JPS6027848A - 螢光ｘ線分析装置 - Google Patents
螢光ｘ線分析装置Info
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- JPS6027848A JPS6027848A JP58136114A JP13611483A JPS6027848A JP S6027848 A JPS6027848 A JP S6027848A JP 58136114 A JP58136114 A JP 58136114A JP 13611483 A JP13611483 A JP 13611483A JP S6027848 A JPS6027848 A JP S6027848A
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- JP
- Japan
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- fluorescent
- ray
- rays
- sample
- specimen
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
- G01N2223/076—X-ray fluorescence
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- Pathology (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
不発明は試料にＸ１ＩｉｌｉＩヲ照射し１発生した螢光
Ｘ線を検出して試料中に含まれる元素の定性・定量分析
を行う螢光Ｘ線分析装置に関する。
Ｘ線を検出して試料中に含まれる元素の定性・定量分析
を行う螢光Ｘ線分析装置に関する。
螢光Ｘ線分析は試料を非破壊で分析でき、また試料の形
態も固体及び液体を対象にできるため種々の試料（１）
定性・定量分析に応用されている。
態も固体及び液体を対象にできるため種々の試料（１）
定性・定量分析に応用されている。
第１図は螢光Ｘ線分析の原理を説明するための概略構成
図である。
図である。
Ｘ線管球１より発生したＸ線２全ホルダ３に固定された
試料４に照射すると試料中の元素は励起ちれ螢光Ｘ線５
會発生する。この螢光Ｘ線５は元系特有の波長を有して
いるため、スリット６全通して分光結晶７に導き所定の
角度で分光し、所望の元素の螢光Ｘ線５′を検出器８で
検出することにより定性分析を行うことができる。また
螢光Ｘ線の量は元素の含有量に比例するために、検出し
た螢光Ｘ線量を含有率Ｖ）分っている標準試料のものと
比較することにより定量分析を行うことができる。
試料４に照射すると試料中の元素は励起ちれ螢光Ｘ線５
會発生する。この螢光Ｘ線５は元系特有の波長を有して
いるため、スリット６全通して分光結晶７に導き所定の
角度で分光し、所望の元素の螢光Ｘ線５′を検出器８で
検出することにより定性分析を行うことができる。また
螢光Ｘ線の量は元素の含有量に比例するために、検出し
た螢光Ｘ線量を含有率Ｖ）分っている標準試料のものと
比較することにより定量分析を行うことができる。
こりように構成された螢光Ｘ線分析装置においては、Ｘ
線２により励起され発生する螢光Ｘ線の量は一般に原子
番号の大きい元素程大きい。従って、含有量が同一であ
っても原子番号の大きい元素に比べ原子番号の小さい元
素から発生する螢光Ｘ線の量は少いため、定量分析に於
ては、定量するのに適する量の螢光Ｘｍを得るようにＸ
線管球へ供給すパワー（電圧及び電流）全変えている。
線２により励起され発生する螢光Ｘ線の量は一般に原子
番号の大きい元素程大きい。従って、含有量が同一であ
っても原子番号の大きい元素に比べ原子番号の小さい元
素から発生する螢光Ｘ線の量は少いため、定量分析に於
ては、定量するのに適する量の螢光Ｘｍを得るようにＸ
線管球へ供給すパワー（電圧及び電流）全変えている。
例えば、鉛と錫を同程度含む半田の鉛と錫の定量を行う
場合、錫のＬα線を測定する時は、鉛のＬα線測定の場
合に比べＸ線管球により大きなパワーを供給している。
場合、錫のＬα線を測定する時は、鉛のＬα線測定の場
合に比べＸ線管球により大きなパワーを供給している。
このように従来の螢光Ｘ線分析装置においては。
含有量が近似している元素の定量分析を行う場合におい
ても、Ｘ線管球に印加する電圧、電流を変えなければな
らず、そのためＸ線管球が安定する迄の間螢光Ｘ線の測
定を一時中断しなければならない欠点がある。
ても、Ｘ線管球に印加する電圧、電流を変えなければな
らず、そのためＸ線管球が安定する迄の間螢光Ｘ線の測
定を一時中断しなければならない欠点がある。
本発明の目的は、上記欠点を除去し、複数の穴を有する
マスク板を用いてＸ線の照射される試料の面積を適宜変
えることにより、Ｘ線管球に供給するパワーを変えるこ
となく、複数の元素の定量に適する螢光Ｘ線の測定が可
能な螢光Ｘ線分析装置を提供することにある。
マスク板を用いてＸ線の照射される試料の面積を適宜変
えることにより、Ｘ線管球に供給するパワーを変えるこ
となく、複数の元素の定量に適する螢光Ｘ線の測定が可
能な螢光Ｘ線分析装置を提供することにある。
不発明の螢光Ｘ線分析装置は、試料にＸ線を照射するＸ
線管球と、同心円上に所定の間隔で設けられた大きさの
異なる円形の穴を複数個有し該穴の一つによって前記試
料表面へのＸ線の照射面積全規定するマスク板と、前記
試料から発生する螢光Ｘ線全分元する分光結晶と、該分
光結晶により分光された螢光Ｘ線全検出する検出器とを
含んで構成される。
線管球と、同心円上に所定の間隔で設けられた大きさの
異なる円形の穴を複数個有し該穴の一つによって前記試
料表面へのＸ線の照射面積全規定するマスク板と、前記
試料から発生する螢光Ｘ線全分元する分光結晶と、該分
光結晶により分光された螢光Ｘ線全検出する検出器とを
含んで構成される。
次に不発明の実施例全図面を用いて説明する。
第２図は不発明の一実施例の概略構成図である。
Ｘ線管球１から発生したＸ線２はホルダ３に保持された
分析対象の試料４に照射される。試料４の表面には、複
数個の円形の穴９．９”ｋ有するマスク板１１が回転軸
１０により回転可能に設けられており、この一つの穴９
を試料４の表面に位置させることにより照射されるＸ線
２の照射面積をコントロールすることができる。Ｘ線２
の照射により試料４から発生した螢光Ｘ線５はスリット
６′ｔ−通して分光結晶７に導かれ１分光された螢光Ｘ
１ｆｓ５’は検出器８により検出される。
分析対象の試料４に照射される。試料４の表面には、複
数個の円形の穴９．９”ｋ有するマスク板１１が回転軸
１０により回転可能に設けられており、この一つの穴９
を試料４の表面に位置させることにより照射されるＸ線
２の照射面積をコントロールすることができる。Ｘ線２
の照射により試料４から発生した螢光Ｘ線５はスリット
６′ｔ−通して分光結晶７に導かれ１分光された螢光Ｘ
１ｆｓ５’は検出器８により検出される。
この様に構成された螢光Ｘ線分析装置においては、マス
ク板１１に設けた複数の穴の一つを選択することにより
、試料４に照射されるＸ線２の照射面積全適当にコント
ロールできる。従って、含有量の近似した元素全定量す
る場合、Ｘ線管球に供給するパワーの条件は同一のまま
で定量に適する螢光Ｘ線量１例えば５０００〜ｔｏｏｏ
ｏｃｐｓ ｉ得ることができるので、従来のように元素
によってＸ線管球の条件を設定し直す必要はなく、それ
だけ足置時間が短縮できる。
ク板１１に設けた複数の穴の一つを選択することにより
、試料４に照射されるＸ線２の照射面積全適当にコント
ロールできる。従って、含有量の近似した元素全定量す
る場合、Ｘ線管球に供給するパワーの条件は同一のまま
で定量に適する螢光Ｘ線量１例えば５０００〜ｔｏｏｏ
ｏｃｐｓ ｉ得ることができるので、従来のように元素
によってＸ線管球の条件を設定し直す必要はなく、それ
だけ足置時間が短縮できる。
第３図は本発明の一実施例に用いられるマスク板の上面
図である。マスク板１１は中心Ｏの同心円上に、所定間
隔で設けられた大きさの異なる円形の穴９を複数個有す
る１枚の基板から構成されている。
図である。マスク板１１は中心Ｏの同心円上に、所定間
隔で設けられた大きさの異なる円形の穴９を複数個有す
る１枚の基板から構成されている。
第４図は不発明の他の実施例に用いられるマスク板の上
面図である。マスク板１５は保持基板１６に大きさの異
なる円形の穴１７ｔ−有するマスク片１８が複数個取り
付けられて構成されている。マスク片１８は必要に応じ
て交換できるように１例えははめ込み可能な構造となっ
ている。従って第 ５− ３１閑に示したマスク板に比べ多くの異った穴を利用で
きることになりマスク板の適用範囲が拡大される。
面図である。マスク板１５は保持基板１６に大きさの異
なる円形の穴１７ｔ−有するマスク片１８が複数個取り
付けられて構成されている。マスク片１８は必要に応じ
て交換できるように１例えははめ込み可能な構造となっ
ている。従って第 ５− ３１閑に示したマスク板に比べ多くの異った穴を利用で
きることになりマスク板の適用範囲が拡大される。
マスク板の材質としては、定量する元素が含まれない事
と、マスク板より発生した螢光Ｘ線が試料中の元素を励
起し試料中の元素の螢光Ｘ線量を増加させない事が大切
であり１通常軽元累の物質。
と、マスク板より発生した螢光Ｘ線が試料中の元素を励
起し試料中の元素の螢光Ｘ線量を増加させない事が大切
であり１通常軽元累の物質。
例えばアルミニウムが適している。この外、シリコンや
カーボンを含む樹脂板等も利用することができる。
カーボンを含む樹脂板等も利用することができる。
以上詳細に説明したように、不発明によれば。
異った複数の穴を有するマスク板で適宜試料表面を櫃い
、試料に照射されるＸ線の面積を変えることにより、同
じＸ線管球の条件で複数の元素の定量に適する螢光Ｘ線
の測定が可能な螢光Ｘ線分析装置が得られるのでその効
果は大きい。
、試料に照射されるＸ線の面積を変えることにより、同
じＸ線管球の条件で複数の元素の定量に適する螢光Ｘ線
の測定が可能な螢光Ｘ線分析装置が得られるのでその効
果は大きい。
第１図は従来の螢光Ｘ線分析装置の概略構成図。
第２図は本発明の一実施例の概略萄成図、第３図 ６−
は不発明の一実施例に用いられるマスク板の上面図、第
４図は本発明の他の実施例に用いられるマスク板の上面
図である。 １・・・・・・Ｘ線管球、２・・・・・・Ｘ線、３・・
・・・・ホルダ。 ４・・・・・・試料、 ５． ５’・・・・・・螢光Ｘ
線、６・・・・・・スリット、７・・・・・・分光結晶
、８・・・・・・検出器、９．９’・・・・・・穴、１
０・・・・・・回転軸、１１．１５・・・・・・マスク
＆、】６・・・・・・保持基板、１７・・・・・穴、１
８・・・・・・マスク片。 代理人 弁理士 内 原 晋、ｌ″↑−′、力 ７− 粥１図 躬３囚 方４圀
４図は本発明の他の実施例に用いられるマスク板の上面
図である。 １・・・・・・Ｘ線管球、２・・・・・・Ｘ線、３・・
・・・・ホルダ。 ４・・・・・・試料、 ５． ５’・・・・・・螢光Ｘ
線、６・・・・・・スリット、７・・・・・・分光結晶
、８・・・・・・検出器、９．９’・・・・・・穴、１
０・・・・・・回転軸、１１．１５・・・・・・マスク
＆、】６・・・・・・保持基板、１７・・・・・穴、１
８・・・・・・マスク片。 代理人 弁理士 内 原 晋、ｌ″↑−′、力 ７− 粥１図 躬３囚 方４圀
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 試料にｘｓ’ｅ照射するＸ線管球と、同心円上に所定の
間隔で設けられた大きさの異なる円形の穴を複数個有し
該穴の一つによって前記試料表面へのＸ線の照射面損金
規定するマスク板と、前記試料から発生する螢光Ｘ線を
分光する分光結晶と。 該分光結晶により分光された螢光Ｘ線を検出する検出器
とを甘むことを特徴とする螢光Ｘ線分析装置拳
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58136114A JPS6027848A (ja) | 1983-07-26 | 1983-07-26 | 螢光ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58136114A JPS6027848A (ja) | 1983-07-26 | 1983-07-26 | 螢光ｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6027848A true JPS6027848A (ja) | 1985-02-12 |
Family
ID=15167620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58136114A Pending JPS6027848A (ja) | 1983-07-26 | 1983-07-26 | 螢光ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6027848A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019234935A1 (ja) * | 2018-06-08 | 2019-12-12 | 株式会社島津製作所 | 蛍光ｘ線分析装置および蛍光ｘ線分析方法 |
-
1983
- 1983-07-26 JP JP58136114A patent/JPS6027848A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019234935A1 (ja) * | 2018-06-08 | 2019-12-12 | 株式会社島津製作所 | 蛍光ｘ線分析装置および蛍光ｘ線分析方法 |
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