JPS60211060A - カムとその表面処理方法 - Google Patents
カムとその表面処理方法Info
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- JPS60211060A JPS60211060A JP59067265A JP6726584A JPS60211060A JP S60211060 A JPS60211060 A JP S60211060A JP 59067265 A JP59067265 A JP 59067265A JP 6726584 A JP6726584 A JP 6726584A JP S60211060 A JPS60211060 A JP S60211060A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
- C23C8/10—Oxidising
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は内燃機関のカムシャフトの如きカムとその表面
処理方法に関する。
処理方法に関する。
（背景技術）
内燃機関のカムシャフトのカム面の表面硬化処理として
合金を添加しつつ再溶融化処理、所謂合金添加リメルト
処理を施し、カム面に合金チル層を形成することが行わ
れる。この合金チル層を備えたカム面は高硬度であるた
め、研摩加工した研摩面のまま使用に供すると、面粗度
が極めて良好な場合以外は１機関の初期運転時に相手側
のロッカーアーム、タペット等の摺動面に損傷を与える
ことがある。
合金を添加しつつ再溶融化処理、所謂合金添加リメルト
処理を施し、カム面に合金チル層を形成することが行わ
れる。この合金チル層を備えたカム面は高硬度であるた
め、研摩加工した研摩面のまま使用に供すると、面粗度
が極めて良好な場合以外は１機関の初期運転時に相手側
のロッカーアーム、タペット等の摺動面に損傷を与える
ことがある。
ところで、鋳造チルカムに窒化処理を施してカム面に窒
化層を形成することはよく行われるが。
化層を形成することはよく行われるが。
前述の如き合金添加リメルトカムにあっては、窒化処理
により更に高硬度になるので、必ずしも初期なじみ性を
改善するものではない。
により更に高硬度になるので、必ずしも初期なじみ性を
改善するものではない。
（発明の目的）
本発明の目的は、合金添加リメルトカムにおいて、無処
理面に比べて初期なじみ性の向上を図り、初期運転時に
おける相手側の摺動面への損傷を防止するようにしたカ
ムを提供し、併せてその表面処理方法も提供するにある
。
理面に比べて初期なじみ性の向上を図り、初期運転時に
おける相手側の摺動面への損傷を防止するようにしたカ
ムを提供し、併せてその表面処理方法も提供するにある
。
（発明の構成）
前記目的を達成すべく本発明は、合金添加しつつ再溶融
化処理を施して形成した合金チル層と、更に該合金チル
層上にホモ処理を施して形成した酸化被膜層とをカム面
に備えたことを特徴とする。
化処理を施して形成した合金チル層と、更に該合金チル
層上にホモ処理を施して形成した酸化被膜層とをカム面
に備えたことを特徴とする。
また本発明は、斯かるカムを得るべく、カム面に合金添
加しつつ再溶融化処理を施して合金チル層を形成し、該
合金チル層面を研摩し、該研摩面にホモ処理を施して前
記合金チル層上に酸化被膜層を形成する表面処理を行う
ことを特徴とする。
加しつつ再溶融化処理を施して合金チル層を形成し、該
合金チル層面を研摩し、該研摩面にホモ処理を施して前
記合金チル層上に酸化被膜層を形成する表面処理を行う
ことを特徴とする。
（実施例）
以下に本発明の好適一実施例を添付図面を基に詳述する
。
。
第１図は本発明を適用したカムシャフト（１）のカム（
２）の説明的正面図で、カム（２）はベース円（３）か
ら膨出するカム部（０を備え、カム部（４）はベース円
（３）と連続する曲率半径の大きいカム立ち上がり部（
５）、（５）の先部間に曲率半径の小さいカム頂部（６
）を備える。
２）の説明的正面図で、カム（２）はベース円（３）か
ら膨出するカム部（０を備え、カム部（４）はベース円
（３）と連続する曲率半径の大きいカム立ち上がり部（
５）、（５）の先部間に曲率半径の小さいカム頂部（６
）を備える。
斯かるカムプロフィルを成すカム（２）において、実施
例では、使用時における面圧の高いカム部（４）の表面
をカム旋削、カムフライス、カム研削加工等により粗削
し、このカム部（４）表面の粗削面（７）に合金添加リ
メルト処理を施す。
例では、使用時における面圧の高いカム部（４）の表面
をカム旋削、カムフライス、カム研削加工等により粗削
し、このカム部（４）表面の粗削面（７）に合金添加リ
メルト処理を施す。
合金添加リメルト処理は、具体的には第２図乃至第４図
に示す如くで、カムシャフト（１）の軸端部をチャック
（２１）及びセンタ（２２）で支持し、モータ（２３）
でカムシャフト（１）を回転させ、カムシャフト（１）
上の−のカム（２）上方にプラズマトーチ（２４）のノ
ズル（２５）をクリアランスを保持して臨ませる。ノズ
ル（２５）は第３図の如く中空のシールドギャップ（２
６）内にチップ（２７）を配設し、キャップとチップ間
に不活性ガス等のシールドガス通路（２８）を、チップ
（２７）中心にアルゴンガス等の作動ガス通路（２９）
を備え、通路（２９）内にタングステン等の電極（３１
）を設け、金属粉未導入管（３２）、（３２）を通路（
２８）軸線の延長線と交叉する如く設ける。
に示す如くで、カムシャフト（１）の軸端部をチャック
（２１）及びセンタ（２２）で支持し、モータ（２３）
でカムシャフト（１）を回転させ、カムシャフト（１）
上の−のカム（２）上方にプラズマトーチ（２４）のノ
ズル（２５）をクリアランスを保持して臨ませる。ノズ
ル（２５）は第３図の如く中空のシールドギャップ（２
６）内にチップ（２７）を配設し、キャップとチップ間
に不活性ガス等のシールドガス通路（２８）を、チップ
（２７）中心にアルゴンガス等の作動ガス通路（２９）
を備え、通路（２９）内にタングステン等の電極（３１
）を設け、金属粉未導入管（３２）、（３２）を通路（
２８）軸線の延長線と交叉する如く設ける。
トーチ（２４）は基枠（３５）に上下動自在に設けたホ
ルダ（３Ｂ）に支持され、基枠（３５）は送りネジ（３
７）を介してモータ（３８）により移動可能であり、カ
ムシャフト（１）上の各カム（２）・・・毎に基枠（３
５）を往復動させ、カムシャツ）（１）の回転と併せて
第４図の如き蛇行した処理軌跡（ａ）をカム部（０の粗
削面（７）に形成する。
ルダ（３Ｂ）に支持され、基枠（３５）は送りネジ（３
７）を介してモータ（３８）により移動可能であり、カ
ムシャフト（１）上の各カム（２）・・・毎に基枠（３
５）を往復動させ、カムシャツ）（１）の回転と併せて
第４図の如き蛇行した処理軌跡（ａ）をカム部（０の粗
削面（７）に形成する。
尚、第２図中（４１）は制御装置、（４２）は電源、（
４３）は金属粉末供給装置、（４０は振動装置、（４５
）は弁である。
４３）は金属粉末供給装置、（４０は振動装置、（４５
）は弁である。
斯くしてカム部（４）の粗削面（７）をプラズマアーク
中に合金粉末を供給して合金添加リメルト処理し、粗削
面（７）上に合金チル層（８）を形成する。
中に合金粉末を供給して合金添加リメルト処理し、粗削
面（７）上に合金チル層（８）を形成する。
そしてこの合金チル層（８）面を含んでカム（２）表面
を回転砥石にて研摩し、ホモ炉にカムシャフト（１）を
投入し、通電し、蒸気を導入してホモ処理を行う。この
ホモ処理により第１図に示す如く研摩面（８）上に１〜
５終程の酸化被膜（Ｆｅ３ｓ４）層、所謂ホモ層（ｌＯ
）を形成せしめ、冷却する。このホモ層（１０）、即ち
、Ｆｅ３Ｏ４層は既知の如く合金チル層（８）に比べて
硬度がやや軟かく （約Ｈマ５００）、合金チル層（８
）とホモ層（ｌＯ）の密着性が極めて良好で、且つ緻密
である。これは合金チル層（８）に含まれるＣｒ、 Ｎ
ｏがＦｅ２Ｏ２層（ｌＯ）中にも若干台まれており、両
層（８）、（１０）の境界部にＣｒ、 Ｎｏが含まれて
いるからである。
を回転砥石にて研摩し、ホモ炉にカムシャフト（１）を
投入し、通電し、蒸気を導入してホモ処理を行う。この
ホモ処理により第１図に示す如く研摩面（８）上に１〜
５終程の酸化被膜（Ｆｅ３ｓ４）層、所謂ホモ層（ｌＯ
）を形成せしめ、冷却する。このホモ層（１０）、即ち
、Ｆｅ３Ｏ４層は既知の如く合金チル層（８）に比べて
硬度がやや軟かく （約Ｈマ５００）、合金チル層（８
）とホモ層（ｌＯ）の密着性が極めて良好で、且つ緻密
である。これは合金チル層（８）に含まれるＣｒ、 Ｎ
ｏがＦｅ２Ｏ２層（ｌＯ）中にも若干台まれており、両
層（８）、（１０）の境界部にＣｒ、 Ｎｏが含まれて
いるからである。
このようにカム面に形成した合金チル層（８）上にホモ
処理によってこれよりも硬度の若干低い酸化被膜層（ｌ
Ｏ）を形成したため、機関の初期運転時には相手側のロ
ッカーアーム、タイ−２ト等の摺動面に酸化被膜層（１
０）が摺接するので、直接合金チル層（８）が摺接する
のに比べて初期なじみ性が良好となり、相手側の摺動面
の保護が図れる。
処理によってこれよりも硬度の若干低い酸化被膜層（ｌ
Ｏ）を形成したため、機関の初期運転時には相手側のロ
ッカーアーム、タイ−２ト等の摺動面に酸化被膜層（１
０）が摺接するので、直接合金チル層（８）が摺接する
のに比べて初期なじみ性が良好となり、相手側の摺動面
の保護が図れる。
尚、合金チル層はカムの全面に形成しても、また面圧の
最も高いカム頂部のみに形成するだけでもよい。
最も高いカム頂部のみに形成するだけでもよい。
（発明の効果）
以上にように本発明によれば、カム面に形成した合金チ
ル層上に酸化被膜層を形成したため、合金添加リメルト
カムにおける初期なじみ性を単なる合金チル層だけの無
処理面に比べて向上させることができ、相手側の摺動面
への損傷を防止し、また斯かる特長を発揮するカムをホ
モ処理により得ることができる。
ル層上に酸化被膜層を形成したため、合金添加リメルト
カムにおける初期なじみ性を単なる合金チル層だけの無
処理面に比べて向上させることができ、相手側の摺動面
への損傷を防止し、また斯かる特長を発揮するカムをホ
モ処理により得ることができる。
第１図はカムの説明的正面図、第２図は再溶融化処理装
置の概略図、第３図はプラズマトーチノズルの縦断面図
、第４図はその処理軌跡を示す斜視図である。 尚、図面中（２）はカム、（４）はカム部、（８）は合
金チル層、（１０）は酸化被膜層である。 特許出願人 本田技研工業株式会社 代理人 弁理士 下 １） 容一部 間 弁理士 大 橋 邦 部 同 弁理士 小 山 有 第１図 手続補正書印船 昭和６０年６月１９日 特許庁長官 志賀 学 殿 １、事件の表示 特願昭５９−０６７２６５号 ２、発明の名称 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 （５３２） 本田技研工業株式会社 ４、代理人 東京都港区麻布台２丁目４番５号 〒１０８メソニック３９森ビル２階 ５、補正命令の日付 自 発 ７、補正の内容 （１）特許請求の範囲を別紙の通り補正する。 （２）発明の詳細な説明の欄を以下の通り補正する。 第２頁第１行目、第３頁第２行目、同頁第７行目、第７
頁第５行目乃至第６行目に「再溶融化処理」とあるを「
再溶融硬化処理」に訂正する。 別紙 「２、特許請求の範囲 （１）カム面に合金添加しつつ再溶融硬化処理を施して
合金チル層を形成し、更にホモ処理を施して該合金チル
層上に酸化被膜層を形成したカム。 （２）カム面に合金添加しつつ再溶融硬化処理を施して
合金チル層を形成する工程と、該合金チル層面を研摩す
る工程と。 該研摩面にホモ処理を施して前記合金チル層上に酸化被
膜層を形成する工程と。 から成るカムの表面処理方法、」
置の概略図、第３図はプラズマトーチノズルの縦断面図
、第４図はその処理軌跡を示す斜視図である。 尚、図面中（２）はカム、（４）はカム部、（８）は合
金チル層、（１０）は酸化被膜層である。 特許出願人 本田技研工業株式会社 代理人 弁理士 下 １） 容一部 間 弁理士 大 橋 邦 部 同 弁理士 小 山 有 第１図 手続補正書印船 昭和６０年６月１９日 特許庁長官 志賀 学 殿 １、事件の表示 特願昭５９−０６７２６５号 ２、発明の名称 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 （５３２） 本田技研工業株式会社 ４、代理人 東京都港区麻布台２丁目４番５号 〒１０８メソニック３９森ビル２階 ５、補正命令の日付 自 発 ７、補正の内容 （１）特許請求の範囲を別紙の通り補正する。 （２）発明の詳細な説明の欄を以下の通り補正する。 第２頁第１行目、第３頁第２行目、同頁第７行目、第７
頁第５行目乃至第６行目に「再溶融化処理」とあるを「
再溶融硬化処理」に訂正する。 別紙 「２、特許請求の範囲 （１）カム面に合金添加しつつ再溶融硬化処理を施して
合金チル層を形成し、更にホモ処理を施して該合金チル
層上に酸化被膜層を形成したカム。 （２）カム面に合金添加しつつ再溶融硬化処理を施して
合金チル層を形成する工程と、該合金チル層面を研摩す
る工程と。 該研摩面にホモ処理を施して前記合金チル層上に酸化被
膜層を形成する工程と。 から成るカムの表面処理方法、」
Claims (2)
- （１）カム面に合金添加しつつ再溶融化処理を施して合
金チル層を形成し、更にホモ処理を施して該合金チル層
上に酸化被膜層を形成したカム。 - （２）カム面に合金添加しつつ再溶融化処理を施して合
金チル層を形成する工程と、 該合金チル層面を研摩する工程と、 該研摩面にホモ処理を施して前記合金チル層上に酸化被
膜層を形成する工程と、 から成るカムの表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59067265A JPS60211060A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | カムとその表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59067265A JPS60211060A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | カムとその表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60211060A true JPS60211060A (ja) | 1985-10-23 |
| JPS6316463B2 JPS6316463B2 (ja) | 1988-04-08 |
Family
ID=13339954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59067265A Granted JPS60211060A (ja) | 1984-04-04 | 1984-04-04 | カムとその表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60211060A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0640323A1 (en) * | 1993-08-23 | 1995-03-01 | Bristol-Myers Squibb Company | Femoral stem prosthesis |
| WO2007126230A1 (en) * | 2006-05-02 | 2007-11-08 | Samsung Gwangju Electronics Co., Ltd. | Hermetic compressor |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53125915A (en) * | 1977-04-11 | 1978-11-02 | Tokyo Netsu Shiyori Kougiyou K | Homogenous treating method and apparatus |
-
1984
- 1984-04-04 JP JP59067265A patent/JPS60211060A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53125915A (en) * | 1977-04-11 | 1978-11-02 | Tokyo Netsu Shiyori Kougiyou K | Homogenous treating method and apparatus |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0640323A1 (en) * | 1993-08-23 | 1995-03-01 | Bristol-Myers Squibb Company | Femoral stem prosthesis |
| WO2007126230A1 (en) * | 2006-05-02 | 2007-11-08 | Samsung Gwangju Electronics Co., Ltd. | Hermetic compressor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6316463B2 (ja) | 1988-04-08 |
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