JPS60220781A - ゴム印字体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は表面に凹凸レリーフの印字面を有するゴム印
字体の製造方法に関する。より詳しくは非多孔性のゴム
ベース層の表面に薄手の多孔性ゴム被覆層が一体形成さ
れた断面構造のゴム印字体を製造する方法に関する。

すなわち、第１図に示す如き回転印においては。

ヘルド状のゴム印字体へが手送り回転操作可能に巻き掛
けられており、このゴム印字体Ａの表面には凹凸レリー
フの印字面１が一定間隔置きに突出形成されている。ま
た、第２図に示す如きゴム印においては、柄２の下面に
同じく凹凸レリーフの印字面１が形成されたゴム印字体
Ａが貼着されている。そのほか認め印等もある。この発
明はかかるゴム印字体Ａを対象とする。

〔背景技術〕

これらのゴム印字体Ａが通常の非多孔性ゴム材（いわゆ
る赤ゴム）で成形されたものでは、これの表面（印字面
）に水溶性インクが乗り難い。紙面への押印時に印影が
掠れがちになる。これはゴム印字体Ａの表面にインクを
積極的に吸着補足する手段が無いからである。

（本発明のゴム印字体の基本構造） そこで２本出願人は先に第３図に示す如き断面構造のゴ
ム印字体Ａを提案した（実願昭５７−１９４１９０号、
同５Ｂ−９６０８６’ｉ））。これの基本構造は厚手の
非多孔性・ゴムベース層３の表面に極薄の多孔性ゴム被
覆層４を一体に積層形成したものである。これによると
きは多孔性のゴム被覆層４の微細な気孔の中にインクが
吸着され、押印時の圧縮変形でインクが表面に絞り出さ
れるので１紙面に対するインクの転写性が全面的に向上
できた。

この種のゴム印字体Ａと似て非なるものに連続捺印を目
的とする自動印判のゴム印字体がある。

この自動印判におけるゴム印字体ａは１例えば第５図に
示す如く空隙率の大きい多孔性の第１ゴム層５の表面に
、空隙率の小さい多孔性の第２ゴム層６を積層形成し、
第１ゴム屓５に吸蔵したインクを第２ゴム層６に移行さ
せて第２ゴム層６の表面を紙面に押圧するものである。

これでは第１ゴム層５ば勿論のこと第２ゴム層６もイン
クを吸蔵させるために厚い。その結果、全体の腰が弱く
。

紙面に押すと多孔性ゴム層５・６が全体に大きく圧縮変
形して、過剰なインクで印影がベタついて不鮮明になる
。つまり圧縮性が過剰であるためにゴム印字体を強く押
し過ぎないように接当規制するストッパ一手段が不可欠
である。それに、これらの多孔性ゴム層５・６は空隙率
が一般に６０〜９０％程度に設定されているので当然に
脆弱であり５突出部字部が欠落しやすい。いずれにせよ
５本発明が対象とするゴム印字体Ａにおける多孔性ゴム
被覆層４は厚みが０．０５〜０．５龍程度のものであっ
て、６〜７回程度の連続押印は可能であるが連続押印を
主目的としておらず、この点で自動印判のゴム印字体ａ
とは根本的に異なるものである。

（従来のゴム印字体の製造方法） この種のゴム印字体Ａは、第６図に示すごとく適当な厚
さを有する未加硫のシート状第１ゴム物質３ａの表面に
、塩化ナトリウムなどの易溶性物質およびトルエンなど
の溶剤を混合した未加硫の液状第２ゴム物質４ａを薄く
塗布する。次に金型にいれて加熱加圧下で両ゴム物質３
ａ・４ａを同時に加硫するとともに、印字面１を含む全
体形状を成形する。そして、この成形品を液の中に入れ
てゴム物質４ａから易溶性物質を抽出し、最後に所望の
幅員に切断してゴム印字体Ａをつくっていた。しかると
きは、第１ゴム物質３ａで非多孔性のゴムベース層３が
構成され、第２ゴム物質４ａで多孔性のゴム被覆層４が
形成されて第３図の断面構造になっていた。

（従来の製造方法によるときの問題点）　−この従来方
法で問題なのは第１ゴム物質３ａに第２ゴム物質４ａを
塗布したのち１両ゴム物質３ａ・４ａを同時に加硫成形
する点である。

すなわち、成形時に両ゴム物質３ａ・４ａは金型内で所
定の凹凸レリーフを有するように圧縮を受けるが、この
とき両ゴム物質３ａ・４ａは共に未加硫状態にあるから
金型内で流動する余地がある。しかるに、製品ゴム印字
体の印字面１に形成されるべき凹凸レリーフは均一では
なく大小・粗密があり、しかもゴムベース層３を構成す
る第１ゴム物質３ａはかなりの厚手であるが、ゴム被覆
層４を構成する第２ゴム物質４ａは塗布厚で０．０５〜
０．５　ｍ■という極薄である。そのため、第１ゴム物
質３ａと第２ゴム物質４ａとが成形時に金型内で流動し
て混じり合い、特に第２ゴム物質４ａが第１ゴム物質３
ａの表面で部分的に厚く又は薄くなる。

製品化したときの従来のゴム印字体の断面は概して第７
図に示すようである。つまり。

（１１印字面１の突部における肩部７に第２ゴム物質４
ａが特に厚く偏って該肩部７でゴム被覆層４□が必要以
上に分厚くなる。これは押印したとき印影が型崩れして
シャープではなくなることを意味する。

（２）第２ゴム物質４ａが第１ゴム物質３ａの中に大き
く回り込んで（符号８で示す部分）、ゴムベース層３の
中にまでゴム被Ｔｉｅ、屓４が巣くった状態で形成され
る。こうなると、ゴムベース層３の元来の機能が半減し
て腰が弱くなり過ぎ、押印時に印影が型崩れすることは
勿論のこと、多孔性ゴム被覆Ｎ４の回り込みで該当部分
８から突出印字部が欠損しやすくなる。

（３１印字面１の前記肩部７を除く突出端面に、ゴム被
覆層４が形成されずにイムベース層３が部分的に露出し
た状態となり（例えば符号９で示す部分）、押印時に該
当部分９が先当りして印影が掠れる。とくにゴム印字体
の表面の凹底面、なかでも第１図に示す回転即用のゴム
印字体では隣接する印字面１・１間に溝１０が形成され
るが、この溝底面１０８などには殆どゴム被覆層４が形
成されない状態となる。この溝部分にゴム被覆層４が所
定の厚みで或いは全く形成されなくても機能的にはさほ
どの支障を生じない。しかし、一般には通常の非多孔性
ゴム材のみで形成されたゴム印字体（いわゆる赤ゴムと
称されているもの）と区別するために、ゴム被覆層４を
青色などに着色するが、そうした場合に部分的な色度わ
りの箇所が多数出現して商品化するに難が出る。

これらの従来方法による欠点は、思うに印字面１のレリ
ーフの深さが一定でも大小（印字面１の突部の幅）がさ
まざまであり、凹凸が複雑に密集している場合もあれば
逆に粗い場合もあり、これに伴って金型で加硫成形した
とき、ゴムベース層３も含めて表面が凹凸状に成形され
るわけだから。

第２ゴム物質４ａの未加硫状態での塗布厚が一定であっ
ても、製品化したときにゴム被覆層４の厚みがレリーフ
によって当然に影響を受けることによる。一般にはレリ
ーフの粗いところでは多孔性ゴム被覆層４の厚みは大き
くなり、密なるところでは逆に薄くなる傾向が認められ
る。

更に困難なことに、印字面１の全体の面積が小さいゴム
印字体では一般に印字面１のレリーフが細かくて密であ
るところ、多孔性ゴム被ｗ層４の厚みは薄く設定する必
要がある。なぜなら、同じ力で紙面に押しつけても印字
面１の面積が小さいときは単位面積当りの受圧力は面積
の大きいものより強くなるため、印字面１の型部れを防
止するうえでゴム被覆層４の厚みを薄く設定しなければ
ならないからである。しかし、第２ゴム物質４ａの塗布
厚はある限度を越えて薄くするとゴムベースＮ３の一部
が外部に露出する事態を招くので限界があり（本発明者
の経験では０．０５　ｉｔｓが限界）。

総じてゴム被覆層４が部分的に厚くなり過ぎる傾向があ
る。すなわち、活字の大きさで４号以下の小さいものに
なると、第８図に示すごとく突出印字部が完全にゴム被
覆層４のみで構成されるといった事態を招きがちであり
、これでは突出印字部が脆弱で欠損を受けやすい。印字
面１の面積が大きいゴム印字体においても印字面１にお
けるゴム被覆層４の厚みムラを招き、この場合は逆にゴ
ムベース層３がゴム被覆ｒｆｉ４を突き破って外部に露
出しがちである。

つまるところ従来の製造方法では第２ゴム物質４ａの塗
布厚をいかに注意深く均一化しようとも。

印字面１のレリーフによって製品後のゴム被覆層４に厚
みムラが生じることが避けられなかったのである。

〔発明の目的と内容〕

この発明は、かかる従来の不具合を解消するために提案
されたものであり、基本的には第３図に示すごとき断面
構造のゴム印字体を得るについて。

印字面１のレリーフに大小や粗密があっても、非多孔性
ゴムベース層３の表面に多孔性ゴム被覆層４が全面にわ
たって均一に加硫成形できるようにすることを第１の目
的とする。

上記の目的を達成するために、この発明では非多孔性ゴ
ムベース層３の印字面側の表面に多孔性ゴム被覆層４が
薄く一体に積層形成された。第３図に示す断面構造のゴ
ム印字体Ａを製造するについて、第４図に示すごとく未
加硫のシート状第１ゴム物質３ａを金型で加硫成形して
表面に所定のレリーフを有する一次成形品１１を得る工
程と。

この−次成形品１１の表面に易溶性物質を含む未加硫の
液状第２ゴム物質４ａを均一に塗布する工程と、−次成
形品１１を一次成形用のものと同一形状の金型で加硫し
て二次成形する工程と、二次成形品１３から前記易溶性
物質を抽出する工程とを経て、第１ゴム物質３ａで非多
孔性ゴムベース層３を構成し、第２ゴム物質４ａで多孔
性ゴム被覆層４を構成する基本形態とする。この基本的
な製造方法は本出願人によって提案済である（特願昭５
８Ｌ−２３２５１７号）。これで注目すべきは一次成形
用と二次成形用の金型が同−又は別体でも同一形状のも
のであって、二段階に成形するようにした点である。

但し５本発明者等は実際に一次成形品１１にそのまま第
２ゴム物質４ａを塗布して直ちに二次成形に移したとこ
ろ、−次成形品１１が二次成形用金型にスムーズに入ら
ないことを知った。とくに−次成形品１１が大判の場合
に顕著であった。これは−次成形品１１が半加硫成形状
態に止めたとしても３％程度の収縮が必ず生じることに
よる。

そのため、−次成形品１１をいらいち引き伸しながら二
次成形用金型に互いの凹凸レリーフを合致させるよう入
れなければならず、この作業が至極面倒であり、この作
業中に一次成形時の凹凸レリーフが型部れして製品不良
を招いていた。なりの大判になると一次成形品１１を二
次成形用金型に入れられなくなるといった事態も生じて
いた。

そこで２本発明ではかかる不具合も解消することを第２
の目的とするものであり、その特徴とするところは未加
硫の第１ゴム物質３ａの裏面に目の密な非伸縮性布１４
を裏張りして第１ゴム物質３ａを一次成形し、以後は前
述した要領で成形するようにしたものである。この非伸
縮性布１４は多くの場合が再使用に供することもあって
二次成形後に剥ぎ取られる。しかるときは、−次成形品
１１はその第１ゴム物質３ａが非伸縮性布１４の目に食
い込んでいるので、収縮が可及的に抑えられ、この−次
成形品１１を二次成形用金型にそのままスムーズに入れ
ることができる。

具体的に第１図に示す回転即用のゴム印字体Ａを得るに
ついては次の工程を経て製造することになる。

第１工程： まず、第４図＋ａｌに示すごとく、未加硫のシート状第
１ゴム物質３ａの裏面側に目の密な非伸縮性布１４を裏
張りしたのち、この第１ゴム物質３ａを金型に入れて加
硫成形し１表面に所定のレリーフを有する一次成形品１
１を得る。第４図（ｂ）はこの−次成形品１１を示す。

この−火成形に際しては形ができて金型から取り出せる
程度の半加硫状態（通常は５０〜７０％程度の加硫状態
）にし。

完全に加硫しないことが望まれる。

第２工程： 第４図（Ｃ１に示すごとく、−次成形品１１の表面に易
溶性物質１２および溶剤を含む第２ゴム物質４ａをスプ
レーガンなどで均一に塗布する。このときの第２ゴム物
質４ａの塗布厚は製品化したときのゴム被覆層４の厚み
を０．０５〜０．５１に′するに必要な厚みである。因
に、レリーフの凹所にゴム物質４ａが多く溜ることは実
際上全く支障がなかった。

第３工程： 第２ゴム物質４ａ中の溶剤を飛ばして適度に乾燥したの
ち、−次成形品１１を一次成形用金型と同一形状の金型
に入れて両ゴム物質３ａ°４ａを完全に加硫成形し、第
４図＋ｄｌに示すごとく二次成形品１３を得る。この際
の二次成形用金型は一次成形用金型と同じものを使用し
てもよいが、連続成形の都合で一次成形用金型と同一形
状の別の金型を使用してもよい。

第４工程： 二次成形品１３を適当な液の中に漬は込んで加硫済の第
２ゴム物質４ａ中に混合せる前述の易溶性物質１２を抽
出する。

かくして得られたシート状の二次成形品１３を裁断して
所望形状の製品ゴム印字体Ａをつくれば。

第１ゴム物質３ａで非多孔性ゴムベース層３が。

第２ゴム物質４ａで多孔性ゴム被覆層４がそれぞれ構成
されて第３図の断面構造になる。

ゴムヘースＩＷ３を構成するゴム物質３ａとゴム被覆層
４を構成するゴム物質４ａとは、好ましくは互いに相溶
性を有する同一物質、一般にはＮＢＲ（アクニロニトリ
ル・ブタジェン・ゴム）からなる。天然ゴム（ＮＲ）を
用いることもできる。

非多孔性のゴムベース層３は軟らかくなり過ぎると、多
孔性ゴム被覆層４の厚みを極力小さくしても特にゴム印
字体Ａの受圧面積が小さいときに形部れする。また、ゴ
ムベース層３が硬くなり過ぎると５押し心地が悪くなる
とともに、とくにゴム印字体Ａの面積が大きいときに凹
凸を有する紙面への密着性が、薄い多孔性ゴム被覆層４
だけでは対応し切れなくなって印影が部分的に掠れるこ
とになる。したがって、ゴムベース層３のゴム硬度とし
ては４５°〜７０°、好ましくは５２°〜６８°、さら
に好ましくは６２”〜６４゛の範囲内であることが望ま
れる。ゴムベース層３は厚みが不足すると本来の機能が
発揮されず、Ｗ−すぎると特に印字面１の面積が小さい
ときに腰が弱くなって型崩れを招くので、第３図におい
て印字面１を有する突出印字部分で１．０〜１．５　ｖ
ｓｍ程度に設定することが推奨される。

多孔性ゴム被覆層４の厚みは一般に９．５　ｖａｎを越
えるとこれ自体の圧縮変形性が高くなり過ぎ、従来の自
動印判にみられる多孔性ゴム層におけると同様に、ゴム
印字体Ａの面積の大小にかかわらず（特に小さい場合に
顕著であるが）、インクを保有し過ぎて印影の型崩れと
インク過多によるベタつきを生じる。逆に厚みが０．０
５　龍より下回ると。

ゴムベース層３の一部が外部に露出するおそれがあり、
かつゴム被覆層４がインクを吸着補足するという元来の
機能が十二分に発揮されず、ゴム印字体Ａの面積が大き
いときに僅かでも紙面に片当り状態になると転写不良を
招く。従ってゴム被覆層４の印字面１における平均的な
厚みは０．０５〜０．５Ｈの範囲であることが望まれる
。この厚みはすなわち第１ゴム物質３ａの表面に対する
第２ゴム物質４ａの塗布厚で決定される。尤も、当業界
で汎用されている数字印の大きさの単位としては特大号
、初号、１号、２号、３号、４号、５号。

６号が知られており２例えば特大号や初号といった大き
さでは１．５　ｉｌｌ程度の厚みでも使用に耐えるし、
逆に４号以下になると０．５　＋ｎ厚では厚過ぎて印影
の型崩れ、インクのベタつきは避けられず。

第２ゴム物質４ａの塗布厚は相対的なものである。

易溶性物質１２としては一般に塩化ナトリウムが使用さ
れるが、その他の糖類でもよい。通常使用される塩化ナ
トリウムの場合、ゴム１重量部に対して３〜６重量部、
更に好ましくは３．５〜４重量部を混合し、多孔性ゴム
被覆層４の空隙率は６０〜９０％好ましくは６８〜７０
％に設定する。

６重量部を越えるとゴム被覆層４が極端に脆弱になって
耐久性の点で問題があり、３重量部以下になるとインク
の付着性が不満足になるからである。

第２ゴム物質４ａを熔解する溶剤もトルエンその他のゴ
ム用であれば何でもよい。

ここで注目すべきは前記非伸縮性布１４の存在である。

この非伸縮性布１４としては綿布その他の耐熱性の合成
樹脂布であって、目の密な非・伸縮性のものを使用する
。これらの条件を満足するときは無数の小孔を有する合
成樹脂シートであってもよい。そして、非伸縮性布１４
は充分な腰の強さを有するものであることが望まれる。

それは二次成形後に二次成形品１３から剥ぎ取ることを
予想してのことである。この非伸縮性布１４の使用によ
り、−次成形後に第１ゴム物質３ａは非伸縮性布１４の
目の中に食い込んで一次成形品１１が従来のように収縮
せず、ために−次成形品１１が二次成形用金型にスムー
ズに凹凸レリーフを合致させて入れられることになる。

本発明で言う金型とは第１図に示すごとき回転即用のゴ
ム印字体Ａを対象とするときはパターンが定まっていて
大量生産されるので通常の継続使用する金型を意味する
ことになるが、これに限られない。例えば、第２図に示
すごときゴム印用のゴム印字体Ａでは一品製作ものであ
るから、フェノール樹脂製の母型を使用するが、かかる
母型も金型の概念に含まれるものであることは言うまで
もない。因に、−品製作のゴム印字体Ａと言うも。

これが単一で製作されることは稀であり、一般には数個
まとめて製作されるので、小さくても２００ｃｎ＋経度
の大きさを有する金型になるであろう。

〔実施例〕

非伸縮性布１４を裏張りした未加硫のシート状第１ゴム
物質３ａを金型に入れて表面に所定のレリーフを有する
一次成形品１１を得た。この−次成形品１１は５０％程
度の半加硫状態に止めた。

次に、−次成形品１１の表面に塩化ナトリウムとトルエ
ンを含む液状の第２ゴム物質４ａをスプレ−ガンで０．
０７　＊ｍ厚に噴霧塗布し９次に乾燥後の一次成形品１
１を同じ一次成形時の金型に入れて再び加硫成形し、こ
の場合は完全に加硫して二次成形品１３を得た。次に二
次成形品１３から前記非伸縮性布１４を剥ぎ取ったのち
、この二次成形品１３を水の中に漬けて前述の塩化ナト
リウムを溶解抽出した。最後に所望の幅員に切断してゴ
ム被ｒｆｔ層４の厚みが０．０５　ｍｌの第３図に示す
回転印に用いる４号活字のゴム印字体Ａ（数字印）をつ
くった。しかるときは、−次成形品１１の収−縮が殆ど
無く、これをそのまま二次成形用金型に凹凸レリーフを
合致させて簡単に入れられ、−次成形品１１は半加硫状
態に止めたので、製品化したときのゴムベース層３とゴ
ム被５．層４との結着力がよく確保できた。そして多孔
性ゴム被覆層４の厚みは凹凸レリーフの大小や粗密に影
響を受けず。

全面的に均一に仕上がり、かつゴム被ｍＪＪ４がゴムベ
ース層３から全く剥離しないものが得られた。

〔変形例〕

なお、ゴム印字体Δはゴムベース層３の下面に非伸縮性
布１４を剥ぎ取らずに一体結着した断面構造としてもよ
い。ゴムベース層３とゴム被覆層４との間に７両者３・
４の結着強度をより強固にするために接着剤層を介在さ
せたり２両者３・４間に該ゴムベース層３よりも硬い１
例えば７０゜〜９０°程度のゴム硬度を有する中間層を
介在させるなどの変形も本発明の予想するところである
。

また、−次成形は前述したように第１ゴム物質３ａを半
加硫状態に止めることが望ましいが、金型からの一次成
形品１１の取り出しの容易化を図るなどのために一次成
形時に第１ゴム物質３ａを完全に加硫するようにしても
よいであろう。

〔発明の効果〕

以上説明したように、この発明によれば、基本的には厚
手の非多孔性ゴムベース層３に薄手の多孔性ゴム被覆層
４を一体に積層形成した断面構造のゴム印字体Ａを製造
するについて、まず厚手の非多孔性ゴムベース層３を構
成する未加硫のシート状第１ゴム物質３ａを金型で加硫
成形しておき。

次にこの一次成形品１１の表面に薄手の多孔性ゴム被覆
Ｊｉｉ４を構成する第２ゴム物質４ａを均一に塗布した
のち、同一形状の金型で加硫して二次成形するものとし
た。つまり、この二次成形時には既に一次成形されたゴ
ムベース層３の凹凸レリーフにゴム被覆層４をこの凹凸
レリーフに沿わせて薄く成形するものであるから、ゴム
被覆層４は印字面１のレリーフの大小や粗密によく対応
して全面的にムラのない均一な厚みに仕上げることがで
きる。また、二次成形のときに一次成形時の成形不良部
分も修正するので、レリーフもシャープで端正に仕上が
る利点を有する。

そのうえで、−次成形に先立って第１ゴム物質３ａの裏
面側に目の密な非伸縮性布１４を裏張りしておくものと
したので、−次成形品１１は第１ゴム物質３ａが非伸縮
性布１４に食い込んで収縮が積極的に抑えられことにな
り、−次成形品１１が二次成形用金型に簡単に入れられ
る。したがって、大判のゴム印字体Ａを製造する際にも
作業が楽になり２作業能率の向上を図れるとともに、−
次成形品１１を無理に引き伸ばす必要がないので高精度
に仕上げることができる利点をも有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明が対象とするゴム印字体を使った回転印
を例示する一部縦断正面図である。第２図は本発明が対
象とするゴム印字体を使ったゴム印を例示する斜視図で
ある。 第３図は本発明方法によって得られるゴム印字体の断面
図、第４図ｆａ）・ｆｂ）・ｆｃ）は該ゴム印字体の製
造工程を順次的に説明するそれぞれの概略断面図である
。 第５図は従来の自動印判における多孔性ゴム印字体の断
面図である。 第６図は本発明が対象とするゴム印字体の従来例におけ
る製造工程途中の状態を示す概略断面図。 第７図と第８図はその従来方法によって得られたゴム印
字体の不良状態をそれぞれ示す概略断面図である。 １・・・・・印字面。 ３・・・・・非多孔性ゴムベース層。 ３ａ・・・・第１ゴム物質。 ４・・・・・多孔性ゴム被覆層。 ４ａ・・・・第２ゴム物質。 １１・・・・−次成形品。 １２・・・・易溶性物質、　 １３・・・・二次成形品。 １４・・・・非伸縮性布。 発　明　者　白木　孝信 同　福武　健治 第２図 第３図 第　４　図（ａ）　第　４　図（、） 第　４　図（ｂ）　第　ｔｌ　図（ｄ）第Ｓ図 第７図　第８図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）非多孔性ゴムベース層３の印字面側の表面に。 多孔性ゴム被覆層４が薄く一体に積層形成されたゴム印
   字体Ａを製造するについて、裏面側に非伸縮性布１４を
   裏張りした未加硫のシート状第１ゴム物質３ａを金型で
   加硫成形して表面に所定のレリーフを有する一次成形品
   １１を得る工程と、この−次成形品１１の表面に易溶性
   物質１２を含む未加硫のゴム物質４ａを均一に塗布する
   工程と。 −次成形品１１を同一形状の金型で加硫して二次成形す
   る工程と、二次成形品１３を液に入れて第２ゴム物質４
   ａ中の易溶性物質１２を抽出する工程とからなるゴム印
   字体の製造方法。