JPS60229255A - 光情報記録担体の蒸着方法 - Google Patents
光情報記録担体の蒸着方法Info
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- JPS60229255A JPS60229255A JP8646584A JP8646584A JPS60229255A JP S60229255 A JPS60229255 A JP S60229255A JP 8646584 A JP8646584 A JP 8646584A JP 8646584 A JP8646584 A JP 8646584A JP S60229255 A JPS60229255 A JP S60229255A
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- Japan
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- vapor
- vapor deposition
- light
- film thickness
- deposition
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/545—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
- C23C14/547—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material using optical methods
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光学式記録・再生ディスク等の光情報記録担体
に用いられる蒸着方法に関するものである。
に用いられる蒸着方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
近年光ディスクの産業界への進出は目ざましいものがあ
り、画像・音声は言う忙およばずコンピュータのメモリ
としての利用も始められようとしている。このような状
況の中で光ディスクの大量生産に対する技術の向上が望
まれている。この中にあって、とりわけ安定した連続蒸
着に関する技術が注目されている。
り、画像・音声は言う忙およばずコンピュータのメモリ
としての利用も始められようとしている。このような状
況の中で光ディスクの大量生産に対する技術の向上が望
まれている。この中にあって、とりわけ安定した連続蒸
着に関する技術が注目されている。
以下、図面を参照しながら従来の光情報記録担体の蒸着
方法について説明を行なう。
方法について説明を行なう。
第１図は従来の光情報記録担体の蒸着方法の構成を示す
ものである。第１図において、１Ｖｉ蒸着前の光ディス
ク等の透明な被蒸着物、２は被蒸着物１の蒸着面、３は
被蒸着物１の蒸着面２に蒸着により形成される蒸着物、
４は蒸着物３を蒸気にするだめの蒸着源、６は蒸着物３
が飛散状態のときの蒸気で、シャッター９が開いたとき
の状態を示している。６は水晶板が内蔵され、付着した
蒸着物の質量に応じて振動数が変化することＫより膜圧
および蒸着速度を検出する水晶モニタ、７はあらかじめ
膜厚および蒸着速度を設定しておき、水晶モニタ６で検
出した値と比較して制御信号を発生させると共にシャッ
ター９の開閉を行なう信号を発生する制御部、８け制御
部７の制御信号に応じた出力を出す蒸着源４の電源、９
はシャッターであり、図示の状態は閉じた状態を示し、
９ｂはシャッターが開いた状態であり破線で示しである
。１ｏはシャッター９が閉じた状態で水晶モニタ６に蒸
気３の一部を飛散させるために開けた穴、１１けシャッ
ター９を回動させる回動モータ、１２け被蒸着物１を回
転させる回転モータ、１３は真空槽である。
ものである。第１図において、１Ｖｉ蒸着前の光ディス
ク等の透明な被蒸着物、２は被蒸着物１の蒸着面、３は
被蒸着物１の蒸着面２に蒸着により形成される蒸着物、
４は蒸着物３を蒸気にするだめの蒸着源、６は蒸着物３
が飛散状態のときの蒸気で、シャッター９が開いたとき
の状態を示している。６は水晶板が内蔵され、付着した
蒸着物の質量に応じて振動数が変化することＫより膜圧
および蒸着速度を検出する水晶モニタ、７はあらかじめ
膜厚および蒸着速度を設定しておき、水晶モニタ６で検
出した値と比較して制御信号を発生させると共にシャッ
ター９の開閉を行なう信号を発生する制御部、８け制御
部７の制御信号に応じた出力を出す蒸着源４の電源、９
はシャッターであり、図示の状態は閉じた状態を示し、
９ｂはシャッターが開いた状態であり破線で示しである
。１ｏはシャッター９が閉じた状態で水晶モニタ６に蒸
気３の一部を飛散させるために開けた穴、１１けシャッ
ター９を回動させる回動モータ、１２け被蒸着物１を回
転させる回転モータ、１３は真空槽である。
以上のように構成された光情報記録担体の蒸着方法につ
いて、その動作を以下に説明する。
いて、その動作を以下に説明する。
まず、真空槽１３の内部を所定の真空度になるよう真空
引きを行なう。次に回転モータ１２を駆動し被蒸着物１
を回転させる。そして、制御部７に膜厚および蒸着速度
を設定し、シャッター９が閉じた状態９ａで蒸着を開始
すると、制御部７からの信号で電源８が動作し、蒸着源
４に電源８からの出力が印加され蒸着物３から蒸気６が
飛散する。このときシャッター９の穴１ｏより蒸気６の
一部が水晶モニタ６へ到達し膜厚および蒸着速度に応じ
た信号を発生する。この信号と制御部子で設定した値と
を比較し設定値になるよう制御部７で制御信号を発生さ
せ設定蒸着速度になったところで、回動モータ１１を駆
動させシャッター９を開いた状態９ｂＫし、被蒸着物１
の蒸着面２に蒸着を行ない、設定膜厚にな−）だところ
でシャッター９を閉め蒸着を終了する。
引きを行なう。次に回転モータ１２を駆動し被蒸着物１
を回転させる。そして、制御部７に膜厚および蒸着速度
を設定し、シャッター９が閉じた状態９ａで蒸着を開始
すると、制御部７からの信号で電源８が動作し、蒸着源
４に電源８からの出力が印加され蒸着物３から蒸気６が
飛散する。このときシャッター９の穴１ｏより蒸気６の
一部が水晶モニタ６へ到達し膜厚および蒸着速度に応じ
た信号を発生する。この信号と制御部子で設定した値と
を比較し設定値になるよう制御部７で制御信号を発生さ
せ設定蒸着速度になったところで、回動モータ１１を駆
動させシャッター９を開いた状態９ｂＫし、被蒸着物１
の蒸着面２に蒸着を行ない、設定膜厚にな−）だところ
でシャッター９を閉め蒸着を終了する。
しかしながら、上記のような構成においては、水晶モニ
タに内蔵された水晶板に付着した蒸着物の質量により膜
厚および蒸着速度を検出しているため付着した蒸着物の
はがれ等の付着状況により動作制御が非常に不安定であ
る。また、一定蒸着時間ごとに水晶板を取り替える必要
がある。さらに、水晶モニタは実際の蒸着面と異なる位
置に取り付けなければならないために誤差の原因となる
。
タに内蔵された水晶板に付着した蒸着物の質量により膜
厚および蒸着速度を検出しているため付着した蒸着物の
はがれ等の付着状況により動作制御が非常に不安定であ
る。また、一定蒸着時間ごとに水晶板を取り替える必要
がある。さらに、水晶モニタは実際の蒸着面と異なる位
置に取り付けなければならないために誤差の原因となる
。
以上のように、膜厚および蒸着速度の検出に対して非常
に不安定な要素を含む。また、一定蒸着時間ととに取り
替えが必要なため連続蒸着等の量産性が悪いという問題
点を有していた。
に不安定な要素を含む。また、一定蒸着時間ととに取り
替えが必要なため連続蒸着等の量産性が悪いという問題
点を有していた。
発明の目的
本発明の目的は、蒸着の条件として不可欠な膜厚および
蒸着速度の検出を安定して行ない、長期に渡って取り替
えの必要がなく量産性に優れた蒸着を可能とする光情報
記録担体の蒸着方法を提供するものである。
蒸着速度の検出を安定して行ない、長期に渡って取り替
えの必要がなく量産性に優れた蒸着を可能とする光情報
記録担体の蒸着方法を提供するものである。
発明の構成
この目的を達成するために本発明の光情報記録担体の蒸
着方法は、単一波長の光を発生する光源と、光源から照
射された光を平行光として被蒸着物の蒸着面に照射し、
蒸着面からの反射光を検出素子に集光するだめのレンズ
と、蒸着面から反射した光の光量を検出する光量検出素
子とから構成された検出手段により被蒸着物に形成され
た実際の蒸着膜の膜厚および蒸着速度を測定して制御を
かけるため非常に安定した蒸着が行なえる。また、検出
手段には蒸着物の付着がない状態で膜厚および蒸着速廖
の測定が行なえるため長時間の連続使用に耐え、量産性
に優れた蒸着が行なえることとなる。
着方法は、単一波長の光を発生する光源と、光源から照
射された光を平行光として被蒸着物の蒸着面に照射し、
蒸着面からの反射光を検出素子に集光するだめのレンズ
と、蒸着面から反射した光の光量を検出する光量検出素
子とから構成された検出手段により被蒸着物に形成され
た実際の蒸着膜の膜厚および蒸着速度を測定して制御を
かけるため非常に安定した蒸着が行なえる。また、検出
手段には蒸着物の付着がない状態で膜厚および蒸着速廖
の測定が行なえるため長時間の連続使用に耐え、量産性
に優れた蒸着が行なえることとなる。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第２図は本発明の一実施例における光情報記録担体の蒸
着方法の構成を示すものである。第２図において、１４
は単一波長の光を発生する光源、１６は光源１４から照
射された光を平行光として蒸着面２に照射し、反射した
光を反射光量検出素子１６ｉＣ集光するだめのレンズ、
１６は反射光量検出素子で、これら光源１４．レンズ１
６９反射光量検出素子１６により反射光景検出手段１７
を構成している。１８は光の光路である。また、１は被
蒸着物、２は蒸着面、３は蒸着物、４は蒸着源、６は蒸
気、７は制御部、８は電源、９けンヤノターで、９ａは
シャッターが閉じた状態、９ｂはシャッターが開いた状
態を示す。１１は回動モータ、１２は回転モータ、１３
は真空槽で、これらは第１図の従来装置の構成と同じも
のである。
着方法の構成を示すものである。第２図において、１４
は単一波長の光を発生する光源、１６は光源１４から照
射された光を平行光として蒸着面２に照射し、反射した
光を反射光量検出素子１６ｉＣ集光するだめのレンズ、
１６は反射光量検出素子で、これら光源１４．レンズ１
６９反射光量検出素子１６により反射光景検出手段１７
を構成している。１８は光の光路である。また、１は被
蒸着物、２は蒸着面、３は蒸着物、４は蒸着源、６は蒸
気、７は制御部、８は電源、９けンヤノターで、９ａは
シャッターが閉じた状態、９ｂはシャッターが開いた状
態を示す。１１は回動モータ、１２は回転モータ、１３
は真空槽で、これらは第１図の従来装置の構成と同じも
のである。
以上のように構成された光情報担体の蒸着方法について
、その動作を以下に説明する。
、その動作を以下に説明する。
塘ず、真空槽１３の内部を所定の真空度になるまで真空
引きをする。次に回転モータ１２を駆動して被蒸着物１
を回転させる。そして、制御部７に膜厚および蒸着速度
を設定し、シャッター９が閉じた状態９ａで蒸着を開始
すると、制御部７からの信号で電源８が動作し、蒸着源
４に電源８からの出力が印加され蒸着物３から蒸気６が
飛散する。その後シャッター９を開き、被蒸着物１の蒸
着面２に蒸着を行なう。このとき反射光量検出手段１７
により膜厚および蒸着速度を検出し、制御部７で設定し
た膜厚および蒸着速度と比較し制御を行なう。そして設
定膜厚に達した所でシャッター９を蘭め蒸着を終了する
。
引きをする。次に回転モータ１２を駆動して被蒸着物１
を回転させる。そして、制御部７に膜厚および蒸着速度
を設定し、シャッター９が閉じた状態９ａで蒸着を開始
すると、制御部７からの信号で電源８が動作し、蒸着源
４に電源８からの出力が印加され蒸着物３から蒸気６が
飛散する。その後シャッター９を開き、被蒸着物１の蒸
着面２に蒸着を行なう。このとき反射光量検出手段１７
により膜厚および蒸着速度を検出し、制御部７で設定し
た膜厚および蒸着速度と比較し制御を行なう。そして設
定膜厚に達した所でシャッター９を蘭め蒸着を終了する
。
以上が、本発明の構成についての動作説明であるが、次
に第３図を用い制御系の説明をさらに詳しく行なう。
に第３図を用い制御系の説明をさらに詳しく行なう。
第３図は本発明の制御系の構成を示すブロック図である
。第３図において、１９け被蒸着物１の蒸着面２の反射
光量の検出を行なう検出器、２゜は検出器２１の出力と
基準信号を比較し制御信号を発生する比較器、２１は基
準信号を発生する基準信号発生器、２２は制御信号を増
幅し蒸着源４に出力を印加する増幅器である。また、１
は被蒸着物、２は蒸着面、３け蒸着物、４は蒸着源、６
は蒸気で、これらは第１図の構成と同じものである。
。第３図において、１９け被蒸着物１の蒸着面２の反射
光量の検出を行なう検出器、２゜は検出器２１の出力と
基準信号を比較し制御信号を発生する比較器、２１は基
準信号を発生する基準信号発生器、２２は制御信号を増
幅し蒸着源４に出力を印加する増幅器である。また、１
は被蒸着物、２は蒸着面、３け蒸着物、４は蒸着源、６
は蒸気で、これらは第１図の構成と同じものである。
以上のように構成された制御系についてその動作を以下
に説明する。
に説明する。
まず、蒸着源４に入力が印加されると、蒸着物３から蒸
気６が飛散する。飛散した蒸気６は蒸着面２に付着し薄
膜を形成する。すると検出器１９で反射まだは透過光量
として検出される。検出された信号は比較器２０で基準
信号発生器２１より発生した基準信号と比較され差を制
御信号として発生する。この制御信号を増幅器２２で増
幅し蒸着源４に増幅された制御信号を印加することによ
り、一連のループを形成する。
気６が飛散する。飛散した蒸気６は蒸着面２に付着し薄
膜を形成する。すると検出器１９で反射まだは透過光量
として検出される。検出された信号は比較器２０で基準
信号発生器２１より発生した基準信号と比較され差を制
御信号として発生する。この制御信号を増幅器２２で増
幅し蒸着源４に増幅された制御信号を印加することによ
り、一連のループを形成する。
以上のように本実施例によれば、被蒸着物の蒸着面に形
成された蒸着膜を単一波長の光で反射光量検出手段で測
定し、その値で制御をすることにより非常圧安定した蒸
着が行なえる。また、検出手段には蒸着物の付着がなく
蒸着が行なえるため、連続使用に耐え量産性に優れた蒸
着が行なえる。
成された蒸着膜を単一波長の光で反射光量検出手段で測
定し、その値で制御をすることにより非常圧安定した蒸
着が行なえる。また、検出手段には蒸着物の付着がなく
蒸着が行なえるため、連続使用に耐え量産性に優れた蒸
着が行なえる。
なお、第１の実施例において反射光量により制御を行な
うとしたが、透過光量により制御を行なってもよい。
うとしたが、透過光量により制御を行なってもよい。
発明の効果
以上のように本発明け、単一波長の光を発生する光源と
、光源から出だ光を平行光として被蒸着物の蒸着面に照
射して蒸着面からの反射光または透過光を検出するだめ
のレンズと、蒸着面から反射まだは透過した光の光量を
検出する光量検出素子とか−ら構成された検出手段によ
り被蒸着物に形成された実際の蒸着膜の膜厚および蒸着
速度を測定し制御をかける蒸着方法であり、これＫよれ
ば非常に安定した蒸着が行なえる。捷だ、検出手段に蒸
着物の付着がない状態で膜厚および蒸着速度の測定が行
なえるため、長時間の連続使用に耐え量産性に優れた蒸
着を行なうことができ、その実用的効果は大なるもので
ある。
、光源から出だ光を平行光として被蒸着物の蒸着面に照
射して蒸着面からの反射光または透過光を検出するだめ
のレンズと、蒸着面から反射まだは透過した光の光量を
検出する光量検出素子とか−ら構成された検出手段によ
り被蒸着物に形成された実際の蒸着膜の膜厚および蒸着
速度を測定し制御をかける蒸着方法であり、これＫよれ
ば非常に安定した蒸着が行なえる。捷だ、検出手段に蒸
着物の付着がない状態で膜厚および蒸着速度の測定が行
なえるため、長時間の連続使用に耐え量産性に優れた蒸
着を行なうことができ、その実用的効果は大なるもので
ある。
を示す構成図である。
１ ・・・・被蒸着物、２ ・・蒸着面、３・・・・蒸
着物、４・・・・蒸着源、６・・・・水晶モニタ、了・
・・制御部、９・・・・シャッター、１３ ・・・真空
槽、１４ ・・光源、１５・・・・レンズ、１６ ・・
・反射光量検出素子、１７・・・・反射光量検出手段。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 ｄ７ 第２図
着物、４・・・・蒸着源、６・・・・水晶モニタ、了・
・・制御部、９・・・・シャッター、１３ ・・・真空
槽、１４ ・・光源、１５・・・・レンズ、１６ ・・
・反射光量検出素子、１７・・・・反射光量検出手段。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 ｄ７ 第２図
Claims (1)
- 単一波長の光を発生する光源と、前記光源から照射され
た光を被蒸着物の蒸着面に照射し、蒸着面からの反射光
または透過光を光検出素子罠集光するだめのレンズと、
前記被蒸着物の蒸着面に照射された反射または透過した
光の光量を検出する光量検出素子とから構成された前記
被蒸着物の蒸着面の光量の検出手段を有し、前記反射ま
たは透過光量の検出手段により検出される反射または透
過光量を用いて前記被蒸着物に形成される蒸着物の膜厚
および蒸着速度を制御す°ることを特徴とする光情報記
録担体の蒸着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8646584A JPS60229255A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 光情報記録担体の蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8646584A JPS60229255A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 光情報記録担体の蒸着方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60229255A true JPS60229255A (ja) | 1985-11-14 |
Family
ID=13887703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8646584A Pending JPS60229255A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 光情報記録担体の蒸着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60229255A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2719900A1 (fr) * | 1994-05-11 | 1995-11-17 | Essilor Int | Procédé et dispositif pour la mesure in situ des contraintes se développant au sein d'une couche mince lors de son dépôt sur un substrat. |
-
1984
- 1984-04-27 JP JP8646584A patent/JPS60229255A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2719900A1 (fr) * | 1994-05-11 | 1995-11-17 | Essilor Int | Procédé et dispositif pour la mesure in situ des contraintes se développant au sein d'une couche mince lors de son dépôt sur un substrat. |
| WO1995031706A1 (fr) * | 1994-05-11 | 1995-11-23 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Procede et dispositif pour la mesure in situ des contraintes se developpant au sein d'une couche mince lors de son depot sur un substrat |
| US5745240A (en) * | 1994-05-11 | 1998-04-28 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Method and device for in situ stress measurement within a thin film upon its deposition on a substrate |
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