JPS60252473A - 2‐アミノチアゾール誘導体 - Google Patents
2‐アミノチアゾール誘導体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、2−アミノチアゾール誘導体、さらに詳しく
は、次の一般式 〔式中、R1は低級アルギル基を示す。〕で表わされる
2−アミノチアゾール誘導体(シン異性体)に関する。
は、次の一般式 〔式中、R1は低級アルギル基を示す。〕で表わされる
2−アミノチアゾール誘導体(シン異性体)に関する。
本発明者らは、既に、一般式
で表わされるセファロスポリン(シン異性体)およびそ
の塩が抗菌剤として極めて有用な化合物であることを見
出し、先に特許出願した(特開昭57−99592号、
同59−93085号、同59−193893号、同6
0−4191号、同60−6694号)。
の塩が抗菌剤として極めて有用な化合物であることを見
出し、先に特許出願した(特開昭57−99592号、
同59−93085号、同59−193893号、同6
0−4191号、同60−6694号)。
本発明の目的は、優れた抗菌スペクトルを有すル一般式
〔■〕のセファロスポリン(シン異性体)またはその塩
の有用な中間体である一般式CI]の新規な化合物(シ
ン異性体)を提供することにある。
〔■〕のセファロスポリン(シン異性体)またはその塩
の有用な中間体である一般式CI]の新規な化合物(シ
ン異性体)を提供することにある。
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結
果、遊離のアミノ基を有する一般式[0で表わされる2
−アミノチアゾール誘導体(シン異性体)を三弗化硼素
またはその錯化合物の存在下に一般式 c式中、R2およびR3は前記と同じ意味を有する。〕
の化合物と反応させることによって、はじめて一般式[
III]のセファロスポリン(シン異性体)マタはその
塩が高収率にかつ容易に得られることを見出し、本発明
を完成するに至ったものである。
果、遊離のアミノ基を有する一般式[0で表わされる2
−アミノチアゾール誘導体(シン異性体)を三弗化硼素
またはその錯化合物の存在下に一般式 c式中、R2およびR3は前記と同じ意味を有する。〕
の化合物と反応させることによって、はじめて一般式[
III]のセファロスポリン(シン異性体)マタはその
塩が高収率にかつ容易に得られることを見出し、本発明
を完成するに至ったものである。
以下1本発明の詳細な説明する。
一般式[I)におけるR1の低級アルキル基とは直鎖ま
たは分枝鎖状C1〜5アルキル、たとえば、メチつぎに
、一般式〔I〕の化合物の製造法について説明する。こ
の化合物lI′i、たとえば、下に示す製造法に従って
製造すること〃工できる。
たは分枝鎖状C1〜5アルキル、たとえば、メチつぎに
、一般式〔I〕の化合物の製造法について説明する。こ
の化合物lI′i、たとえば、下に示す製造法に従って
製造すること〃工できる。
一般式〔v〕のニトロソ体は、一般式〔■〕の化合物に
ニトロソ化剤を反応させることによって得ることができ
る。
ニトロソ化剤を反応させることによって得ることができ
る。
この反応は、通常溶媒中で行われ、使用される溶媒とし
ては、たとえば、水、酢酸、ベンゼン、メタノール、エ
タノール−テトラヒドロフランなどの反応に不活性な溶
媒が挙げられる。
ては、たとえば、水、酢酸、ベンゼン、メタノール、エ
タノール−テトラヒドロフランなどの反応に不活性な溶
媒が挙げられる。
1だ、これらの溶媒を二種以上混合して用いることもで
きる。
きる。
つぎに、この反応で使用される好ましいニトロソ化剤と
しては、亜硝酸およびその誘導体、タトえば、塩化ニト
ロシル、A化ニトロシルなどのハロゲン化ニトロシル;
亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウムなどの亜硝酸アルカ
リ金属塩;亜硝酸ブチルエステル、亜硝酸ペンチルエス
テルなどの亜硝酸アルキルエステルなどが挙げられる。
しては、亜硝酸およびその誘導体、タトえば、塩化ニト
ロシル、A化ニトロシルなどのハロゲン化ニトロシル;
亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウムなどの亜硝酸アルカ
リ金属塩;亜硝酸ブチルエステル、亜硝酸ペンチルエス
テルなどの亜硝酸アルキルエステルなどが挙げられる。
ニトロソ化剤として亜硝酸の塩を使用する場合には、塩
酸、硫酸、ギ酸、酢酸などの無機酸もしくは有機酸の存
在下に反応を行うのが好ましい。また、ニトロソ化剤と
して亜硝酸アルキルエステルを使用する場合には、アル
カリ金属アルコキシドのような強塩基の存在下に行うと
よい。
酸、硫酸、ギ酸、酢酸などの無機酸もしくは有機酸の存
在下に反応を行うのが好ましい。また、ニトロソ化剤と
して亜硝酸アルキルエステルを使用する場合には、アル
カリ金属アルコキシドのような強塩基の存在下に行うと
よい。
このニトロソ化反応は%0℃〜30℃で、10分〜10
時間で完了する。
時間で完了する。
(2)一般式〔VI)の化合物の製造
一般式[VI]の化合物は、一般式■〕の化合物九アル
キル化剤を反応させることによって得ることができる。
キル化剤を反応させることによって得ることができる。
このアルキル化反応は、常法に従って行うことができ、
通常−20〜60’Cで、5分〜10時間で完了する。
通常−20〜60’Cで、5分〜10時間で完了する。
ここで使用される溶媒としては、反応に悪影響を与えな
い限りいかなる溶媒でもよく、たとえば、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、クロロ
ホルム、塩化メチレン、酢酸エチル、酢酸ブチル% N
1N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセ
トアミド、水などが挙げられる。また、これらの溶媒を
二種以上混合して用いることもできる。また、使用され
るアルキル化剤としては。
い限りいかなる溶媒でもよく、たとえば、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、クロロ
ホルム、塩化メチレン、酢酸エチル、酢酸ブチル% N
1N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセ
トアミド、水などが挙げられる。また、これらの溶媒を
二種以上混合して用いることもできる。また、使用され
るアルキル化剤としては。
たとえば、ヨウ化メチル、臭化メチル、ヨウ化エチル、
臭化エチルなどのハロゲン化低級アルキル、硫酸ジメチ
ル、硫酸ジエチル、ジアゾメタン、ジアゾエタンまたB
p−トルエンスルホン酸メチルなどが挙げられる。アル
キル化剤としてジアゾメタン、ジアゾエタン以外の化合
物を使用する場合には1通常炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウムなどのアルカリ金属の炭酸塙、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物、トリエ
チルアミン、ピリジンなどの3t&の存在下に反応させ
るのがよい。
臭化エチルなどのハロゲン化低級アルキル、硫酸ジメチ
ル、硫酸ジエチル、ジアゾメタン、ジアゾエタンまたB
p−トルエンスルホン酸メチルなどが挙げられる。アル
キル化剤としてジアゾメタン、ジアゾエタン以外の化合
物を使用する場合には1通常炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウムなどのアルカリ金属の炭酸塙、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物、トリエ
チルアミン、ピリジンなどの3t&の存在下に反応させ
るのがよい。
(3) 一般式〔■〕の化合物の製造
一般式〔■〕のハロゲン体は、一般式〔■〕の化合物に
ハロゲン化剤を反応させることによって得ることができ
る。
ハロゲン化剤を反応させることによって得ることができ
る。
この反応は、通常溶媒中で行われ、使用される溶媒とし
ては、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭
化水素;酢酸、プロピオン酸などの有機酸;テトラヒド
ロフラン、ジオキサンなどのエーテルなどの反応に悪影
響を与えない溶媒が挙げられる。また、これらの溶媒を
二種以上混合して用いることもできる。
ては、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭
化水素;酢酸、プロピオン酸などの有機酸;テトラヒド
ロフラン、ジオキサンなどのエーテルなどの反応に悪影
響を与えない溶媒が挙げられる。また、これらの溶媒を
二種以上混合して用いることもできる。
このハロゲン化反志は、通常0〜50℃で。
30分〜24時間で完了する。
使用される・・ロゲンログとしては、臭素、塩素などの
ノ曳ロゲン;塩化スルフリルなどのハロゲン化スルフリ
ル;次亜塩素酸1次亜臭素酸、次亜塩素酸ナトリウムな
どの次亜ハロゲン酸またはその塩;N−ブロモスクシン
イミド、N−クロロスクシンイミド、N−ブロモフタル
イミドなどのN−ハロゲン化イミド化合物;ピリジニウ
ムハイドロブロマイド−パーブロマイド。
ノ曳ロゲン;塩化スルフリルなどのハロゲン化スルフリ
ル;次亜塩素酸1次亜臭素酸、次亜塩素酸ナトリウムな
どの次亜ハロゲン酸またはその塩;N−ブロモスクシン
イミド、N−クロロスクシンイミド、N−ブロモフタル
イミドなどのN−ハロゲン化イミド化合物;ピリジニウ
ムハイドロブロマイド−パーブロマイド。
2−カルボキシエチルトリフェニルホスホニクム・パー
ブロマイドなどのパーブロマイド化合物などが゛挙げら
れる。
ブロマイドなどのパーブロマイド化合物などが゛挙げら
れる。
(4)一般式[I)の化合物の製造
一般式[VJの化合物は、一般式〔■〕の化合物にチオ
尿素で閉環反応させること:てよって得ることができる
。この閉環反応は、通常溶媒中で行われ、使用される溶
媒としては1本反応に悪影響を与えない限りいかなるも
のでもよく、たとえば、水、メタノール、エタノール、
アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N、N−
ジメチルホルムアミド−N、N−ジメチルアセトアミド
、N−メチルビリドンなどが挙げられる。″また、これ
らの溶媒を二種以上混合して用いることもできる。
尿素で閉環反応させること:てよって得ることができる
。この閉環反応は、通常溶媒中で行われ、使用される溶
媒としては1本反応に悪影響を与えない限りいかなるも
のでもよく、たとえば、水、メタノール、エタノール、
アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N、N−
ジメチルホルムアミド−N、N−ジメチルアセトアミド
、N−メチルビリドンなどが挙げられる。″また、これ
らの溶媒を二種以上混合して用いることもできる。
また、この反応において、脱酸剤を添加すると円滑に反
応が進行することもあり、使用される脱酸剤としては、
たとえば、水酸化アルカリ金属塩、炭酸水素アルカリ金
属塩、トリエチルアミン、ピリジン、N 、 N−ジメ
チルアニリンなどの無機または有機塩基などが挙げられ
る。
応が進行することもあり、使用される脱酸剤としては、
たとえば、水酸化アルカリ金属塩、炭酸水素アルカリ金
属塩、トリエチルアミン、ピリジン、N 、 N−ジメ
チルアニリンなどの無機または有機塩基などが挙げられ
る。
反応時間は、通常1〜48時間、好ましくは1〜10時
間である。
間である。
この閉環反応は、0〜100℃の範囲で行われ、チオ尿
素は、一般式〔■〕の化合物に対して、通常1〜数倍モ
ル使用するのがよい。
素は、一般式〔■〕の化合物に対して、通常1〜数倍モ
ル使用するのがよい。
以上のようにして、一般式(I)のチアゾール(ヒ合物
のシン異性体を選択的に、高収率かつ安価に得ることが
できる。
のシン異性体を選択的に、高収率かつ安価に得ることが
できる。
つぎに、本発明を実施例および参考例を挙げて説明する
が、本発明は、これに限定されるものでは力い。
が、本発明は、これに限定されるものでは力い。
実施例1
(1) アセト酢酸アミド10,1りを水35−に溶解
させ、水冷下、亜硝酸ナトリウム6.9fを加えて、0
〜5℃で嫌拌下に4N=硫酸25wtを30分を要して
滴下する。滴下終了後、同温度で30分間反応させた後
、飽和炭酸水素す)tllラム溶液でpH6,0に調整
する。
させ、水冷下、亜硝酸ナトリウム6.9fを加えて、0
〜5℃で嫌拌下に4N=硫酸25wtを30分を要して
滴下する。滴下終了後、同温度で30分間反応させた後
、飽和炭酸水素す)tllラム溶液でpH6,0に調整
する。
不溶物を除去した後、減圧下に水を留去し。
得られた残留物に酢酸エチル20m/を加えて析出結晶
を戸数すれば、融点96〜97℃を示す2−ヒドロキシ
イミノ−3−オキソ酪酸アミド8.65’(収率66.
2幅)を得る。
を戸数すれば、融点96〜97℃を示す2−ヒドロキシ
イミノ−3−オキソ酪酸アミド8.65’(収率66.
2幅)を得る。
I R(KB r )c、1−1;νc=o 167O
NMR(de−DMS O)δ値; 2.26 (3H,s 、CH3CO)。
NMR(de−DMS O)δ値; 2.26 (3H,s 、CH3CO)。
12.60 (IN(、s 、=N−皿 )(2)2−
ヒドロキシイミノ−3−オキソ酪酸アミド65?および
無水炭酸ナトリウム5.61を20℃で水20ゴに溶解
させる。さらに1.硫酸ジメチル6.62を20〜25
℃で加えて、同温度で2時間攪拌する。ついで、析出物
を戸数し。
ヒドロキシイミノ−3−オキソ酪酸アミド65?および
無水炭酸ナトリウム5.61を20℃で水20ゴに溶解
させる。さらに1.硫酸ジメチル6.62を20〜25
℃で加えて、同温度で2時間攪拌する。ついで、析出物
を戸数し。
得られた析出物にメタノールLOOmlを加えて40〜
50℃で30分間攪拌する。ついで、不溶物を除去した
後、減圧下て溶媒を留去し、得られた残留物にエタノー
ル20艷を加えて結晶を戸数すれば、融点156〜15
7℃の2−(シン)−メトキシイミノー3−オキソ酪酸
アミド5.2y(収率72.2係)を得る。
50℃で30分間攪拌する。ついで、不溶物を除去した
後、減圧下て溶媒を留去し、得られた残留物にエタノー
ル20艷を加えて結晶を戸数すれば、融点156〜15
7℃の2−(シン)−メトキシイミノー3−オキソ酪酸
アミド5.2y(収率72.2係)を得る。
I R(K B r ) (gl−” : νc=o
1700,167ONMR(de−DMS O)δ値; 2.26(3H,s、CH3CO) 。
1700,167ONMR(de−DMS O)δ値; 2.26(3H,s、CH3CO) 。
3.96(3H,s、−0CHa)。
(312−(シン)−メトキシイミノ−3−オキソ酪酸
アミド7.22をテトラヒドロフラン361itに懸濁
させ、40℃で臭素0.82を攪拌下に加える。臭素に
よる着色が消失するのを確認した後、25〜30℃で、
さら【臭素7.21を攪拌下に加える。同温度で1時間
反応させた後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残渣
に酢酸エチル50m1および水20m/を加え、飽和炭
酸水素す) +)ラム水溶液でpH6,0に調整した後
、有機層を分取し、飽和食塩水20!ntで洗浄する。
アミド7.22をテトラヒドロフラン361itに懸濁
させ、40℃で臭素0.82を攪拌下に加える。臭素に
よる着色が消失するのを確認した後、25〜30℃で、
さら【臭素7.21を攪拌下に加える。同温度で1時間
反応させた後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残渣
に酢酸エチル50m1および水20m/を加え、飽和炭
酸水素す) +)ラム水溶液でpH6,0に調整した後
、有機層を分取し、飽和食塩水20!ntで洗浄する。
ついで、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下
に溶媒を留去する。得られた残留物にジイソプロピルエ
ーテル−酢eエチル(1:1)の混合溶媒20m1!を
加えて結晶を戸数すれば、融点112〜113℃の4−
ブロモ−2−(シン)−メトキシイミノー3−オキソ酪
酸アミド9.21(収率82.1係)を得る。
に溶媒を留去する。得られた残留物にジイソプロピルエ
ーテル−酢eエチル(1:1)の混合溶媒20m1!を
加えて結晶を戸数すれば、融点112〜113℃の4−
ブロモ−2−(シン)−メトキシイミノー3−オキソ酪
酸アミド9.21(収率82.1係)を得る。
I R(KB r )cm−” ;νc=o 1715
.166 ONMR(de−DMSO)δ値; 4−.02 (3H、s 、 −0CR3) 。
.166 ONMR(de−DMSO)δ値; 4−.02 (3H、s 、 −0CR3) 。
4.58 (2H,s 、BrCH2C0−) 。
7.72 (2H,bs 、 −CONH2)(4)
4−ブロモー2−(シン)−メトキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸アミド4,52をエタノール13.5−に懸濁さ
せ、チオ尿素1.57を加えて20〜30℃で1時間反
応させる。析出晶を戸数し、エタノールで洗浄した後、
水25ゴに懸濁させ、飽和炭酸水素す) IJウム水溶
液でpH6,0に調整する。ついで、結晶を戸数し、水
−メタノール(1:1)の混合溶媒15−で再結晶すれ
ば、融点208〜209℃の2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノ酢酸ア
ミド2.9fC収率71.8%)を得る。
4−ブロモー2−(シン)−メトキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸アミド4,52をエタノール13.5−に懸濁さ
せ、チオ尿素1.57を加えて20〜30℃で1時間反
応させる。析出晶を戸数し、エタノールで洗浄した後、
水25ゴに懸濁させ、飽和炭酸水素す) IJウム水溶
液でpH6,0に調整する。ついで、結晶を戸数し、水
−メタノール(1:1)の混合溶媒15−で再結晶すれ
ば、融点208〜209℃の2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2−(シン)−メトキシイミノ酢酸ア
ミド2.9fC収率71.8%)を得る。
I R(KB r )2−1 ;νc=o 1665N
MR(de−DMSO)δ値; 3.84 (3H,s 、 −0CHa ) 。
MR(de−DMSO)δ値; 3.84 (3H,s 、 −0CHa ) 。
7.26 (2H、b s 、 NH2) +実施例2
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(シン
)−メトキシイミノ酢酸アミド10.01を、三弗化硼
素 io、2f含むスルホラン2〇−および無水塩化メ
チレン20ゴの混合溶媒中へ加える。室温で1時間反応
させた後、結晶を戸数する。ついで、結晶を酢酸エチル
100−に懸濁させ、1時間攪拌した後戸数する。酢酸
工チル20dで2回洗浄し、乾燥すれば、結晶を14.
1. P得る。
)−メトキシイミノ酢酸アミド10.01を、三弗化硼
素 io、2f含むスルホラン2〇−および無水塩化メ
チレン20ゴの混合溶媒中へ加える。室温で1時間反応
させた後、結晶を戸数する。ついで、結晶を酢酸エチル
100−に懸濁させ、1時間攪拌した後戸数する。酢酸
工チル20dで2回洗浄し、乾燥すれば、結晶を14.
1. P得る。
IR(KBr)cm−” ; 1.680.1650.
1620゜1200〜1000 参考例1 ピバロイルオキシメチルエフ−アミノ−3−〔(5−メ
チル−1,2,3,4−テトラゾール−2−イル)メチ
ル〕−Δ3−セフェムー4−カルボキシレー)4.1O
rを酢酸エチル41mに溶解させ、実施例2で得られた
結晶3.369を加えて室温で3時間反応させる。つい
で1反応液に水41−を加え、炭酸水素ナトリウムでP
H4,5に調整する。有機層を分取し、水2o−で洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。
1620゜1200〜1000 参考例1 ピバロイルオキシメチルエフ−アミノ−3−〔(5−メ
チル−1,2,3,4−テトラゾール−2−イル)メチ
ル〕−Δ3−セフェムー4−カルボキシレー)4.1O
rを酢酸エチル41mに溶解させ、実施例2で得られた
結晶3.369を加えて室温で3時間反応させる。つい
で1反応液に水41−を加え、炭酸水素ナトリウムでP
H4,5に調整する。有機層を分取し、水2o−で洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。
ついで、メシチレンスルホン酸・2水和el 2.41
を加えて室温で1時間反応させる。得られた結晶を戸数
し、酢酸エチル5−で洗浄すれば、融点218〜220
℃(分解)を示すピバロイルオキシメチル−7−C2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(シン)−
メトキシイミノアセトアミド]−3−[(5−メチル−
1,2゜3.4−テトラゾール−2−イル)メチル〕−
Δ3−セフェムー4−カルボキシレートのメシチレンス
ルホン酸塩7.187(収率90.5 % )を得る。
を加えて室温で1時間反応させる。得られた結晶を戸数
し、酢酸エチル5−で洗浄すれば、融点218〜220
℃(分解)を示すピバロイルオキシメチル−7−C2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(シン)−
メトキシイミノアセトアミド]−3−[(5−メチル−
1,2゜3.4−テトラゾール−2−イル)メチル〕−
Δ3−セフェムー4−カルボキシレートのメシチレンス
ルホン酸塩7.187(収率90.5 % )を得る。
参考例2
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(シン
)−メトキシイミノ酢酸アミド6、Ofを無水塩化メチ
レン13−に懸濁させ、15〜20℃で三弗化硼素2,
729を含むスルホラン−無水塩化メチレン(1:1)
の混合溶液10.3mを加えて同温度で10分間反応さ
せる。
)−メトキシイミノ酢酸アミド6、Ofを無水塩化メチ
レン13−に懸濁させ、15〜20℃で三弗化硼素2,
729を含むスルホラン−無水塩化メチレン(1:1)
の混合溶液10.3mを加えて同温度で10分間反応さ
せる。
ついで、ピバロイルオキシメチルエフ−アミノ−3−(
5−メチル−1,2,3,4−テトラゾール−2−1ル
)メチル−Δ3−セフェムー4−カルボキシレー)4.
1Ofを含む無水塩化メチノン溶液13−を加えて30
〜35℃で2時間30分反応させる。ついで1反応液を
氷水15ゴ中へ導入し、飽和炭酸水素すl・リウム水溶
液でpH5,5に調整する。ついで、不溶物を除去した
後。
5−メチル−1,2,3,4−テトラゾール−2−1ル
)メチル−Δ3−セフェムー4−カルボキシレー)4.
1Ofを含む無水塩化メチノン溶液13−を加えて30
〜35℃で2時間30分反応させる。ついで1反応液を
氷水15ゴ中へ導入し、飽和炭酸水素すl・リウム水溶
液でpH5,5に調整する。ついで、不溶物を除去した
後。
有機層を分取し、飽和食廖水15ゴで洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し
、得られた残留物に酢酸エチル60dを加えて溶解させ
た後、メシチレンスルホン酸・2水和物2.36tを加
えて30分間攪拌し、析出晶を戸数すれば、融点218
〜220℃(分解)を示すピバロイルオキシメチル=7
−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(
シン)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−(5−メ
チル−1,2,3,4−テトラゾール−2−4ル)メチ
ル−Δ3−セフェムー4−カルボキシレートのメシチレ
ンスルホン酸塩6.371(収率80,2幅)を可る。
硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し
、得られた残留物に酢酸エチル60dを加えて溶解させ
た後、メシチレンスルホン酸・2水和物2.36tを加
えて30分間攪拌し、析出晶を戸数すれば、融点218
〜220℃(分解)を示すピバロイルオキシメチル=7
−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(
シン)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−(5−メ
チル−1,2,3,4−テトラゾール−2−4ル)メチ
ル−Δ3−セフェムー4−カルボキシレートのメシチレ
ンスルホン酸塩6.371(収率80,2幅)を可る。
I R(KB r )cm−” ;シc−01782.
1745.1680特許出願人 富山化学工業株式会社 第1頁の続き @発明者 高野 俊太部 0発 明 者 才 川 勇 富山市稲荷元町3丁目8番44−607富山市大泉中町
7−52
1745.1680特許出願人 富山化学工業株式会社 第1頁の続き @発明者 高野 俊太部 0発 明 者 才 川 勇 富山市稲荷元町3丁目8番44−607富山市大泉中町
7−52
Claims (1)
- (1) 一般式 〔式中、R1は低級アルキル基を示す。〕で表わされる
2−アミノチアゾール誘導体(シン異性体)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60089938A JPS60252473A (ja) | 1985-04-27 | 1985-04-27 | 2‐アミノチアゾール誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60089938A JPS60252473A (ja) | 1985-04-27 | 1985-04-27 | 2‐アミノチアゾール誘導体 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP59104759A Division JPS60248691A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | セファロスポリン類の新規製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPS60252473A true JPS60252473A (ja) | 1985-12-13 |
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Family
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1985
- 1985-04-27 JP JP60089938A patent/JPS60252473A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4283396A (en) * | 1976-01-23 | 1981-08-11 | Roussel Uclaf | 3-Acetoxymethyl-7-(hydroxyiminoacetamido)-cephalosporanic acid derivatives |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0433792B2 (ja) | 1992-06-04 |
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