JPS60239740A - 記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （１）技術分野 本発明は、包接錯体の単分子膜、乃至単分子層累積膜の
化学変化若しくは物理変化を利用して記録を行なう記録
媒体に関する。

（２）背景技術 従来、有機化合物を記録層とする記録媒体としては種々
のものが知られている。

例えば、有機化合物を薄膜にして記録層として用いる光
記録媒体については、例えば特開昭５Ｂ−１８１３４８
号公報、特開昭５８−１２５２４８号公報にも開示され
ている。いずれも有機色素を記録層とし、レーザビーム
により記録再生を行なうレーザ記録媒体に関するもので
ある。特に、特開昭５８−１２５２４１１１号公報に開
示された媒体は、一般式（Ｉ） で表わされるシアニン系色素の薄膜を記録層とするもの
である。（Ｉ）式で表わされるシアニン系色素溶液を回
転塗布機などを用いて、１００ＯＡ以下の厚さ、例えば
約３００への厚さにプラスチック基板上に塗布し薄膜を
形成する。ｇ内の分子分布配向がランダムであると、光
照射に伴づて膜内で光の散乱が生じ、微視的にみた場合
各党照射の度に生ずる化学反応の度合が異なってくる。

そこで記産媒体としては、膜内の分子分布、配向が一様
になっていることが望ましく、またできる限り膜厚が薄
いことが、記録の高密度化のために要請される。しかし
ながら、塗布法による場合、膜厚においては３００Ａ程
度が限界であり、膜内の分子分布、配向がランダムであ
ることは解決しがたいことであった・ レジスト材料の一つとして光量子効率が大でかつ優れた
解像力を有するものとして提案されていたジアセチレン
化合物累積膜が、レジスト材料のみならず、薄膜電気−
光学デバイス、電気−音響デバイス、圧−焦電デバイス
等にも応用されることが、特開昭５８−４２２２９号公
報、特開昭５８−４３２２０号公報などに示されている
。

近時においては、ジアセチレン化合物累積膜の製造方法
の改良について特開昭５８−１１１０２９号公報に示さ
れている。かかる発明にて製造された基板上のジアセチ
レン化合物累積膜は紫外線を照射することにより重合さ
せてジアセチレン化合物重合体膜を作り、或はマスキン
グして紫外線を照射し部分的に重合させ、未重合部分を
除去して図形を作り、薄膜光学デバイスや集積回路素子
として使用される。

しかし、これらはいずれもジアセチレン化合物に限るも
のであり、薄膜光学デバイスとして使用するときに、一
度記録したものの消去の可能性については述べられてい
ない。

一方、上述欠点を解決すべく、分子内に親木基、疎水基
及び少なくとも１４Ｈの不飽和結合を有する１種類の光
重合性上ツマ−の単分子膜又は単分子層累積膜を基板上
に形成して記録層としたことを特徴とする、反復使用可
能な光記録媒体が特願昭５８−１９０９３２号の光記録
媒体に示されている。

これらのジアセチレン化合物累積膜にしても、光重合性
オレフィンモノマーの単分子膜若しくは単分子層累積膜
にしても、光反応性化合物に親木基、疎水基を導入して
、直接基板上に担持させる製法を採用している。従って
、種々の機能性膜慶簡単に作製することが困難なのに加
えて、親木基、疎水基の導入に伴う光反応性の低下の恐
れがあった。更には、非常に高度な高密度記録を行う際
に重要となる、膜面内の分子配向の制御についても、極
めて複雑な操作が要求される問題があった。

かかる従来例の欠点を解消し、１）各種の機能性膜を比
較的簡単に作製する方法、２）その際、機能性分子の持
つ各種機能が、薄膜化した場合に於いても、損失若しく
は低下されることなく発現する様に膜化する方法、更に
は、３）上記の薄膜化に於いて、特別な操作を行うこと
なしに、膜構成分子が膜面内方向に対して、高度の秩序
構造を持って配向される方法を種々検討した結果、本発
明を成すに至った。又、かかる成膜法を用いて、高感度
、高解像度の記録媒体を、容易にかつ高品質に提供でき
るに至った。

（３）発明の開示 本発明の、目的は、光により分子単位での化学変化若し
くは物理変化を起こす様な高密度記録媒体を提供するこ
とにある。

また、この様な分子単位での高密度記録を行うのに際し
て重要な因子となる媒体面内での分子配向に関して、従
来例よりも秀逸な媒体を提供することにある。更には、
上述記録媒体を製造するに当って、比較的簡単な操作変
更により、様々な性質を有する媒体を提供することにあ
る。

本発明の上記目的は、以下の本発明によって達成される
。

その分子内に親水性部位、疎水性部位及び他分子との包
接が可能な部位（包接部位）を有する分子（ホスト分子
）と該ホスト分子に包接される別種の分子（ゲスト分子
）とからなる包接錯体の単分子膜又は単分子層累積膜な
担体上に形成して記録層とし、光により記録を行なうこ
とを特徴とする記録媒体。

本発明の記録層を構成する物質は、分子内に親水性部位
、疎水性部位及び他分子との包接が可能な部位を少なく
共１ケ所有する分子（これをホスト分子と呼ぶ）と該ホ
スト分子に包接される別種の分子（これをゲスト分子と
呼ぶ）の二種の分子　□からなる。かかるホスト分子と
ゲスト分子とからなる包接錯体の単分子膜、乃至単分子
層累積膜を担体上に形成することにより、本発明の記録
媒体が形成される。但し、これら二種類の分子の内、ど
ちらか一方、若しくは、両方が、光により、化学変化若
しくは物理変化を起こすことが必要である。即ち、本発
明に於ける記録媒体は、前述の化学変化や物理変化を利
用して記録を行なう。

本発明に用いられるホスト分子としては、上述の如く、
分子内の適当な位置に親水性部位、疎水性部位及び少な
く共１ケ所の他種分子との包接錯体を形成可能な部位を
有する分子であれば広く使用することができる０分子内
に親水性部位や疎水性部位を形成し得る構成要素として
は、一般に広く知られている各種の親木基や疎水基等が
代表的なものとして挙げられる。他種分子との包接錯体
を形成し得る部位は、水酸基、カルボニル基、カルボキ
シル基、エステル基、アミ７基、ニトリル基、千オアル
コール基、イミノ基等の導入によって形成される。この
ようなホスト分子を、一般式（ＩＩａ）〜（Ｉｌｃ）で
示される水酸基を持つホスト分子を例として、以下に具
体的に説明する。

ｘ １ ｘ １ Ｈ （ここで、Ｘ＝ＨまたはＣ６Ｈ５である。）すなわち、
分子内に親水性部位および疎水性部位を有するとは、例
えば上式に於いてＲ１部及びＲ２部の何れか一方に親水
性部位が存在し、他方に疎水性部位が存在するか、Ｒ１
部及びＲ２部が両部以外の残りの部との関係に於いて共
に親水性、若し・くは疎水性を示すことを言う。Ｒ１部
及び、Ｒ２部の構造に関して、疎水性部位を導入する場
合には特に炭素原子数５〜３０の長鎖アルキル基が、又
親水性部位を導入する場合には特に炭素原子数１〜３０
の脂肪酸が望ましい。

本発明に於けるホスト分子を更に具体的に示せば、例え
ば以下に列挙するアセチレンジオール誘導体（Ｎｏ、１
〜Ｎｏ、８．　Ｎｏ、１８〜Ｎｏ、２１）、ジアセチレ
ンジオール誘導体（Ｎｏ、７〜ｒｋ、１２．　Ｎｏ、２
２〜尚、２７）、ハイドロキノン誘導体（Ｎｏ、１３〜
Ｉｔ１．１５゜陥、２８〜Ｎｏ、３０）等が利用し得る
ものとして挙げられる。尚、以下の例における　ｍ、ｎ
は、正の整数を、２　ハ、−ＣＨ５ｔ　タハ−ＣＯＯＨ
ヲ、Ｐｈハ、　−Ｃ６Ｈ５を示すものとする。

〔アセチレンジオール誘導体の例〕

烏、１ ３０≧ｍ十ｎ≧１１．　ｎ≧０ 烏、２ ３０≧ｍ＋ｎ≧１１．ｎ≧Ｏ Ｎｏ、３ 歯、４ ｐｈ　ｐｈ ３０≧ｍ十ｎ≧８．　ｎ≧１ 歯、５ ３０≧ｍ　十ｎ≧１３．　ｎ≧Ｏ Ｎｏ、　６ ３′０≧ｍ十ｎ≧８．　ｎ≧０ 〔ジアセチレンジオール誘導体の例〕 Ｎｏ、７ ３０≧ｍ十ｎ≧９．　ｎ≧０ 歯、８ ３０≧ｍ十ｍ≧９．　ｎ≧Ｏ 歯、９ ３０≧ｍ＋ｎ≧５．　ｎ≧１ 拘、１０ ３０≧ｍ＋ｎ≧５．　ｎ≧Ｉ Ｎｏ、　１１ ３０≧ｍ＋ｎ≧５．　ｎ≧Ｏ Ｎｏ、１２ ３０≧ｍ＋ｎ≧５．　ｎ≧０ 〔ハイドロキノン誘導体の例〕 Ｎｏ、１３ Ｈ ３０≧ｍ　＋　ｎ≧１３．ｈ≧０ 稀、１４ Ｈ ３０≧ｍ＋　ｎ≧９．　ｎ≧１ 穐、１５ ３０≧ｍ＋ｎ≧９．　ｎ≧Ｏ 〔アセチレンジオール誘導体の例〕 Ｎｏ、１６ ３０≧ｎ≧５ Ｎｏ、１７ ３０≧ｎ≧５ Ｎｏ、１８ ３０≧　ｎ≧４ Ｎｏ、１９ ３０≧　ｎ≧４ Ｎｏ、２０ ３０≧　ｎ≧４ 拘、２１ ３０≧　ｎ≧４ 〔ジアセチレンジオール誘導体の例〕 歯、２２ ３０≧　ｎ≧３ Ｎｏ、２３ ３０≧　ｎ≧３ 歯、２４ ３０≧　ｎ≧１ 拘、２５ ３０≧　ｎ≧１ 椅、２６ ３０≧　ｎ≧１ Ｎｏ、２７ ３０≧　ｎ≧１ 〔ハイドロキノン誘導体の例〕 Ｎｏ、２８ ３０≧　ｎ≧５ 歯、２９ Ｉ（０ ３０≧　ｎ≧１ 拘、３０ ３０≧　ｎ≧１ 以上挙げた化合物はホスト分子に長鎖アルキル基や長鎖
カルボン酸等を置換させて親木性や疎水性を導入した点
を除けばそれ自体既知の化合物であり、又、長鎖アルキ
ル基等で修飾されていないホスト分子が、種々のゲスト
分子と結晶性の包接錯体を形成する点に関しても、日本
化学会誌陥、２２３８頁−２４２頁（１９８３年）に述
べられている。

これらホスト分子と包接錯体を作り得るゲスト分子とし
ては、一般に、ホスト分子と強い水素結合を形成し得る
分子が望ましい、従って、先に述べた如く、ホスト分子
が包接部位として水酸基を有する場合には、ゲスト分子
として、アルデヒド、ケトン、アミン、スルフオキシド
等を挙げることができる。また、ゲスト分子としては他
に、各種ハロゲン化合゛物、或いはπ−電子系化合物、
即ちアルケン、アルキン、及びアレーン等を選ぶ事もで
きる。何れにせよ、形成される包接錯体が光により所望
の記録をすることのできる分子が選ばれる。

例えばゲスト分子の光二量化反応を用いた記録媒体に利
用し得るゲスト分子の具体例としては、オレフィン化合
物（Ｎｏ、３１〜Ｎｏ、３４）、ジオレフィン化合物（
Ｎｏ、３５〜Ｎｏ、３８）、アントラセン誘導体（Ｎｏ
、３９）、２−アミノピリジニウム（ｌｌ＆：＋、４１
）等が挙げられる。

〔オンフィン化合物の例〕

Ｎｏ、３１ Ｒ＝　−Ｈ、−Ｃ６Ｈ，、−ＯＨ、−ＱＣ）（３）Ｎｏ
、３２ Ｎｏ、３３ ＮＣ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ Ｎｏ、３４ Ｒ，０ＯＣ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯＲ２ （Ｒ，＝　Ｒ２＝　ＣＨ８またはＲ，＝ＣＨ３、Ｒ２＝
Ｈ）〔ジオレフィン化合物の例〕 Ｎｏ、３５ Ａｒ’　−ＣＨ＝ＣＨ−Ａｒ−ＣＨ＝ＣＨ−Ａｒ’１ （ＲＣＣＨ＝ＣＨ）２Ａｒ Ｎｏ、３７ Ｎｏ、３８ 〔アントラセン誘導体の例〕 ｐ 〔アクリジニウム誘導体の例〕 〔２−アミノピリジニウム〕 陥、４１ このようなホスト分子およびゲスト分子から成る包接錯
体の単分子膜または単分子層累積膜を作成する方法とし
ては、例えば１．Ｌａｎｇｌｕｉｒらの開発したラング
ミュア・ブロジェ−／　ト法（ＬＢ法）を用いる。　Ｌ
Ｂ法は、例えば分子内に親木基と疎水基を有する構造、
の分子において、両者の／くランス（両親媒性のバラン
ス）が適度に保たれているとき、分子は水面上で親木基
を下に向けて単分子の層になることを利用して単分子膜
または単分子層の累積膜を作成する方法である。水面上
の単分子層は二次元系の特徴をもつ。分子がまばらに散
開しているときは、一分子当り面積Ａと表面圧■との間
に二次元理想気体の式、 ｒＩＡ＝ｋＴ が成り立ち、“気体膜°゛となる。ここに、ｋはポルツ
マン定数、Ｔは絶対温度である。Ａを十分小さくすれば
分子間相互作用が強まり二次元固体の“凝縮膜（または
固体膜）″になる。凝縮膜はガラス基板などの種々の材
質や形状を有する担体の表面へ一層ずつ移すことができ
る。この方法を用いて、本発明のゲスト分子を包接する
ホスト分子の単分子膜（これを単錯体分子膜と呼ぶこと
にする）、若しくは単錯体分子層累積膜の具体的な製法
としては、例えば以下に示すＡ−Ｈの５法を挙げること
ができる。

［Ａ］　目的とする包接錯体のホスト分子とゲスト分子
とを溶剤に溶解し、これを水相上に展開させて包接錯体
を膜状に析出させる。この場合、ホスト分子の構造がＮ
ｏ、１−Ｎｏ、１５に示したような分子の両端に親木性
部位（カルボキシル基）と疎水性部位（アルキル基）を
併有するものであれば、水相上に析出する包接錯体はゲ
スト分子の親水性および疎水性のいかんにかかわらず、
ホスト分子の親水性部位を水相に向けた状態で水相上に
展開する。一方、ホスト分子がＮｏ、１８−　Ｎｏ、３
０に示した構造をとる場合、分子の両端が疎水性部位の
みで構成されるＺ＝−ＣＨ３は、水相上に析出する包接
錯体は、ゲスト分子の親木性部位を水相に向けた第４図
に示すような状態で水相上に展開する。又、分子の両端
が親水性部位のみで構成されるＺ＝−ＣＯＯＨでは水相
上に形成される包接錯体は、ホスト分子の親木性部位を
水相に向けた第５図に示すような状態で水相上に展開す
る。

次にこの析出物が水相上を自由に拡散して広がりすぎな
いように仕切板（または浮子）を設けて展開面積を制限
して膜物質の集合状態を制御し、その集合状態に比例し
た表面圧■を得る。この仕切板を動かし、展開面積を縮
少して膜物質の集合状態を制御し、表面圧を徐々に上昇
させ、累積膜の製造に適する表面圧■を設定することが
できる。この表面圧を維持しながら静かに清浄な担体を
垂直に上下させることにより単錯体分子膜が担体上に移
しとられる。単錯体分子膜は以上で製造されるが、単錯
体分子層累積膜は前記の操作を繰り返すことにより所望
の累積度の単錯体分子層累積膜が形成される。

単鎖体分子層を担体上に移すには、上述した垂直浸せき
法の他、水平付着法、回転円筒法などの方法による。水
平付着法は担体を水面に水平に接触させて移しとる方法
で、回転円筒法は、円筒型の担体を水面上を回転させて
単錯体分子層を担体表面に移しとる方法である。前述し
た垂直浸せき法では、表面が親水性である担体を水面を
横切る方向に水中から引き上げるとホスト分子の親木基
が担体側に向いた単鎖体分子層が担体上に形成される。

前述のように担体を上下させると、各行程ごとに１枚ず
つ単錯体分子層が積み重なっていく。成膜分子の向きが
引上げ行程と浸せき行程で逆になるので、この方法によ
ると各層間はホスト分子の親木基と親水基、ホスト分子
の疎水基と疎水基が向かい合うＹ型膜が形成される。そ
れに対し、水平付着法は、担体を水面に水平に接触させ
て移しとる方法で、ホスト分子の疎水基が担体側に向い
た単錯体分子層が担体上に形成される。この方法では、
累積しても、成膜分子の向きの交代はなく全ての層にお
いて、疎水基が担体側に向いたＸ型膜が形成される。反
対に全ての層において親木基が担体側に向いた累積膜は
Ｚ型膜と呼ばれる。

回転円筒法は、円筒型の担体を水面上を回転させて単分
子層を担体表面に移しとる方法である。

単分子層を担体上に移す方法は、これらに限定・される
わけではなく、大面積担体を用いる時には、担体ロール
から水相中に担体を押し出していく方法などもとり得る
。また、前述した親木基、疎水基の担体への向きは原則
であり、担体の表面処理等によって変えることもできる
。

以上の成膜過程に於いて膜物質の面内方向の配向性制御
は従来、主として表面圧の制御に依って成されていた訳
であるが、膜物質が全稈単純な構造の化合物、例えば直
鎖脂肪酸等の場合を除き、高い秩序性を得ることは極め
て困難であった。然るに本発明に於いては、包接錯体を
膜物質に用いるので、高い秩序性を持つ膜を比較的簡単
に得ることができる。即ち、水相上に包接錯体が膜状に
析出した時点で、水素結合やファン・デルΦワールスカ
等に因ってホスト分子−ゲスト分子間、ホスト分子−ホ
スト分子間、ゲスト分子−ゲスト分子間の立体的配置は
固定され、各ホスト分子及びゲスト分子は結晶格子的秩
序性を持って配列する。又、ゲスト分子のみが機能性を
持つ場合には、このゲスト分子への化学的修飾、・即ち
、疎水基や親木基の導入を行わないので、膜化に伴う機
能の低下は生じない。

［Ｂ］水溶性を示すゲスト分子を水相に溶解させる。次
にホスト分子を溶剤に溶解せしめてこれを水相上に展開
させる。この時同時にホスト分子−ゲスト分子間で包接
錯体形成が行われて膜状に析出する。ホスト分子とゲス
ト分子の組み合わせ及び以下の成膜操作については［Ａ
］に示した方法に準する。

［Ｃ］水溶性を示すゲスト分子を水相に溶解させる０次
に、目的とする包接錯体のホスト分子とゲスト分子とを
溶剤に溶解し、これを水相上に展開させて包接錯体を膜
状に析出させる。ホスト分子とゲスト分子の組み合わせ
及び以下の成膜操作については［Ａ］に示した方法に準
する。

［Ｄ］ホスト分子を溶剤に溶解しこれを水相中に展開さ
せる。その後、密閉系の装置を用いて気相側、即ち装置
内の空間をゲスト分子ガス雰囲気とする。この時、同時
に気相側のゲスト分子を包接し、包接錯体が膜状に析出
する。この方法はゲスト分子が低沸点で気化し易い性質
を持つ化合物、例えばアセトン等の場合、特に有効であ
る。ホスト分子とゲスト分子の組み合わせ及び以下の成
膜操作については［Ａ］に示した方法に順する。

［Ｅ］密閉系の装置を用いて気相側、即ち装置内の空間
をゲスト分子ガス雰囲気とする１次に目的とする包接錯
体のホスト分子とゲスト分子とを溶剤に溶解し、これを
水相上に展開させて包接錯体を膜状に析出させる。ホス
ト分子とゲスト分子の組み合わせ及び以下の成膜操作に
ついては、　［Ａ］に示した方法に準する。

上述の方法によって担体上に形成される単錯体分子膜及
び単錯体分子層累積膜は高密度でしかも高度の秩序性を
有しており、これらの膜で記録層を構成することによっ
て、包接錯体の機能に応じて光記録、熱的記録、電気的
記録あるいは磁気的記録等の可能な高密度で高解像度の
記録機能を有する記録媒体を得ることができる。

作成した単鎖体分子膜及び単錯体分子層累積膜を記録媒
体の記録層として用いる場合以下に示す様な記録法が考
えられる。

ゲスト分子の光二量化反応を用いることができる６例え
ばホスト分子にＮｏ、　７〜１５、Ｎｏ、２２〜３０の
何れかと、Ｎｏ、３１−３８等の光三員性二重結合を有
するゲスト分子とを組み合わせるとホスト分子対ゲスト
分子の組成比（ｍｏｌ比）が１＝２の包接錯体が形成さ
れる。この単鎖体分子膜、若しくは、単錯体分子層累積
膜にあるパターンに従ってガンマ線、Ｘ線、紫外線など
重合に必要なエネルギーを供給しうる光を照射すると照
射部位においてｍ式に示すようにゲスト分子間で三量化
反応がおこる。

Ｈｅ　ＣＨＨｅ　−ＣＨ ｌ　１　１　１ Ｒ２Ｒ２Ｒ２Ｒ２ これらの反応は互いに隣接する不飽和結合の距離が４Ａ
以下のときおこり得るものであるが、先に述べた様な方
法で作成された単錯体分子膜又は、単鎖体分子層累積膜
では、二量化物が容易に得・られるのみならず、三量化
反応に伴って生成が考えられる各種の異性体若しくは構
造体の唯一種しか生成されない。即ち、包接錯体層に於
けるゲスト分子間の立体配列は、極めて整然としている
。また、三量化した後は、暗所下でも解重合は起らず、
非照射部位は単量体のままであるので、第１図に示すよ
うに、成るパターンに従った記録が成される。

記録された情報の読み取りは例えば可視光の照射によっ
て行なう。すなわち、重合によって単量体時の共役系が
崩れるので、可視光の吸収波長に変化をきたす。最大吸
収波長は低波長側にシフトするので、吸収スペクトル変
化を読みとることにより情報の再生が行なわれる（第２
図）。

再生は、可視光による吸収スペクトル変化の読み取り以
外にも、単量体時と三員孔径の体積変化又は屈折率変化
をシュリーレン法により読みとることも可能である。こ
の方法は、単量体時と三員孔径の体積変化又は屈折率変
化の大きい構造を有する化合物の単鎖体分子膜または単
錯体分子層累積膜のときには特に適している。また、単
錯体分子膜または単錯体分子層累積膜を基板の上に直接
ではなく、基板上にＳｅ、　ＺｎＯ，ＣｄＳなどの光導
電体層を形成し、その上に単錯体分子膜または単錯体分
子層累積膜を形成することにより、単量体と二量体の吸
光度の差を電気的に読み取ることも可能である。

二量体はシクロブタン環に基づく、波長２？Ｏｎｍの吸
収を持つが、この波長２７０ｎｗの紫外光を照射するこ
とによって二量体は元の単量体二分子に戻る。従って一
度記録された情報の除去が可能となる。（第３図） なお光三員性のゲスト分子としてアントラセン誘導体Ｎ
ｏ、３９の如き化合物を用いる事もできる。

この場合光二量化反応は■式に従って進行する。

又、ホスト分子としてＮｏ、７を用いた場合には、Ｘ線
、ガンマ線、紫外線等の重合に必要なエネルギーを供給
し得る光を照射すると、照射部位に於いて７式に示す様
にホスト分子間で重合がおこり、ポリジアセチレンが形
成される。

Ｒ＋　Ｒｔ　Ｒ１ 従って、単錯体分子膜若しくは単錯体分子層累積膜に全
面露光することにより、基板との付着力を飛躍的に増大
せしめることが可能である。特に耐薬品（耐溶剤）性が
増大する。かかる、全面露光により、ゲスト分子が光三
員性□を示す場合にはゲスト分子も、三量化してしまう
が、これを光記録媒体として用いる際には、前述例とは
逆にパターンに従ってシクロブタン環の吸収波長に等し
い波長の光（紫外光）を照射して解重合させることによ
り記録乃至表示が出来る訳である。

以上述べた記録媒体に於いて膜厚は、特に１００〜３０
００Ａのものが好ましい。

これら成膜方法はその原理からも分る通り、非常に簡易
な方法であり、上記のような優れた記録機能を有する記
録媒体を低コストで提供することができる。

以上述べた、本発明における単錯体分子膜または単分子
層累積膜を形成する担体は特に限定されないが、担体表
面に界面活性物質が付着していると、単錯体分子層を水
面から移しとる時に、単鎖体分子膜が乱れ良好な単錯体
分子膜または単錯体分子層累積膜ができないので担体表
面が清′浄なものを使用する必要がある。使用すること
のできる担体の例としては、ガラス、アルミニウムなど
の金属、プラスチック、セラミックなどが挙げられる。

担体上の単鎖体分子膜または単錯体分子層累積膜は、十
分に強く固定されており担体からの剥離、剥落を生じる
ことはほとんどないが、付着力を強化する目的で担体と
単錯体分子膜または単錯体分子層累積膜の間に接着層を
設けるごともできる。ざらに単錯体分子層形成条件例え
ば水相の水素イオン濃度、イオン種、水温、担体上げ下
げ速度あるいは表面圧の選択等によって付着力を強化す
ることもできる。

単分子膜または単分子層累積膜の上に保護膜を設けるこ
とは、単分子膜または単分子層累積膜の化学的安定性を
向上させるためには、好ましいことであるが、成膜分子
の選択によって保ｉＩ膜は設けても設けなくてもよい。

以下に本発明の実施例を示して更に具体的に説明するａ
　Ｎｏ、４８〜Ｎｏ、５４の化合物はζ第１表に示す。

実施例１ ゲスト分子の光二量化反応を用いた光記録媒体（１） ホスト分子としてＮｏ、４９のジアセチレオンジオール
と、ゲスト分子としてカルコンをモル比ｌ：２の割合で
クロロホルムに溶かした後、ｐＨ８，５、塩化カドミウ
ム濃度４　Ｘ　１０層４Ｍの水相上に展開させた。溶媒
のクロロホルムを蒸発除去後１表面圧を３５ｄｙｎｅｓ
／ｃｍまで高めて、包接錯体を膜状に析出させた。この
後、表面圧を一定に保ちながら、表面が十分に清浄で親
木性となっているガラス基板を上下速度７ｃｍ／ｗｉｎ
にて水面を横切る方向に静かに上下させ、単錯体分子膜
を基板上に移し取り、単錯体分子膜及び３　、５　、９
　、１５．１８層に累積した単錯体分子層累積膜を記録
層とする光記録媒体を製造した。この累積行程に於いて
基板を水相から引きあげる都度に、３０分間以上放置し
て、基板に付着している水分を蒸発除去した。

なお成膜装置としては、英国　Ｊｏｙｃｅ社製力Ｌａｎ
ｇｍｕｉｒ−Ｔｒｏｕｇｈ４を使用した。

作成した光記録媒体にパターンに従って、Ｘ線照射を行
い、式■に示すゲスト分子の三員化反応を行ない情報を
記録した０分子オーダーの高密度記録が可能であった。

記録の再生はゲスト分子の三員化に伴う波長３８０ｎｍ
〜４２０ｎｍ付近の吸収変化を読み取る事により行った
。次いで波長２７０　ｎｒｉの紫外光を１時間照射した
ところ、解重合がおこり、記録が消去がされた。

実施例２〜１２ 実施例１のカルコンの代わりにゲスト分子としてＮｏ、
３１〜Ｎｏ、３８の化合物を用いた場合も同様の結果を
得た。（実施例２〜８） ７　又、ゲスト分子をカルコンとし、ホスト分子をＮｏ
、５０〜Ｎｏ、５２とした場合にも、実施例１と同様、
光に依る記録、再生、更には、記録の消去が可能であっ
た。（実施例１０〜１２） 実施例１３〜２４ ゲスト分子の光二量化反応を用いた光記録媒体（２） 実施例１−１２で述べた各光記録媒体を先づ高圧水銀灯
により全面露光せしめて、全てのゲスト分子を三量化し
た。かかる媒体に三量化に伴って生成されたシクロブタ
ン環の吸収極大に相当する波長２７Ｏｎｍ付近の紫外光
をパターン状に照射し、ゲスト分子を解重合し情報を記
録した。分子オーダーの記録が可能であった。記録の再
生は、ゲスト分子の解重合に伴う波長３８０〜４２０ｒ
＋＋ｓ付近の吸収変化を読み取る事により行った。更に
再び高圧水銀灯を用いて上記録媒体を全面露光すること
により、記録を消去、即ち、全てのゲスト分子を三量化
することが可能であることを確認した。

実施例２５ ゲスト分子の光二量化反応を用いた光記録媒体（３） ホスト分子としてＮｏ、５３のジアセチレンジオール、
ゲスト分子としてケイ皮酸を用いて、実施例１と同様の
操作により単錯体分子膜及び、これを３　、５　、９　
、１５．１８層に累積した。単鎖体分子層累積膜を記録
層とする光記録媒体を製造した。次に高圧水銀灯を用い
て、これらの膜を全面露光して、ゲスト分子を三量化（
式■）、ホスト分子を重合（式Ｖ）させた後、パターン
に従って、波長２７０　ｎｍの紫外光を照射して、ゲス
ト分子を解重合させて情報を記録した。分子オーダーの
記録が可能であった。

記録の再生は、三量化したゲスト分子の解重合に伴う波
長３８０〜４２０　ｎｍ付近の吸収変化を読み取る事に
より行った。

更に再び高圧水銀灯を用いて上記録媒体を全面露光する
ことにより記録を消去することが可能であることを確認
した。なお一度高圧水銀灯で全面露光した本記録媒体を
、アルコール中に約３０秒間浸漬した後、上記方法によ
り情報の記録／再生を行ったが、特に問題点はなかった
。即ち、ホスト分子を重合させる事により該記録媒体の
化学的強度が大となることが確認された。

実施例２８　、２？ ホスト分子としてＮｏ、５３のジアセチレンジオール、
ゲスト分子としてアントラアルデヒドなモル比１：２の
割合でクロロホルムに溶かし、実施例１と同様に操作に
より単錯体分子膜及びこれを５　、９　、１５．３１．
、Ｂｏ、　８０層に累積した単鎖体分子層累積膜を記録
層とする光記録媒体を製造した。

作成した光記録媒体にパターンに従ってＸ線照射を行な
い、式（ＩＶ）に示すゲスト分子の三量化反応を行ない
情報を記録した０分子オーダーの記録が可能であった。

記録の再生はゲスト分子の三量化に伴う波長３７０〜３
９０ｎ＋ｓ付近の吸収変化を読み取る事により行った。

次いで、波長３１３ｎ＋ｓの紫外光を１時間照射したと
ころ解重合が起こり、記録の消去が可能であることを、
確かめた。

Ｎｏ、４１のアントラセン誘導体を用いた場合にも同様
の結果を得た。（実施例２７） 第１表

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は、本発明に係る記録媒体の実施例を説
明する縦断面図であり、各々、第１図は記録過程、第２
図は再生過程、第３図は消去過程を示しており、第４図
〜第５図は本発明に係る包接錯体の水相上に於ける状態
を説明する説明図である。 １−−−ホスト分子　２−ｍ−ゲスト分子３−−−親水
性部位 ４−−一長鎖アルキル部位 ５−ｍ−基板 ６−−−Ｘ線 ７−−−二量化部位　８−ｍ−可視光 ９−−−紫外線 １０、１１−−一包接部位 １２、１３−一一被包接部位 １４−ｍ−長鎖脂肪酸部位 １５−ｍ−疎水性部位 １６−−−水相 （ａ）　（ｂ） 第１図 第２図 第３図 （ａ） （ｂ） 第 （ａ） （ｂ） 第 ６ （ｃ） ４図 （ｃ） ５図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. その分子内に親木性部位、疎水性部位及び包接部位を有
   するホスト分子と該ホスト分子に包接されるゲスト分子
   とからなる包接錯体の単分子膜又は単分子層累積膜を担
   体上に形成して記録層とし、光により記録を行なうこと
   を特徴とする記録媒体。