JPH04229411A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH04229411A JPH04229411A JP40769490A JP40769490A JPH04229411A JP H04229411 A JPH04229411 A JP H04229411A JP 40769490 A JP40769490 A JP 40769490A JP 40769490 A JP40769490 A JP 40769490A JP H04229411 A JPH04229411 A JP H04229411A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、固定磁気ディスク装
置等に用いられる磁気記録媒体およびその製造方法に関
する。
置等に用いられる磁気記録媒体およびその製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】固定磁気ディスク装置に用いられる磁気
記録媒体（以下、単に媒体とも称する）の製造方法とし
て、従来、磁性層をγヘマタイト塗布法、Ｃｏ（コバル
ト）合金めっき法、Ｃｏ合金スパッタ法などで成膜する
方法が採られてきた。
記録媒体（以下、単に媒体とも称する）の製造方法とし
て、従来、磁性層をγヘマタイト塗布法、Ｃｏ（コバル
ト）合金めっき法、Ｃｏ合金スパッタ法などで成膜する
方法が採られてきた。
【０００３】これらの製造方法のうち、近年、固定磁気
ディスク装置の大容量化に伴い要求される高記録密度化
に対応し得るものとしてＣｏ合金スパッタ法が注目され
ている。
ディスク装置の大容量化に伴い要求される高記録密度化
に対応し得るものとしてＣｏ合金スパッタ法が注目され
ている。
【０００４】Ｃｏ合金スパッタ法は、通常、ディスク状
Ａｌ合金板を所定の平行度、平面度および表面粗さに機
械加工し、その表面に無電解めっき法で非晶質状のＮｉ
−Ｐ合金層を形成し、その表面を研磨して所定の表面粗
さとして非磁性基板とし、この基板を精密洗浄後真空中
で所定温度に加熱した後、Ａｒガス雰囲気中で膜厚約２
０００ÅのＣｒ下地層、膜厚約５００ÅのＣｏ合金磁性
層、膜厚約３００Åのａ−Ｃ保護層を順次スパッタ成膜
して媒体とする。また、必要に応じて、媒体表面の潤滑
性能を高める目的で保護層上にさらに液体潤滑剤を塗布
した潤滑層を設ける。
Ａｌ合金板を所定の平行度、平面度および表面粗さに機
械加工し、その表面に無電解めっき法で非晶質状のＮｉ
−Ｐ合金層を形成し、その表面を研磨して所定の表面粗
さとして非磁性基板とし、この基板を精密洗浄後真空中
で所定温度に加熱した後、Ａｒガス雰囲気中で膜厚約２
０００ÅのＣｒ下地層、膜厚約５００ÅのＣｏ合金磁性
層、膜厚約３００Åのａ−Ｃ保護層を順次スパッタ成膜
して媒体とする。また、必要に応じて、媒体表面の潤滑
性能を高める目的で保護層上にさらに液体潤滑剤を塗布
した潤滑層を設ける。
【０００５】このような製造方法において、Ｃｏ合金と
してＣｏ（コバルト）−Ｎｉ（ニッケル）−Ｃｒ（クロ
ム）系合金を用いた媒体は磁気特性が保磁力５００ Ｏ
ｅ〜１２００Ｏｅ、角形比０．８０〜０．８５程度と良
好であり量産性も優れており、固定磁気ディスク装置用
の媒体として主流を占めてきた。
してＣｏ（コバルト）−Ｎｉ（ニッケル）−Ｃｒ（クロ
ム）系合金を用いた媒体は磁気特性が保磁力５００ Ｏ
ｅ〜１２００Ｏｅ、角形比０．８０〜０．８５程度と良
好であり量産性も優れており、固定磁気ディスク装置用
の媒体として主流を占めてきた。
【０００６】最近、情報処理装置の進歩が目覚ましく、
高速処理が可能となり、それに伴い外部記憶装置として
の固定磁気ディスク装置の大容量化に対する要望がます
ます強くなってきている。また、装置の小型化も要求さ
れている。これらの要望に対応するために媒体の記録密
度の向上が要求され、より高保磁力、高角形比の媒体が
必要とされてきた。現在、高保磁力を達成し得るＣｏ合
金の代表的なものとしてＣｏ（コバルト）−Ｃｒ（クロ
ム）−Ｐｔ（白金）系合金が知られており、この合金を
用いた媒体の開発、実用化が進められている。
高速処理が可能となり、それに伴い外部記憶装置として
の固定磁気ディスク装置の大容量化に対する要望がます
ます強くなってきている。また、装置の小型化も要求さ
れている。これらの要望に対応するために媒体の記録密
度の向上が要求され、より高保磁力、高角形比の媒体が
必要とされてきた。現在、高保磁力を達成し得るＣｏ合
金の代表的なものとしてＣｏ（コバルト）−Ｃｒ（クロ
ム）−Ｐｔ（白金）系合金が知られており、この合金を
用いた媒体の開発、実用化が進められている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところが、市場で要求
される保磁力１５００Ｏｅ以上の媒体を得ようとすると
高価な白金を多量（１０原子％以上）に含むＣｏ−Ｃｒ
−Ｐｔ系合金を用いなければならずコスト高になるとい
う問題があった。また、この合金系はスパッタ時に発生
する不純物ガス、特に酸素の影響を受けて磁気特性が悪
化するという問題があり、成膜条件の設定が難しいとい
う問題があった。
される保磁力１５００Ｏｅ以上の媒体を得ようとすると
高価な白金を多量（１０原子％以上）に含むＣｏ−Ｃｒ
−Ｐｔ系合金を用いなければならずコスト高になるとい
う問題があった。また、この合金系はスパッタ時に発生
する不純物ガス、特に酸素の影響を受けて磁気特性が悪
化するという問題があり、成膜条件の設定が難しいとい
う問題があった。
【０００８】この発明は、上述の点に鑑みてなされたも
のであって、磁性層を形成するＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金
中のＰｔ含有量が１０原子％以下と少なく、かつ、磁気
特性の優れた媒体およびその製造方法を提供することを
解決しようとする課題とする。
のであって、磁性層を形成するＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金
中のＰｔ含有量が１０原子％以下と少なく、かつ、磁気
特性の優れた媒体およびその製造方法を提供することを
解決しようとする課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
によれば、非磁性基板上に少なくともＣｒ下地層、Ｃｏ
合金磁性層を連続成膜してなる磁気記録媒体において、
Ｃｏ合金磁性層がＣｒを５原子％以上２０原子％以下、
Ｐｔを１原子％以上１０原子％以下の範囲内で含有する
Ｃｏ合金からなる磁気記録媒体とすることによって解決
される。
によれば、非磁性基板上に少なくともＣｒ下地層、Ｃｏ
合金磁性層を連続成膜してなる磁気記録媒体において、
Ｃｏ合金磁性層がＣｒを５原子％以上２０原子％以下、
Ｐｔを１原子％以上１０原子％以下の範囲内で含有する
Ｃｏ合金からなる磁気記録媒体とすることによって解決
される。
【００１０】このような磁性層を備え、保磁力１５００
Ｏｅ以上、角形比０．７５以上、保磁力角形比０．７５
以上０．９７以下の優れた磁気特性を有する媒体は、非
磁性基板上にスパッタ成膜された膜厚２００Å以上のＣ
ｒ下地層上に、Ｃｒを５原子％以上２０原子％以下、Ｐ
ｔを１原子％以上１０原子％以下の範囲内で含有したＣ
ｏ合金からなり、かつ、酸素含有量が５００原子ｐｐｍ
以下であるターゲットをＡｒガス雰囲気中でスパッタし
てＣｏ合金磁性層を成膜することにより製造することが
できる。このとき、温度１５０℃以上２５０℃以下の範
囲内に加熱され４００Ｖ以下のバイアス電圧の印加され
た非磁性基板上のＣｒ下地層上に、Ａｒガス圧３ｍＴｏ
ｒｒ以上１０ｍＴｏｒｒ以下の範囲内のＡｒガス雰囲気
中でＣｏ合金磁性層をスパッタ成膜すると好適である。
Ｏｅ以上、角形比０．７５以上、保磁力角形比０．７５
以上０．９７以下の優れた磁気特性を有する媒体は、非
磁性基板上にスパッタ成膜された膜厚２００Å以上のＣ
ｒ下地層上に、Ｃｒを５原子％以上２０原子％以下、Ｐ
ｔを１原子％以上１０原子％以下の範囲内で含有したＣ
ｏ合金からなり、かつ、酸素含有量が５００原子ｐｐｍ
以下であるターゲットをＡｒガス雰囲気中でスパッタし
てＣｏ合金磁性層を成膜することにより製造することが
できる。このとき、温度１５０℃以上２５０℃以下の範
囲内に加熱され４００Ｖ以下のバイアス電圧の印加され
た非磁性基板上のＣｒ下地層上に、Ａｒガス圧３ｍＴｏ
ｒｒ以上１０ｍＴｏｒｒ以下の範囲内のＡｒガス雰囲気
中でＣｏ合金磁性層をスパッタ成膜すると好適である。
【００１１】
【作用】Ｐｔはその原子半径がＣｏに比べて大きく、Ｐ
ｔを添加することにより内部応力が増大し、この内部応
力が保磁力を高める。また、ＣｒはＣｏに対して偏析し
易い性質があり、結晶粒界に析出し各結晶粒の磁気的独
立性を高め、保磁力を増大させる。つまり、Ｃｏ−Ｃｒ
−Ｐｔ系合金においてＣｒ、Ｐｔともに保磁力を増大さ
せる効果を有し、両元素を適当に含有させることにより
高保磁力を達成できる。すなわち、磁性層を形成するＣ
ｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金中のＰｔ含有量を１０原子％以下
と少なくしても、Ｃｒを５原子％以上２０原子％以内の
適当量含有させることにより保磁力１５００Ｏｅ以上、
角形比０．７５以上、保磁力０．７５以上０．９７以下
という優れた磁性特性の媒体を得ることができる。
ｔを添加することにより内部応力が増大し、この内部応
力が保磁力を高める。また、ＣｒはＣｏに対して偏析し
易い性質があり、結晶粒界に析出し各結晶粒の磁気的独
立性を高め、保磁力を増大させる。つまり、Ｃｏ−Ｃｒ
−Ｐｔ系合金においてＣｒ、Ｐｔともに保磁力を増大さ
せる効果を有し、両元素を適当に含有させることにより
高保磁力を達成できる。すなわち、磁性層を形成するＣ
ｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金中のＰｔ含有量を１０原子％以下
と少なくしても、Ｃｒを５原子％以上２０原子％以内の
適当量含有させることにより保磁力１５００Ｏｅ以上、
角形比０．７５以上、保磁力０．７５以上０．９７以下
という優れた磁性特性の媒体を得ることができる。
【００１２】Ｃｒ下地層はそ上に形成される磁性層の結
晶粒の配向性に関係し、角形比保磁力角形比に影響する
。Ｃｒ下地層膜厚は２００Å以上とすることが好ましい
。また、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金のスパッタに用いるタ
ーゲットに酸素が含有されていると保磁力が低下する。 ターゲットの酸素含有量を５００原子ｐｐｍ以下に抑え
ることが望ましい。さらにＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金のス
パッタ成膜条件では基板温度は保磁力、角形比、保磁力
角形比に、Ａｒガス圧は保磁力に、バイアス電圧は保磁
力、角形比、保磁力角形比にそれぞれ影響する。基板温
度１５０℃以上２５０℃以下、Ａｒガス圧３ｍＴｏｒｒ
以上１０ｍＴｏｒｒ以下、バイアス電圧は４００Ｖ以下
が好ましい。
晶粒の配向性に関係し、角形比保磁力角形比に影響する
。Ｃｒ下地層膜厚は２００Å以上とすることが好ましい
。また、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金のスパッタに用いるタ
ーゲットに酸素が含有されていると保磁力が低下する。 ターゲットの酸素含有量を５００原子ｐｐｍ以下に抑え
ることが望ましい。さらにＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金のス
パッタ成膜条件では基板温度は保磁力、角形比、保磁力
角形比に、Ａｒガス圧は保磁力に、バイアス電圧は保磁
力、角形比、保磁力角形比にそれぞれ影響する。基板温
度１５０℃以上２５０℃以下、Ａｒガス圧３ｍＴｏｒｒ
以上１０ｍＴｏｒｒ以下、バイアス電圧は４００Ｖ以下
が好ましい。
【００１３】
【実施例】図１は、この発明の媒体の一実施例の模式的
断面図で１はＡｌ合金板１１とその上に無電解めっき法
で形成されたＮｉ−Ｐ合金層１２からなる非磁性基板１
であり、２はＣｒ下地層、３はＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金
磁性層、４はａ−Ｃ保護層である。
断面図で１はＡｌ合金板１１とその上に無電解めっき法
で形成されたＮｉ−Ｐ合金層１２からなる非磁性基板１
であり、２はＣｒ下地層、３はＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金
磁性層、４はａ−Ｃ保護層である。
【００１４】実施例１
直径３．５インチのＡｌ合金板上に無電解めっき法で非
晶質のＮｉ−Ｐ合金層を形成し、その表面を所定の粗さ
に研磨して非磁性基板とする。この非磁性基板上に表１
に示すスパッタ条件でＣｒ下地層（膜厚１０００Å）、
Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金磁性層（膜厚６００Å）を順次
スパッタ成膜する。スパッタはＤＣマグネトロン方式ス
パッタ法で、インラインパレット搬送型スパッタ装置を
使用し、２００ｍｍ／分の速度で基板を搬送しながら行
った。
晶質のＮｉ−Ｐ合金層を形成し、その表面を所定の粗さ
に研磨して非磁性基板とする。この非磁性基板上に表１
に示すスパッタ条件でＣｒ下地層（膜厚１０００Å）、
Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金磁性層（膜厚６００Å）を順次
スパッタ成膜する。スパッタはＤＣマグネトロン方式ス
パッタ法で、インラインパレット搬送型スパッタ装置を
使用し、２００ｍｍ／分の速度で基板を搬送しながら行
った。
【００１５】
【表１】
【００１６】このとき、磁性層のスパッタターゲットと
してＣｒ含有量を１５原子％一定としＰｔ含有量を表２
に示すように変化させた組成の異なるＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ
系合金からなり、かつ、酸素含有量を３００原子ｐｐｍ
以下とした５種類のターゲットＮｏ．１〜Ｎｏ．５を用
いて、それぞれ磁性層を成膜した。
してＣｒ含有量を１５原子％一定としＰｔ含有量を表２
に示すように変化させた組成の異なるＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ
系合金からなり、かつ、酸素含有量を３００原子ｐｐｍ
以下とした５種類のターゲットＮｏ．１〜Ｎｏ．５を用
いて、それぞれ磁性層を成膜した。
【００１７】
【表２】
【００１８】続いて、これらの磁性層上にａ−Ｃ保護層
をスパッタ成膜して５種類の媒体を作製した。
をスパッタ成膜して５種類の媒体を作製した。
【００１９】同様にして、磁性層のスパッタターゲット
としてＰｔ含有量を１０原子％一定とし、Ｃｒ含有量を
表３に示すように変化させた組成の異なるＣｏ−Ｃｒ−
Ｐｔ系合金からなり、かつ、酸素含有量を３００原子ｐ
ｐｍ以下とした３種類のターゲットＮｏ．６〜Ｎｏ．８
を用いて、それぞれ磁性層を成膜し、その上にａ−Ｃ保
護層をスパッタ成膜して３種類の媒体を作製した。
としてＰｔ含有量を１０原子％一定とし、Ｃｒ含有量を
表３に示すように変化させた組成の異なるＣｏ−Ｃｒ−
Ｐｔ系合金からなり、かつ、酸素含有量を３００原子ｐ
ｐｍ以下とした３種類のターゲットＮｏ．６〜Ｎｏ．８
を用いて、それぞれ磁性層を成膜し、その上にａ−Ｃ保
護層をスパッタ成膜して３種類の媒体を作製した。
【００２０】
【表３】
【００２１】このようにして得られた媒体について磁気
特性を測定した。その測定結果により、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐ
ｔ系合金からなる磁性層のＣｒ含有量を１５原子％一定
としたときのＰｔ含有量と磁気特性との関係を図２に示
す。保磁力Ｈｃは、Ｐｔ含有量１原子％で１５００Ｏｅ
となり１０原子％で極大値約１８００Ｏｅとなりその後
低下する。残留磁束密度Ｂｒ、角形比Ｓ、保磁力角形比
Ｓ＊ はＰｔ含有量の増加につれて若干低下していく傾
向を示すが、Ｐｔ含有量１０原子％以下では角形比Ｓは
０．７５以上、保磁力角形比Ｓ＊は０．７５以上０．９
７以下の良好な特性を保ち、残留磁束密度も４５０Ｇ・
μｍ以上の良好な値を有していることが判る。Ｐｔが高
価であることも考え合わせるとＰｔ含有量は１原子％以
上１０原子％以下の範囲が好適である。
特性を測定した。その測定結果により、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐ
ｔ系合金からなる磁性層のＣｒ含有量を１５原子％一定
としたときのＰｔ含有量と磁気特性との関係を図２に示
す。保磁力Ｈｃは、Ｐｔ含有量１原子％で１５００Ｏｅ
となり１０原子％で極大値約１８００Ｏｅとなりその後
低下する。残留磁束密度Ｂｒ、角形比Ｓ、保磁力角形比
Ｓ＊ はＰｔ含有量の増加につれて若干低下していく傾
向を示すが、Ｐｔ含有量１０原子％以下では角形比Ｓは
０．７５以上、保磁力角形比Ｓ＊は０．７５以上０．９
７以下の良好な特性を保ち、残留磁束密度も４５０Ｇ・
μｍ以上の良好な値を有していることが判る。Ｐｔが高
価であることも考え合わせるとＰｔ含有量は１原子％以
上１０原子％以下の範囲が好適である。
【００２２】次に、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金からなる磁
性層のＰｔ含有量を１０原子％一定としたときのＣｒ含
有量と磁気特性との関係を図３に示す。保磁力Ｈｃは、
Ｃｒ含有量５原子％で１５００Ｏｅを超えＣｒ含有量の
増加とともに増大し、角形比Ｓ、保磁力角形比Ｓ＊ は
Ｃｒ含有量の増加につれて低下するがＣｒ含有量が２０
原子％ではともに０．７５以上と良好な値である。とこ
ろが、残留磁束密度ＢｒはＣｒ含有量の増加につれて減
少し、Ｃｒ含有量が２０原子％を超えると３５０Ｇ・μ
ｍ以下となり媒体として実用上問題となってくる。Ｃｒ
含有量は５原子％以上２０原子％以下の範囲内にあるこ
とが必要である。
性層のＰｔ含有量を１０原子％一定としたときのＣｒ含
有量と磁気特性との関係を図３に示す。保磁力Ｈｃは、
Ｃｒ含有量５原子％で１５００Ｏｅを超えＣｒ含有量の
増加とともに増大し、角形比Ｓ、保磁力角形比Ｓ＊ は
Ｃｒ含有量の増加につれて低下するがＣｒ含有量が２０
原子％ではともに０．７５以上と良好な値である。とこ
ろが、残留磁束密度ＢｒはＣｒ含有量の増加につれて減
少し、Ｃｒ含有量が２０原子％を超えると３５０Ｇ・μ
ｍ以下となり媒体として実用上問題となってくる。Ｃｒ
含有量は５原子％以上２０原子％以下の範囲内にあるこ
とが必要である。
【００２３】実施例２
実施例１において、磁性層のスパッタ成膜に用いるＣｏ
−Ｃｒ−Ｐｔ系合金のターゲットの組成をＣｒ１３原子
％、Ｐｔ８原子％、残部Ｃｏと固定し、Ｃｒ下地層の膜
厚を０Å（下地層なし）、２００Å、５００Å、１００
０Å、２０００Åと変え、その他は実施例１と同様にし
て媒体を作製した。これらの媒体について磁気特性を測
定して得られたＣｒ下地層膜厚と磁気特性との関係を図
４に示す。図４よりＣｒ下地層膜厚が２００Å以上で保
磁力Ｈｃは１５００Ｏｅ以上となり、残留磁束密度Ｂｒ
、角形比Ｓ、保磁力角形比Ｓ＊ も良好であることが判
る。
−Ｃｒ−Ｐｔ系合金のターゲットの組成をＣｒ１３原子
％、Ｐｔ８原子％、残部Ｃｏと固定し、Ｃｒ下地層の膜
厚を０Å（下地層なし）、２００Å、５００Å、１００
０Å、２０００Åと変え、その他は実施例１と同様にし
て媒体を作製した。これらの媒体について磁気特性を測
定して得られたＣｒ下地層膜厚と磁気特性との関係を図
４に示す。図４よりＣｒ下地層膜厚が２００Å以上で保
磁力Ｈｃは１５００Ｏｅ以上となり、残留磁束密度Ｂｒ
、角形比Ｓ、保磁力角形比Ｓ＊ も良好であることが判
る。
【００２４】実施例３
実施例１において、磁性層のスパッタ成膜に用いるター
ゲットを実施例２と同様にし、スパッタ雰囲気のＡｒガ
ス圧を３ｍＴｏｒｒ、５ｍＴｏｒｒ、１０ｍＴｏｒｒと
変え、その他は実施例１と同様にして媒体を作製した。 これらの媒体について磁気特性を測定して得られたＡｒ
ガス圧と磁気特性との関係を図５に示す。
ゲットを実施例２と同様にし、スパッタ雰囲気のＡｒガ
ス圧を３ｍＴｏｒｒ、５ｍＴｏｒｒ、１０ｍＴｏｒｒと
変え、その他は実施例１と同様にして媒体を作製した。 これらの媒体について磁気特性を測定して得られたＡｒ
ガス圧と磁気特性との関係を図５に示す。
【００２５】実施例４
実施例１において、磁性層のスパッタ成膜に用いるター
ゲットを実施例２と同様にし、基板温度を１５０℃、２
００℃、２５０℃と変え、その他は実施例１と同様にし
て媒体を作製した。これらの媒体について磁気特性を測
定して得られた基板温度と磁気特性との関係を図６に示
す。
ゲットを実施例２と同様にし、基板温度を１５０℃、２
００℃、２５０℃と変え、その他は実施例１と同様にし
て媒体を作製した。これらの媒体について磁気特性を測
定して得られた基板温度と磁気特性との関係を図６に示
す。
【００２６】実施例５
実施例１において、磁性層のスパッタ成膜に用いるター
ゲットを実施例２と同様にし、バイアス電圧を０Ｖ、１
００Ｖ、２００Ｖ、３００Ｖ、４００Ｖと変え、その他
は実施例１と同様にして媒体を作製した。これらの媒体
について磁気特性を測定して得られたバイアス電圧と磁
気特性との関係を図７に示す。
ゲットを実施例２と同様にし、バイアス電圧を０Ｖ、１
００Ｖ、２００Ｖ、３００Ｖ、４００Ｖと変え、その他
は実施例１と同様にして媒体を作製した。これらの媒体
について磁気特性を測定して得られたバイアス電圧と磁
気特性との関係を図７に示す。
【００２７】図５、図６、図７より磁性層のスパッタ成
膜条件をＡｒガス圧３ｍＴｏｒｒ以上１０ｍＴｏｒｒ以
下、基板温度１５０℃以上２５０℃以下、バイアス電圧
４００Ｖ以下の範囲内に設定すれば保磁力Ｈｃ１５００
Ｏｅ以上、角形比０．７５以上、保磁力角形比０．７５
以上０．９７以下の優れた磁気特性が得られることが判
る。
膜条件をＡｒガス圧３ｍＴｏｒｒ以上１０ｍＴｏｒｒ以
下、基板温度１５０℃以上２５０℃以下、バイアス電圧
４００Ｖ以下の範囲内に設定すれば保磁力Ｈｃ１５００
Ｏｅ以上、角形比０．７５以上、保磁力角形比０．７５
以上０．９７以下の優れた磁気特性が得られることが判
る。
【００２８】比較例６
実施例１において、磁性層のスパッタ成膜に用いるター
ゲットの組成をＣｒ１３原子％、Ｐｔ８原子％、残部Ｃ
ｏと固定し、ターゲットの酸素含有量を５００原子ｐｐ
ｍ、２０００原子ｐｐｍと変え、その他は実施例１と同
様にして媒体を作製した。これらの媒体について磁気特
性を測定した結果をターゲットの酸素含有量と対比させ
て表４に示す。
ゲットの組成をＣｒ１３原子％、Ｐｔ８原子％、残部Ｃ
ｏと固定し、ターゲットの酸素含有量を５００原子ｐｐ
ｍ、２０００原子ｐｐｍと変え、その他は実施例１と同
様にして媒体を作製した。これらの媒体について磁気特
性を測定した結果をターゲットの酸素含有量と対比させ
て表４に示す。
【００２９】
【表４】
【００３０】表４よりターゲット中の酸素は保磁力の低
下をもたらすことが判る。ターゲット中の酸素含有量は
少ない程好ましく、５００原子ｐｐｍ以下が望ましい。
下をもたらすことが判る。ターゲット中の酸素含有量は
少ない程好ましく、５００原子ｐｐｍ以下が望ましい。
【００３１】
【発明の効果】この発明によれば、非磁性基板上にスパ
ッタ成膜された膜厚２００Å以上のＣｒ下地層上に、Ｃ
ｒを５原子％以上２０原子％以下、Ｐｔを１原子％以上
１０原子％以下の範囲内で含有したＣｏ合金からなり、
かつ、酸素含有量が５００原子ｐｐｍ以下であるターゲ
ットをＡｒガス雰囲気中でスパッタして磁性層を成膜し
て媒体を作製する。このようにして作製された、Ｃｒを
５原子％以上２０原子％以下、Ｐｔを１原子％以上１０
原子％以下の範囲内で含有するＣｏ合金からなる磁性層
を備えた媒体は、Ｐｔの含有量が１０原子％以下と少な
いにもかかわらず、保磁力Ｈｃ１５００Ｏｅ以上、角形
比Ｓ０．７５以上、保磁力角形比Ｓ＊ ０．７５以上０
．９７以下であり、安価で磁気特性の優れた磁気記録媒
体が得られるという効果がある。
ッタ成膜された膜厚２００Å以上のＣｒ下地層上に、Ｃ
ｒを５原子％以上２０原子％以下、Ｐｔを１原子％以上
１０原子％以下の範囲内で含有したＣｏ合金からなり、
かつ、酸素含有量が５００原子ｐｐｍ以下であるターゲ
ットをＡｒガス雰囲気中でスパッタして磁性層を成膜し
て媒体を作製する。このようにして作製された、Ｃｒを
５原子％以上２０原子％以下、Ｐｔを１原子％以上１０
原子％以下の範囲内で含有するＣｏ合金からなる磁性層
を備えた媒体は、Ｐｔの含有量が１０原子％以下と少な
いにもかかわらず、保磁力Ｈｃ１５００Ｏｅ以上、角形
比Ｓ０．７５以上、保磁力角形比Ｓ＊ ０．７５以上０
．９７以下であり、安価で磁気特性の優れた磁気記録媒
体が得られるという効果がある。
【００３２】磁性層をスパッタ成膜するときの成膜条件
としては、基板温度１５０℃以上２５０℃以下、Ａｒガ
ス圧３ｍＴｏｒｒ以上１０ｍＴｏｒｒ以下、バイアス電
圧４００Ｖ以下とすると効果的である。
としては、基板温度１５０℃以上２５０℃以下、Ａｒガ
ス圧３ｍＴｏｒｒ以上１０ｍＴｏｒｒ以下、バイアス電
圧４００Ｖ以下とすると効果的である。
【図１】この発明の媒体の一実施例の模式的断面図
【図
２】磁性層のＰｔ含有量と磁気特性との関係を示す線図
２】磁性層のＰｔ含有量と磁気特性との関係を示す線図
【図３】磁性層のＣｒ含有量と磁気特性との関係を示す
線図
線図
【図４】Ｃｒ下地層膜厚と磁気特性との関係を示す線図
【図５】磁性層スパッタ成膜時のＡｒガス圧と磁気特性
との関係を示す線図
との関係を示す線図
【図６】磁性層スパッタ成膜時の基板温度と磁気特性と
の関係を示す線図
の関係を示す線図
【図７】磁性層スパッタ成膜時のバイアス電圧と磁気特
性との関係を示す線図
性との関係を示す線図
１ 非磁性基板
２ Ｃｒ下地層
３ Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金磁性層４
ａ−Ｃ保護層 １１ Ａｌ合金板 １２ Ｎｉ−Ｐ合金層
ａ−Ｃ保護層 １１ Ａｌ合金板 １２ Ｎｉ−Ｐ合金層
Claims (3)
- 【請求項１】非磁性基板上に少なくともＣｒ下地層、Ｃ
ｏ合金磁性層を連続成膜してなる磁気記録媒体において
、Ｃｏ合金磁性層がＣｒを５原子％以上２０原子％以下
、Ｐｔを１原子％以上１０原子％以下の範囲内で含有す
るＣｏ合金からなることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】非磁性基板上に少なくともＣｒ下地層、Ｃ
ｏ合金磁性層を連続成膜してなる磁気記録媒体の製造方
法において、非磁性基板上にスパッタ成膜された膜厚２
００Å以上のＣｒ下地層上に、Ｃｒを５原子％以上２０
原子％以下、Ｐｔを１原子％以上１０原子％以下の範囲
内で含有したＣｏ合金からなり、かつ、酸素含有量が５
００原子ｐｐｍ以下であるターゲットをＡｒガス雰囲気
中でスパッタしてＣｏ合金磁性層を成膜することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】温度１５０℃以上２５０℃以下の範囲内に
加熱され４００Ｖ以下のバイアス電圧の印加された非磁
性基板上のＣｒ下地層上に、Ａｒガス圧３ｍＴｏｒｒ以
上１０ｍＴｏｒｒ以下の範囲内のＡｒガス雰囲気中でＣ
ｏ合金磁性層がスパッタ成膜されることを特徴とする請
求項２記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40769490A JPH04229411A (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40769490A JPH04229411A (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04229411A true JPH04229411A (ja) | 1992-08-18 |
Family
ID=18517250
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP40769490A Pending JPH04229411A (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04229411A (ja) |
-
1990
- 1990-12-27 JP JP40769490A patent/JPH04229411A/ja active Pending
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