JPS60211614A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は磁気記録媒体に関する。

背景技術とその問題点 近年、磁気記録のＩＧ］密度化の目的で磁性薄映型の磁
気記録媒体、即ち非磁性基体上に４空蒸着、スパッタリ
ング等の方法により数白人〜略ｌμｒｎの（νさの強磁
性金属ｊ−を形成させた磁気記録媒体についての研究が
盛んである。

本出願人においζも、先に斜め蒸着法によることなく、
はばｐＢ直方向の蒸着、スパッタリングによっｉｌ”　
ｉＢｉい抗磁力を示し且つ１８Ｉい角形比を有する磁気
的に等方性の磁性薄躾型の磁気記録媒体を提案した。こ
の磁気記録媒体は非磁性基体上に例えばＢｉ等の低融点
非磁性金属を被着した後、引き続きこれの上に例えばＧ
ｏ、　Ｇｏ−Ｎ１等の強磁性金属を被着形成するもので
ある。ところで、かかる磁気記録媒体では走行安定性、
耐久性に優れ、しかもドロップアウトのないことが望ま
れる。これらは磁気記録媒体の表面性に関係し、従って
従来、非磁性基体の表面性に関して多くの提案がなされ
ζいるが、上記の低融点非磁性金属と磁性金属を連続し
゛ζ気相メッキで形成する型式の磁気記録媒体には適用
できない。特に高い抗磁力が得られない発明の目的 本発明は、上述の点に鑑み、走行安定性、耐久性及びド
ロップアウトを共に良好ならしめた磁気記録媒体を提供
するものである。

発明の概要 本発明は、表向に、被着される低融点非磁性金属の膜厚
よりも高く且つ粒径０．０１〜０．３μｍの突起が１カ
〜１０００カ個／ＩＩｍ′存在し°（成る非磁性基体上
に、低融点非磁性金属と磁性金属とが連続し′ζ気相メ
ッキにより形成され°Ｃ成る磁気記録媒体である。

この発明では、ドロップアウトが少なく、しかも走行安
定性、耐久性にずくれたこの種の磁気記録媒体が得られ
る。

実施例 以ト、本発明の詳細な説明する。

本発明においては、表面に爾後被着される低融点非磁性
金属の映厚よりも商く且つ粒径０．Ｏ１〜０．３μｍの
微細な突起が１１−２当り１万〜１０００力個存在する
ような非磁性基体を設け、この基体上に例えば蒸着、ス
パッタリング等の所謂気相メッキによっ′Ｃ１低融ｔ（
非磁性金属を被着し、引き続き磁性金属を被着して磁気
記録媒体を構成する。

この場合、突起が０．３μｍより大きいとドロップアウ
トが多くなり、０．０１μｍより小さいと摩擦係数が大
きくなる。また突起の密度が１０００万個／ｌ＠２より
多いとＳ／Ｎが１県くなり、１刃傷ｌ　／　＊ｍ　’よ
り少ないと［擦係数が大きくなる。非磁性基体の表面に
かかる微細突起を形成する方法とし°ζは、例えば非磁
性基体に例えは炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、カ
オリン等の不活性無機物微粒子のフィラーを内填する方
法、或は非磁性基体の表面に例えばエポキシ化ポリジメ
チルシロキサンエマルション、塩化マグネシラノ、エマ
ルジョン、メチルセルロースを含む水性エマルジョン等
のエマルジョン、或はこれらの溶液に炭酸カルシウム、
酸化マグネシウム、カオリン等の不活性無機物を加えた
エマルジョンを塗布する方法がある。

非磁性基体としては例えばポリエチレンテレフタレート
、ポリアミド、ポリアミドイミド′、ポリイミド等の高
分子フィルムを用いることができる。

低融点非磁性金属としては、Ｒ１，Ｇａ、　Ｓｂ、　Ｉ
ｎ＋Ｓｎ、　ＴＩ、又はこれらの合金例えばＧａ−＾１
．Ｂ１−Ｉｎ等を用いることができる。

磁性金属としては、Ｃｏ、　Ｐｅ＋　Ｎｉ或はこれらの
合金（例えばＣｏ〜旧合金合金を用いることができる。

第１図は本発明に適用される蒸着装置である。

この蒸着装置（１１は、真空チャンバー（２）内に金属
キャン（３）が設けられ、これを繞っＣ例えば非磁性基
体（４）が供給リール（５）及び巻取リール（６）間に
走行するようになされる。一方金属キャン（３）に対向
し°ζ低融点非磁性金属の蒸着源例えばＢｉ蒸着源（７
）と強磁性金属の蒸着源例えばＣｏ−Ｎｉ合金蒸着源（
８）が配置される。（９）は蒸着源（７）及び（８）よ
りの各金属蒸気流を相Ｊ「に遮蔽する遮蔽板、（１０）
は各蒸着源（７）及び（８）と金属キャン（３）との間
に配置されたシャッターである。この装置では、非磁性
基体（４）の走行速ヒにおいＣ先づ例えばＢｉ蒸着源か
らＢｉの蒸着をなして基体（４）上に旧の蒸着膜を形成
し、これの上に連続して例えばＣｏ−Ｎｉ合金蒸着源（
８）からのＣｏ−Ｎ１合金を蒸着し“ζ強磁性層を被着
形成するようにな−６ 実施例１ 非磁性１４体（４）とし゛（、表面に平均粒ｉイが０．
０３μｒｎの突起が１ｍ２当り約ｌＯＯ力個存在して成
るポリイミドフィルムを用いる。そし６１図の蒸着装置
６１（１）を使用し、ｌ　Ｘ　１０＝　Ｔｏｒｒの圧力
ドで」二記非磁性基体（４）を走行させ、このときの非
磁性基体（４）の温度を１４０℃となして蒸着源（７）
より旧を２００人の厚さに蒸着し、連続して蒸着源（８
）よりＧｏ−２ＯＮｉ合金（Ｃｏが８０原子％、Ｎｉが
２０原子％）を４５０人の厚さに蒸着して磁性層を形成
した。このようにして得られた磁気記録媒体の静磁気特
性は、抗磁力Ｈｃ　’：：８７００ｅ、角形比Ｒｓ’：
０．７６であった。この磁気記録媒体を実施例１とした
。

実施例２ 非磁性基体（４）として、表面に平均粒径が０．０３μ
ｍの突起が１Ｍ１Ａ２当り２万個存在して成るポリイミ
ドフィルムを使用し、それ以外は実施例１と同じにした
。このようにして得られた磁気記録媒体の静磁気特性は
実施例１と同様であった。この磁気記録媒体を実施例２
とした。

比較例１ 非磁性基体（４）として、表面に平均粒径が０．００５
μｍの突起が１龍２当り　１００万個存在し′ζ成るポ
リイミドフィルムを使用し、それ以外は実り面倒Ｉと同
じにした。このようにして得られた磁気記録媒体の静磁
気特性は実施例１と同様であった。この磁気記録媒体を
比較例１とした。

比較例２ 非磁性基体（４）として、表面に平均粒径が０．４μｍ
の突起が１龍２当り１万個存在し′ζ成るポリイミドフ
ィルムを使用し、それ以外は実ｈ１６例１と同じにした
。このようして（↓ｔられた磁気記録媒体の静磁気特性
は実施例１と同様であった。この磁気記録媒体を比較例
２とした。

に記各例の磁気記録媒体における摩擦係数μ、ドロソプ
アウ１−及びスチル特性につい゛ζ測定した結果を表１
に乃くず。

なお、測定は３．５インチ（線密度２００００ピツｔ・
７インチ）のマイクロフロッピーディスクにて計１ｉ１
１ｉ　シた。１０ソプアウＩ・は記録全面に対する初期
値、スチル特性は再生出力が初期出力より６ｄｌｌ減少
するまでの時間である。

表　１ 表１より明らかなように、比較例１の磁気記録媒体は）
！Ｊ擦係数が大きく走行安定性に問題があり、また比較
例２の磁気記録媒体はドロップアウトが多くいずれも使
用できない。これに対し′ζ、実施例１及び２の磁気記
録媒体は摩擦係数、ドロップアウト及びスチル特性共に
良好であり、走行安定性、耐久性等に優れる。

発明の効果 本発明では、非磁性基体上に低融点非磁性金属を介して
磁性金属を形成して成る磁気記録媒体に於て、特にその
非磁性基体として、表面に低融点非磁性金属の膜厚より
も高く且つ粒径が０．０１〜０．３μｍの突起を１ｍｍ
’当り１万〜１０００力１１Ｍ存在せしめた非磁性基体
を用いることにより、その抗磁力及び角形比を低ｌ・さ
せることなく、走行安定性、耐久性を良好にし、しかも
ドロップアウトを低減させることができる。従っ゛ζζ
重密度記録用テープ、ディスク等に適用して好適ならし
めるものごある。

【図面の簡単な説明】 図は本発明に適用される蒸着装置の例をボず構成図であ
る。 （２）は真空チャンバー、（３）は金属キャン、（４）
は非磁性基体、（７）は低融点非磁性金属の蒸着源、（
８）は（ｄ性金属の蒸着踪°である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 表面に、被着される低融点非磁性金属の膜厚よりも、０
   １り且つ粒径０．０１〜０．３μｍの突起が１万〜１０
   ００万１ｌｌｉｌ　／　ｍａ　２存在しζ成る非磁性基
   体上に、上記低融点非磁性金属と磁性金属とが連続し°
   ζ気相メッキにより形成され”Ｃ成る磁気記録媒体。