JPS6027173A - 電界効果トランジスタおよびその製造方法 - Google Patents
電界効果トランジスタおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPS6027173A JPS6027173A JP58135367A JP13536783A JPS6027173A JP S6027173 A JPS6027173 A JP S6027173A JP 58135367 A JP58135367 A JP 58135367A JP 13536783 A JP13536783 A JP 13536783A JP S6027173 A JPS6027173 A JP S6027173A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- impurity
- layer
- density
- active layer
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/80—FETs having rectifying junction gate electrodes
Landscapes
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58135367A JPS6027173A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 電界効果トランジスタおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58135367A JPS6027173A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 電界効果トランジスタおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6027173A true JPS6027173A (ja) | 1985-02-12 |
| JPH028456B2 JPH028456B2 (enExample) | 1990-02-23 |
Family
ID=15150068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58135367A Granted JPS6027173A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 電界効果トランジスタおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6027173A (enExample) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61188972A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | シヨツトキゲ−ト電界効果トランジスタ、およびその製造方法 |
| JPS61188971A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | シヨツトキゲ−ト電界効果トランジスタ、およびその製造方法 |
| JPS61219177A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-09-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | シヨツトキ−ゲ−ト電界効果トランジスタ及びその製造方法 |
| JPS63308389A (ja) * | 1987-06-10 | 1988-12-15 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| US5132752A (en) * | 1985-05-22 | 1992-07-21 | Hitachi, Ltd. | Field effect transistor |
| JP2013145882A (ja) * | 2011-12-23 | 2013-07-25 | Imec | インプラントフリー量子井戸トランジスタ、そのようなインプラントフリー量子井戸トランジスタの作製方法、およびそのようなインプラントフリー量子井戸トランジスタの使用 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59195873A (ja) * | 1983-04-20 | 1984-11-07 | Nec Corp | 半導体装置 |
-
1983
- 1983-07-25 JP JP58135367A patent/JPS6027173A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59195873A (ja) * | 1983-04-20 | 1984-11-07 | Nec Corp | 半導体装置 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61188972A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | シヨツトキゲ−ト電界効果トランジスタ、およびその製造方法 |
| JPS61188971A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | シヨツトキゲ−ト電界効果トランジスタ、およびその製造方法 |
| JPS61219177A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-09-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | シヨツトキ−ゲ−ト電界効果トランジスタ及びその製造方法 |
| US5132752A (en) * | 1985-05-22 | 1992-07-21 | Hitachi, Ltd. | Field effect transistor |
| JPS63308389A (ja) * | 1987-06-10 | 1988-12-15 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| JP2013145882A (ja) * | 2011-12-23 | 2013-07-25 | Imec | インプラントフリー量子井戸トランジスタ、そのようなインプラントフリー量子井戸トランジスタの作製方法、およびそのようなインプラントフリー量子井戸トランジスタの使用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH028456B2 (enExample) | 1990-02-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS62239586A (ja) | Fetデバイスの製造方法 | |
| US4396930A (en) | Compact MOSFET device with reduced plurality of wire contacts | |
| JPH0620132B2 (ja) | 電界効果トランジスタ | |
| JPH03775B2 (enExample) | ||
| JPS58190071A (ja) | 電界効果トランジスタの製造方法 | |
| JP4065580B2 (ja) | トランジスタ製造用の絶縁体上シリコン型の基体および該基体の製造方法 | |
| US6329697B1 (en) | Semiconductor device including a charge-dispersing region and fabricating method thereof | |
| JPH0137857B2 (enExample) | ||
| KR900000073B1 (ko) | 전계효과트랜지스터 | |
| US5120669A (en) | Method of forming self-aligned top gate channel barrier region in ion-implanted JFET | |
| KR0157662B1 (ko) | 반도체 디바이스 및 그 제조방법 | |
| JPS5860574A (ja) | 電界効果トランジスタの製造方法 | |
| JPH028456B2 (enExample) | ||
| JP2550013B2 (ja) | 電界効果トランジスタ | |
| GB2074374A (en) | Method of making field effect transistors | |
| JP2688678B2 (ja) | 電界効果トランジスタおよびその製造方法 | |
| JP2721513B2 (ja) | 化合物半導体装置の製造方法 | |
| EP1158584B1 (en) | Fabrication method of a semiconductor device having semiconductor resistance element | |
| JP3034546B2 (ja) | 電界効果型トランジスタの製造方法 | |
| KR910006751B1 (ko) | 반도체 집적회로장치 및 그의 제조방법 | |
| JP2963120B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
| JPH07105473B2 (ja) | Mes fetの製造方法 | |
| JPS61110466A (ja) | 電界効果型半導体装置及びその製造方法 | |
| JPH0824132B2 (ja) | 電界効果トランジスタの製造方法 | |
| JPH0243742A (ja) | 化合物半導体装置の製造方法 |