JPS60240149A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS60240149A JPS60240149A JP9802484A JP9802484A JPS60240149A JP S60240149 A JPS60240149 A JP S60240149A JP 9802484 A JP9802484 A JP 9802484A JP 9802484 A JP9802484 A JP 9802484A JP S60240149 A JPS60240149 A JP S60240149A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aluminum
- copper
- aluminum alloy
- plate member
- lead frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 19
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 31
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims abstract description 6
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 abstract description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 abstract 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 241000587161 Gomphocarpus Species 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4821—Flat leads, e.g. lead frames with or without insulating supports
- H01L21/4828—Etching
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、新規なリードフレームを用いて製造されるI
C(集積回路)、LSI(大規模集積回路)等の半導体
装置に関する。
C(集積回路)、LSI(大規模集積回路)等の半導体
装置に関する。
〈従来技術〉
従来、半導体装置に用いられるリードフレームは、いわ
ゆる42アロイ(Fe Ni合金)や銅系合金などを所
定の形状にプレスで打ち抜きもしくはT、+4−ンゲ1
すSンネ秦Jh岨/−、妃fしm+fノ社?−柄しかし
ながら、この方法は、42アロイや銅系合金の価格が高
い上に、メッキに金や銀を使うため、該リードフレーム
を用いる半導体装置自体の原価上昇につながる。また、
高価な金や銀のメッキは従来減少する趨勢にある。
ゆる42アロイ(Fe Ni合金)や銅系合金などを所
定の形状にプレスで打ち抜きもしくはT、+4−ンゲ1
すSンネ秦Jh岨/−、妃fしm+fノ社?−柄しかし
ながら、この方法は、42アロイや銅系合金の価格が高
い上に、メッキに金や銀を使うため、該リードフレーム
を用いる半導体装置自体の原価上昇につながる。また、
高価な金や銀のメッキは従来減少する趨勢にある。
〈発明の目的〉
そこで、本発明の目的は、従来と同等の機能および信頼
性を有し、しかも安価なリードフレームを用いて、低価
格の半導体装置を提供することである。
性を有し、しかも安価なリードフレームを用いて、低価
格の半導体装置を提供することである。
〈発明の構成〉
上記目的を達成するため、本発明の半導体装置は、アル
ミまたはアルミ系合金にシンタリングで銅を被覆してな
る板部材の上記銅の一部が剥離されて上記アルミまたは
アルミ系合金の一部が露出した状態の板部材を、打抜き
もしくはエツチングして形成したリードフレームを備え
てなる。
ミまたはアルミ系合金にシンタリングで銅を被覆してな
る板部材の上記銅の一部が剥離されて上記アルミまたは
アルミ系合金の一部が露出した状態の板部材を、打抜き
もしくはエツチングして形成したリードフレームを備え
てなる。
〈発明の作用〉
本発明によるリードフレームにおいで、杆#i%もしく
はエツチングでインナーリードとして形成された部分や
チップマウント部として形成された部分は、銅が剥離さ
れてアルミまたはアルミ系合金が露出した部分となり、
半導体チップ上のAl電極や半導体チップの裏面とワイ
ヤボンディングかされる一方、上記リードフレームにお
いて、アウターリードとして形成された部分は、銅の被
覆を有しており、上記半導体チップを組込んだ上記リー
ドフレームが取付けられる外部回路基板とはんだ付され
、リードフレームとしての従来と同等の機能と信頼性が
確保される。
はエツチングでインナーリードとして形成された部分や
チップマウント部として形成された部分は、銅が剥離さ
れてアルミまたはアルミ系合金が露出した部分となり、
半導体チップ上のAl電極や半導体チップの裏面とワイ
ヤボンディングかされる一方、上記リードフレームにお
いて、アウターリードとして形成された部分は、銅の被
覆を有しており、上記半導体チップを組込んだ上記リー
ドフレームが取付けられる外部回路基板とはんだ付され
、リードフレームとしての従来と同等の機能と信頼性が
確保される。
〈実施例〉
以下、本発明を図示の実施例により詳細に説明する。
第2,3図は、リードフレームの原材料である板部材を
示し、該板部材は、アルミまたはアルミ系合金からなる
中心部材1の両表面を銅の微粒子で覆いへρ−Cu共晶
点温度(548℃)前後で数分間加熱保持するいわゆる
シンタリング(焼結)によって、第3図に示すように、
中心部材1の表面に銅被覆2,2゛を施してなる。まず
、この板部材表面でインナーリード部および半導体チッ
プマウント部として形成されるべき部分の片側の上記銅
被覆2を、エツチング等で、第4図および第5図に示す
ように鐘形3に剥離し、内部のアルミまたはアルミ系合
金1を露出させる。次いで、第1図に黒塗りで示す銅被
覆部およびそれに連らなる上記矩形(細線で示す)3内
部のアルミ等からなる部材1の必要部以外をプレスで打
抜き加工し、第1図に示す単位リードフレームが帯状に
連らなった一連のリードフレームを形成する。上記単位
リードフレームの四周縁辺4を除いた上記単位リードフ
レームの中央部の拡大詳細を第6図に、その断面を第7
図に示す。なお、第5図に示したように裏面の銅被覆2
゛は全く剥離されないので、第1図および第6図に示す
チップマウント部やリードの裏面2 +c、 2 ’
1等は全て銅で覆われている。
示し、該板部材は、アルミまたはアルミ系合金からなる
中心部材1の両表面を銅の微粒子で覆いへρ−Cu共晶
点温度(548℃)前後で数分間加熱保持するいわゆる
シンタリング(焼結)によって、第3図に示すように、
中心部材1の表面に銅被覆2,2゛を施してなる。まず
、この板部材表面でインナーリード部および半導体チッ
プマウント部として形成されるべき部分の片側の上記銅
被覆2を、エツチング等で、第4図および第5図に示す
ように鐘形3に剥離し、内部のアルミまたはアルミ系合
金1を露出させる。次いで、第1図に黒塗りで示す銅被
覆部およびそれに連らなる上記矩形(細線で示す)3内
部のアルミ等からなる部材1の必要部以外をプレスで打
抜き加工し、第1図に示す単位リードフレームが帯状に
連らなった一連のリードフレームを形成する。上記単位
リードフレームの四周縁辺4を除いた上記単位リードフ
レームの中央部の拡大詳細を第6図に、その断面を第7
図に示す。なお、第5図に示したように裏面の銅被覆2
゛は全く剥離されないので、第1図および第6図に示す
チップマウント部やリードの裏面2 +c、 2 ’
1等は全て銅で覆われている。
半導体装置は、上記構成のリードフレームを用いて次の
ように製造される。まず、ペレットボンダ(図示せず)
によって、第1図に示す一連のり一ドフレームの各チッ
プマ・クント部1cに、半導体チップ(図示せず)を−
個ずつ例えば導電性樹脂で順次接着する。次いで、超音
波ワイヤボンダ(図示せず)によって、上記半導体チッ
プ上のA、(電極と該電極に対応するインナーリード1
で(AβまたはA(系合金)とをアルミ線またはアルミ
系合金の線で単位リードフレーム毎に接合(インナーリ
ードボンディング)するとともに、各7ウターリード2
での先端21’ とそれに対応する半導体チップ容器(
図示せず)の各電極もしくは外部回路基板(図示せず)
の各端子とをはんだ付等で接合(アウターリードボンデ
ィング)し、上記半導体チップを有する半導体装置を構
成する。
ように製造される。まず、ペレットボンダ(図示せず)
によって、第1図に示す一連のり一ドフレームの各チッ
プマ・クント部1cに、半導体チップ(図示せず)を−
個ずつ例えば導電性樹脂で順次接着する。次いで、超音
波ワイヤボンダ(図示せず)によって、上記半導体チッ
プ上のA、(電極と該電極に対応するインナーリード1
で(AβまたはA(系合金)とをアルミ線またはアルミ
系合金の線で単位リードフレーム毎に接合(インナーリ
ードボンディング)するとともに、各7ウターリード2
での先端21’ とそれに対応する半導体チップ容器(
図示せず)の各電極もしくは外部回路基板(図示せず)
の各端子とをはんだ付等で接合(アウターリードボンデ
ィング)し、上記半導体チップを有する半導体装置を構
成する。
上記実施例は、インナーリードボンディング部が全て超
音波等によるAl−Afi接合なので、ネイルヘッドボ
ンディング方式と比べて、半導体チップやり−ト]を加
熱することなく常温で接合でとるうえ、Au −Al接
合に見られるパープルプレーグ欠陥が発生せず信頼度が
高く、さらに高価な金また、リードフレーム形成が、銅
被覆のエツチングとプレスによる打抜きの2工程だけで
行なわれるため、続くワイヤボンディングの手間を考慮
しても、Auバンプ形成工程を要するTAB方式と比較
して、遜色のない作業能率を有し製造コストがより安価
になる。
音波等によるAl−Afi接合なので、ネイルヘッドボ
ンディング方式と比べて、半導体チップやり−ト]を加
熱することなく常温で接合でとるうえ、Au −Al接
合に見られるパープルプレーグ欠陥が発生せず信頼度が
高く、さらに高価な金また、リードフレーム形成が、銅
被覆のエツチングとプレスによる打抜きの2工程だけで
行なわれるため、続くワイヤボンディングの手間を考慮
しても、Auバンプ形成工程を要するTAB方式と比較
して、遜色のない作業能率を有し製造コストがより安価
になる。
一方、上記実施例は、外部回路等へのアウターリードボ
ンディング部がCu−Cuで一般的なはんだ付けがで外
るので、容易かつ広範囲に適用できるという利点を有す
る。
ンディング部がCu−Cuで一般的なはんだ付けがで外
るので、容易かつ広範囲に適用できるという利点を有す
る。
〈発明の効果〉
以上の説明で明らかなように、本発明の半導体装置は、
アルミまたはアルミ系合金にシンタリングで銅を被覆し
てなる板部材の上記銅の一部が剥離されて上記アルミま
たはアルミ系合金の一部が露出した状態の板部材を、打
抜ぎもしくはエツチングして形成したリードフレームを
備えてなるので、ボンディング部等が従来と同等の機能
および信頼性を有するとともに、高価な金や銀を使用し
す?1、トちマー$7−/7’lφグ=ね石!−朱り二
各士7.−レ議fフ−へ7゜
アルミまたはアルミ系合金にシンタリングで銅を被覆し
てなる板部材の上記銅の一部が剥離されて上記アルミま
たはアルミ系合金の一部が露出した状態の板部材を、打
抜ぎもしくはエツチングして形成したリードフレームを
備えてなるので、ボンディング部等が従来と同等の機能
および信頼性を有するとともに、高価な金や銀を使用し
す?1、トちマー$7−/7’lφグ=ね石!−朱り二
各士7.−レ議fフ−へ7゜
第1図は本発明の実施例のリードフレームの平面図、第
2図はリードフレームの原材料の平面図、第3図は第2
図のl1l−III断面図、第4図は第2図の銅被覆を
エツチングした平面図、第5図は第4図のv−■断面図
、第6図は第1図中央部の拡大詳細図、第7図は第6図
のVll−Vll断面図である。 1・・・アルミまたはアルミ系合金からなる中心部材、
2,2゛・・・銅被覆、3・・・銅被嫁剥離部矩形、
1c・・・チップマウント部、1.1・・・インナーリ
ード、2i、21’、・、アウターリード、2’c−チ
ップマウント部裏面銅被覆。 特許出願人 シャープ株式会社
2図はリードフレームの原材料の平面図、第3図は第2
図のl1l−III断面図、第4図は第2図の銅被覆を
エツチングした平面図、第5図は第4図のv−■断面図
、第6図は第1図中央部の拡大詳細図、第7図は第6図
のVll−Vll断面図である。 1・・・アルミまたはアルミ系合金からなる中心部材、
2,2゛・・・銅被覆、3・・・銅被嫁剥離部矩形、
1c・・・チップマウント部、1.1・・・インナーリ
ード、2i、21’、・、アウターリード、2’c−チ
ップマウント部裏面銅被覆。 特許出願人 シャープ株式会社
Claims (1)
- (1) アルミまたはアルミ系合金にシンタリングで銅
を被覆してなる板部材の上記銅の一部が剥離されて上記
アルミまたはアルミ系合金の一部が露出した状態の板部
材を、打抜きもしくはエツチングして形成したり−ドフ
レームを備えてなる半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9802484A JPS60240149A (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9802484A JPS60240149A (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60240149A true JPS60240149A (ja) | 1985-11-29 |
Family
ID=14208347
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9802484A Pending JPS60240149A (ja) | 1984-05-15 | 1984-05-15 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60240149A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57114265A (en) * | 1981-01-07 | 1982-07-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Ic lead frame and transistor comb and manufacture thereof |
JPS5958833A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-04 | Shinkawa Ltd | 半導体装置 |
-
1984
- 1984-05-15 JP JP9802484A patent/JPS60240149A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57114265A (en) * | 1981-01-07 | 1982-07-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Ic lead frame and transistor comb and manufacture thereof |
JPS5958833A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-04 | Shinkawa Ltd | 半導体装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2569939B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JPH05129473A (ja) | 樹脂封止表面実装型半導体装置 | |
JPH08186151A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2895920B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2569400B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JP4822038B2 (ja) | ディスクリート用パッケージ及びその製造方法並びにそれに用いるリードフレーム | |
JPS60240149A (ja) | 半導体装置 | |
JPH0357236A (ja) | 樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
JPH0817870A (ja) | 半導体装置 | |
JPS61287238A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH03274755A (ja) | 樹脂封止半導体装置とその製造方法 | |
JP2788011B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPS62287657A (ja) | 半導体装置 | |
JPH05267385A (ja) | ワイヤーボンディング装置 | |
JPS61241954A (ja) | 半導体装置 | |
JPH0758273A (ja) | リードフレーム及びそれを用いた半導体装置 | |
JPH03104141A (ja) | 半導体装置 | |
JPH01297828A (ja) | 半導体装置 | |
JPH04322435A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPH03237747A (ja) | 半導体装置 | |
JPH05211268A (ja) | 半導体装置 | |
JPS6060743A (ja) | リ−ドフレ−ム | |
JPH02184059A (ja) | ミニモールド型半導体装置とリードフレーム及びミニモールド型半導体装置の製造方法 | |
JPS61124159A (ja) | 半導体パツケ−ジとその製造方法 | |
JP4311294B2 (ja) | 電子装置およびその製造方法 |