JPS60256786A - エナメル線製造用焼付炉およびその焼付温度制御方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、一般的には、エノメル線製造用焼付炉およ
びイの焼付温度を制御する方法に関するものである。よ
り詳しく述べると、この発明は、特許請求の範囲第７項
の導入旬に基づく焼付炉、および特許請求の範囲第１項
の尋入旬に基づく焼　、１イ、。１ヨカよ４、あ。、あ
。。　・□１本以上の平行に走るワイヤをエナメル被覆
ワイヤどする成る既知の装置においては（Ｄ［Ｅ−ＰＳ
　３　１１８　８３０）、まず赤熱部で張力がかからな
いように赤熱されたワイヤが］−プメルコーティテング
装同を貫走し、最後に、ワイヤの供給と反対の方向に熱
風が回転的に流れている焼付レトルト中の乾燥区域と焼
き区域を乾燥するようになっている。エナメルの焼付（
プに際して生ずる溶媒と分離生成物は回転流に沿って乾
燥区域のリターン通路を通じて運び去られる。リターン
通路の中では、焼付レトルトから取り除かれた溶ｔｓ蒸
気は、その際に吸い込まれた新鮮な空気をも含めて、混
合区域、加熱システム、および触媒を貫流し、加熱シス
テムと、溶媒上記を燃焼させる触媒とによって加熱され
る。溶媒熱が十分に大きい場合にはこの加熱過程のため
に、この既知の装；ａは外部エネルギを供給しな（でも
自己保持的に運転される。

エナメル線の製造は、成る基準に基づいて決定された品
質要求を満たすことを目指さなければならないが、その
際、■ナメル線のメーカーは、部分的にはイの基準に従
って決められた要求事項をはるかに越える品質標準によ
って操業する場合が多くなっている。このように高度な
品質要求を満たすことができるためには、焼付路中にお
ける工程の諸条件を送風、排気、湿度、空気およびワイ
ヤの速度に間して一定に保つことが絶対不可欠な前提で
ある。

理想的な揚台には、既に知られているＶｉ置で比較的狭
い許容差を守ることが可能である。しかし、たとえば、
平行に誘導されているワイＶの１本が切れた場合には厄
介な問題が生じる。それは、その場合］−ナメルの供給
が妨げられ、燃焼用に触媒中に存在する溶媒の晴が減少
し、そのため均一な温度を保つに必要な熱的バランスが
崩れるからである。たとえば、触媒中におｌＪる溶媒の
燃焼に影響される触媒通過熱風の温度上界は、既に知ら
れている装置では８０ないし２００’にの範囲にある。

このことは、たとえば６本のワイヤを有覆る装置では、
触媒部での燃焼による温度上背が約１／６に減少すると
いう効果をもたらり。溶媒蒸気の燃焼による温度上昇が
たとえば１２０°にとすると、１／６の妨げによって温
度上昇は１００　’Ｋに減少づる。これにより、触媒後
方で温石が２０°に低下することになる。また、これど
同じような問題は、たとえば、ワイヤの断面を変える場
合など、ワイヤを一旦停止させなければならない場合に
も生じる。これに対して、新しいワイヤを持ってくると
きにはかなりの温度上昇が起こる。

ワイヤ停止時に生じる温度降下と、ワイヤ始動時におけ
る触媒後方の温度上昇は焼４＝Ｊし［・ル１〜中の一定
測度に、できるだけ影響を及ぼさないようにすべきであ
る。そのための制御は加熱システムによって行なわれ、
実際には、焼付条件が変わっても、したがってそのため
にエナメルの品質を変えてもそれに応じて制御できるよ
うになっている。

確かに、変動がある場合には焼付レトルトのワイヤ挿入
口またはワイヤ引出口への新鮮空気の供給を、たとえば
電気的な加熱装置よりもわずかに鈍感な制御を示して減
少、または増大させることができるが、これでは、温度
の長さ方向の分布、ならびに乾燥区域と焼付区域に使用
できる熱風の減少に？　’ｆｈをもたらし、エナメル線
の品質が一定しないことになる。

この発明の課題は、ワイヤ供給の田舎、ワイヤの切断、
または、たとえばワイヤ寸法の変更に際してのワイヤ引
張りの中断や引張り開始のために、強制的に回流熱風の
温度を変えそれによって焼（＝１温度を変える場合でも
、簡単な方法によって工程条件をぐきる限り一定に保つ
ように配慮することにある。

この課題は、特許請求の範囲第１項の特徴部分に示した
方策により、発明の実現化の目的に沿って従属の特許請
求の範囲第２項ないし第６項に含まれだ特徴部分で特徴
付けられた方法として解決される。

この課題は、装置としては、特許請求の範囲第７項の特
徴部分に含まれた特徴によって解決され、発明の実現化
の目的に沿って従属の特許請求の範囲 間第＾項ないし第１２項に示した特徴によって特　ｌ□
徴付けられる。

この発明により、触媒を通過してくる熱風の部分流が常
に分流され、改めて触媒に供給されるため、触媒を通過
ずる熱風の用が増加し、一方、触媒中に取り込まれる溶
媒の吊が、したがってまた、正常運転中に取り込まれる
溶媒のエネルギ量も変化しない。触媒を通過する空気通
過量がこのように増えることから、触媒の入口部と触媒
の出口部との間の温度差もまた減少する。たとえば、触
媒に通過供給される空気爪が倍になれば、結果として温
度差は半分になる。それで、導入された溶媒量の変動に
よる温度変動は、たとえばワイヤの切断のような場合か
なり小さくなり、したがって、妨害がある場合でも、ま
たは、個々のワイヤ引張りが中断された場合でも、事実
上一定の工程条件が、そしてそれによって均一なワイヤ
品質が得られる。

触媒の後方で分かれた部分空気流のリターン流路への導
入は、直接、触媒の前部で行なうことができる。経験に
よれば、触媒蒸気の一部は電気的な加熱装置を通過する
際に既に燃焼しているので、分かれｌこ部分空気流を赤
熱前に焼｛＝ｊレトルトのリターン流路へ送り込むこと
もまた目的に適っている。しかし、分流部分空気流を混
合区域前でリターン流路へ導き、一方、そうすることに
よって空気温度と空気流速度の均一化が得られるように
するのが特に有利である。

焼付条｛４はさらに均一化することは、同様に部分空気
流の回流を焼付レトルトの乾燥区域と焼付区域の潤度制
御に利用するこどによって達成される。こうずることに
よって、焼付炉を員通して供給されるワイヤの数が変わ
つＩＣ際にも温度がほとんど一定に保たれ、たとえばワ
イＡ７が切れた場合、回流する空気流が減少し、これに
よって溶媒■の減少が、そしてそれに伴って触媒部にお
（づる温度ート昇の低下が平衡化される。それとは反対
に、ワイヤの張線数を増や｛−と、回流する部分空気が
対応して増加り゛ることにより、一定の温度が保証され
る。

回流部分流の制御は回流導路中に設けられたブロワの回
転数を変えることによって合目的的に達成される。制御
はまた、回流導路中に設けられたバルブないしはダンパ
によって達成づ−ることもできる。その場合、制御は、
温度センサによって検知された乾燥区域または焼付区域
中の混用に依存して、または、火炎イオン化検出器など
の溶媒計測器を用い、溶！１Ｖｆｆｉに依存して達成す
ることかできる。さらに、炉を貫走するワイヤの数に依
存して制御するという可能性もある。

以下に、この発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図に概略的に示した全体装置は、特に多数本のワイ
ヤのエノーメル線製造用であり、本質的には、露出した
ワイヤ巻取リール２を有するワイヤ送出部１を有し、そ
の巻取リールカ目うは、それに続くワイヤ引出装置３を
通してワイヤが引出されている。ワイヤは最後に、方向
変換ロールの仲介の下に、通常、参照番号５で示したエ
ナメル焼付炉の赤熱部１９に通り、その端で方向を変換
されてエナメル焼イ］炉５の前端に配設された１ナメル
塗布装Ｎ６へ送り出され、そこからワイヤ、または平行
なワイｔ／ｌηが、７という番号を付した焼付レトルト
に送り出される。焼（＝Ｊレトルト７を］走しだ後Ｃワ
イヤ列は、８という番号をイーしたワイヤ冷却装置を通
過する。要求きれるエナメル塗布条件に応じ又ワイヤ列
は多数回操作部６．７および８、つまりワイヤ塗布装置
、焼付し１〜ル１〜、およびワイヤ冷却装置を與走し、
最後には、エナメル線巻取装置のところぐリールに巻取
られる。

エナメル焼付装置５の詳細は第２図により明白である。

焼付レトルト７は乾燥室とキャアリング室ないしは焼（
＝ｌ室の中に小分けされており、その中で、前置接続さ
れた］−ナメル塗作装置６ににつｒワイヤに塗布され、
そして、乾燥されたエナメルが焼付けされる。さらに、
焼付し１〜ルー−７には、番号１２を付したリターン通
路が関係付けられており、イの左端には、循環ブ［］ワ
１３が設けられ　□でいて、それにより空気が孤立対流
原理に従って矢印１４の方向に循環しているが、より厳
密に言　ｂ　、ｉえば乾燥室１０および焼付室１１の中
で、矢印１５の方向に送られているワイヤと逆の方向に
循環している。

詳しく言えば、循環１０９１３は乾燥室１０に生じる溶
媒の蒸気と、ワイヤに塗布されたエナメルの分離生成物
、およびワイヤ引込口１６からの新鮮な空気を吸引し、
その際、循環ブロワ１３に後接された混合区域１７でガ
スの混合が行なわれる。リターン流通路１２には赤熱部
１９があり、それによって、赤熱部１９の赤熱パイプを
通過供給されてきたワイヤが張力がかからイすい状態で
赤熱される。さらに、混合区域６、加熱システム４、な
らびに触媒１８が配設されており、その中でエナメルの
溶媒−Ｆ記と分解生成物が燃焼させられる。

リターン流通路１２の中を回流する空気は、加熱システ
ムを通流する際だけでなく、触媒１８を通流する際にも
加熱され、加熱された空気は既知の構造をした有孔羽根
板２０を通じて焼付レトルト７の乾燥室１１に送り込ま
れる。空気流と、ワイヤ引込口１６から吸引された新鮮
な空気は、循環ブロワ１３の前の番号２１を付した弁に
より制御される。

リターン流通路１２．の中を回流する排ガスの一部は、
赤熱部１９と同軸的に配設された排ガスパイプ２２と、
ドレインの付いたさらに別の触媒２４をｈする排ガスバ
イブ２３どを通じて外に排出される。番号２５を付した
ブロワは強制排気用であって、排ガスバイブ２３どを通
じて外に排出される。番号２５を付したブロワは強制排
気用であって、排ガスバイブ２３の中に配設された弁２
６によって調節される。

餠がスパイプ２２が加熱される蒸気発生器２７で形成さ
れた不活性ガス源は、蒸気導管２８を通じ、不活付ガス
の役割をする蒸気どして赤熱パイプ１９０入口の１９の
ところに導かれることを条イ！１とする。

排ガスバイブの右側にはワイヤ冷却器３０が接続され、
イこからワイヤがエナメル塗布装置６の方へ送られる。

ワイヤの貝送路に４３いて、ワイヤ冷却器８は有孔羽根
板２０のところで下方に接続されており、その冷却器は
圧力フロワ３１と吸引ブロワ３２を有し、それらにより
ワイＶ冷却器８の中の圧力差が抑止されるが、それは、
ソイ°Ｖの出口３３の全幅にねたっ”Ｃ１新鮮な空気が
、大気中より有害物質を取り入れることなく、焼（＝Ｊ
室１１のソイ１フ出口を通じＣ入り得るように、Ω１が
発生するからである。

赤熱部１９を貫走するワイヤはエナメル塗布装置６に達
して焼付レトルト７をＵ］走し、ぞこて、塗布されたエ
ナメルが焼付番プされ、その際発生づる溶媒蒸気はリタ
ーン流通路１２の循環プロ１ノ１３で取り除かれる。そ
の後ワイヤはワイヤ冷却器８の中に達し、必要とされる
エナメル塗布条件に応じて多数回再度エナメル塗布装置
６に返送され、最後にエナメル線巻取装置の方へ送り去
られる。

このようにして、溶媒の童が１−分な場合には、加熱工
程の終わった後で、リターン流通路１２の中で生じた熱
空気に基づいて、外部エネルギの供給を受けることなく
自己保持的な運転が保証され、一方、溶媒の熱は触媒に
助けられて乾燥および焼付工程のために利用される。焼
付工程を確実に保持するためと、爆発限界を越えるのを
防止するためにも、１ツイヤ引込１」１６どライ１フ引
出口３３を通じて新鮮な空気が吸引され、こうしてまた
同時に、不燃１／ｌ−有毒溶媒蒸気の周囲環境への漏出
が事実上防１にされる。

正常な運転条イ！１の下では、このような装置を用い、
溶媒のエネルギに基づいて、そしてまた、加熱シスブム
に助番プられて、エノーメル線を常に一定の品質水準に
保つために必要とされる均一な工程条イ１が守られる。

ソイ１７の断線またはワイヤの引きちぎれに基づく工程
条件の変動をさらに抑制するためには、第３図ないし第
５図に従っ−Ｃ、リターン流通路に分岐回流路３５を配
設し、それを通じで、リターン流通路１２の中に回流す
る熱風の部分流を触ｔｓ８の後方に分流させ、触媒の前
方で肉びリターン流通路１２に供給する。回流路３５に
は循環プロワ３６が配設される。分流され再度供給され
た熱風Ｅ　＝ｋ　’）　、　ｍ　’ＩＩ−１８＠　ｍ　
ｍ　Ｌ　Ｔ　＜　６　熱Ｊ’ｆｄ　（７）　ｆｆｌ　ｌ
ｆｉ　増加、　、＋し、これが、溶媒のＭが変化しない
場合に、した　（かってまたＩ４ｔ！進行中の溶媒のエ
ネルギが一定に保たれている場合に、触媒１８の前と後
ろの熱風間の温度差を減じるように作用する。

第３図に基づいた実施例の場合には、分流された部分流
のリターン流通路１２への供給は直接触！！１８の前で
行なわれる。第４図に示した代わりの実施例の場合に【
よ、熱風の分流された部分流の供給は加熱システムの前
で行なわれ、これに対して第５図に基づく変形実施例の
場合には、分流された部分流は混合区域の前でリターン
流通路１２に供給される。第４図に基づ〈実施例の４Ｒ
造、つまり、加熱システム４の前に部分流を導く構造は
、溶媒−［記の一部が加熱システム流通時に既に燃焼し
ていることを４算に入れており、シＩＣがって、回流空
気を加熱システムの前で焼ト１し１−ルトのリターン流
通路１２に供給することは目的に適っている。特に、混
合区域の前に部分流を供給する、第５図に基づ〈実施例
は特に目的に適ったものであり、これにより、リターン
流通路１２の中におりる空気温度と空気速度の最良の均
一化が得られる。

第３図ないし第５図にさらに見られるように、回流通路
３３５５の中には弁３７が設りられているが、これに変
えてスライド弁を設けることもできる。

この弁により空気の回流が制御され、また、焼付し１〜
ルト７の乾燥室と焼付室の温度も制御される。

弁３７、またはスライド弁による制御の代わりに、循環
ブロワの回転数を変えることによっても回流空気の争を
調節できる。制御は、乾燥室または焼付室中の、図示さ
れていない温度センサによって検知された温度に依存す
るか、または、たとえば火炎イオン化検出器のような溶
媒泪測器によるかの、いずれかによって行なわれる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、］−ナメル綿製造装買の概要図である。 第２図は、炉の概略断面構成図である。 第３図は、リターン流路部の回流導路概略構成図である
。 第４図は、回流導路の伯の配列を示′ｔＪ４Ｉ！ｉｌ略
構成図である。 第５図は、第３図および第４図による回流路のさらに別
の配列を示す概略構成図である。 図において、１はソイＶ送出部、２はワイヤ巻取部、３
はソイＶ引出装置、５はエナメル焼付路、１９は赤熱部
、６はエナメル塗布装置、７は焼イ４レトルト、８はワ
イヤ冷却装置、１２はリターン通路、１３は循環ブロワ
、１ｏは乾燥Ｔ、１゛１は焼付室、１６はワイヤ引込口
、１７は混合区域、６は混合区域、４は加熱システム、
１８は触媒、２０は有孔羽根板、１１は乾燥室、２２．
２３は排ガスパイプ、２４は別の触媒、２６は弁、２７
は蒸気発生器、２８は蒸気導管、３０はワイヤ冷ｆｉｌ
ｌ器、３１は圧力ブロワ、３２は吸引ブロワ、Ｓ３３は
ワイヤの出口、３５は分岐回流路、３６は循環ブロワ、
３７は弁である。 第１頁の続き ＠発明者　へルベルト・ベルトボ ルト オーストリ−ア国、ドイチェランズベルクヵールーフブ
マンーシュトラーセ、４

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　エナメルでコートされＩこ１ツイヤの乾燥ど焼
   付けが、焼イ」レトル１〜のリターン流通路の中で触媒
   を通じて供給される孤立対流原理で回流させられた熱空
   気流によって行なわれるようにな−）でいる、多数ワイ
   ヤ用焼付レトルトを有づるエナメルＦｊＡ製造用焼付炉
   の焼イ」温度を制御する方法であって、 熱空気の部分流がリターン流通路の中においで触媒の後
   方で分流され、かつ触媒の前方で供給されることを特徴
   どづる方法。 （２）　リターン流通路の中で、相前後して触媒の前側
   に混合区域と加熱システムが配設されており、熱空気の
   分流された部分流と回流させられた部分流の供給が、直
   接、触媒の前、加熱システムの前、または混合区域の前
   で行なわれることを特徴とする特許請求の範囲第１頂に
   記載の方法。 （３）　部分流の回流用が、焼付湿度に依存して制御さ
   れることを特徴とする特許請求の範囲第１項または第２
   １１−ｉに記載の方法。 （４）　部分流の回流伊が、焼イ」し１〜ル１への乾燥
   区域における溶媒濃度に依存して行なわれることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項または第２項に記載の方法
   。 （５）　部分流の回流バ（が、焼（＝Ｊし１〜ル１へを
   員いて乾燥されるワイＡ〕の数に依存して制御されるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項または第２項に記
   載の方法。 （６）　部分流の回流ｍが、部分流用の循環１日ソの回
   転数、または回流通路中に設（）られた制御弁によって
   行なわれることを特徴とする特許請求の範囲第１　Ｊｉ
   に記載の方法。 （７）　乾燥区域と焼イ」区域を設（プだ多数ワイヤ用
   焼イリレトルトを有する、エナメル線製造装置用焼イ１
   炉であって、４ナメル塗（ｆｉ装置に続いて配設されて
   おり、焼付レトルトを貫いて供給されるワイヤに、孤立
   対流原理により、ブロワを用いて熱空気流を回流させる
   リターン流通路を有し、その通路には相前後して、混合
   区域と、加熱システムと、熱空気中で分離された溶媒［
   二記および分解生成物を燃焼させるための触媒とが設け
   られていて、 触媒（１８）の背後でリターン流通路（１２）から分岐
   し、その前部のところで再度リターン流通路に合流して
   いる回流通路（３５）が設【プられることを特徴、とす
   る焼付炉。 （８）　回流通路（３５）の中で循環ブロワ（３６）が
   設番プられることを特徴とする特許請求の範囲第７項に
   記載の焼付炉。 （９）　対流させられ！ζ部分流を制御するための装置
   が設けられており、その装置が、乾燥区域または焼付区
   域中に少なくとも１個の温度センサを、または、焼付レ
   トルト（７）の乾燥区域に溶媒測定装置を備えることを
   特徴とする特許請求の範囲第７項に記載の焼付炉。 （１０）　制御装置が、回流通路（３５）の中に配設さ
   れた循環ブロワ（３６）の回転数可変モータに作用を及
   ぼづことを特徴とする特許請求の範囲第９項に記載の焼
   付炉。 （１’ｌ　）　制御装置が、回流通路（３５〉に設けら
   れた弁（３７）に、または、分流された部分流の制御用
   スライド弁に作用を及ば１ことを特徴とする特許請求の
   範囲第９項に記載の焼付炉。 （１２）　回流通路（３５）が直接、触媒（１８）の前
   で、赤熱部（１９）の前で、または、混合区域（１８）
   の前でリターン流通路（１２）に合流していることを特
   徴とする特許請求の範囲第７項ないし第１１項のいずれ
   かに記載の焼（ｄ炉。