JPS6028159B2 - レ−ザ−発振管用ｃｏ酸化装置 - Google Patents
レ−ザ−発振管用ｃｏ酸化装置Info
- Publication number
- JPS6028159B2 JPS6028159B2 JP6477982A JP6477982A JPS6028159B2 JP S6028159 B2 JPS6028159 B2 JP S6028159B2 JP 6477982 A JP6477982 A JP 6477982A JP 6477982 A JP6477982 A JP 6477982A JP S6028159 B2 JPS6028159 B2 JP S6028159B2
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- JP
- Japan
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- flow path
- mixed gas
- bypass
- gas
- relatively large
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
Landscapes
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- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はその内部にＣＱを含む混合ガスを高速環流せし
めるレーザー発振管においてＣＱの分解により生ずるＣ
Ｏを再びＣ０２に酸化するレーザー発振管用Ｃｑ酸化装
置に関する。
めるレーザー発振管においてＣＱの分解により生ずるＣ
Ｏを再びＣ０２に酸化するレーザー発振管用Ｃｑ酸化装
置に関する。
従来放電エネルギーを利用してＣ０２レーザービームを
発生せしめるレーザー発振管にあっては、ＣＱを含む高
速混合ガスを環流せしめている間に放鷺により該Ｃ０２
の一部が下式（１）の如くＣＯと０２とに分解され、生
成したＱが発振管の電極その他の部分を酸化し又はこれ
らの部分に吸着するため費消され、Ｃ。
発生せしめるレーザー発振管にあっては、ＣＱを含む高
速混合ガスを環流せしめている間に放鷺により該Ｃ０２
の一部が下式（１）の如くＣＯと０２とに分解され、生
成したＱが発振管の電極その他の部分を酸化し又はこれ
らの部分に吸着するため費消され、Ｃ。
２ごＣ。
十や２ ‐‐‐…【１１における解離再結合機構
のバランスが崩れ、Ｃ０２が次第に減少し発振効率を低
下させる欠′点があつた。これがため環流混合ガスの経
路に過剰になったＣＯをＣＱに変化させる酸化触媒を配
置しＣＯをＣ０２に再び酸化する手段が採用されていた
。しかし、従釆のこの種装置は上述の如く高速環流ガス
の主経路に触媒層を配置するものであったから、該触媒
層をガス流が通過する際その抵抗により速度が低下し放
電部におけるガスの希薄化を伴ってレーザー発振効率を
低下せしめていた。また、これを改善して、主経路とは
別に従経路を設け該従経路中に触媒槽を挿入する方法に
ついて本発明者がさきに提供した。これは前者の欠点は
ないが従経略に混合ガスを円滑に流動せしめるためには
特別にファン等の設置が必要である等の問題点が指摘さ
れていた。本発明はかかる実情に鑑みてなされたもので
、主経路において混合ガスの希薄化を伴うような流速の
低下を生じる等のことがなく、また、従経路における特
別なファン等の設置の必要もなく、混合ガスの流動中そ
の一部がたえず触媒を損設するバイパス則ち従経路に分
流しこれによりＣＯの酸化反応を継続して進行せしめう
るＣＯ酸化装置を提供することをその目的とするもので
ある。
のバランスが崩れ、Ｃ０２が次第に減少し発振効率を低
下させる欠′点があつた。これがため環流混合ガスの経
路に過剰になったＣＯをＣＱに変化させる酸化触媒を配
置しＣＯをＣ０２に再び酸化する手段が採用されていた
。しかし、従釆のこの種装置は上述の如く高速環流ガス
の主経路に触媒層を配置するものであったから、該触媒
層をガス流が通過する際その抵抗により速度が低下し放
電部におけるガスの希薄化を伴ってレーザー発振効率を
低下せしめていた。また、これを改善して、主経路とは
別に従経路を設け該従経路中に触媒槽を挿入する方法に
ついて本発明者がさきに提供した。これは前者の欠点は
ないが従経略に混合ガスを円滑に流動せしめるためには
特別にファン等の設置が必要である等の問題点が指摘さ
れていた。本発明はかかる実情に鑑みてなされたもので
、主経路において混合ガスの希薄化を伴うような流速の
低下を生じる等のことがなく、また、従経路における特
別なファン等の設置の必要もなく、混合ガスの流動中そ
の一部がたえず触媒を損設するバイパス則ち従経路に分
流しこれによりＣＯの酸化反応を継続して進行せしめう
るＣＯ酸化装置を提供することをその目的とするもので
ある。
本発明の要旨は、混合ガスの流路の一部を膨張せしめて
比較的太径の流路を形成するとともに、膨張させてない
原流路と膨張した比較的太径の流路との間にバイパスを
渉設し、原流路から膨張した比較的太径の流路に流出し
てやや圧力の低下した混合ガスの一部を上記バイパスを
通過して原流離に分流せしめバイパスに填設されるＣＯ
酸化触煤により該一部の混合ガス中のＣＯをＣ０２に酸
化せしめることに存する。本発明の基本的な考え方はベ
ルヌーィの定理によっている。
比較的太径の流路を形成するとともに、膨張させてない
原流路と膨張した比較的太径の流路との間にバイパスを
渉設し、原流路から膨張した比較的太径の流路に流出し
てやや圧力の低下した混合ガスの一部を上記バイパスを
通過して原流離に分流せしめバイパスに填設されるＣＯ
酸化触煤により該一部の混合ガス中のＣＯをＣ０２に酸
化せしめることに存する。本発明の基本的な考え方はベ
ルヌーィの定理によっている。
即ち、ガスの径路において管径が変化した場合該ガスの
速度が変化し、その結果異蓬管の間に圧力差を生じるこ
とである。例えば、第１図に示す如く管径の異なる管が
連結されている場合、紬径部分の断面積をＡ，、大径部
分の断面積をＡ２とすれば、矢印方向から流れる単位時
間当り流量Ｑなるガスの流速は、夫々Ｑ紬律部分では
ひ・＝Ａ， Ｑ 太径部分では し２＝勾 となり、さらに、異蓬間では流速の変化に基づく圧力差
が生じることとなる。
速度が変化し、その結果異蓬管の間に圧力差を生じるこ
とである。例えば、第１図に示す如く管径の異なる管が
連結されている場合、紬径部分の断面積をＡ，、大径部
分の断面積をＡ２とすれば、矢印方向から流れる単位時
間当り流量Ｑなるガスの流速は、夫々Ｑ紬律部分では
ひ・＝Ａ， Ｑ 太径部分では し２＝勾 となり、さらに、異蓬間では流速の変化に基づく圧力差
が生じることとなる。
しかして、その関係は、下式の如くあらわされる。Ｐ′
Ｐ２＝矛雌−し亭） 式中Ｐ，，Ｐ２は夫々紬径管及び太径管におけるガスの
圧力、ｙはガスの比重、れま重力の加速度、ひ，，ひ２
夫々紬蓬管及び太径管におけるガスの速度である。
Ｐ２＝矛雌−し亭） 式中Ｐ，，Ｐ２は夫々紬径管及び太径管におけるガスの
圧力、ｙはガスの比重、れま重力の加速度、ひ，，ひ２
夫々紬蓬管及び太径管におけるガスの速度である。
即ち、速度の２乗の差に相当する圧力差を生じることと
なり、従ってバイパスＢが設けられると図の点線で示す
如きガス流のループが該バイパス中に生じることとなる
。
なり、従ってバイパスＢが設けられると図の点線で示す
如きガス流のループが該バイパス中に生じることとなる
。
本発明はかかる原理を応用してなされたもので、バイパ
スには水銀の如き酸化触媒が填設されて混合ガスの一部
が該水銀中を通過せしめられることによりその中に含有
されるＣＯをＣ０２に変化させるものである。
スには水銀の如き酸化触媒が填設されて混合ガスの一部
が該水銀中を通過せしめられることによりその中に含有
されるＣＯをＣ０２に変化させるものである。
以下、第２図を参照して本発明を説明する。
本発明が適用されるレーザー発振管は、電極１，２及び
同３，４間における放電により矢印方向から環流するＣ
０２を混合ガスの高速環流からＣ０２レーザービームが
発生し管外に取出される。この場合Ｃ０２を含む混合ガ
スはターボファン５により発振部６とガス流路７とを経
由して閉回路を構成し強制的に循環せしめられる。なお
、８は直流高圧電源、９は新鮮なＣ０２を補充するため
のガス充填装置である。本発明はかかるレーザー発振管
において、第３図の詳細図に示す如きＣｑ酸化装置が第
２図におけるガス流路７付近に適用されるものである。
同３，４間における放電により矢印方向から環流するＣ
０２を混合ガスの高速環流からＣ０２レーザービームが
発生し管外に取出される。この場合Ｃ０２を含む混合ガ
スはターボファン５により発振部６とガス流路７とを経
由して閉回路を構成し強制的に循環せしめられる。なお
、８は直流高圧電源、９は新鮮なＣ０２を補充するため
のガス充填装置である。本発明はかかるレーザー発振管
において、第３図の詳細図に示す如きＣｑ酸化装置が第
２図におけるガス流路７付近に適用されるものである。
本発明におけるＣＯ酸化装置は、流路７の一部を膨張せ
しめて比較的太径の流路７ａを形成するとともに、膨張
させてない原の流路７と太径の流略７ａとの間に概ねＵ
字状のバイパス１０を渉設し、流路７から太径の流路７
ａに流出してやや圧力の低下した混合ガスの一部を上記
バイパス１０を通過して原の流路７に分流せしめ、この
際バイパス１川こ填実されるＣｑ酸化触媒１ １により
該一部の混合ガス中に含まれるＣＯをＣＱに酸化せしめ
るようにしたものである。図示していないが、酸化反応
を促進させるためバイパスの一部を外部から加熱する加
熱手段を設けることも差支えない。本願に係るバイパス
を通過するガス流のループは低速であるから触媒の存在
は左程の抵抗とはならずガスは円滑に流動せしめられる
。
しめて比較的太径の流路７ａを形成するとともに、膨張
させてない原の流路７と太径の流略７ａとの間に概ねＵ
字状のバイパス１０を渉設し、流路７から太径の流路７
ａに流出してやや圧力の低下した混合ガスの一部を上記
バイパス１０を通過して原の流路７に分流せしめ、この
際バイパス１川こ填実されるＣｑ酸化触媒１ １により
該一部の混合ガス中に含まれるＣＯをＣＱに酸化せしめ
るようにしたものである。図示していないが、酸化反応
を促進させるためバイパスの一部を外部から加熱する加
熱手段を設けることも差支えない。本願に係るバイパス
を通過するガス流のループは低速であるから触媒の存在
は左程の抵抗とはならずガスは円滑に流動せしめられる
。
また、Ｃ０２の分解により生じるＣＯの量はＣ０２全体
の量からすれば比較的少量であるから、ガスの一部を触
媒を損設したバイパスに通過せしめることにより十分酸
化反応の目的を達しうる。本発明は以上の構成に係るも
のであるから、従経路に触媒を挿入した従来方式におけ
る高流軸流の流動を著しく阻害する欠点が除去され、ま
た、主経路を設ける場合でも特別にファン等を設置する
必要のあるものと異り混合ガスが循環されている間は絶
えず酸化を継続して進捗しうるもので過大なる設備の必
要もなくこの種の装置として極めて有用である。
の量からすれば比較的少量であるから、ガスの一部を触
媒を損設したバイパスに通過せしめることにより十分酸
化反応の目的を達しうる。本発明は以上の構成に係るも
のであるから、従経路に触媒を挿入した従来方式におけ
る高流軸流の流動を著しく阻害する欠点が除去され、ま
た、主経路を設ける場合でも特別にファン等を設置する
必要のあるものと異り混合ガスが循環されている間は絶
えず酸化を継続して進捗しうるもので過大なる設備の必
要もなくこの種の装置として極めて有用である。
第１図は本発明の原理説明図、第２図は本発明が適用さ
れるレーザー発振管の全体的説明図、第３図は酸化装置
の部分的説明図である。 １，２，３，４……電極、５・・・…ダーボフアン、６
・・・・・・発振部、７・・・・・・ガス流路、７ａ・
・・・・・比較的太径の流路、１０・・・・・・バイパ
ス、１１・・・・・・ＣＯ酸化触媒。 第１図 第２図 第３図
れるレーザー発振管の全体的説明図、第３図は酸化装置
の部分的説明図である。 １，２，３，４……電極、５・・・…ダーボフアン、６
・・・・・・発振部、７・・・・・・ガス流路、７ａ・
・・・・・比較的太径の流路、１０・・・・・・バイパ
ス、１１・・・・・・ＣＯ酸化触媒。 第１図 第２図 第３図
Claims (1)
- １ 管内にＣＯ＿２を含む混合ガスを高速環流させ高圧
直流によつて電極間を放電させレーザービームを発振す
るレーザー発振管において、該混合ガスの流路の一部を
膨張せしめて比較的太径の流路を形成するとともに、膨
張させてない原流路と膨張した比較的太径の流路との間
にバイパスを渉設し、原流路から膨張した比較的太径の
流路に流出してやや圧力の低下した混合ガスの一部を上
記バイパスを通過して原流路に分流せしめバイパスに填
設されるＣＯ酸化触媒により該一部の混合ガス中のＣＯ
をＣＯ＿２に酸化せしめることを特徴とするレーザー発
振管用ＣＯ酸化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6477982A JPS6028159B2 (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | レ−ザ−発振管用ｃｏ酸化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6477982A JPS6028159B2 (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | レ−ザ−発振管用ｃｏ酸化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58182288A JPS58182288A (ja) | 1983-10-25 |
| JPS6028159B2 true JPS6028159B2 (ja) | 1985-07-03 |
Family
ID=13268033
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6477982A Expired JPS6028159B2 (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | レ−ザ−発振管用ｃｏ酸化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6028159B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5832609B1 (ja) | 2014-08-25 | 2015-12-16 | ファナック株式会社 | レーザ媒質流路を備えたレーザ発振器 |
-
1982
- 1982-04-20 JP JP6477982A patent/JPS6028159B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58182288A (ja) | 1983-10-25 |
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