JPS6025532A - 高品質水溶液の製造方法 - Google Patents
高品質水溶液の製造方法Info
- Publication number
- JPS6025532A JPS6025532A JP13181283A JP13181283A JPS6025532A JP S6025532 A JPS6025532 A JP S6025532A JP 13181283 A JP13181283 A JP 13181283A JP 13181283 A JP13181283 A JP 13181283A JP S6025532 A JPS6025532 A JP S6025532A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pure water
- aqueous solution
- vapor
- less
- impurities
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発Ｆ！Ａは、例えば、アンモニア、塩化水素、フッ化
水素等の、高品質水溶液を製造し、供給する方法に関す
る。
水素等の、高品質水溶液を製造し、供給する方法に関す
る。
従来技術
近年、電子工業や分析等の分野如おいて、アンモニア水
、塩酸、フッ化水素酸等の水溶液について、より高品質
の製品が望まれている。このような水溶液において、特
に厳重に管理されるべき不純物は、金属類及び微粒子類
である。従来、これらの高品質水溶液は、原料となる水
溶液を蒸留し、生成する蒸気を精製した水に吸収させる
ことによりて所定濃度の水溶液を得、次いでこれを再度
精密ｐ過後、所定量づつ試薬びんに小分けされてｆ４ｃ
給されていた。
、塩酸、フッ化水素酸等の水溶液について、より高品質
の製品が望まれている。このような水溶液において、特
に厳重に管理されるべき不純物は、金属類及び微粒子類
である。従来、これらの高品質水溶液は、原料となる水
溶液を蒸留し、生成する蒸気を精製した水に吸収させる
ことによりて所定濃度の水溶液を得、次いでこれを再度
精密ｐ過後、所定量づつ試薬びんに小分けされてｆ４ｃ
給されていた。
しかしながら、従来の方法では、原料水溶液中の金属、
微粒子類は、蒸留操作を実施しても、液滴同伴等のため
微量の混入は避けられ彦い。更に、試薬びんにつめる過
程及び試薬びんからの取シ出しの過程において、空気中
から微粒子類や金Ｍ ’１１４等の混入の可能性があシ
、かつ試薬びんに保存中においてはびんからも不純物が
徽景溶出する。更に、前述の如き水溶液の製造、供給の
操作では、清浄な手袋の着用を必要とし、捷た望ましく
け、クリーンルーム内で行う等の細心の注意を必要とす
る。また、試薬びんは、不純物の溶出をできるだけ減少
させるため、回収され、再使用されるのが通常であシ、
これらの操作は非常な労力と煩雑さを必要とする。しか
して、このような点に留意しても、上記の如き不純物混
入の可能性が本質的に存在しているために、現状におけ
る高品質水溶液中の不純物濃度は、例えば、塩酸中のＦ
ｓを例にとれは、約２００１）Ｐｂ程度に留まっている
。
微粒子類は、蒸留操作を実施しても、液滴同伴等のため
微量の混入は避けられ彦い。更に、試薬びんにつめる過
程及び試薬びんからの取シ出しの過程において、空気中
から微粒子類や金Ｍ ’１１４等の混入の可能性があシ
、かつ試薬びんに保存中においてはびんからも不純物が
徽景溶出する。更に、前述の如き水溶液の製造、供給の
操作では、清浄な手袋の着用を必要とし、捷た望ましく
け、クリーンルーム内で行う等の細心の注意を必要とす
る。また、試薬びんは、不純物の溶出をできるだけ減少
させるため、回収され、再使用されるのが通常であシ、
これらの操作は非常な労力と煩雑さを必要とする。しか
して、このような点に留意しても、上記の如き不純物混
入の可能性が本質的に存在しているために、現状におけ
る高品質水溶液中の不純物濃度は、例えば、塩酸中のＦ
ｓを例にとれは、約２００１）Ｐｂ程度に留まっている
。
発明の目的
本発明の主要な目的は、これらの不純物の混入の可能性
を無くすることによって・不純物濃度を著るしく低減し
た高品質水溶液ｆ−製造し、供給する方法を提供するこ
とＫあシ、更にこれらの水溶液を取扱う際の前述した如
き困＃全解消することにある。
を無くすることによって・不純物濃度を著るしく低減し
た高品質水溶液ｆ−製造し、供給する方法を提供するこ
とＫあシ、更にこれらの水溶液を取扱う際の前述した如
き困＃全解消することにある。
発明の構成
本発明によれば、含有される金属類の合計が０、５ ｐ
ｐｍ以下でかつ０．２μ以上の粒径の微粒子が２００個
／ｍｌ以下である高品質水溶液ｆ：製造し、供給する方
法が提供されるのであって、この方法は、使用場所にお
いて、純度９９．５１以上の液化ガスを蒸発させて実質
上不純分を含まない蒸気とし、この蒸気を比抵抗が５Ｍ
Ω以上でかつ含有される０、２μ以上の粒径の微粒子が
２００個／ｍ６以下である純水（吸収させ、このように
して得られた水溶液をそのまま使用に供することを特徴
とする。
ｐｍ以下でかつ０．２μ以上の粒径の微粒子が２００個
／ｍｌ以下である高品質水溶液ｆ：製造し、供給する方
法が提供されるのであって、この方法は、使用場所にお
いて、純度９９．５１以上の液化ガスを蒸発させて実質
上不純分を含まない蒸気とし、この蒸気を比抵抗が５Ｍ
Ω以上でかつ含有される０、２μ以上の粒径の微粒子が
２００個／ｍ６以下である純水（吸収させ、このように
して得られた水溶液をそのまま使用に供することを特徴
とする。
発明の構成の具体的説明
本発明の方法は、即ち、使用場所において、目的とする
水溶液の溶質成分、例えば、アンモニア、塩化水素又は
フッ化水素等の液化ガスを気化させて、実質上不純物を
含まない蒸気を得、これを高純水に吸収させることによ
って、所定濃度の高品質水溶液を得る方法である。ここ
に、実質上不純分を含まない蒸気とは、金属類の合計が
２００１）Ｐｂ以下でかつ０．２μ以上の粒径の微粒子
が１００個／ｍｌ以下の蒸気をいう。また、本発明にお
いて、金属類とは、Ａｇ１Ａｚ＃ｎａ、ｃ’ａｌｃａｌ
ｃｏ、ｃｒｌｃｕｌＦａｌＫ＋Ｌｉ ＋Ｍｇ ＋Ｍｎ
、Ｎａ ＋Ｎｉ ＋ Ｐｂ ｒ Ｓｒ ＋Ｚｎ等の金属
類をいい、微粒子とは、粒径が１０μ程度以下の粒子を
いう（ＪＩＳＺ８１２２）。高純水とは、比抵抗が５Ｍ
Ω以上でかつ含有される０、２μ以上の粒径の微粒子が
２００個／ ｍｌ以下である純水をいう。謂に、水溶液
とは、高純水が２〜９０重量％、即ち、溶質濃度が１０
〜９８重量％のものをいう。
水溶液の溶質成分、例えば、アンモニア、塩化水素又は
フッ化水素等の液化ガスを気化させて、実質上不純物を
含まない蒸気を得、これを高純水に吸収させることによ
って、所定濃度の高品質水溶液を得る方法である。ここ
に、実質上不純分を含まない蒸気とは、金属類の合計が
２００１）Ｐｂ以下でかつ０．２μ以上の粒径の微粒子
が１００個／ｍｌ以下の蒸気をいう。また、本発明にお
いて、金属類とは、Ａｇ１Ａｚ＃ｎａ、ｃ’ａｌｃａｌ
ｃｏ、ｃｒｌｃｕｌＦａｌＫ＋Ｌｉ ＋Ｍｇ ＋Ｍｎ
、Ｎａ ＋Ｎｉ ＋ Ｐｂ ｒ Ｓｒ ＋Ｚｎ等の金属
類をいい、微粒子とは、粒径が１０μ程度以下の粒子を
いう（ＪＩＳＺ８１２２）。高純水とは、比抵抗が５Ｍ
Ω以上でかつ含有される０、２μ以上の粒径の微粒子が
２００個／ ｍｌ以下である純水をいう。謂に、水溶液
とは、高純水が２〜９０重量％、即ち、溶質濃度が１０
〜９８重量％のものをいう。
目的とする溶質成分は、通常液化されてボンベ内に保持
されておシ、これを気化させることにより当該成分の蒸
気が容易に得られる。ボンベ内の液中の不純物（金属類
、微粒子類）は、気化の際はとんど液中に残留し、蒸気
中にはほとんど流出してこないけれども、液滴を同伴す
る場合には不純物の混入が見込まれるので、これを防止
するため蒸気の流出速度を管理するとともに、必要に応
じてミストキャッチャ−やフィルターを設値し、更に使
用する液化ガスの純度をよシ高く、好ましくは９９．５
％以上に保持するのが望ましい。また、本発明方法の実
施に際しては、ぎンペ中の液化ガスは、５〜１０％程度
のガスが未だ残留している状態で新たながンペの液化ガ
スと切換交換されるのがよい。がンベ中の液化ガスの残
留分があまシ少なくなると、液化ガスの純度の急激な低
下により、得られる水溶液の純度が低下する恐れがある
。
されておシ、これを気化させることにより当該成分の蒸
気が容易に得られる。ボンベ内の液中の不純物（金属類
、微粒子類）は、気化の際はとんど液中に残留し、蒸気
中にはほとんど流出してこないけれども、液滴を同伴す
る場合には不純物の混入が見込まれるので、これを防止
するため蒸気の流出速度を管理するとともに、必要に応
じてミストキャッチャ−やフィルターを設値し、更に使
用する液化ガスの純度をよシ高く、好ましくは９９．５
％以上に保持するのが望ましい。また、本発明方法の実
施に際しては、ぎンペ中の液化ガスは、５〜１０％程度
のガスが未だ残留している状態で新たながンペの液化ガ
スと切換交換されるのがよい。がンベ中の液化ガスの残
留分があまシ少なくなると、液化ガスの純度の急激な低
下により、得られる水溶液の純度が低下する恐れがある
。
本発明の方法で用いられる純水は、比抵抗が５ＭΩ以上
で、含有される０、２μ以上の粒径の微粒子が２００個
／ｄ以下である、いわゆる高純水であシ、このような高
純水の品質は得られる水溶液に所望される品質等により
決定される。比抵抗が１６ＭΩ以上で、含有される０２
μ以上の粒径の微粒子が５０個／ｍｌ以下である、いわ
ゆる超純水を用いることは、よシ好ましいことである。
で、含有される０、２μ以上の粒径の微粒子が２００個
／ｄ以下である、いわゆる高純水であシ、このような高
純水の品質は得られる水溶液に所望される品質等により
決定される。比抵抗が１６ＭΩ以上で、含有される０２
μ以上の粒径の微粒子が５０個／ｍｌ以下である、いわ
ゆる超純水を用いることは、よシ好ましいことである。
使用場所において、純度９９．５％以上の液化ガスを気
化させて蒸気化し、この気化時に液滴の同伴を防止する
ため流出速度を管理したシ、場合によってはフィルター
等を設置し、更にボンベ中の液化ガスは５〜１０％程度
のガスを残すような方法等によシ、実質上不純分を含ま
ない蒸気、即ち金属類の合計が２００ ｐｐｂ以下でか
つ０．２μ以上の粒径の微粒子が１００個／ ｍｌ以下
の蒸気を得る。この蒸気の品質であれば、吸収させる純
水中の不純物の量を高純水の品質とし、所定濃度の高品
質水溶液を製造する装置、例えば第１図の如き装置の容
器からの不純分の溶出が微量あっても、本発明では、含
有される金属類の合計が０．５ ｐｐｍ以下でかつ０．
２μ以上の粒径の微粒子が２００個／ｍｌ以下である高
品質水溶液全製造し、供給されるのである。
化させて蒸気化し、この気化時に液滴の同伴を防止する
ため流出速度を管理したシ、場合によってはフィルター
等を設置し、更にボンベ中の液化ガスは５〜１０％程度
のガスを残すような方法等によシ、実質上不純分を含ま
ない蒸気、即ち金属類の合計が２００ ｐｐｂ以下でか
つ０．２μ以上の粒径の微粒子が１００個／ ｍｌ以下
の蒸気を得る。この蒸気の品質であれば、吸収させる純
水中の不純物の量を高純水の品質とし、所定濃度の高品
質水溶液を製造する装置、例えば第１図の如き装置の容
器からの不純分の溶出が微量あっても、本発明では、含
有される金属類の合計が０．５ ｐｐｍ以下でかつ０．
２μ以上の粒径の微粒子が２００個／ｍｌ以下である高
品質水溶液全製造し、供給されるのである。
常に一定濃度の水溶液を得る方法としては、一定量の高
純水に目的とする溶質成分の蒸気を所定量吸収さ・せる
方法、又は高純水と蒸気とを一定量づつ同時に流すこと
によって所定濃度を得る方法等があシ、−例として前者
の場合に用いることのできる装置全第１図に示す。第１
図において、液化ガスボンベ１よシ溶質成分の蒸気が、
好ましくはフィルター７全介して、よく管理された所定
流量をもって、所定量の高純水が満たされた吸収器３中
に導入される。この高純水は高純水供給ライン２よシ供
給される。ガス供給ラインには逆流防止均圧ライン５が
設けられ、また吸収器３には溶解熱冷却器４及びレペル
ダージ６が付設されている。このようにして所定時間ガ
スを導入すれば吸収器中において所定濃度の水溶液が調
製され、これをコ、り８よシ取シ出して直接使用に供す
ることができる。
純水に目的とする溶質成分の蒸気を所定量吸収さ・せる
方法、又は高純水と蒸気とを一定量づつ同時に流すこと
によって所定濃度を得る方法等があシ、−例として前者
の場合に用いることのできる装置全第１図に示す。第１
図において、液化ガスボンベ１よシ溶質成分の蒸気が、
好ましくはフィルター７全介して、よく管理された所定
流量をもって、所定量の高純水が満たされた吸収器３中
に導入される。この高純水は高純水供給ライン２よシ供
給される。ガス供給ラインには逆流防止均圧ライン５が
設けられ、また吸収器３には溶解熱冷却器４及びレペル
ダージ６が付設されている。このようにして所定時間ガ
スを導入すれば吸収器中において所定濃度の水溶液が調
製され、これをコ、り８よシ取シ出して直接使用に供す
ることができる。
これらの方法乃至装置”は、所望によシ、例えば、ブタ
ンを押すだけでいつでも所定濃度の液が所定量得られる
ことを可能にするような自動化も可能である。また、装
置の月質としては、目的とする水溶液に浸されないもの
−例えば、テフロンもしくはテフロンコーティング、タ
ンタルもしくはそのライニング等があり、目的とする水
溶液の種類によシ選択することができる。
ンを押すだけでいつでも所定濃度の液が所定量得られる
ことを可能にするような自動化も可能である。また、装
置の月質としては、目的とする水溶液に浸されないもの
−例えば、テフロンもしくはテフロンコーティング、タ
ンタルもしくはそのライニング等があり、目的とする水
溶液の種類によシ選択することができる。
本発明の方法によれば、目的とする水溶液を使用する場
所において調製することを可能とし、試薬びんを使用す
ること等によって生ずるその後の不純物混入の可能性を
解消することができ、従来よシもはるかに高品質の水溶
液を容易に入手し、使用することができる。
所において調製することを可能とし、試薬びんを使用す
ること等によって生ずるその後の不純物混入の可能性を
解消することができ、従来よシもはるかに高品質の水溶
液を容易に入手し、使用することができる。
実施例
以下、実施例を挙げ、本発明を更に説明する。
例１
純度９９．９９９％以上で、Ｆｅ分１００ ｐｐｂの液
化アンモニアヲキンベよシ蒸発させ、第１図に示す如き
装着を用いて、比抵抗１８ＭΩ、０．２μ以上の微粒子
２０個／ｍｌの超純水に吸収させ、０度２９係のアンモ
ニア水を調製した。ボンベよシのガスの流Ｒｔ３Ｌ／ｍ
ｉｎとし、２８０ｇの超純水に約１時間通した。そして
、その除、吸収器全体を水浴で冷却して、吸収器の温度
が常温以下に保持されるようにした。
化アンモニアヲキンベよシ蒸発させ、第１図に示す如き
装着を用いて、比抵抗１８ＭΩ、０．２μ以上の微粒子
２０個／ｍｌの超純水に吸収させ、０度２９係のアンモ
ニア水を調製した。ボンベよシのガスの流Ｒｔ３Ｌ／ｍ
ｉｎとし、２８０ｇの超純水に約１時間通した。そして
、その除、吸収器全体を水浴で冷却して、吸収器の温度
が常温以下に保持されるようにした。
得られたアンモニア水中のＦｅはｉ ｐＰｂであシ、粒
径０．２μ以上のダストは３０個／ｒｎｌであった。
径０．２μ以上のダストは３０個／ｒｎｌであった。
比較のため、下記に得られたアンモニア水の分析値と現
在の電子工業用のアンモニア水の分析値とを示す。
在の電子工業用のアンモニア水の分析値とを示す。
不純物 市販の電子工業用ア 本方法にょるンモニア水
（高純度品） アンモニア水Ｆｅ・１０〜３０ｐｐｂ１
ｐｐｈ Ｎａ １００〜２００ｐｐｂ ］ ｐｐｈＺｎ ５００
〜６００ ｐｐｂ ］ ｐｐｂＣｕ １（１〜３０ｐｐ
ｂ ］、ｐｐｂ微粒子 ３００〜４００個／ ｍｌ ３
０ 個／Ｉｎｌ※ 粒径０．２μ以上の微粒子。
（高純度品） アンモニア水Ｆｅ・１０〜３０ｐｐｂ１
ｐｐｈ Ｎａ １００〜２００ｐｐｂ ］ ｐｐｈＺｎ ５００
〜６００ ｐｐｂ ］ ｐｐｂＣｕ １（１〜３０ｐｐ
ｂ ］、ｐｐｂ微粒子 ３００〜４００個／ ｍｌ ３
０ 個／Ｉｎｌ※ 粒径０．２μ以上の微粒子。
例２
純度９９．９９９％以上で、Ｆｅ分１２０ ｐｐｂの液
化塩化水素を蒸発させ、例１と同様にして、例１で用い
たと同品質の超純水に吸収させ、濃度３５チの塩酸を調
製した。ボンベよシのガスの流量を０、９１ ／ ｍｉ
ｎとし、−６５０＃の超純水に約４時間通した。吸収器
全体を水浴で冷却して、吸収器の温度が常温以下に保持
されるようにした。
化塩化水素を蒸発させ、例１と同様にして、例１で用い
たと同品質の超純水に吸収させ、濃度３５チの塩酸を調
製した。ボンベよシのガスの流量を０、９１ ／ ｍｉ
ｎとし、−６５０＃の超純水に約４時間通した。吸収器
全体を水浴で冷却して、吸収器の温度が常温以下に保持
されるようにした。
得られた塩酸は、下記の如く、市販の電子工業用塩酸の
高純度品よシもはるかに高品質のものであった。
高純度品よシもはるかに高品質のものであった。
不純物 市販の電子工朶用塩 本方法による酸・（高純
度品） 塩酸 Ｆｅ ５０〜１００ ｐｐｂ ５ ｐｐｂＮａ ４００
〜５００ ｐｐｂ ３ ｐｐｂＺｎ １００〜２００
ｐｐｂ ２ ｐｐｂＣｕ ５０〜１００ｐｐｂ １ｐｐ
ｂ 微ｉ子 １，０００〜２，０００（ｖ箇 ３０個／ｍｌ
※ 粒径０．２μ以上の微粒子。
度品） 塩酸 Ｆｅ ５０〜１００ ｐｐｂ ５ ｐｐｂＮａ ４００
〜５００ ｐｐｂ ３ ｐｐｂＺｎ １００〜２００
ｐｐｂ ２ ｐｐｂＣｕ ５０〜１００ｐｐｂ １ｐｐ
ｂ 微ｉ子 １，０００〜２，０００（ｖ箇 ３０個／ｍｌ
※ 粒径０．２μ以上の微粒子。
第１図は本発明の方法を実施するのに有用な装置の一例
を示す模式図である。図において、１は液化ガスボンベ
、２Ｉｉ超純水供給ライン、３は吸収器、４は溶解熱冷
却器、５は逆流防止均圧ライン、６はレベルｒ−ジ、７
にフィルター、８Ｕコツクを示す。
を示す模式図である。図において、１は液化ガスボンベ
、２Ｉｉ超純水供給ライン、３は吸収器、４は溶解熱冷
却器、５は逆流防止均圧ライン、６はレベルｒ−ジ、７
にフィルター、８Ｕコツクを示す。
Claims (1)
- 含有される金属類の合計が０．５ｐｐｍ以下でかつ０．
２μ以上の粒径の微粒子が２００個／ｄ以下である高品
質水溶液を製造し、供給する方法であって、使用場所に
おいて、純度９９．５１以上の液化ガス′（ｉ−蒸発さ
せて実質上不純分を含まない蒸気とし、この蒸気を比抵
抗が５ＭΩ以上でかつ含有される０、２μ以上の粒径の
微粒子が２００個／ｍｌ以下である純水に吸収させ、こ
のようにして得られた水溶液をそのまま使用に供するこ
とを特徴とする方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13181283A JPS6025532A (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | 高品質水溶液の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13181283A JPS6025532A (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | 高品質水溶液の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6025532A true JPS6025532A (ja) | 1985-02-08 |
| JPS6210683B2 JPS6210683B2 (ja) | 1987-03-07 |
Family
ID=15066680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13181283A Granted JPS6025532A (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | 高品質水溶液の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6025532A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6259521A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-16 | Mitsubishi Metal Corp | アンモニア水製造装置 |
| JPS6259522A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-16 | Mitsubishi Metal Corp | アンモニア水製造装置 |
| JPS6259523A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-16 | Mitsubishi Metal Corp | アンモニア水製造装置 |
| JPS6259520A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-16 | Mitsubishi Metal Corp | アンモニア水製造装置 |
| CN106139939A (zh) * | 2016-04-21 | 2016-11-23 | 福建漳州久依久化工有限公司 | 一种利用蒸汽喷射器加热溶解可溶于水的物质的装置及方法 |
| CN112897467A (zh) * | 2021-03-18 | 2021-06-04 | 福建省建阳金石氟业有限公司 | 一种电子级氢氟酸的生产方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997000227A1 (fr) * | 1995-06-14 | 1997-01-03 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Procede de fabrication de produits chimiques tres purs |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55108731A (en) * | 1979-02-13 | 1980-08-21 | Fujitsu Ltd | Cleaning method |
-
1983
- 1983-07-21 JP JP13181283A patent/JPS6025532A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55108731A (en) * | 1979-02-13 | 1980-08-21 | Fujitsu Ltd | Cleaning method |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6259521A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-16 | Mitsubishi Metal Corp | アンモニア水製造装置 |
| JPS6259522A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-16 | Mitsubishi Metal Corp | アンモニア水製造装置 |
| JPS6259523A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-16 | Mitsubishi Metal Corp | アンモニア水製造装置 |
| JPS6259520A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-16 | Mitsubishi Metal Corp | アンモニア水製造装置 |
| JPH0569772B2 (ja) * | 1985-09-09 | 1993-10-01 | Mitsubishi Materials Corp | |
| JPH0569774B2 (ja) * | 1985-09-09 | 1993-10-01 | Mitsubishi Materials Corp | |
| JPH0569771B2 (ja) * | 1985-09-09 | 1993-10-01 | Mitsubishi Materials Corp | |
| JPH0569773B2 (ja) * | 1985-09-09 | 1993-10-01 | Mitsubishi Materials Corp | |
| CN106139939A (zh) * | 2016-04-21 | 2016-11-23 | 福建漳州久依久化工有限公司 | 一种利用蒸汽喷射器加热溶解可溶于水的物质的装置及方法 |
| CN112897467A (zh) * | 2021-03-18 | 2021-06-04 | 福建省建阳金石氟业有限公司 | 一种电子级氢氟酸的生产方法 |
| CN112897467B (zh) * | 2021-03-18 | 2022-09-30 | 福建省建阳金石氟业有限公司 | 一种电子级氢氟酸的生产方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6210683B2 (ja) | 1987-03-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69828201T2 (de) | Verfahren zur herstellung von hochreinem silizium und vorrichtung dafür | |
| JPS62171922A (ja) | 球状二酸化チタン粒子 | |
| EP1242306A1 (de) | Verfahren zur herstellung hochreiner schwefelsäure | |
| JPH02153082A (ja) | 廃棄物ピラニア酸の再処理方法及びその装置 | |
| KR100742477B1 (ko) | 고순도 염산의 제조방법 | |
| JPS6025532A (ja) | 高品質水溶液の製造方法 | |
| SE465431B (sv) | Saett att framstaella zirkonium eller hafnium vid vilket en tetraklorid av metallen reduceras med magnesium | |
| US3904494A (en) | Effluent gas recycling and recovery in electrolytic cells for production of aluminum from aluminum chloride | |
| US4402741A (en) | Process for the precise and continuous injection of a halogenated derivative in the gaseous state into a liquid metal | |
| Volk et al. | Microdetermination of silicon in plants | |
| FR2641269A1 (fr) | Procede continu de separation d'impuretes d'avec du chlorure de zirconium et/ou de hafnium a l'etat de vapeur | |
| US2818350A (en) | Preparing alkali metal coated carrier particles | |
| AT504602A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung wasserfreier seltenerdhalogenide von kristallqualität | |
| Burstall et al. | 273. Inorganic chromatography on cellulose. Part XI. A study on the separation of tantalum from niobium and its application to quantitative analysis | |
| KR100687214B1 (ko) | 고순도 6불화텅스텐의 정제방법 | |
| Ishibashi et al. | On Concentrating Rubidium and Cesium from a Large Volume of Aqueous Solution | |
| Baxter et al. | A REVISION OF THE ATOMIC WEIGHT OF SILICON. THE ANALYSIS OF SILICON TETRACHLORIDE. Preliminary Paper. | |
| Kumari et al. | Precipitation: A Part of Gravimetric Analysis-A Review | |
| JPS5947744A (ja) | Ｉｃパツケ−ジ用フイラ−材 | |
| Monk et al. | Determination of beryllium by means of hexamminecobalt (III) carbonatoberyllate—II: high-precision indirect determination of beryllium by titration of cobalt with edta | |
| JPH05255140A (ja) | メチレンクロライド | |
| JPH06171909A (ja) | イオウ精製法 | |
| Ishibashi et al. | On Concentrating Rubidium and Cesium from a Large Volume | |
| Richards et al. | A REVISION OF THE ATOMIC WEIGHT OF CALCIUM. I. ANALYSIS OF CALCIUM BROMIDE. | |
| Pugachevich | Work with alkali metals. |