走行性、易滑性を得るためには表面粗さを非常に大き
くりる必要があり、この場合には走（１面側の突起が反
対面の磁気記録面に転写し、その結果磁性膜の凹凸とな
り、電磁変換特性が悪化するという問題のあることが明
らかとなった。 本発明者は、更にこれらの問題点を解消すべく鋭意（ｉ
ｌ＋究の結末、特定の表面特性を右する積層フィルムの
構造をとり、しかも裏面を形成覆るフィルム層に特定の
化合物を含有させることによって１′述の問題点を大幅
に改善できることを見い出し／、：　、。 除閉の１−１的 本弁明の１４的ＬＬ、１ｔ？ニーレベルが少なく、かつ
ラコ一タ読取り【こ（１ハノる信号対相＆比の良い、特
に高１・勢１σ記録（のＩｌｊ　１１−１１．’＋のノ
イズレベルの少ない、しか１］走１−７１１Ｉのりぐれ
たｌｎ気記録媒体を賦与する積層ポリ１スーｊルフィル
ムを（：？供りることにある。 発明の４Ｍ成・効果 本発明の目的は、積層フィルムの磁性薄膜を担持ざＵる
面（Ａ＞を表面粗さ［ＣＬＡ　（単位：μｍ）］最大人
突起さ［ＰＶ　（単位：μｍ＞］及び突起物の高さが０
゜２７μｍ〜０．５４μｍの範囲にある突起数［Ｈｌ　
（単位：ケ／ｍＩＡ）ｊがそれぞれ次の式 ％式％ を満足する、８０重量％以上がポリエチレンプレフタレ
ートからなるポリエステルのフィルム層で形成し、かつ
他の面（Ｂ）を表面粗さ［ＣＬＡ（ｌｌｉ位二μ汎）］
及び突起物の高さ０．５４μｍｎ以上の突起数［Ｈ２（
単位：ケ／ｍｔＡ）］がそれぞれ次の式 ％式％ を満足しかつ３個以上の水酸基をイｊりるポリメールと
炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸とのニスデル
生成物を０．０１〜５Φ１７ｊ％ポリンー中に分散せし
めている、８０単吊％以上がポリエチレンテレフタレー
トからなるポリエステルフィルム層で形成してなる積層
ポリニスデルフィルムによつで達成される。 本発明にＪ３いＣ積層フィルムの磁性薄膜を担持さＵる
面（Δ）を形成するフィルム層は、ポリマー重量の８０
重量％以−［がボリニ［チレンテレフタレートからなる
ポリエステルで構成される。ここで１８０重量％以」二
がポリエチレンテレフタレートからなるポリエステル」
とは、ポリエチレンテレフタレートのホモポリマーは勿
論のこと、全繰返し単位の８０重Ｍ％以上がエチレンプ
レツタレートよりなり、残りの２０ｉ　ｆｉ％以下が他
のポリニスデル成分例えばエチレンイソフクレート、エ
チレン２．６−ノーフタレーｌ−，？ｈラメチレンテレ
フタレート等−よりなるコポリニスデル、これらの混合
物。 更にはこれらと他のポリマーの混合物（但し、ポリ１−
升しンデレノタレー１〜成分を８０重量％含イ、■Ｊる
）例えばポリエチレンテレフタレー１−またはそのコポ
リニスデルとポリエチレン２．６−ナフタレ＝１−の１
１ａ合物、ポリエチレンテレフタレートまたはその二１
ポリ１ス−７／しとポリエチレンイソフタレートの１１
７合物、ポリ］−チレンテレフタレー１〜またはそのコ
ポリエステルとボリアリレートの）昆合物。 ポリエチレンテレフタレートまたはそのコポリエステル
とポリオレフィンの混合物等を包含Ｊる。 これらのうちポリエチレンデレフタレ−１・のホモポリ
マーが特に好ましい。 かかるポリエステルは微粒子状の不活性物質を含有する
。この不活性物質を含有さＵる方法どしては例えばフィ
ルム原わ１に用いるポリマー中１０不活性無機化合物を
添加したり、不溶性触媒残渣を生成りしめたりする等の
方γ人がある。この不活性ｗ様化合物には、ポリマーに
対し不溶性であり、かつ反応しない物質が含まれる。配
合される物質として、例えばＭｇＯ，Ｚｎ　ｏ、Ｍｕ　
００３．ＣａＣＯ２、Ｃａ　ＳＯ４，３ａ　ＳＯ，ｔ　
、ＡＵ７０２　。 Ｓｉ　Ｏ２，Ｔｉ　０２．例えば代表例どしＣシリカ。 カオリン、陶土、珪藻土、炭酸カルシウム、アミノ珪？
１１ｉ塩およびその水和物、プレフクール酸カルシアム
、そ−の他カーボンブラックＩＡ！ｌ’ｆカルシウム等
が挙げられる。また、不溶性触媒残渣は、例λばポリエ
ステルにＡ）いて１又デルＯＫ＋　Ｆｐｌ：　ＩＡ！と
７ｉ定則との適当ｆｌの組み合せによって形成される不
溶性触媒残渣であり、ポリエステルフィルム表面に凹凸
を形成し、表面特性を制御するしのである。 不活性物Ｉｊｌの含有聞は、物質の種類１粒径等にＪ、
って変化し一般的には決められないが、通常０．０１〜
２重缶％が良く、更には０．１〜１重荀％が好ましい。 本発明にＪ３いて積層フィルムの面（Δ）は、メッキ法
等の手段で磁性λ９膜が形成される面である。 この磁Ｔｉ薄膜（金ａ薄膜）は高密度記録触媒としく充
分な信号出力を発揮させるため一般に０．０２ヘ−１，
５μｌｒＬと薄り、従ってポリニスデルフィルム層の表
面状態がそのまま磁性薄膜の凹凸とし“Ｃ発現し、特竹
低ＩＣの原因例えば相姦の原因となる。 しかしで、ポリエステルフィルム層の表面（Ａ）は、平
均的表面粗さＩＣ１，、Ａ（中位：ｔｌｌｒＬ）」が０
．００８ｔｔ　ｍ以下であり、最大突起高ざ［ＰＶ（ｉ
ｌｉイ；ｔ：ｔｌｍ＞　１が０．０Ｇμｍ以下ぐあり、
かつ突起物の突起高さが０．２７〜０．５４μｍの範囲
にある′欠起故１１１＋（中位：り／−）」が１０ケ／
ＩｎＩＡ以上である必要がある。好ましくは平均的表面
粗さ［ＣＬ　Ａ、］は０．００６μｍ以下、突起物の突
起高さ０．２７μｍ〜０．５４μｍｒＬの範囲にある個
数は５個／−以下である。ＣＬＡの下限は特に限定され
ないが、通常０．００２μ７１１程度である。これらの
条イ！１を満足することによって磁気記録奴体としたと
きの雑音が飛躍的に減少し、ノイズレベルの格段に優れ
るものとなる。 かかる表面特性をフィルムの両面（Δ、Ｉ３）にｆ」与
した場合には、フィルム巻取り・巻出しなどの操作にお
いてフィルム−フィルム相ηの滑り性が悪くブロッキン
グ現象が発生し、また７−−ブ加工後の走行性も悪く製
品となり１１７ない。そこで、フィルムの他の表面（Ｂ
）には滑り性をイリリする必要がある。本発明にａ３い
てはフィルム表面（１３）を形成覆るものとしてフィル
ム表面（△）を形成するポリエステルとは違ったポリ−
１ニスチルのフィルム層を用いる。 本発明におい−Ｃｖ１層フィルムの仙の而＜８）を形成
するフィルム層は、３個以」−の水ｒ１ＭＢを右するポ
リオールと炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸ど
の土スラ′ルＺＬ成物を０．０１〜５重量％ポリン−中
に分散含有し−Ｃいる、８０重量％以上がポリＪブレン
フレフタレートからなるポリニスデルで構成される。従
って、該ポリエステルは３個以Ｊ、の水酸基を右Ｊるポ
リオールと炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸と
の］ニスチル生成物を０．０１〜５重量％含有する以外
は、面（Ａ）を形成Ｊるフィルム層を構成するボリエ、
ステルど同じことが説明できる。 上記ポリニスデルに分散させる１スプル生成物のＩＦ　
１１Ｆ＋どして使用づ゛るポリオールは、水ｆｌａを３
個以上右することが必要である。水酸基２個以下のアル
コールを使用したのでは、理由は明確でないが、生成し
たエステルをポリエステル中に分散さ【Ｌ（ム、フィル
ムの易滑ｆ生を向上さＵることはできない。特に水酸基
３〜６個のポリオールが入手し易さの点から好ましい。 かかる水酸１３個以上のポリオールとしてはグリセリン
、エリトリット、トレイット、ペンタ１す１−リット、
アラピッｊ〜、キシメリット、アトニット、クリット。 ソルビット、マンニット、イジツト等があげられるが、
これに限定するものではない。 また上記ポリオールと反応さける脂肪族モノカルボン酸
としては炭素数８個以上の乙のを用いる必要がある。炭
素数が８個より少ない脂肪族モノカルボン酸を使用した
のでは、得られたニスデル生成物の耐熱性が不十分で、
ポリ」ニスチルに分散させる際の加熱条件で容易に分解
し、ポリニスデルへの分散物質としては不適当′Ｃある
。特に炭素数８〜２５個の脂肪族モノカルボン酸が人手
し易い点で好ましい。かかる炭素数８個以りの脂肪族［
ノナデカン酸としてはペラルゴン酸、カプリン酸。 ウンデシル酸、・ラウリン酸、１−リゾシル酸、ミリス
チン酸、ペンタデシル酸、バルミチン酸、ヘプタデシル
酸、ステアリン＾な、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘ
ン酸、゛リグルリンｆｌｉ、Ｉ！Ｉ−＋ヂン酸等が例示
できる。 上記ポリオールと脂肪族モノカルボン酸どを反応させる
と、通常モノ、ジ、１〜リコニステルが生成する。これ
らニスデル生成物ＩＪいずれも易滑性向−Ｌに効果があ
るが、１＼ｒにトリエステルがポリニスデルに分散させ
る際の耐熱性の点から好ましい。 上記ニスデル生成物は、ポリエステル重ωに対し、０．
０１〜５Φ量％分散さけることが必要である。０．０１
重量％未満では本発明の目的とする易滑性が冑られザ、
５重量％を越えると、フィルムにした場合表面に１ステ
ル成分が過剰に滲み出すため、ブ【コツキングを起こし
、かえってフィルムが）１“１ら’Ｊ　＜　’ｒＺる。 上記：［スプル生成物をポリニスフル中に分散さげるに
は任意の方法が採用され、例えば小縮合反応中に添加分
散さμる方法ヤ）、■クストルーダーｒ：　ｉ１ｍ練す
る方法を用いることがでさ、また予め高ｉ１３度のマス
ターポリマーを作り、これを未添加のポリエステルで希
釈する方法を用いることもＣさる。 ざらに、上記ニスデル生成物による易滑性を効果的に光
現さＵるためには、ポリエステルフィルム層の表面Ｂは
平均的表面粗さＣＬＡが０．００７μＩｎをこえ、突起
物の突起高さ０．５４μｍｒＬ以上のものの個数１−１
２が２個／　ｍｔＡ　Ｊ：り多いことがｌＩｒましく、
これによりテープ加工後の走行性が大幅に改善される。 しかし、ポリエステルフィルム層の表面１３の平均的表
面粗さＣＬＡが０．０３０μｍｒＬより人さくなり、ま
た突起高さ０．５４μ７ｎ以−Ｌのものの個数１−１２
が１５０個／−より多くなると、テープ加工時および加
工後の巻取状態にＣ３い゛（４３１１’Ｊ膜の面に表面
Ｂの凹凸が茗しく転写され、この結果高密度記録媒体と
して著しいレベル変動、ノイズの発生を引起こし、著し
い場合にはドロツブアラ１〜にまで至らしめ、電磁変換
特性にＣ３いて１枠害を発生さけるの−Ｃ好ましくない
。 従って、積層フィルムの表面Ｂは、平均的表面粗さＣＬ
Ａが０．００７ｆ１７＋１　＜　ＣＩ−Δ≦　０．０３
０μ７１１．　ｒ：あり、かつ突起物の高さが０．５４
１１１ル以上の突起数］」２が２＜１〜１２≦　１５０
を満足りる必要がある。 平均的表面粗さＣＬ　Ａ　ｂｉＩ（１，００８μ７１１
をこえ、０．０２０μｍ以下、突起高さ０．５４μＩｒ
Ｌ以上の突起物の個数］」２が３個／−を越え、１００
個／ｍｔノ１以下の範囲がアーゾ加コニ後の走行性敗色
と、表面の凹凸の転写とのバランスの点でさらに好まし
い。 積層ポリエステルフィルムの他の表面Ｂを構成づる層は
、表面Δの層と同等であっても異なってい（も良いが表
面粗度どし−Ｃ見た■１、表面Ｂは表面△より粗（・あ
ることが９ｒましい。 本発明のｆｉ’ｉ層フィルムは、二層以−［の多層構造
４、とるフィルムＣはあるが、特に二層（１１１造の乙
のがりｒまり、い。三ニ層以上の積層フィルムの場合、
最り）層かＪ、　；ｄ：の表面△、１３のポリエステル
フィルム１ｉ’ｉ　Ｃ゛あれば、中間１ｔ”ｉは任Ωの
ポリマー層で良い。 本発明の槓ｈ・１ノ・ｒルムは、従来から蓄積された（
Ｃ１層フィルムの製造法７：”ＪＪ　）ｉＭりることが
Ｃさる。 １シ１１えは表面△を形成Ｊるポリエステル層と表面Ｂ
を形成りるポリエステル層どを、溶融状態又は冷７ＪＩ
固化された状態で１ｒＩ層づることができる。更に１１
体的には、例えば共押出・■シストルージョンニー１−
テ゛イング等のノ）ン人てｌ！！３告ぐきる。その際、
表面Δを形成Ｊ−るポリエステル層のＬｌ’さは、積層
フィルム全体の中で占める割合で４０〜９５％とするの
が好ましい。この割合で９５％より多いと表面Ｂを形成
するポリエステル層の外部粒子あるいは内部粒子による
粗面化効果が充分でなく、また４０％より少ないと表面
Ｂを形成覆るポリコースプル層に含まれている外部粒子
あるいは内′部粒子に影響されて表面Ａに凹凸が生じ電
磁変換特性がＨｙ２　＜　４ｚる傾向を示す。 上述の方法で積層されたフィル１１は、通常の方法で逐
次二軸延伸または同詩二軸延伸され、すＪに熱処理され
る。この熱処理においＣ表面１３を形成づるポリエステ
ル層では］ニス−】ル生成物か表面Ｂに浸出りるように
し、適度４１被膜状物を形成づるようにすると、テープ
加工後の走行性がざらに改善されるので好ましい。 本発明の積層ポリエステルは、雑γルベルか少なく、か
つデータ読取りにＣ３ける信’；”ｒ　％Ｉ　２４１７
１比の良い、特に高密度記録でのｒ１１生のノイズレベ
ルの少ない、しかも走行性のり−ぐれた１１公気記録’
１．’＋！　（本を賦与するベースフィルムとしくイｊ
ｌｌｌｒある。 実施例 以下、実施例を掲げて本発明を更に説１す１する。 なお、本弁明における物性は次の方法で測定した。 １、ＣＬＡ［ｔンター・ライン・アベレッジ（Ｃｅｎｔ
ｅｒ　Ｌ　ｉｎｅ　Ａｖｅｒａｇｃ−中心線平均粗さ）
］ＪＩＳＢＯ６０１に準じ、東京精密社（体製の触剣式
表面組さδＩ（ＳｔＪＲＦＣＯＭ　３１３）を使用して
、釧の半径２μＴＩＬ　、荷重０．０７９の条件下にヂ
１シー１〜をかかけ、フィルム表面粗さ曲線からその中
心線の方向に測定長さしの部分を抜き取り、この抜き取
り部分の中心線をＸ帖、縦倍率の方向をＹ軸として、粗
さ曲線をＹ＝　ｆ（Ｘ　）で表わした時、この測定は基
準長を０．２５ｍｍとして８個測定し、値の大きい方か
ら３個除いた５個の平均値で表ねり。 ２、表面突起数 観察Ｕんどりるフィルム表面にアルミニウムをうｔｊ　
＜　（４００〜５．００人乃至そ９れ以下の厚み）均一
に真空蒸着し、多重干渉顕微！１［例えばＩ’ｊＩＫＯ
Ｎ製（Ｓｕｒｆａｓｅ　Ｆ　１ｎｉｓｈ　Ｍ　１ｃｒｏ
ｓｃｏｐｃ　）光源タリウムランプ波長５，４００人］
を用いて　１００のイ８率で、フィルムの複数ケ所の表
面をランダムに１　ｍｒＡの面積になるまで写真顕彰し
、高ざ０．２７μＴＩＬ〜０．５４　μｍの範囲にある
突起数ｌ−ｌ　＋ケ／　ｍｒＡ　、　６３　Ｊ：び高さ
０．５４μｍ以上の突起数１−１２り／　ｍＡを算出す
る。 ３、動まさつ係数 添付図に示す如＜、２５℃相対＆１１度６０９６の雰囲
気中で外径５　ｍｍφの５ｔＪＳ２７の固定１７；＜　
＜表面粗度ＣＬＡ＝　０．０３０）にｉ　／　２＋１１
１１にカッ１−シたフィルムを角痕・πラジアンで接触
させ３．３ｃｍ　／　ｓｅｃの速さで８勅、まさつさせ
る。入［１テンシ・１ン１゛１が３０９ｒとなるようテ
ンションコン１〜Ｌ１−フー２を調整した時の出ロテン
シＨン−１“２ｒ／ｒ（出１−１ラーンジョン検出機１
０で検出）より次式で動まざつ係数μＫを算出する（本
発明では９０ｍ走行０）の動まざつ係数をもってμにと
する）。 μに＝上皇■ π 実施例１ ジメチルプレフタレートに対し、エステル交換触媒とし
−（酢酸マンガン４０１ｎｍｏ　１％１重合触媒として
Ｅ酸化）７ンチモン２０ｍｍｏ１％、安定剤として亜燐
１４０ｍｍｏ１％をそれぞれ用いる、ジメチルテレフタ
レ−１−どエチレングリコールのエステル交換反応、続
いＣの減ｆ■下での重縮合反応による反応で、最終°的
に［η］（０−クロロフェノールを溶媒として用い、２
り１℃で測定）　＝　０．６５のポリエチレンアレフタ
レー］へを１−また［以下、ポリエステル丁という”１
゜ −ｈ１平均粒径０．６μの力Ａリンを０．４０重量％添
加してΦ縮合反応さＵる以外は、ポリエステル【とＩｒ
１１様な方法で、［η］　＝　０．６５のポリエチレン
プレフタレートを１−１ｋ［以下、ポリエステル１１と
いう１．１ また、Ｌ記ポリＪ−ステル１１００Φ都部に、ペンタ１
リスリツＩヘトリステアレ−１−を８重量部加え、史に
、−ｉクスＩ・ルーダ−で均一にブレンドし−（マスタ
ープツブを１１１に１以下、ポリエステル■とい・）１
．。 ポリエステル■、ポリエステル■及び１１（１ジエステ
ル■を、得られるポリマー中に平１′、Ｊ粒径０．６μ
のブｊオリンが０．２０ｍｍ％、ペンタ」二嘗ノスＩノ
ツ１〜トリステアレートが０．５重量％含有されるよう
ブレンドしてポリエステルブレンド物を１７Ｉこ［以下
。 ポリエステルＩＶという］。 上記ポリエステルＩと上記ポリエステルＩＶとを共押出
し製膜様の別々のエクス１ヘルダーに供Ｎ８　シ、ポリ
エステル■のＦａ腔さがｆｉＩＩ層フィルム厚さの７０
％となるにうにダイから共押出して１６０μの未延　・
伸フィルムを得た。 この未延伸フィルムを縦延伸２Ｆ１ａ　ＩＱ　ＯＯｏｏ
、縦延伸倍率３．５侶、横延伸温度１１０°０．柳延伸
侶率３．７４Ｂ　”Ｃ逐次二軸延伸を行い、更に、２０
５℃で熱処理を施した。 このようにして得られたＶ１１ｇ＋ポリ′［ポリルフィ
ルムは、ポリエステル丁のみからなる層の表面への表面
粗さがＣＬΔ□＝　０．００４μｍ、ｌｒ！大突起高さ
がＰＶ＝　０．０３　ｕｍ、”突起物の高さ０．２７μ
ｍ〜０．５４　μｍ（Ｄ突起数が旧−・０．５ケ／　ｍ
ｆｒ　１′あつ１＝　、。 二しノこ−での反対面のポリエステルＩＶからなる層の
表１ｆｉｉ　１３の表面粗さはＣＬ　Ａ　−０，０１８
μｍ　、高ざ０．５４１１１ｎ、Ｊス１の突起数１１７
は７０ケ／　ｍＡであった。 さらにこのようにして冑られた積層ボリエステルノイル
ムのへｉｌ＋ｉ　、１−に■ＭＯ−１１（保磁カバーマ
ロー１層、続いて当該パーンロイ層に、■ら−Ｃｒ垂直
ｌｉＨ化１１ｊを以下の方法で薄膜を形成した。 （ｉ）　Ｍ　ｏ−パーマロイ層：１ｍｍ厚のＭＯ−パー
マ１１イタ−グツ１（Ｎｉ７８％、Ｆｅ１８％、　ＭＯ
４％）を使用し、ｌ）　Ｃマグネｌ−［−１ンスパツタ
法で’Ｉ　ｘ　１０−’　Ｔ　ｏｒｒのΔｒ　（９９，
９９％）中で５００人／分のＩＩ（ｌ槓速度て・０．３
μＩｒＬ厚の膜を作製した。 ■　Ｃｏ　−Ｃｒ層：４ｍｍ厚のＣｏ−Ｃｒ合金ターゲ
ット（Ｃｒ１７ｗｔ％）を使用し、ＤＣマグネ１〜ロン
スパッタη、−Ｃｌ　ｘ　１０−’　Ｔ　ｏｒｒのＡ　
ｒ　（９９，９９％）中で、５００人／分の堆積速度ｃ
１．０μ瓦厚の０−針金金膜を杓だ。 ？ｒ−１られた磁気記録媒体を０．５インチ幅のテープ
に裁断し、図のテープ検査１幾により動摩擦係数を測定
したところ、動産Ｉ察係数は０．１９であり、良好であ
った。更に電磁変換特性として１０Ｋ　Ｂ　Ｐ　１記録
再生時のＳ／Ｎ（ｄ＋３＞比を評価したどころ、この値
は４９ど良好であった。 比較例１ 実施例１にｄ３けるポリエステルＩどポリエステル■と
を１！７られるポリマー中に平均粒径０．６μのカオリ
ンが０．２０重量％含有されるようにブレンドしてポリ
エステルブレンド物を冑だ１以下、ポリエステルＶとい
う］。 このポリエステルＶを実施例１のポリニスデルＩＶの代
りに用いる以外は、実施例１ど１ｉｉ１様にｊｌｌｌ　
１１７１゜延伸してｇｉＦＪポリニスデルフィルムを得
た。 この積層ポリエステルフィルｌ＼に実施例１ど同じ方法
で金属薄膜を形成し、次いＣチーブ状にした。得られた
テープは、動産ＩＬコ係数が０．４６であり、走行性不
良であった。 実施例２及び比較例２．３ 平均粒径０．６μのカンリンの代りに平均粒径０．４μ
のカオリンまたは平均粒径０．８Ｉｌのクレーを用いる
以外は、実施例１のポリコースプル１［の装造と同しよ
うに１１ってポリエステルを得た［以下、ポリニスデル
ＩＩ　’　という」。 ポリ１スプルＩＶ中のポリ１スプル■の代りに上記ポリ
エステル■′を用いて表−１に示す特性（組成）のポリ
エステルブレンド物を得た［以下、ポリ、［ステルＩＶ
’　という］。このポポリ１スプルＩＶ’をポリエステ
ルＩＶの代りに用いて実施例１と同じように行っＣ積層
ポリエステルフィルムを冑／ｊ　。この積層ポリニスデ
ルフィルムの特性を表−１に承り。 実施例２のしのは、表面Ｂが表面粗さＣＬ八−０，０１
９μ７１１　、突起ｎ、さ０．’５４μｍ以上の突起数
１１０個／ｍ〃）であり、動Ｉｖ擦係数Ｓ／Ｎ比共良好
でｄうる。 比較例２の６のは、表面Ｂが粗れ人であり、動摩擦係数
は良りＴであったが、表面１３の突起が表面Δの［に梢
ｈ”：ｉされた磁気記録面に転゛す′りるため、Ｓ　／
　Ｎ比が不良であった。 比較例３の・ｂのは、表面Ｂが平坦Ｃあり、製品ｉｌ１
段階のフィルムの梢出し、捲き取り時に滑り性が悪く、
ブロッキング現象が発生し、製品にはなり得なかった。 またテープとしてし走行性不良であった。 実施例３及び比較例４ 実施例１において、ポリニスデル１の重縮合反応時に平
均粒径０．１μの力Δリンを＋１．１ｉＦ吊％。 あるいは０．３重量％添加すること以外は、実施例１と
同じように行ってポリエチレンデレフクレー］・［以下
、ポリエステル１′　という１を１１１、更にこのポリ
ニスデル１′とポリ」ステル１ｖどを用い°Ｃ表面Ａの
表面特性の異なるＬ＋層ポリ上スツールフィルムを得た
。この積層ポリ」スプルフィルムの特性を表−１に示づ
−０ （以下余白） 実施例３のものは、表面ＡのＣＬ△が０，００６０ｕ　
１ｎ　、高さ０．２７　ＩＩ　ｍ　−０，５４ＩＩ　Ｉ
ｎの範囲にある突起数ト１１が５ケ／ｍｒｎ、Ｐ、大突
起高ざｌ）　Ｖがｏ、。 ５μｍであり、Ｓ／Ｎ比良好であった。−１ノ比較例４
のものは、表面Ａが粗れており、Ｓ／Ｎ比が不良であっ
た。 実施例４ 実施例１のポリエステルｉ　１００重帛部にソルビタン
トリスデアレートを８中吊部加え、更にコークストルー
ダ−で均一にブレンドしてマスターチップを得た［以下
、ポリエステル■′という］。 実施例１のポリニスデル■及びポリニスデル１■と上記
ポリニスデル■′を用い、実ｈ１ム例１と同じよう行っ
て、冑られるポリマー中に平均粒径０，６μのカオリン
が０．２０重量％、ソルビタン１−リステアレートが０
．５重量％含有りるポリ１スプルブレンド物を行だ。 このポリエステルブレンド物ど実施例１のポリエステル
■とを用い、実施例１と同じようにして製膜延伸し積層
ポリエステルフィルｌ＼を１′、１だ。この積層ポリエ
ステルフィルムに実施例１と同じ金属薄膜形成を施し、
テープ状にした。このテープの動摩擦係数は０．２０で
あり、良好であった。

【図面の簡単な説明】

図はフィルム粗表面の動摩擦係数を測定りるテープベー
ス検査機の模式図である、。 図面の１は巻出ロール、２はテンションコントローラー
、４はテンション検出器（入口）、１０はテンション検
出器（出口）、１２はガイドローラ。 １３は巻取リールである。 １３ ２　３４　ｂ　づ　９７７７２

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 積層フィルムの磁性薄膜を担持させる面（Δ）を表面粗
   さ［ＣＬΔ（単位：μｍ＞］、最大突起高さｔ　Ｉ）　
   Ｖ　（ＩＩ’位：μｍ）］及び突起物の高さが０．２７
   μｍ〜０．５４μｍの範囲にある突起数［Ｌｌ　＋　（
   ！、１位：つ／ｍｉ）］がそれぞれ次の式０式％ を）１シ１犀りる、８０Φｒｄ％以」−がポリエチレン
   テレフタレー１−からなるポリエステルのフィルム層で
   形成し、かつ他の而（１３）を表面粗さｆ、　ＣＩ−Δ
   （単位：μｙ＋ｔ＞］及び突起物のｉ！′１□さ０．５
   ４μ７１１以上の突起数１１１２（中位二り／ｍ＋４）
   ］がそれぞれ次の式 ％式％ を満足しかつ３個以上の水酸塁を有するポリオールと炭
   素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸とのエステル生
   成物を０．０１〜５単吊％ポリマー中に分散ｕしめてい
   る、８唖糧％以上がポリエチレンテレフタレートからな
   るポリニスデルのフィルム層で形成してなる磁気記録媒
   体用積層ポリニスデルフィルム。