JPS60263352A - 光デイスク盤 - Google Patents
光デイスク盤Info
- Publication number
- JPS60263352A JPS60263352A JP59117746A JP11774684A JPS60263352A JP S60263352 A JPS60263352 A JP S60263352A JP 59117746 A JP59117746 A JP 59117746A JP 11774684 A JP11774684 A JP 11774684A JP S60263352 A JPS60263352 A JP S60263352A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- groove
- guide groove
- pitch
- depth
- grooves
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2407—Tracks or pits; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24085—Pits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は光デイスク盤に関する。
近年の光デイスク盤は、従来の磁気ディスクに比較して
記憶容量が１００〜１０００倍と大きいために、実用化
、低価格化が強く期待されている。
記憶容量が１００〜１０００倍と大きいために、実用化
、低価格化が強く期待されている。
一般に、光デイスク盤は、記録位置を明確にするために
案内溝を含んで構成する。
案内溝を含んで構成する。
光ディスクの案内溝は深さ００５〜０．１５μｍ２幅０
．４〜１．５μｍと微細であり、しかも、ピッチ１．２
〜２５μｍの間隔で多数形成されている。この案内溝の
断面形状は、案内溝に沿ってレーザ光を照射して、トラ
ッキングサーボをかけるときと、低いパワーのレーザ光
を照射して情報を再生する時に信号とノイズのしきい値
を大きくとるうえで極めて重要な役割を果たしている。
．４〜１．５μｍと微細であり、しかも、ピッチ１．２
〜２５μｍの間隔で多数形成されている。この案内溝の
断面形状は、案内溝に沿ってレーザ光を照射して、トラ
ッキングサーボをかけるときと、低いパワーのレーザ光
を照射して情報を再生する時に信号とノイズのしきい値
を大きくとるうえで極めて重要な役割を果たしている。
このため案内溝の形状を高精度に測定し、製造工程の改
善をはかっていくことが重要である。
善をはかっていくことが重要である。
光デイスク盤の案内溝は、ガラス基板にレジストを塗布
し、蕗光・現像することにより形成したレジスト原盤か
ら転写されてつくられるのが一般である。したがって、
溝の深さはレジスト膜厚によって決定され、溝幅は露光
に使用するレーザ光のビーム径、エネルギー密度、波長
、レジストの感度、現像する時の現像液の液温、濃度、
現像時間等、様々な要因によって左右される。
し、蕗光・現像することにより形成したレジスト原盤か
ら転写されてつくられるのが一般である。したがって、
溝の深さはレジスト膜厚によって決定され、溝幅は露光
に使用するレーザ光のビーム径、エネルギー密度、波長
、レジストの感度、現像する時の現像液の液温、濃度、
現像時間等、様々な要因によって左右される。
したがって、溝形状を測定することにより、レジスト塗
布、無光、現像の改善をはかってゆくことができる。
布、無光、現像の改善をはかってゆくことができる。
従来の光デイスク盤の屏形状測定には、被測定物の表面
を触針で接触して測定する段差測定機が用いられていた
。しかしながら触針の先端は、標準で１０〜２０μｍ
Ｂ、にすぎず、又最小のものでも０．５μｍＲが実用化
されているにとどまっている。
を触針で接触して測定する段差測定機が用いられていた
。しかしながら触針の先端は、標準で１０〜２０μｍ
Ｂ、にすぎず、又最小のものでも０．５μｍＲが実用化
されているにとどまっている。
第」図（ａ） 、 （ｂｌは従来の光デイスク盤を最小
の触針を使用して溝の形状を測定した一例を示す測定図
である。
の触針を使用して溝の形状を測定した一例を示す測定図
である。
第１図（ａ）は、溝幅１が０８μｍ１溝深さ２が０．１
μｍ１ ピッチ３が１．６μｍの案内溝と０．５μｍＲ
の触針４を縦横２００００倍に拡大した光ディスク盤７
系したものである。
μｍ１ ピッチ３が１．６μｍの案内溝と０．５μｍＲ
の触針４を縦横２００００倍に拡大した光ディスク盤７
系したものである。
！ 第１図（ｂ）は第１図（ａ）に示す光デイスク盤５
の溝形状を触針４で測定した例を示し縦倍率だけを２０
００００倍に拡大したものである。
の溝形状を触針４で測定した例を示し縦倍率だけを２０
００００倍に拡大したものである。
第１図（ｂ）は、溝の形状、触針の形状が理想的であ）
、互いの接触状態も理想的にいっだ場合で溝の深さや、
幅に関する情報が読みとれるが、実際には、溝の表面あ
らさ、送り機構の不完全さ、外〔発明の目的〕 本発明の目的は、従来からの触針式段差測定機を使用し
て、案内溝の幅と深さを高精度で測定できる光デイスク
盤を提供することにある。
、互いの接触状態も理想的にいっだ場合で溝の深さや、
幅に関する情報が読みとれるが、実際には、溝の表面あ
らさ、送り機構の不完全さ、外〔発明の目的〕 本発明の目的は、従来からの触針式段差測定機を使用し
て、案内溝の幅と深さを高精度で測定できる光デイスク
盤を提供することにある。
本発明の光デイスク盤は、一定断面形状の案内溝を第１
のピッチで多数形成した案内溝部と、前記案内溝部の内
周部又は外内部に前記案内溝と同じ断面形状で前記第１
のピッチより広い第２のピッチを有する溝を複数本形成
した検査溝部とを含んで構成される。
のピッチで多数形成した案内溝部と、前記案内溝部の内
周部又は外内部に前記案内溝と同じ断面形状で前記第１
のピッチより広い第２のピッチを有する溝を複数本形成
した検査溝部とを含んで構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。
説明する。
第２図は本発明の一実施例を示す断面図である。
第２図に示す光デイスク盤は、光デイスク基板６の上に
、一定ピツチで多数の案内溝からなる案内溝部７と、内
周部と外周部には同一断面形状をもちピッチの広い内周
検査溝部８と外周検査溝部９とを含んで構成される。
、一定ピツチで多数の案内溝からなる案内溝部７と、内
周部と外周部には同一断面形状をもちピッチの広い内周
検査溝部８と外周検査溝部９とを含んで構成される。
案内溝の形状は、幅０．８μｍ１深さ０．１μｍ１ピッ
チ１，６μｍである。
チ１，６μｍである。
検査溝は、案内溝と同一形状でピッチが３．０μｍと広
くなっている。検査溝は内外同各３本設けた。
くなっている。検査溝は内外同各３本設けた。
案内溝の溝深さは、ガラス基板に塗布したレジストの膜
厚によって決定されるが、塗布方法によっては内周部と
外周部では膜厚がばらつくことが多い。また、単位面積
あたりのレーザエネルギーが内外周で一定になっていな
い可能性もある。
厚によって決定されるが、塗布方法によっては内周部と
外周部では膜厚がばらつくことが多い。また、単位面積
あたりのレーザエネルギーが内外周で一定になっていな
い可能性もある。
ゆえに内周部と外内部の両者を検査する必要がある。
本発明によれば内外同両方に検査用の溝を有しているの
で、容易に内外周の溝形状の差を検査することができる
。第３図（ａ） ＊ （ｂ）は第２図に示す実５− 施例の測定例である。
で、容易に内外周の溝形状の差を検査することができる
。第３図（ａ） ＊ （ｂ）は第２図に示す実５− 施例の測定例である。
第３図（ａ）に示した溝断面形状は、案内溝では幅０．
８μｍ、深さ０．１μｍ１ピッチ１．６７ｊｍであり、
検査溝では、幅０．８μｍ１深さ０１μｍ１ピツチ３０
μｍである。
８μｍ、深さ０．１μｍ１ピッチ１．６７ｊｍであり、
検査溝では、幅０．８μｍ１深さ０１μｍ１ピツチ３０
μｍである。
内周検査溝部８を０．５μｍＲの触針で測定すると、縦
の倍率を２００００倍に上げて第３図（ｂ）を得る。
の倍率を２００００倍に上げて第３図（ｂ）を得る。
ピッチが広くなったことにより、明らかに平らな部分が
得られている。この平らな部分が得られたことにより、
測定値全体の基準を得たことになるので、たとえ表面あ
らさ、振動等の影響により各種の誤差が重畳されても、
平均値としての溝の深さを容易に、精度よく推定するこ
とができる。溝の幅に関しては、明らかに平らな部分を
除いた部分が溝の幅に相当するので、第１図（ｂ）の場
合と比較して極めて容易で高精度に推定することができ
るＯ 第４図（ａ）は、第２図に示す光デイスク盤６の内周検
査溝部８のレプリカの断面図を示し縦横とも２００００
倍に拡大しである。
得られている。この平らな部分が得られたことにより、
測定値全体の基準を得たことになるので、たとえ表面あ
らさ、振動等の影響により各種の誤差が重畳されても、
平均値としての溝の深さを容易に、精度よく推定するこ
とができる。溝の幅に関しては、明らかに平らな部分を
除いた部分が溝の幅に相当するので、第１図（ｂ）の場
合と比較して極めて容易で高精度に推定することができ
るＯ 第４図（ａ）は、第２図に示す光デイスク盤６の内周検
査溝部８のレプリカの断面図を示し縦横とも２００００
倍に拡大しである。
６−
内用検査溝部８の形状を０．５μｍＲの触針で測定する
と、縦倍率を２０００００倍に上げて第４図（ｂ）を得
る。第３図（ｂ）と比べて、溝の底が凸部となるため平
らな部分が多くなる。したがって、段差の上と下に十分
な平らな部分を得ることができ、より高精度な測定が可
能となる。
と、縦倍率を２０００００倍に上げて第４図（ｂ）を得
る。第３図（ｂ）と比べて、溝の底が凸部となるため平
らな部分が多くなる。したがって、段差の上と下に十分
な平らな部分を得ることができ、より高精度な測定が可
能となる。
本発明の光デイスク盤は、ピッチが広い検査用の溝部を
追加することにより、触針式の段差測定機を用いて、溝
の幅と深さを高精度に測定することができるという効果
がある。また、本り明の光デイスク盤のレプリカを製作
することにより、測定精度をさらに高めることができる
。溝形状を正確に把握することにより、レジスト塗布、
露光、現像の改善ができるという効果がある。
追加することにより、触針式の段差測定機を用いて、溝
の幅と深さを高精度に測定することができるという効果
がある。また、本り明の光デイスク盤のレプリカを製作
することにより、測定精度をさらに高めることができる
。溝形状を正確に把握することにより、レジスト塗布、
露光、現像の改善ができるという効果がある。
１′ 第１図（ａ） 、 （ｂ）は従来の一例を示す断
面図と測定例、第２図は本発明の一実施例を示す光デイ
スク盤の部分断面図、第３図（ａ） 、 （ｂ）は第２
図に示す内用検査溝部の部分断面図と測定例、第４図（
ａ） ｓ （ｂ）は第２図に示す内周検査部のレプリカ
を示す部分断面図と測定例である。 １・・・・・・溝幅、２・・・・・・溝深さ、３・・・
・・・ピッチ、４・・・・・・触針、５，６・・・・・
・光デイスク盤、７・・・・・・案内溝部、８・・・・
・・内置検査溝部、９・・・・・・外周検査溝部、１０
・・・・・・レプリカ。 ｚ ｆ図 （θ） （ｂ） 暑？図 軍、３図 （ａ） （１）） ７４図 （１１） 乙り （ｂ）
面図と測定例、第２図は本発明の一実施例を示す光デイ
スク盤の部分断面図、第３図（ａ） 、 （ｂ）は第２
図に示す内用検査溝部の部分断面図と測定例、第４図（
ａ） ｓ （ｂ）は第２図に示す内周検査部のレプリカ
を示す部分断面図と測定例である。 １・・・・・・溝幅、２・・・・・・溝深さ、３・・・
・・・ピッチ、４・・・・・・触針、５，６・・・・・
・光デイスク盤、７・・・・・・案内溝部、８・・・・
・・内置検査溝部、９・・・・・・外周検査溝部、１０
・・・・・・レプリカ。 ｚ ｆ図 （θ） （ｂ） 暑？図 軍、３図 （ａ） （１）） ７４図 （１１） 乙り （ｂ）
Claims (1)
- 一定断面形状の案内溝を第１のピッチで多数形成した案
内溝部と、前記案内溝部の内周部又は外周部に前記案内
溝と同じ断面形状で前記第１のピッチより広い第２のピ
ッチを有する溝を複数本形成した検査溝部とを含むこと
を特徴とする光デイスク盤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59117746A JPS60263352A (ja) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | 光デイスク盤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59117746A JPS60263352A (ja) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | 光デイスク盤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60263352A true JPS60263352A (ja) | 1985-12-26 |
Family
ID=14719282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59117746A Pending JPS60263352A (ja) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | 光デイスク盤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60263352A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5581539A (en) * | 1994-08-12 | 1996-12-03 | Mitsubishi Chemical Corporation | Optical recording medium |
| JPWO2006043356A1 (ja) * | 2004-10-19 | 2008-05-22 | 松下電器産業株式会社 | 光学式記録媒体の記録再生方法、光学式記録媒体およびその記録再生装置 |
-
1984
- 1984-06-08 JP JP59117746A patent/JPS60263352A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5581539A (en) * | 1994-08-12 | 1996-12-03 | Mitsubishi Chemical Corporation | Optical recording medium |
| JPWO2006043356A1 (ja) * | 2004-10-19 | 2008-05-22 | 松下電器産業株式会社 | 光学式記録媒体の記録再生方法、光学式記録媒体およびその記録再生装置 |
| JP4510029B2 (ja) * | 2004-10-19 | 2010-07-21 | パナソニック株式会社 | 光学式記録媒体の記録再生方法および記録再生装置 |
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