JPH01292202A - 溝形状測定方法 - Google Patents
溝形状測定方法Info
- Publication number
- JPH01292202A JPH01292202A JP12354188A JP12354188A JPH01292202A JP H01292202 A JPH01292202 A JP H01292202A JP 12354188 A JP12354188 A JP 12354188A JP 12354188 A JP12354188 A JP 12354188A JP H01292202 A JPH01292202 A JP H01292202A
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- JP
- Japan
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- groove
- diffraction
- determined
- glass master
- diffraction efficiency
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- Pending
Links
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、例えば、スタンパを製作するガラス原盤に形
成された溝形状を測定する溝形状測定方法に関する。
成された溝形状を測定する溝形状測定方法に関する。
従来の技術
従来、例えば、ガラス板にホトレジスト膜を形成し、次
にこれを露光し、現像してガラス板の一面に溝を形成し
てガラス原盤となし、光ディスクを複製するスタンパ（
金型）を前記ガラス原盤を基に製作している。したがっ
て、良好なスタンパを得るには、ガラス原盤の溝形状を
検査して合格品を使用することが望ましい。このガラス
原盤の溝の寸法はサブミクロンオーダーであるので、工
場顕微鏡や微分干渉顕微鏡等の光学顕微鏡では倍率が不
足し精密な測定ができない。電子顕微鏡による測定は、
試料室にセットすることができるサンプルの大きさに限
界があるため、ガラス原盤のように大きなものは切断し
なければならず不適当である。表面粗さ計等によりガラ
ス原盤の溝形状を測定する方法は、この表面粗さ計が触
針式であるためガラス原盤に傷が生じ不適当である。結
局、製作されたスタンパによりディスクを複製し、この
ディスクを検査することによりスタンパの良否を判定し
ている。
にこれを露光し、現像してガラス板の一面に溝を形成し
てガラス原盤となし、光ディスクを複製するスタンパ（
金型）を前記ガラス原盤を基に製作している。したがっ
て、良好なスタンパを得るには、ガラス原盤の溝形状を
検査して合格品を使用することが望ましい。このガラス
原盤の溝の寸法はサブミクロンオーダーであるので、工
場顕微鏡や微分干渉顕微鏡等の光学顕微鏡では倍率が不
足し精密な測定ができない。電子顕微鏡による測定は、
試料室にセットすることができるサンプルの大きさに限
界があるため、ガラス原盤のように大きなものは切断し
なければならず不適当である。表面粗さ計等によりガラ
ス原盤の溝形状を測定する方法は、この表面粗さ計が触
針式であるためガラス原盤に傷が生じ不適当である。結
局、製作されたスタンパによりディスクを複製し、この
ディスクを検査することによりスタンパの良否を判定し
ている。
発明が解決しようとする問題点
スタンパを製作するためには、例えば、前記ガラス原盤
の溝側の面に銀を蒸着し、その上にニッケルメッキを施
してマスク盤を形成し、このマスク盤を基にマザー盤を
形成し、さらに、マスタ盤からマザー盤を形成する方法
と同様の方法でマザー盤からスタンパを形成する等多く
の工程を経ている。これに伴い、製作時間も数１０時間
を要する。しかがって、前述したように、完成されたス
タンパを基にディスクを形成し、このディスクを検査し
た結果不合格となる場合もあり、スタンパの製作時間が
長いだけに損害が大きい。
の溝側の面に銀を蒸着し、その上にニッケルメッキを施
してマスク盤を形成し、このマスク盤を基にマザー盤を
形成し、さらに、マスタ盤からマザー盤を形成する方法
と同様の方法でマザー盤からスタンパを形成する等多く
の工程を経ている。これに伴い、製作時間も数１０時間
を要する。しかがって、前述したように、完成されたス
タンパを基にディスクを形成し、このディスクを検査し
た結果不合格となる場合もあり、スタンパの製作時間が
長いだけに損害が大きい。
問題点を解決するための手段
一面に溝が形成されたガラス原盤にコヒーレンス光を照
射して各法の回折効率と回折角とを求め、これらの回折
効率と回折角とを基学に、第一に前記溝のピッチを求め
、第二に回折効率比により前記溝の幅を求め、第三に回
折効率比により前記溝の深さを求めるようにした。
射して各法の回折効率と回折角とを求め、これらの回折
効率と回折角とを基学に、第一に前記溝のピッチを求め
、第二に回折効率比により前記溝の幅を求め、第三に回
折効率比により前記溝の深さを求めるようにした。
作用
ガラス原盤にコヒーレンス光を照射して求めた各法の回
折効率及び回折角とを基に、溝のピッチは計算により求
められ、ピッチが既知となれば、各法の回折効率比によ
り順次溝の幅と深さとが求められる。
折効率及び回折角とを基に、溝のピッチは計算により求
められ、ピッチが既知となれば、各法の回折効率比によ
り順次溝の幅と深さとが求められる。
実施例
本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第１図に示す１はガラス原盤で、このガラス原盤１は従
来例において説明したように、露光、現像の工程を経て
形成されたもので、このガラス原盤ｌの一面には溝２が
形成されている。第２図はガラス原盤ｌの溝２の形状を
拡大して示すもので、溝２自体は説明を簡単にするため
に単純な形で示す。なお、溝２のピッチをＰ、溝２の幅
をＷ、溝２の深さをＤにより示す。
来例において説明したように、露光、現像の工程を経て
形成されたもので、このガラス原盤ｌの一面には溝２が
形成されている。第２図はガラス原盤ｌの溝２の形状を
拡大して示すもので、溝２自体は説明を簡単にするため
に単純な形で示す。なお、溝２のピッチをＰ、溝２の幅
をＷ、溝２の深さをＤにより示す。
回折格子のように規則的な溝２コヒーレンス光を照射す
ると回折光が生じることは周知の事実で、その回折光の
強度及び回折角は、溝２の幅Ｗ、深さＤ、ピッチＰに対
応する。ガラス原盤１の溝２の形状が未知の場合は、第
１図に示すように、ガラス原盤ｌにコヒーレンス光を照
射して各法の回折光を測定する。照射する光は、本実施
例においては６３２．８ｎｍの波長λをもッＨｅ−Ｎ
ｅレーザー光である。
ると回折光が生じることは周知の事実で、その回折光の
強度及び回折角は、溝２の幅Ｗ、深さＤ、ピッチＰに対
応する。ガラス原盤１の溝２の形状が未知の場合は、第
１図に示すように、ガラス原盤ｌにコヒーレンス光を照
射して各法の回折光を測定する。照射する光は、本実施
例においては６３２．８ｎｍの波長λをもッＨｅ−Ｎ
ｅレーザー光である。
ここで、回折角βは第１図において、Ｙ ／ ｘで示さ
れる。また、η、を０次の回折効率、η１を１次の回折
効率、η２を２次の回折効率とすると、これらのη、、
η１．η３は次式により求められる。
れる。また、η、を０次の回折効率、η１を１次の回折
効率、η２を２次の回折効率とすると、これらのη、、
η１．η３は次式により求められる。
η。＝」軛頭μ蝶Ｘ１００ （％）
入射光強度
７、＝１次回折光強度Ｘ１００（％、
入射光強度
η、＝＝円躊朋Ｐ−Ｘ１００（％）
二のように、回折角βと各法の回折効率η。。
η８．η２とが求められると、次式により、溝２のピッ
チＰが求められる。
チＰが求められる。
Ｐ＝−入−
５ｉｎβ
求められた溝２のピッチＰと回折角βとの関係は第３図
のグラフにより示される。
のグラフにより示される。
溝２のピッチＰが既知になれば、回折効率比（η１／η
２）より、溝２の幅Ｗが求められる（第４図のグラフ参
照）。その理由は第４図のグラフから明らかなように、
溝２の深さの影響が少ないからである。
２）より、溝２の幅Ｗが求められる（第４図のグラフ参
照）。その理由は第４図のグラフから明らかなように、
溝２の深さの影響が少ないからである。
溝２の幅Ｗが求められれば、回折効率（η。／η、）よ
り溝２の深さが求められる（第５図のグラフ参照）。
り溝２の深さが求められる（第５図のグラフ参照）。
なお、溝２のピッチＰと深さＤとが分がっていれば、回
折効率そのものより溝２の幅Ｗを求めることもできる（
第６図のグラフ参照）。
折効率そのものより溝２の幅Ｗを求めることもできる（
第６図のグラフ参照）。
以上のように、ガラス原盤１の段階で溝２の形状が正確
に求められるので、溝形状の良否の判定が早期になされ
、正確なガラス原盤を基に正しいスパンタを製作するこ
とができる。
に求められるので、溝形状の良否の判定が早期になされ
、正確なガラス原盤を基に正しいスパンタを製作するこ
とができる。
発明の効果
本発明は上述のように構成したので、ガラス原盤にコヒ
ーレンス光を照射して求めた各法の回折効率及び回折角
を基に、溝のピッチを計算により求めることができ、ピ
ッチが既知となれば、各法の回折効率比により順次溝の
幅と深さとを求めることができ、したがって、ガラス原
盤を切断することなくその溝の形状の良否の判定を早期
に確実に行うことができ、これにより、正確なガラス原
盤を基に正確なスタンパを安心して製作することができ
、これに伴い、ガラス原盤からスタンパを製作する工程
の歩留まりを著しく向上させることができる等の効果を
有する。
ーレンス光を照射して求めた各法の回折効率及び回折角
を基に、溝のピッチを計算により求めることができ、ピ
ッチが既知となれば、各法の回折効率比により順次溝の
幅と深さとを求めることができ、したがって、ガラス原
盤を切断することなくその溝の形状の良否の判定を早期
に確実に行うことができ、これにより、正確なガラス原
盤を基に正確なスタンパを安心して製作することができ
、これに伴い、ガラス原盤からスタンパを製作する工程
の歩留まりを著しく向上させることができる等の効果を
有する。
図面は本発明の一実施例を示すもので、第１図はガラス
原盤に光線を照射して回折光強度を測定する状態を示す
側面図、第２図はガラス原盤の溝を拡大して示す断面図
、第３図は回折角と溝のピッチとの関係を示すグラフ、
第４図は回折効率比と溝の幅との関係を示すグラフ、第
５図は回折効率比と溝の深さとの関係を示すグラフ、第
６図は回折効率と溝の幅との関係を示すグラフである。 １・・・ガラス原盤、２・・・溝、Ｐ・・・溝のピッチ
、Ｗ・・・溝の幅、Ｄ・・・溝の深さ
原盤に光線を照射して回折光強度を測定する状態を示す
側面図、第２図はガラス原盤の溝を拡大して示す断面図
、第３図は回折角と溝のピッチとの関係を示すグラフ、
第４図は回折効率比と溝の幅との関係を示すグラフ、第
５図は回折効率比と溝の深さとの関係を示すグラフ、第
６図は回折効率と溝の幅との関係を示すグラフである。 １・・・ガラス原盤、２・・・溝、Ｐ・・・溝のピッチ
、Ｗ・・・溝の幅、Ｄ・・・溝の深さ
Claims (1)
- 一面に溝が形成されたガラス原盤にコヒーレンス光を照
射して各次の回折効率と回折角とを求め、これらの回折
効率と回折角とを基準に、第一に前記溝のピッチを求め
、第二に回折効率比により前記溝の幅を求め、第三に回
折効率比により前記溝の深さを求めるようにしたことを
特徴とする溝形状測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12354188A JPH01292202A (ja) | 1988-05-20 | 1988-05-20 | 溝形状測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12354188A JPH01292202A (ja) | 1988-05-20 | 1988-05-20 | 溝形状測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01292202A true JPH01292202A (ja) | 1989-11-24 |
Family
ID=14863152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12354188A Pending JPH01292202A (ja) | 1988-05-20 | 1988-05-20 | 溝形状測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01292202A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5371582A (en) * | 1992-07-31 | 1994-12-06 | Hitachi, Ltd. | Thickness/depth measuring apparatus and method for measuring the thickness of a film and the depth of a groove |
| KR20010097078A (ko) * | 2000-04-19 | 2001-11-08 | 이용일 | 유리기판 소자의 광특성 측정장치 및 방법 |
| JP2002148207A (ja) * | 2000-11-14 | 2002-05-22 | Fuji Electric Co Ltd | ディスクリート・トラック方式の磁気記憶媒体の表面欠陥検査装置 |
| US6914683B1 (en) | 1998-10-08 | 2005-07-05 | Daimlerchrysler Ag | Measurement of small, periodic undulations in surfaces |
| JP2018151353A (ja) * | 2017-03-15 | 2018-09-27 | ファナック株式会社 | 計測装置 |
-
1988
- 1988-05-20 JP JP12354188A patent/JPH01292202A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5371582A (en) * | 1992-07-31 | 1994-12-06 | Hitachi, Ltd. | Thickness/depth measuring apparatus and method for measuring the thickness of a film and the depth of a groove |
| US6914683B1 (en) | 1998-10-08 | 2005-07-05 | Daimlerchrysler Ag | Measurement of small, periodic undulations in surfaces |
| KR20010097078A (ko) * | 2000-04-19 | 2001-11-08 | 이용일 | 유리기판 소자의 광특성 측정장치 및 방법 |
| JP2002148207A (ja) * | 2000-11-14 | 2002-05-22 | Fuji Electric Co Ltd | ディスクリート・トラック方式の磁気記憶媒体の表面欠陥検査装置 |
| JP4586260B2 (ja) * | 2000-11-14 | 2010-11-24 | 富士電機デバイステクノロジー株式会社 | ディスクリート・トラック方式の磁気記憶媒体の表面欠陥検査方法 |
| JP2018151353A (ja) * | 2017-03-15 | 2018-09-27 | ファナック株式会社 | 計測装置 |
| US10203201B2 (en) | 2017-03-15 | 2019-02-12 | Fanuc Corporation | Measurement device |
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